KR100989356B1 - Method of manufacturing ecg electrode and the ecg electrode manufactured thereof - Google Patents

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이성형
이성우
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Abstract

PURPOSE: An electrode for an electrocardiogram sensor is provided to smoothly electroless plate a silver layer by using high density palladium catalyst. CONSTITUTION: An ABS(Acrylonitrile Butadiene Styrene) resin is degreased. The surface of the ABS resin is etched and neutralized. A palladium seed is formed on the surface of the ABS resin with a catalysis treatment. The palladium seed is activated with a catalyst activation solution. A first plated body is formed with electroless plating. A silver/chloridation silver layer is coated on a second plated body.

Description

저임피던스성, 고내식성 심전도 센서용 전극 및 그 제조방법 {Method of manufacturing ECG Electrode and the ECG Electrode manufactured thereof}Electrode for low impedance, high corrosion resistance electrocardiogram sensor and its manufacturing method {Method of manufacturing ECG Electrode and the ECG Electrode manufactured

본 발명은 심전도 센서용 전극에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 심전도 측정을 위한 전극체에 관한 것이다.
The present invention relates to an electrode for an electrocardiogram sensor, and more particularly, to an electrode body for measuring an electrocardiogram.

은/염화은 전극은 심전도, pH 미터, 용존산소 전극 등의 양극, 표준 전극 등으로 사용되고 있으며, 특히 인체의 전위를 측정할 때 일회용으로 사용되는 양극 등에 널리 사용되고 있다. 일반적으로, 염화은은 물에 거의 용해되지 않으므로 전해질의 주요 음이온이 염소이온인 전해질 용액에서 전기적으로 안정하다. 은/염화은 전극은 은 ⇔ 은이온 + 전자, 은이온 + 염소이온 ⇔ 염화은의 전기화학적 반응을 이용하여 생긴 염화은을 은판의 표면에 점진적으로 피복시킴으로써 제조된다.Silver / silver chloride electrodes are used as positive electrodes such as electrocardiograms, pH meters, dissolved oxygen electrodes, standard electrodes, and the like, and are particularly widely used for anodes used for single use when measuring the potential of the human body. In general, silver chloride is hardly soluble in water and thus is electrically stable in an electrolyte solution in which the main anion of the electrolyte is chlorine ion. The silver / silver chloride electrode is prepared by gradually coating silver chloride formed on the surface of the silver plate using an electrochemical reaction of silver ⇔ silver ions + electrons, silver ions + chlorine ions 은 silver chloride.

생물학적 유체는 일반적으로 상당량의 염소이온을 함유하고 있다. 예를 들어, 사람의 피에는 0.15 몰의소금(NaCl)과 미량의 염화칼륨(KCl)을 함유하고 있어서 염소이온과 은/염화은 전극간의 전위차를 이용함으로써 생체 시스템의 전기적 측정에 은/염화은 전극이 널리 쓰이고 있다.Biological fluids generally contain significant amounts of chloride ions. For example, human blood contains 0.15 moles of salt (NaCl) and traces of potassium chloride (KCl), which makes silver / silver chloride electrodes widely available for electrical measurements in biological systems by utilizing the potential difference between chlorine ions and silver / silver chloride electrodes. It is used.

그러나, 생체신호의 측정 입력부로서의 전극은 민감한 부분의 신호가 입력되어 증폭기를 거쳐 모니터 등으로 출력되기 때문에, 신호를 수신하는 전극은 저임피던스를 가짐과 동시에 피부에 닿은 이후의 일정시간 동안 전극의 특성을 유지하여 신호를 수신하기에 적합하여야 한다. 그리고, 인체로부터 접촉되기 때문에 심전도 센서용 전극을 기타의 전도성 젤 등으로 감싼다고 하여도, 인체의 땀 성분 등으로 전극의 부식이 발생하기 때문에, 심전도 센서용 전극의 경우 내식성이 우수해야한다. 또한, 은/염화은 전극의 경우 noble 금속을 사용하기 때문에, 측정에 필요한 일정 두께를 유지하면서 정확한 심전도 측정을 위한 수신부 역할을 할 수 있는 전극이 필요하다.However, since the electrode as the measurement input part of the bio-signal is input to the sensitive part of the signal and is output to the monitor through an amplifier, the electrode receiving the signal has a low impedance and maintains the characteristics of the electrode for a predetermined time after touching the skin. It must be suitable to maintain and receive a signal. Further, even if the ECG sensor electrode is wrapped with other conductive gel due to contact from the human body, corrosion of the electrode occurs due to sweat components of the human body, and therefore, the ECG sensor electrode should have excellent corrosion resistance. In addition, since a silver / silver chloride electrode uses a noble metal, there is a need for an electrode that can serve as a receiver for accurate ECG measurement while maintaining a constant thickness required for measurement.

이러한 저임프던스 특성, 고내식성 등을 향상 시키기 위해서는, 측정을 위한 은/염화은 도금층의 베이스를 이루는 은도금층의 도금기술 및 도금두께가 중요하며, 또한 은도금층 위에 은/염화은의 점진적 피복시 균일한 도금 및 은/염화은 층에 대한 코팅기술을 통해 고내식성을 향상시키는 기술이 필요한데, 이러한 저임피던스 특성, 고내식성을 가지는 만족할 만한 심전도 센서용 전극은 없는 실정이다.
In order to improve such low impedance characteristics and high corrosion resistance, the plating technique and the plating thickness of the silver plating layer forming the base of the silver / silver chloride plating layer for measurement are important, and also uniform in the progressive coating of silver / silver chloride on the silver plating layer. There is a need for a technique for improving high corrosion resistance through plating and coating of silver / silver chloride, and there is no satisfactory electrocardiogram sensor electrode having such low impedance and high corrosion resistance.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 도출된 것으로서, 아크릴로니트릴 부타디엔 스티렌 수지(이하 ABS 수지라 한다.), 또는 스테인레스 강 등을 심재로 사용하여 은과 염화은의 사용량을 줄여 경제적인 효과를 추구함과 동시에, 상대적으로 은도금층과 은/염화은 코팅 층이 얇은 두께를 가짐에도 불구하고 심전도 센서용 전극으로 사용되어질 때, 저임피던스 특성을 지녀 정확한 신호의 측정이 가능하도록 표면처리를 한다. 또한 저 임프던스 특성을 장기간 유지하고자 고내식성을 지닌 심전도 센서용 전극을 제공한다.The present invention was derived to solve the above-described problems, using an acrylonitrile butadiene styrene resin (hereinafter referred to as ABS resin), or stainless steel as a core material to reduce the amount of silver and silver chloride to pursue economic effects At the same time, although the silver plating layer and the silver / silver chloride coating layer have a relatively small thickness, when used as an electrode for an electrocardiogram sensor, the surface treatment is performed to have a low impedance characteristic and to accurately measure a signal. In addition, in order to maintain low impedance characteristics for a long time, it provides an electrode for an electrocardiogram sensor having high corrosion resistance.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 고농도 팔라듐 촉매를 사용하여 은 층의 무전해 도금을 원활히 하고, 또한 팔라듐 시드를 활성화하는 단계를 거침으로 인해 은층의 무전해 도금이 균일하고 효과적으로 도금되어 생체신호 측정에 사용될 전극의 특성에 부합시킨다. 즉, 촉매활성화처리를 포함하여, 도금층을 무전해 도금하기 위해 팔라듐 시드(seed)를 이용하여 무전해 도금을 하며, 생산비용을 절감하고 또한 은 도금 층 형성 후 안정적인 은/염화은 코팅을 통해 일정한 두께의 전극을 가짐과 동시에 임피던스가 낮은 심전도 센서용 전극 및 그 제조방법을 제공하여 경제적이며, 안정적이고도 정확한 분석을 수행하는 심전도계의 전극을 제공한다.The problem to be solved by the present invention is to facilitate the electroless plating of the silver layer using a high concentration of palladium catalyst, and also to pass the step of activating the palladium seed electroless plating of the silver layer is uniformly and effectively plated for the measurement of bio signals Match the characteristics of the electrode to be used. That is, electroless plating using palladium seed (seed) to electroless plating the plating layer, including the catalyst activation treatment, to reduce the production cost and stable thickness through the silver / silver chloride coating after forming the silver plating layer The present invention provides an electrode for an electrocardiogram sensor having a low impedance and a low impedance electrocardiogram sensor and a method of manufacturing the same.

