KR100998644B1 - 대기압 플라즈마 장치 및 이를 이용한 박막 제거 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 기판 장착 수단과;제 1 전극과, 상기 제 1 전극과 대향되는 제 2 전극을 구비한 플라즈마 발생부와;상기 플라즈마 발생부에서 일정간격 이격하여, 흡입구가 상기 기판 장착수단과 마주보도록 위치하는 진공 흡입 배기부로 구성되는 대기압 플라즈마 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 발생부는 지지대에 의해 상기 기판 장착 수단 상부로 상기 제 1 전극과 제 2 전극이 고정되고, 상기 제 1,2 전극 사이에서 발생한 플라즈마가 하부의 기판 장착수단 쪽으로 방출되는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 기판 장착 수단은 상부에 다수의 롤러가 구비되어 상기 롤러 상부로 기판이 이동하는 기판이동수단 자체인 것이 특징인 대기압 플라즈마 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 2 전극은 상기 기판 장착 수단에 구비되어, 상부의 제 1 전극과 하부의 제 2 전극 사이에 기판이 위치하는 것이 특징인 대기압 플라즈마 장치.
- 제 4 항에 있어서,상기 기판 장착 수단은 스테이지인 대기압 플라즈마 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 진공 흡입 배기부는 모터(motor) 또는 팬(fan)과 속이 빈 연결수단을 통해 연결되어 상기 흡입 배기부 내의 흡입구가 흡입력을 갖는 것이 특징인 대기압 플라즈마 장치.
- 제 6 항에 있어서,상기 진공 흡입 배기부는 길이방향의 양측면이 속이 빈 연결수단을 통해 모터(motor) 또는 팬(fan)과 연결된 것이 특징인 대기압 플라즈마 장치.
- 제 6 항에 있어서,상기 진공 흡입 배기부는 흡입구 반대면인 상부면에 형성된 다수의 홀과 속이 빈 연결수단을 통해 모터(motor) 또는 팬(fan)과 연결된 것이 특징인 대기압 플라즈마 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 발생부와 진공 흡입 배기구 사이의 일정간격은 10mm 내지 100mm인 대기압 플라즈마 장치.
- 지면과 평행한 상태에서 수직하게 세워지는 기능을 갖는 스테이지와;상기 스테이지 상면에 형성된 제 1 전극과, 상기 지면에 수직하게 세워진 스테이지와 마주보며 상기 수직하게 세워진 스테이지에 대해 수평을 유지하며 직선 운동하는 제 2 전극을 갖는 플라즈마 발생부를 포함하는 대기압 플라즈마 장치.
- 제 10 항에 있어서,상기 제 1 전극에는 다수의 흡입홀이 구비되어 기판이 상기 스테이지 상의 제 1 전극 상에 놓여지면 상기 흡입홀이 주위 공기를 흡입함으로 해서 상기 기판이 상기 제 1 전극에 밀착 고정되는 것이 특징인 대기압 플라즈마 장치.
- 지면과 평행한 상태에서 수직하게 세워지는 기능을 갖는 스테이지와;상기 수직하게 세워진 스테이지에 대해 지지대에 의해 고정된 제 1, 2 전극에 의해 발생하는 플라즈마를 방출하는 방출구가 마주하도록 위치하며, 상기 플라즈마 방출구가 상기 수직하게 세워진 스테이지에 대해 수평을 유지하며 직선 운동하는 플라즈마 발생부를 포함하는 대기압 플라즈마 장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 스테이지에는 다수의 흡입홀이 구비되어 기판이 상기 스테이지상에 놓여지면, 상기 흡입홀이 주위 공기를 흡입함으로 해서 상기 기판이 상기 스테이지에 밀착 고정되는 것이 특징인 대기압 플라즈마 장치.
- 상기 제 10 항 또는 제 12 항에 있어서,상기 지면에 수직하게 세워진 스테이지의 하부에 플라즈마 공정 진행시 발생하는 기판으로부터 박리되는 플라즈마 반응물이 낙하하는 위치에 상기 플라즈마 반응물을 퇴적시키는 포집수단이 더욱 구비되는 대기압 플라즈마 장치.
- 제 14 항에 있어서,상기 포집수단은 내부에 상기 반응물을 진공 흡입하여 외부로 배출시키는 흡입구가 더욱 구비되는 대기압 플라즈마 장치.