한편, 본 발명의 특징으로, 은/염화은의 코팅층의 형성에 있어서 특정 성분으로 구성되는 치환용액을 사용하여, 전도성이 높고 내식성이 우수한 심전도 센서용 전극 및, 그 제조방법을 제공한다.
On the other hand, as a feature of the present invention, by using a substitution solution composed of a specific component in the formation of a coating layer of silver / silver chloride, it provides an electrode for an electrocardiogram sensor having high conductivity and excellent corrosion resistance, and a method of manufacturing the same.

상술한 과제의 해결 수단으로서 본 발명은, The present invention as a means for solving the above problems,

ㄱ) 50 ~ 60℃ 의 온도에서 5 ~ 15분 동안 ABS 수지를 탈지제에 침적하여 ABS 수지 표면의 유지와 불순물을 침적하여 탈지하는 침적탈지단계; ㄴ) 상기 침적탈지단계를 거친 ABS 수지를 수세한 후, 에칭액으로 60 ~ 70℃에서 3 ~ 8분간 ABS 수지의 표면을 에칭하는 에칭단계; ㄷ) 상기 에칭단계를 거친 ABS 수지를 수세한 후, 중화용액으로 20 ~ 30℃에서 1 ~ 3분간 상기 ABS 수지의 표면의 산성분을 제거하기 위한 중화단계; ㄹ) 상기 중화단계를 거친 ABS 수지를 수세한 후, 촉매제를 사용하여 20 ~ 30℃에서 1 ~3분간 ABS 수지를 침지시켜 시드를 형성시키는 촉매화처리단계; ㅁ) 상기 촉매화처리단계를 거친 ABS 수지를 수세한 후, 촉매활성화 용액에 40 ~ 60℃에서 1 ~ 3분간 촉매를 활성화 시키는 촉매활성화단계; ㅂ) 상기 촉매활성화단계를 거친 ABS 수지를 수세한 후, 20 ~ 30℃에서 무전해 도금액을 이용하여 무전해 도금하여 도금체1을 제조하는 무전해도금단계; ㅅ) 상기 무전해도금단계를 거친 도금체1을 수세한 후, 전해액으로 20 ~ 30℃에서 은/염화은 층 형성단계; 및, ㅇ) 상기 은/염화은 층 형성단계를 거친 도금체 2를 15~25℃ 에서 0.5 ~ 1.5분간 치환액에 침적하여 은/염화은 층을 코팅하는 코팅단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 심전도 센서용 전극의 제조방법을 제공한다.A) a deposition degreasing step of dipping the ABS resin in the degreasing agent at a temperature of 50 to 60 ° C. for 5 to 15 minutes to deposit and maintain the surface of the ABS resin and depositing impurities; B) an etching step of washing the ABS resin after the immersion degreasing step, and then etching the surface of the ABS resin for 3 to 8 minutes at 60 ~ 70 ℃ with an etchant; C) after washing the ABS resin through the etching step, a neutralization step for removing the acid component of the surface of the ABS resin for 1 to 3 minutes at 20 ~ 30 ℃ with a neutralizing solution; D) after washing the ABS resin passed through the neutralization step, catalyzing the step of forming a seed by immersing the ABS resin for 1 to 3 minutes at 20 ~ 30 ℃ using a catalyst; ㅁ) a catalyst activation step of activating the catalyst for 1 to 3 minutes at 40 ~ 60 ℃ in the catalyst activating solution after washing the ABS resin after the catalyzed treatment step; Iii) an electroless plating step of preparing the plated body 1 by washing the ABS resin having undergone the catalyst activation step and electroless plating using an electroless plating solution at 20 to 30 ° C .; ㅅ) after washing the plating material 1 subjected to the electroless plating step, a silver / silver chloride layer forming step at 20 to 30 ° C. with an electrolyte solution; And ㅇ) coating the silver / silver chloride layer by coating the plated material 2 having undergone the silver / silver chloride layer forming step in a substitution solution at 15˜25 ° C. for 0.5 to 1.5 minutes. Provided is a method of manufacturing an electrode.

한편, 본 발명에서 사용되어지는 상기 ABS 수지는 기타의 고분자화합물로 대체하여 사용가능하다.On the other hand, the ABS resin used in the present invention can be used in place of other polymer compounds.

또한, 상기 ㄱ) 탈지단계에서의 탈지액은 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 알킬벤젠술폰산염의 아니온계, 폴리옥시에틸렌과 폴리옥시프로필렌의 축합물, 수산화나트륨, 탄산나트륨, 메타규산나트륨, 인산나트륨, 및 피로인산나트륨 으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나 이상일 수 있으며, 상기 ㄴ) 에칭단계에서의 에칭용액은 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 무수크롬산(CrO3) 50 ~ 100g, 80% 농도 황산수용액 300 ~ 500ml, 글리세린 1 ~ 2g, 및 프로필렌글리콜 2 ~ 3g; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성될 수 있고, 상기 ㄷ) 중화단계에서의 중화용액은 수용액 1리터를 기준으로, 80% 농도 염산수용액 20 ~ 40ml, 황산 10 ~ 30ml로 구성될 수 있으며, 상기 ㄹ) 촉매화처리단계에서의 촉매제는 수용액 1리터를 기준으로, 80% 농도 염산수용액 100 ~ 300ml, 염화팔라듐(PdCl2) 1 ~ 2g, 및 염화주석(SnCl2) 1 ~ 3g 으로 구성될 수 있으며, 상기 ㅁ) 촉매활성화단계의 촉매활성화 용액은 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 80% 농도 염산수용액 20 ~ 40ml, 및 80% 농도 황산수용액 10 ~ 30ml; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성될 수 있다.In addition, the degreasing solution in step a) of the degreasing step is polyoxyethylene alkyl ether, an anionic system of alkylbenzenesulfonate, a condensate of polyoxyethylene and polyoxypropylene, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium metasilicate, sodium phosphate, and fatigue It may be at least one selected from the group consisting of sodium phosphate, b) the etching solution in the etching step is based on 1 liter of aqueous solution, 50 to 100 g of chromic anhydride (CrO 3 ) as a solute, 300 to 500 ml of sulfuric acid aqueous solution, 1 to 2 g of glycerin, and 2 to 3 g of propylene glycol; And it may be composed of the remaining amount of purified water as a solvent, c) the neutralizing solution in the neutralization step may be composed of 20 to 40ml of 80% concentration hydrochloric acid solution, 10 to 30ml of sulfuric acid, based on 1 liter of aqueous solution, d) The catalyst in the catalysis step may be composed of 100 ~ 300ml of 80% concentration hydrochloric acid solution, 1 ~ 2g of palladium chloride (PdCl 2 ), and 1 ~ 3g of tin chloride (SnCl 2 ), based on 1 liter of aqueous solution, ㅁ) the catalyst activation solution of the catalyst activation step is based on 1 liter of aqueous solution, 20 to 40ml of 80% concentration hydrochloric acid solution, and 10 to 30ml of 80% concentration sulfuric acid solution as a solute; And the residual amount of purified water as a solvent.

그리고, 상기 ㅂ) 무전해도금단계에서의 무전해도금액은 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 질산은(AgNO3) 10 ~ 20g, 90% 농도 암모니아수 4 ~ 8mg, 주석산 나트륨 칼륨 300 ~ 400g, 및 에틸렌다이아민테트라아세트산이나트륨염(EDTA2NA) 0.5 ~ 2g; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성되며, 상기 도금체 1은 은(Ag)이 도금되면서 도금의 두께는 0.5 ~ 1 ㎛ 의 두께를 갖게 도금을 수행하는 것이 바람직하다.In addition, the electroless solution in the electroless plating step is based on 1 liter of aqueous solution, 10 to 20 g of silver nitrate (AgNO 3 ), 4 to 8 mg of 90% concentration ammonia water, 300 to 400 g of sodium tartrate, and ethylene. Diamine tetraacetic acid sodium salt (EDTA2NA) 0.5-2 g; And a residual amount of purified water as a solvent, wherein the plating body 1 is plated with silver (Ag) while the plating has a thickness of 0.5 to 1 μm.

또한 본 발명은, 상기 ㅅ) 은/염화은 층 형성단계에서, 상기 전해액은 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 시안화은(AgCN) 60 ~ 90g, 수산화칼륨(KOH) 2 ~ 6g, 시안화칼륨(KCN) 60 ~ 90g, 탄산칼륨(K2CO3) 5 ~ 30g, 메틸알콜 5 ~ 20ml, 및 메틸에테르 2 ~ 8ml; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성되며, 상기 전해액에 상기 ㅂ)의 도금체 1을 침지시키고, 직류 전류밀도 1 ~ 10 A/dm2 로 전해도금 하는 것을 특징으로 하는 심전도 센서용 전극의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention, in the step S) silver / silver chloride layer forming step, the electrolyte is based on 1 liter of aqueous solution, 60 to 90 g of silver cyanide (AgCN) as a solute, 2 to 6 g of potassium hydroxide (KOH), potassium cyanide (KCN) 60 to 90 g, 5 to 30 g of potassium carbonate (K 2 CO 3 ), 5 to 20 ml of methyl alcohol, and 2 to 8 ml of methyl ether; And a residual amount of purified water as a solvent, and immersing the plating member 1 of the above-mentioned i) in the electrolyte solution and electroplating at a DC current density of 1 to 10 A / dm 2 . do.

더불어, 본 발명은, 상기 ㅇ) 코팅단계에서, 상기 치환액은 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 오산화바나듐(V2O5) 1 ~ 5mg, 플루오르화리튬(LiF) 0.1 ~ 0.5mg, 사과산(C4H6O5) 10 ~ 50g, 80% 농도 염산수용액 40 ~ 80ml, 인산(H2PO4) 50 ~ 100mg, 및 80% 농도 황산수용액 20 ~ 60ml; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성되는 것을 특징으로 하는 심전도 센서용 전극의 제조방법을 제공한다.
In addition, the present invention, in the o) coating step, the substitution solution based on 1 liter of aqueous solution, vanadium pentoxide (V 2 O 5 ) 1 ~ 5mg, lithium fluoride (LiF) 0.1 ~ 0.5mg, malic acid (C 4 H 6 O 5 ) 10-50 g, 80% strength aqueous hydrochloric acid solution 40-80 ml, phosphoric acid (H 2 PO 4 ) 50-100 mg, and 80% strength sulfuric acid aqueous solution 20-60 ml; And it provides a method for producing an electrode for an electrocardiogram sensor, characterized in that consisting of the remaining amount of purified water as a solvent.

한편, 본 발명은 상기의 제조방법에 의해 제조되는 심전도 센서용 전극일 수 있으며, 또한, 상기 심전도 센서용 전극을 포함하는 심전도 센서를 제공한다.
On the other hand, the present invention may be an electrode for an electrocardiogram sensor manufactured by the above manufacturing method, and also provides an electrocardiogram sensor comprising the electrode for an electrocardiogram sensor.

본 발명에 의하면, 종래의 심전도 센서용 전극을 생산하기 위해 6가 크롬을 사용했던 환경오염의 문제를 해결하여 친환경 심전도 센서용 전극을 생산할 수 있으며, 한편 본 발명을 통해 귀금속인 은의 함량을 최소화하는 경제적 효과를 가짐과 더불어, 최소의 은의 도금 및 특정성분을 함유하는 처리액을 이용하여 은/염화은 전극의 코팅 처리를 함으로써 저임피던스 특성, 내식성, 고광택성, 등의 우수한 효과를 가진 심전도 센서용 전극을 제공할 수 있다.
According to the present invention, it is possible to produce an electrode for environmentally friendly electrocardiogram sensor by solving the problem of environmental pollution that used hexavalent chromium to produce the conventional electrode for electrocardiogram sensor, while minimizing the content of silver which is a precious metal through the present invention In addition to the economic effect, the coating of the silver / silver chloride electrode using a plating solution containing a minimum of silver and a specific component, the electrocardiogram sensor electrode having excellent effects such as low impedance characteristics, corrosion resistance, high gloss, etc. Can provide.