- 지면과 수직하게 위치하며, 지면에 수직한 방향으로 직선 운동하는 스테이지와;상기 스테이지와 마주보며 상기 수직하게 세워진 스테이지에 대해 수평을 유지하며 고정된 플라즈마 발생부와;상기 스테이지 하부에 흡입 배출구를 갖는 포집수단을 포함하는 대기압 플라즈마 장치.
- 제 16 항에 있어서,상기 스테이지는 기판을 수직하게 이동시키는 기판이동수단과 연결되어 상기 기판이동수단으로부터 수직한 상태의 기판을 공급받는 것이 특징인 대기압 플라즈마 장치.
- 제 16 항에 있어서,상기 플라즈마 발생부는 제 1, 2 전극을 구비하여 상기 제 1, 2 전극 사이에 발생한 플라즈마를 일방향에 위치한 플라즈마 방출구를 통해 플라즈마를 방출하는 것을 특징으로 대기압 플라즈마 장치.
- 제 17 항 또는 제 18 항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 스테이지에는 다수의 흡입홀이 구비되어 기판이 상기 스테이지 전면에 상에 놓여지면, 상기 흡입홀이 주위 공기를 흡입함으로 해서 상기 기판이 상기 스테이지에 밀착 고정되는 것이 특징인 대기압 플라즈마 장치.
- 제 16 항에 있어서,상기 플라즈마 발생부는 제 1 전극을 구비하며, 상기 스테이지 전면부에 제 2 전극을 더욱 구비하여 상기 제 1, 2전극 사이에 플라즈마가 발생하는 것이 특징인 대기압 플라즈마 장치.
- 제 20 항에 있어서,상기 제 2 전극에는 다수의 흡입홀이 구비되어 기판이 상기 스테이지 전면부의 제 2 전극 표면에 놓여지면 상기 흡입홀이 주위 공기를 흡입함으로 해서 상기 기판이 상기 제 2 전극에 밀착 고정되는 것이 특징인 대기압 플라즈마 장치.
- 박막이 형성된 기판을 대기압 플라즈마 장치의 기판 장착 수단에 위치시키는 단계와;상기 기판 위로 플라즈마 발생부와 상기 플라즈마 발생부로부터 일정간격 이격하여 위치한 진공 흡입 배기부를 위치시키는 단계와;상기 플라즈마 발생부에 고전압 및 활성화 가스를 공급하여 플라즈마를 발생시키며, 동시에 상기 진공 흡입 배기부는 상기 흡입 배기부의 흡입구로 흡입 실시한 후, 상기 플라즈마 발생부 및 상기 흡입 배기부의 흡입구를 순차적으로 기판이 통과하도록 하는 단계를 포함하는 대기압 플라즈마 장치를 이용한 박막 제거 방법.
- 제 22 항에 있어서,상기 플라즈마 발생부와 진공 흡입 배기구 사이의 이격한 일정간격은 10mm 내지 100mm인 대기압 플라즈마 장치를 이용한 박막 제거 방법.
- 박막이 형성된 기판을 대기압 플라즈마 장치의 스테이지 상부에 위치시키는 단계와;상기 스테이지 상부에 위치한 기판을 상기 스테이지 전면에 구비된 다수의 흡입홀을 이용하여 상기 스테이지 상면에 밀착 고정시키는 단계와;상기 기판이 밀착 고정된 스테이지를 지면에 수직으로 세우는 단계와;상기 지면에 수직하게 세워진 스테이지에 일정간격 이격하여 위치한 플라즈마 발생부을 일방향으로 이동시키며, 상기 스테이지에 밀착 고정된 기판 표면에 플라즈마를 노출하는 단계를 포함하는 대기압 플라즈마 장치를 이용한 박막 제거 방법.
- 수직한 상태로 기판을 이동시키는 기판이동수단으로부터 수직한 상태의 기판이 수직하게 세워진 상태의 스테이지 전면에 위치시키는 단계와;상기 스테이지 표면에 형성된 흡입홀을 통해 상기 기판을 스테이지 전면부에 밀착 고정시키는 단계와;상기 스테이지 전면부를 마주보며 일정간격 이격하여 위치한 플라즈마 발생부를 통해 플라즈마를 발생시키는 단계와;상기 플라즈마에 기판 전면이 노출되도록 상기 스테이지를 지면에 수직한 방향으로 이동시키는 단계를 포함하는 대기압 플라즈마 장치를 이용한 박막 제거 방법.
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