도 1은 본 발명에 의한 일실시예로서 완성된 심전도 센서용 전극을 나타내는 사진이다.
도2는 실시예 1에 따른, 오산화바나듐 및 플루오르화리튬 사용량에 따른 내식성, 전도성 테스트 사진이다.
도3은 실시예 1에 따른 ㅂ) 무전해도금단계를 거친 후 은 도금층의 FIB를 사용한 사진분석과 EDS 장비로 성분분석한 사진을 나타낸 것이다.
도 4는 실시예 1에 따른 심전도 센서용 전극의 표면사진을 나타낸 것이다.
도 5는 실시예 2에 따른 ㅂ) 무전해도금단계를 거친 후 은 도금층의 FIB를 사용한 사진분석과 EDS 장비로 성분분석한 사진을 나타낸 것이다.
도 6은 실시예 2에 따른 심전도 센서용 전극의 표면사진을 나타낸 것이다.
도 7은 비교예 1에 따른 ㅂ) 무전해도금단계를 거친 후 은 도금층의 FIB를 사용한 사진분석과 EDS 장비로 성분분석한 사진을 나타낸 것이다.
도 8은 비교예 1에 따른 심전도 센서용 전극의 표면사진을 나타낸 것이다.
도 9는 비교예 2에 따른 심전도 센서용 전극의 표면사진을 나타낸 것이다.1 is a photograph showing an electrode for an electrocardiogram sensor completed as an embodiment according to the present invention.
Figure 2 is a corrosion resistance, conductivity test picture according to the amount of vanadium pentoxide and lithium fluoride used according to Example 1.
Figure 3 shows a photo analysis using the FIB of the silver plated layer after the electroless plating step according to Example 1 and component analysis with EDS equipment.
Figure 4 shows a surface photograph of the electrode for an electrocardiogram sensor according to Example 1.
5 is a photo analysis using the FIB of the silver plated layer after the electroless plating step according to Example 2 and the component analysis by EDS equipment.
Figure 6 shows a surface photograph of the electrode for an electrocardiogram sensor according to Example 2.
7 is a photo analysis using the FIB of the silver plated layer after the electroless plating step according to Comparative Example 1 and a component analysis by EDS equipment.
8 shows a surface photograph of an electrode for an electrocardiogram sensor according to Comparative Example 1. FIG.
9 shows a surface photograph of an electrode for an electrocardiogram sensor according to Comparative Example 2.

이하, 본 발명이 속한 기술분야의 당업자가 용이하게 반복 재현 할 수 있도록, 구체적인 실시 예를 들어 본 발명을 더 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific embodiments so that those skilled in the art can easily and repeatedly reproduce the present invention.

본 발명은, 센서용 전극에 관한 것으로, 센서용 전극의 표면처리에 대한 방법을 제공하고, 그 제조방법을 제공함과 더불어, 그 제조방법에 의한 전극에 관한 발명이며, 아래의 실시 예는 본 발명의 한 태양에 해당한다.The present invention relates to an electrode for a sensor, to provide a method for surface treatment of a sensor electrode, to provide a manufacturing method thereof, and to an electrode according to the manufacturing method thereof. Corresponds to one sun.

본 발명은, 센서용 전극에 관한 것으로, 생체신호를 측정하기 위한 전극으로 활용될 수 있으며, 구체적으로는 심전도를 측정하기 위한 센서로 사용될 수 있다.The present invention relates to an electrode for a sensor, and may be used as an electrode for measuring a biological signal, and specifically, may be used as a sensor for measuring an electrocardiogram.

본 발명은 심전도 센서용 전극의 제조방법에 관한 것으로 먼저 심재로 사용되어질 ABS 수지를 탈지제를 이용하여 50 ~ 60℃ 의 온도에서 5 ~ 15분 동안 ABS 수지를 침적하여 탈지하는 침적탈지단계를 수행한다. 상기 탈지액은 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 알킬벤젠술폰삼염의 아니온계, 폴리옥시에틸렌과 폴리옥시프로필렌의 축합물, 수산화나트륨, 탄산나트륨, 메타규산나트륨, 인산나트륨, 및 피로인산나트륨으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나 이상으로 구성되는 탈지액을 사용할 수 있으며, 본 탈지단계는 전극의 심재로 사용될 ABS 수지 표면의 유지나 기타의 불순물을 제거하고, 이하의 에칭단계를 원활히 수행키 위한 단계이다..The present invention relates to a method of manufacturing an electrode for an electrocardiogram sensor, and first, an ABS resin to be used as a core material is subjected to a deposition degreasing step of depositing ABS resin for 5 to 15 minutes at a temperature of 50 to 60 ° C. using a degreasing agent. . The degreasing solution is selected from the group consisting of polyoxyethylene alkyl ethers, anionics of alkylbenzenesulfon tris, condensates of polyoxyethylene and polyoxypropylene, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium metasilicate, sodium phosphate, and sodium pyrophosphate One or more degreasing liquids may be used, and the degreasing step is a step for removing oil or other impurities from the surface of the ABS resin to be used as the core material of the electrode and smoothly performing the following etching step.

상기 심재로서 본 발명의 바람직한 실시예로서는 ABS 수지를 사용하였으나, 상기 ABS 수지는 기타의 고분자화합물로 대체하여 사용가능하며, 스테인레스 강을 이용하거나 기타의 금속을 사용할 수 있다. 다만, ABS 수지를 이용하는 경우 무전해 도금을 이용하여 ABS 수지를 은 도금하는 면에서 차이가 있다.ABS is used as a preferred embodiment of the present invention as the core material, the ABS resin can be used in place of other high-molecular compounds, it is possible to use stainless steel or other metals. However, in the case of using the ABS resin, there is a difference in silver plating the ABS resin by using electroless plating.

한편, 상기 탈지를 한 후, ABS 수지를 수세하는데, 일반적인 증류수로 상온에서 수세할 수 있다. 상기 수세를 한 후에는 에칭단계에 들어가는데, 에칭 단계에서는 무수크롬산(CrO3), 황산 수용액(H2SO4), 글리세린, 습윤제, 및 프로필렌글리콜으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나 이상으로 구성되는 에칭액을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 무수크롬산(CrO3) 50 ~ 100g, 80% 농도 황산수용액 300 ~ 500ml, 글리세린 1 ~ 2g, 및 프로필렌글리콜 2 ~ 3g; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성되는 에칭액을 사용할 수 있다. 상기 에칭액은 ABS 수지에서 부타디엔 성분을 선택적으로 용해시켜 심재인 ABS 수지의 표면에 미세한 요철을 내기 위함이다. 종래에는 무전해 도금 전에 마모제를 이용하는 경우가 있으나, 분자수준의 미세한 요철을 내기 위해서는 에칭을 통한 과정이 심전도 센서용 전극의 생산에 있어서 바람직하며, 상기의 수치범위에서 이러한 요철을 통해 하기의 팔라듐을 이용한 무전해 도금의 효율을 높이는데 수치한정의 의의가 있다. On the other hand, after degreasing, washing with ABS resin, it can be washed with normal distilled water at room temperature. After washing with water, the etching step is performed. In the etching step, chromic anhydride (CrO 3 ), sulfuric acid aqueous solution (H 2 SO 4 ), Etching solution composed of at least one selected from the group consisting of glycerin, humectant, and propylene glycol may be used, and preferably 50-100 g of chromic anhydride (CrO 3 ) as a solute, based on 1 liter of aqueous solution, and an aqueous solution of 80% concentration sulfuric acid. 300 to 500 ml, glycerin 1 to 2 g, and propylene glycol 2 to 3 g; And an etchant consisting of the residual amount of purified water as a solvent. The etching solution selectively dissolves the butadiene component in the ABS resin to provide fine unevenness to the surface of the ABS resin, which is a core material. Conventionally, abrasives may be used before electroless plating, but in order to produce minute irregularities at the molecular level, a process through etching is preferable in the production of an electrode for an electrocardiogram sensor. The numerical value is significant to increase the efficiency of electroless plating using.

이 때, 글리세린과 프로필렌글리콜은 에칭과 함께 습윤제로서의 역할을 함께 수행하면서, ABS 수지 표면의 윤택효과를 수행하여, 후속되는 무전해 도금 및 은도금 단계에서 ABS 수지에 골고루 무전해 도금 및 은 도금을 수행함에 기여하게 되는데, 글리세린이 0.1 중량% 미만인 경우 윤택효과가 떨어지며, 0.2 중량% 초과하는 경우 에칭의 효과가 떨어지는 점에서 수치한정의 의의가 있다. At this time, the glycerin and propylene glycol together with the etching as a humectant, while performing a shine effect on the surface of the ABS resin, evenly performing electroless plating and silver plating on the ABS resin in the subsequent electroless plating and silver plating step. If the glycerin is less than 0.1% by weight, the shine effect is lowered, and when it exceeds 0.2% by weight, there is a numerical limitation in that the effect of etching is lowered.

상기 에칭단계를 거친 심재 ABS 수지는 표면에 미세한 공극을 형성하고 있으며, 약 0.0001 ~ 0.0010㎛ 의 크기의 미세 요철 부위가 형성되며, 상기 미세 요철 부위에는 에칭액 성분이 포함되어 있으므로, 다음과 같은 중화단계가 필요하다. The core ABS resin, which has undergone the etching step, forms fine pores on the surface, and has a fine concavo-convex portion having a size of about 0.0001 to 0.0010 μm, and the micro-concave portion includes an etching solution component, such that the neutralization step is as follows. Is needed.

즉, 상기 에칭단계를 거친 ABS 수지를 20 ~ 30℃에서 1 ~ 3분간 상기 ABS 수지의 표면의 산성분을 제거하는 단계를 거치게 되며, 상기 중화용액은 염산, 황산 으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나 이상을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 80% 농도 염산수용액 20 ~ 40ml, 황산 수용액10 ~ 30ml; 및 잔량 정제수로 구성되는 혼합용액을 사용할 수 있다.That is, the step of removing the acid component of the surface of the ABS resin for 1 to 3 minutes at 20 ~ 30 ℃ the ABS resin after the etching step, the neutralizing solution is one or more selected from the group consisting of hydrochloric acid, sulfuric acid 20 to 40 ml of 80% strength aqueous hydrochloric acid solution, 10 to 30 ml of sulfuric acid solution; And a mixed solution consisting of the residual amount of purified water can be used.

상기 중화단계를 거친 ABS 심지는 다시 중성용액으로 수세한 후, 다음의 촉매화처리단계를 거치게 된다. 본 발명에서 사용되는 촉매화처리단계는 ABS 수지의 표면에 은을 무전해 도금하기 위한 전단계로서, 원활하게 은도금을 수행하기 위한 단계를 의미하며, 팔라듐 시드가 은 도금의 무전해 도금에 있어서 촉매와 같은 원활하고 빠른 도금을 수행한다는 의미에서 촉매화처리라는 용어로 사용하는 것이다. 즉, 에칭 후의 ABS 수지 표면상에 팔라듐을 시드(Seed)로 하여 적층시키는 단계이다. 상기 형성된 시드위에 은을 무전해 도금을 하는 경우 매우 효과적인 도금이 이루어질 수 있다. 이 때, 팔라듐 시드를 적층하는 단계는 상기 중화단계를 거친 ABS 수지를 수세한 후, 촉매제인 염산(HCl), 염화팔라듐(PdCl2),염화주석(SnCl2)으로 구성되는 혼합용액을 사용하며, 바람직하게는 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 80% 농도 염산수용액 100 ~ 300ml, 염화팔라듐(PdCl2) 1 ~ 2g, 및 염화주석(SnCl2) 1 ~ 3g; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성되는 촉매제를 사용하여 20 ~ 30℃에서 1 ~3분간 ABS 수지를 침지시켜 촉매화처리를 한다. 염화팔라듐과 염화주석의 수치한정은 상기 범위 미만의 경우에서는 시드의 적층이 원활하지 않으며, 상기 범위 초과인 경우에는 시드로서 작용하는 양의 범위를 넘어 은 도금의 수행에 있어서 원할하지 않다는 점에서 수치한정의 의의가 있다.The ABS wick after the neutralization step is washed with a neutral solution again, and then subjected to the next catalytic treatment step. The catalyzing step used in the present invention is a preliminary step for electroless plating silver on the surface of the ABS resin, and means a step for smoothly performing silver plating, and palladium seed is used as a catalyst in the electroless plating of silver plating. It is used as the term catalysis in the sense of performing the same smooth and fast plating. That is, palladium is seeded and laminated on the ABS resin surface after etching. When electroless plating silver on the formed seed can be very effective plating. At this time, the step of laminating the palladium seed is washed with the ABS resin after the neutralization step, using a mixed solution consisting of hydrochloric acid (HCl), palladium chloride (PdCl 2 ), tin chloride (SnCl 2 ) as a catalyst. Preferably, based on 1 liter of aqueous solution, 100-300 ml of 80% strength aqueous hydrochloric acid solution as a solute, 1-2 g of palladium chloride (PdCl 2 ), and 1-3 g of tin chloride (SnCl 2 ); And the catalyst is treated by immersing the ABS resin for 1 to 3 minutes at 20 ~ 30 ℃ using a catalyst consisting of a residual amount of purified water as a solvent. Numerical limitations of palladium chloride and tin chloride are not desirable in the performance of silver plating beyond the range of seeds acting as a seed when less than the above range, and above the above range. There is limited meaning.

한편, 상기 촉매화처리단계를 거친 ABS 수지를 촉매활성화 용액에서 30 ~ 40℃에서 1 ~ 3분간 팔라듐 시드를 활성화 시키는 단계로서, 촉매를 활성화시킨다. 상기 촉매를 활성화한다는 의미는 팔라듐 시드를 활성화하는 것이다. 상기 촉매활성화 용액은 염산용액, 황산용액 중 어느 하나 또는 이들의 혼합용액을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 80% 농도 염산수용액 20 ~ 40ml, 및 80% 농도 황산수용액 10 ~ 30ml; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성되는 혼합용액을 사용함이 바람직하다. 이 때, 상기 촉매화활성용액은 ABS 수지 표면 및 팔라듐 시드의 Sn 등의 불순물을 제거하여 은의 무전해 도금 시에 밀착성을 높이는 효과가 있다. 상기 황산 및 염산의 수치범위에 있어서, 상기 수치범위 이외로서 초과하는 경우 Sn이 제거되면서 Pd도 같이 제거되어 미도금이 발생 될 경우가 있으며 반대로 미만인 경우에는 Sn이 미제거되어 돌기나 피트가 발생되거나 과도금 되는 경우가 발생하게 되는 점에서 수치한정의 의의가 있다. On the other hand, as a step of activating the palladium seed for 1 to 3 minutes at 30 ~ 40 ℃ in the catalyst activated solution of the ABS resin after the catalyzed treatment step, the catalyst is activated. Activating the catalyst means activating the palladium seed. The catalyst activation solution may be any one of hydrochloric acid and sulfuric acid, or a mixed solution thereof. Preferably, 20 to 40 ml of 80% aqueous hydrochloric acid solution, and 80% aqueous sulfuric acid solution as a solute, based on 1 liter of aqueous solution. 10-30 ml; And it is preferable to use a mixed solution composed of the residual amount purified water as a solvent. At this time, the catalytically active solution has an effect of increasing the adhesion during electroless plating of silver by removing impurities such as Sn on the surface of the ABS resin and palladium seed. In the numerical range of sulfuric acid and hydrochloric acid, when exceeding the numerical range, Sn is removed and Pd is also removed, which may cause unplating. On the contrary, when Sn is removed, Sn is not removed and protrusions or pits are generated. The numerical limitation is significant in that over-plating occurs.

그리고, 상기 촉매활성화단계를 거친 ABS 수지를 수세한 후 20 ~ 30℃에서 은(Ag)으로 무전해 도금하여 도금체1을 제조하는 무전해도금단계를 거친다. 상기 무전해 도금단계에서 은으로 무전해 도금함에 있어서는, 질산은, 암모니아수, 주석산 나트륨 칼륨, EDTA로 구성되는 무전해 도금액을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 질산은(AgNO3) 10 ~ 20g, 90% 농도 암모니아수 4 ~ 8mg, 주석산 나트륨 칼륨 300 ~ 400g, 및 에틸렌다이아민테트라아세트산이나트륨염(EDTA2NA) 0.5 ~ 2g; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성되는 무전해 도금액을 사용할 수 있다. 상기 무전해 도금액을 사용하는 경우 두께편차를 없앨 수 있는 효과를 얻을 수 있다. Then, after washing the ABS resin through the catalyst activation step, the electroless plating with silver (Ag) at 20 ~ 30 ℃ undergoes an electroless plating step to produce the plated body 1. In electroless plating with silver in the electroless plating step, an electroless plating solution composed of silver ammonia water, sodium potassium stannate, and EDTA may be used. Preferably, silver nitrate (AgNO 3) is used as a solute based on 1 liter of aqueous solution. ) 10-20 g, 90% concentration ammonia water 4-8 mg, sodium sodium stannate 300-400 g, and ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt (EDTA2NA) 0.5-2 g; And an electroless plating solution composed of the residual amount of purified water as a solvent. When the electroless plating solution is used, an effect of eliminating the thickness deviation can be obtained.

이 때, 은 도금의 두께는 0.5㎛ ~ 1㎛ 의 두께를 갖도록 무전해 도금을 행하는데 그 이유는, 0.5㎛ 미만에서는 치환 시 박리되는 문제점이 있으며, 1㎛ 초과의 경우 은/염화은 층 형성 효율저하 문제점이 있기 때문에 수치한정의 의의가 있다.At this time, the thickness of the silver plating is performed electroless plating so as to have a thickness of 0.5㎛ ~ 1㎛, the reason is that there is a problem of peeling off when substituted less than 0.5㎛, silver / silver chloride layer formation efficiency above 1㎛ The numerical limitation is significant because of the deterioration problem.

또한, 상기 무전해 도금단계를 거친 도금체 1을 20 ~ 30℃ 온도의 전해액에 침지한 후, 직류 전류밀도 1 ~ 10 A/dm2로 1 ~ 10분간 가하여 은/염화은 층을 형성하여 도금체2를 형성시키는데, 가해주는 직류 전류는 일정하게 부하를 걸 수 있으며, 일정값에서 시작하여 조금씩 변화를 줄 수도 있다. 이때 상기 전해액은 시안화은(AgCN), 수산화칼륨(KOH), 시안화칼륨(KCN), 탄산칼륨(K2CO3), 메틸알콜, 및 메틸에테르로 구성되며, 바람직하게는 용질로서 시안화은(AgCN) 60 ~ 90g, 수산화칼륨(KOH) 2 ~ 6g, 시안화칼륨(KCN) 60 ~ 90g, 탄산칼륨(K2CO3) 5 ~ 30g, 메틸알콜 5 ~ 20ml, 및 메틸에테르 2 ~ 8ml; 용매로서 잔량 정제수로 구성될 수 있다. 이 때 상기의 수치범위에서 은 도금의 수행이 원활하고도 균일하게 진행될 수 있는 효과가 뛰어나다는 점에서 수치한정의 의의가 있다.Further, after immersing the plated material 1 subjected to the electroless plating step in an electrolyte solution at a temperature of 20 to 30 ° C, the plated material was formed by adding a DC current density of 1 to 10 A / dm 2 for 1 to 10 minutes to form a silver / silver chloride layer. To form 2, the applied DC current can be constantly loaded, and it can start at a certain value and change it little by little. In this case, the electrolyte is composed of silver cyanide (AgCN), potassium hydroxide (KOH), potassium cyanide (KCN), potassium carbonate (K 2 CO 3 ), methyl alcohol, and methyl ether, preferably silver cyanide (AgCN) 60 as a solute. ˜90 g, potassium hydroxide (KOH) 2-6 g, potassium cyanide (KCN) 60-90 g, potassium carbonate (K 2 CO 3 ) 5-30 g, methyl alcohol 5-20 ml, and methyl ether 2-8 ml; It may consist of the residual amount of purified water as a solvent. At this time, the numerical limitation is significant in that the effect of performing the silver plating smoothly and uniformly in the numerical range is excellent.

그리고, 상기 은/염화은 층 형성단계를 거친 도금체 2를 수세한 후, 15~25℃ 에서 0.5 ~ 1.5분간 치환액으로 은/염화은을 코팅하는데, 상기 치환액은 오산화바나듐(V2O5), 플루오르화리튬(LiF), 사과산(C4H6O5), 염산(HCl), 인산(H2PO4), 황산(H2SO4)으로 구성될 수 있으며, 바람직하게는 용질로서 오산화바나듐(V2O5) 1 ~ 5mg, 플루오르화리튬(LiF) 0.1 ~ 0.5mg, 사과산(C4H6O5) 10 ~ 50g 중량%, 80% 농도 염산수용액 40 ~ 80ml, 인산(H2PO4) 50 ~ 100mg, 및 80% 농도 황산수용액 20 ~ 60ml; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성됨이 바람직하다. 이 때 상기 오산화바나듐의 수치한정의 범위에서 전극의 전도성이 증가하는 효과가 크며, 플루오르화리튬의 상기 수치한정의 범위에서 내식성이 매우 증가하는 효과의 현저성에 수치한정의 의의가 있다. 상기 치환액은 AgCl치환 역할을 실질적으로 수행하며, 심전도 수신의 효율적 수신 효과를 얻을 수 있고 내부식성에 강한 효과가 있다. 본 발명에서는 이러한 치환액을 통한 은/염화은의 코팅단계가 특징 중의 하나이며, 이 때 사과산인 C4H6O5는 완충 효과를 얻을 수 있으며, 글리세린을 포함하는 경우 그 표면의 광택성이 우수해지는 효과가 있다.In addition, after washing the plated 2 through the silver / silver chloride layer forming step, it is coated with silver / silver chloride with a substitution solution at 15 ~ 25 ℃ 0.5 to 1.5 minutes, the substitution solution is vanadium pentoxide (V 2 O 5 ) , Lithium fluoride (LiF), malic acid (C 4 H 6 O 5 ), hydrochloric acid (HCl), phosphoric acid (H 2 PO 4 ), sulfuric acid (H 2 SO 4 ), preferably pentoxide as a solute Vanadium (V 2 O 5 ) 1 to 5 mg, lithium fluoride (LiF) 0.1 to 0.5 mg, malic acid (C 4 H 6 O 5 ) 10 to 50 g weight%, 80% aqueous hydrochloric acid solution 40 to 80 ml, phosphoric acid (H 2 PO 4 ) 50-100 mg, and 20-60 ml of 80% strength aqueous sulfuric acid solution; And a residual amount of purified water as the solvent. In this case, the effect of increasing the conductivity of the electrode in the range of the numerical limitation of vanadium pentoxide is large, and the numerical significance of the significance of the effect of greatly increasing the corrosion resistance in the range of the numerical limitation of lithium fluoride. The substituent substantially performs the role of AgCl substitution, can obtain an efficient reception effect of ECG reception and has a strong effect on the corrosion resistance. In the present invention, one of the features of the coating step of the silver / silver chloride through such a substitution solution, wherein the malic acid C 4 H 6 O 5 can obtain a buffering effect, when containing glycerin excellent surface gloss There is a repelling effect.

본 발명에 의해 제조된 심전도 센서용 전극의 사진을 도1에 나타내었고, 이하, 구체적인 실시예 및 시험예를 통하여, 본 발명에 대하여 더욱 상세하게 설명하고자 한다.
A photo of an electrode for an electrocardiogram sensor manufactured according to the present invention is shown in FIG. 1, and the present invention will be described in more detail with reference to specific examples and test examples.

크기 1×3Cm, 두께 2T로 ABS 수지의 시편을 준비하고, 탈지제로서 폴리옥시에틸렌알킬에테르를 이용하여 55℃ 의 온도에서 10분 동안 ABS 수지를 침적하여 탈지하였다.Specimens of ABS resin were prepared with a size of 1 × 3 Cm and a thickness of 2T, and ABS resin was degreased by dipping for 10 minutes at a temperature of 55 ° C. using polyoxyethylene alkyl ether as the degreasing agent.

상기 탈지한 ABS 수지를 D.I.수로 수세한 후, 55℃ 온도이고, 용매로서 물 1리터에 무수크롬산 75g, 황산 400ml, 습윤제(글리세린1mg/L + 프로필렌글리콜2mg/L) 로 구성되는 에칭액에 침지하여, 10분간 ABS 수지의 표면을 에칭하였다. After washing the degreased ABS resin with DI water, the solution was immersed in an etchant consisting of 75 g of chromic anhydride, 400 ml of sulfuric acid, and a humectant (glycerol 1 mg / L + propylene glycol 2 mg / L) at a temperature of 55 ° C., at a temperature of 55 ° C., as a solvent. The surface of ABS resin was etched for 10 minutes.

상기 에칭단계를 거친 ABS 수지를 D.I.수로 수세한 후, 25℃ 에서 수용액1리터 기준에, 80% 농도 염산수용액 30ml, 황산 수용액 20ml로 구성되는 중화용액에 침지하여, 2분간 ABS 수지의 표면에 있는 산 성분을 제거하는 중화단계를 거쳤다. After washing the ABS resin having undergone the etching step with DI water, it was immersed in a neutralizing solution composed of 30 ml of 80% aqueous hydrochloric acid solution and 20 ml of sulfuric acid aqueous solution based on 1 liter of aqueous solution at 25 ° C., and placed on the surface of the ABS resin for 2 minutes. A neutralization step was performed to remove the acid component.

그리고, 상기 중화단계를 거친 ABS 수지를 중성용액으로 수세한 후, 25℃ 에서 수용액1리터 기준에, 염산(HCl) 200 ml, 염화팔라듐(PdCl2) 1.6 g, 염화주석(SnCl2) 2g 으로 구성되는 촉매액에 25℃의 온도에서 2분간 ABS 수지의 표면에 팔라듐 시드를 적층시키는 촉매화 처리단계를 거쳤다.After washing the neutralized ABS resin with a neutral solution, at 25 ° C., based on an aqueous solution of 1 liter, 200 ml of hydrochloric acid (HCl), 1.6 g of palladium chloride (PdCl 2 ), and 2 g of tin chloride (SnCl 2 ) The catalyst solution was subjected to a catalytic treatment step of laminating palladium seeds on the surface of the ABS resin for 2 minutes at a temperature of 25 ° C.

이후, 상기 촉매화 처리단계를 거친 ABS 수지를 물로 수세한 후, 35℃ 에서 수용액 1리터기준, 80% 농도 염산수용액 30ml, 황산 20ml으로 구성되는 촉매활성화 용액에 35℃의 온도에서 2분간 침지시키는 촉매활성화 단계를 거쳤다.Thereafter, after washing the ABS resin after the catalyzed treatment with water, the catalyst activation solution consisting of 30 ml of 80% aqueous hydrochloric acid solution and 20 ml of sulfuric acid at 35 ° C based on 1 liter of aqueous solution A catalyst activation step was followed by immersion at a temperature of 35 ° C. for 2 minutes.

그리고, 상기 촉매활성단계를 거친 ABS 수지를 20℃ 에서 물로 수세한 후, 25℃ 에서 수용액 1리터기준, 질산은(AgNO3) 15 g , 90% 농도의 암모니아수 6 mg , 주석산 나트륨 칼륨 350g , EDTA2NA 1g 으로 구성되는 무전해 도금액에 5-10 분 동안 침지하여 은을 무전해 도금하는 무전해 도금 단계를 거쳐 도금체 1을 제조하였다.After washing the ABS resin through the catalytic activity step with water at 20 ° C., the aqueous solution at 25 ° C. was based on 1 liter of aqueous solution, 15 g of silver nitrate (AgNO 3 ), ammonia water 6 mg at 90% concentration, 350 g of sodium tartrate, and 1 g of EDTA2NA. Plated body 1 was prepared through an electroless plating step of immersing for 5-10 minutes in an electroless plating solution consisting of electroless plating of silver.

상기 도금체1의 경우, 0.8㎛의 두께를 가진 도금체로서 도금두께 편차는 0.1%이내로 편차가 없었다. In the case of the plated body 1, the plated thickness was not varied within 0.1% as a plated body having a thickness of 0.8 μm.

이후, 상기 무전해 도금 단계를 거친 상기 도금체 1을 20℃ 에서 물로 수세한 후, 25℃ 에서, 물 1리터에 시안화은(AgCN) 75g, 수산화칼륨(KOH) 4g, 시안화칼륨(KCN) 75g, K2CO3 20g, 메틸알콜 10ml, 메틸에테르 5ml로 구성되는 전해액에 침지한 후 8 A/dm2 의 직류 전류를 10분 동안 가하여 은/염화은 층을 형성하여 도금체 2를 제조하였다.after, The plated material 1 subjected to the electroless plating step was washed with water at 20 ° C., and then at 25 ° C., 75 g of silver cyanide (AgCN), 4 g of potassium hydroxide (KOH), 75 g of potassium cyanide (KCN), and K 2 in 1 liter of water. After immersion in an electrolytic solution consisting of 20 g of CO 3 , 10 ml of methyl alcohol, and 5 ml of methyl ether, a direct current of 8 A / dm 2 was added for 10 minutes to form a silver / silver chloride layer to prepare a plated body 2.

상기 은/염화은 층을 형성하는 단계 후, 상기 도금체2를 20℃ 에서 물로 수세한 후, 20℃ 에서, 수용액 1리터 기준, 오산화바나듐(V2O5) 3mg, 플루오르화리튬(LiF) 0.3mg, 사과산(C4H6O5) 30 g, 염산(HCl) 60 ml, H2PO4 75mg, H2SO4 40ml로 구성되는 치환액에 1 분 동안 침지하여 은/염화은 전극의 표면을 코팅하였다.After forming the silver / silver chloride layer, the plated body 2 was washed with water at 20 ° C., and then at 20 ° C., 3 mg of vanadium pentoxide (V 2 O 5 ), based on 1 liter of aqueous solution, lithium fluoride (LiF) 0.3 mg, 30 g of malic acid (C 4 H 6 O 5 ), 60 ml of hydrochloric acid (HCl), 75 mg of H 2 PO 4 , 40 ml of H 2 SO 4 The surface of the silver / silver chloride electrode was coated by immersion for 1 minute.

상기 치환액에 대한 오산화바나듐과 플루오르화리튬의 사용에 대한 결과값의 수치범위한정이유로서, 오산화바나듐의 사용에 의한 전도성테스트 및 플루오르화리튬의 사용에 의한 내식성 증가에 대한 테스트 결과의 그림을 도 2의 (a) 와 (b)에 나타내었다.As a reason for the numerical range limitation of the results of the use of vanadium pentoxide and lithium fluoride for the above-mentioned substitutes, a diagram of the test results for the conductivity test by the use of vanadium pentoxide and the increase in the corrosion resistance by the use of lithium fluoride is shown. It is shown to 2 (a) and (b).

상기 실시예에 따른 처리단계에서, 은도금층의 형성단계 후에서, 형성된 은 층에 대하여 FIB(집속이온빔)을 통해 사진 분석을 하였고, 도 3의 (a)에 나타내었고, EDS 장비로 성분분석을 한 사진을 도3(b)에 나타내었다.In the treatment step according to the embodiment, after the formation of the silver plated layer, the formed silver layer was analyzed by FIB (focused ion beam), shown in Figure 3 (a), the component analysis by EDS equipment One picture is shown in Fig. 3 (b).

도 3의 (a), 도 3의 (b) 에서 살펴보듯, 팔라듐 시드(Seed)를 사용하여 본 발명에서의 단계에 의한 촉매화처리한 경우에, 은 도금층이 고르게 잘 도금된 것을 알 수 있으며, 이러한 도금 형태는 저임피던스 특성에 기여함을 알 수 있다.As shown in (a) and (b) of FIG. 3, it can be seen that the silver plating layer is evenly plated when catalyzed by the step of the present invention using palladium seed. It can be seen that this plating form contributes to low impedance characteristics.

그리고, 본 실시예에 의한 심전도 센서용 전극의 표면사진을 도 4에 나타내었다. 도 4에서 알 수 있듯이 표면상태가 매우 양호하며, 이는 센서로서 측정의 정확도를 높일 수 있음을 알 수 있다.4 shows a surface photograph of the electrode for an electrocardiogram sensor according to the present embodiment. As can be seen in Figure 4, the surface state is very good, it can be seen that can increase the accuracy of the measurement as a sensor.

상기 심전도 센서용 전극의 제조방법에 있어서, 고농도 팔라듐 촉매사용의 구성범위를 수용액 1리터 기준, 80% 농도 염산수용액 100ml, 염화팔라듐(PdCl2) 1g, 염화주석(SnCl2) 20g 로 구성하고, 오산화바나듐의 농도를 1g을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1의 제조방법에 따랐다.In the method for manufacturing an electrode for an electrocardiogram sensor, the composition range of using a high concentration palladium catalyst is composed of 100 ml of 80% aqueous hydrochloric acid solution, 1 g of palladium chloride (PdCl 2 ), and 20 g of tin chloride (SnCl 2 ), based on 1 liter of aqueous solution. The preparation method of Example 1 was followed except that ê 농도 was used as the concentration of vanadium pentoxide.

상기 실시예에 따른 처리단계에서, 은도금층의 형성단계 후에서, 형성된 은 층에 대하여 FIB(집속이온빔)을 통해 사진 분석을 하였고, 도 5의(a)에 나타내었고, EDS 장비로 성분분석을 한 사진을 도 5의(b)에 나타내었다.In the treatment step according to the embodiment, after the formation of the silver plated layer, the formed silver layer was analyzed by FIB (focused ion beam), shown in Figure 5 (a), the component analysis by EDS equipment One photograph is shown in FIG. 5 (b).

도 5의(a), 도 5의(b) 에서 살펴보듯, 팔라듐 시드(Seed)를 사용하여 본 발명의 단계에 의한 촉매화처리한 경우에, 본 발명의 범위 내에서 실시예 1과 같이 은 도금층이 고르게 잘 도금된 것을 알 수 있다. 한편, 오산화바나듐의 사용을 약간 줄인 것으로서의 전도성 결과에 대하여는 하기의 표 1에 나타내었는데, 오산화바나듐의 사용을 약간 줄임으로써 실시예 1과 저항값에서 약간의 차이가 있음을 알 수 있다. 그러나, 표 1에서 보듯이 비교예와 비교하면 그 효과는 우수함은 자명하다. 본 실시예에 의한 저임피던스 측정값과 내식성의 값은 표 1에서 살피듯이 매우 우수함을 알 수 있다.As shown in (a) and (b) of FIG. 5, when catalyzed by the step of the present invention using palladium seed (Seed), silver as in Example 1 within the scope of the present invention It can be seen that the plating layer is evenly plated. On the other hand, the conductivity results as a slightly reduced use of vanadium pentoxide is shown in Table 1 below, it can be seen that there is a slight difference in the resistance value with Example 1 by slightly reducing the use of vanadium pentoxide. However, as shown in Table 1, the effect is obvious compared with the comparative example. The low impedance measurement value and the corrosion resistance value according to the present embodiment can be seen that very good as shown in Table 1.

한편, 본 실시예에 따른 심전도 센서용 전극의 표면사진을 도 6에 나타내었는데, 도 6를 통해 알 수 있듯이 그 표면상태가 매우 양호함을 알 수 있다.
On the other hand, the surface picture of the electrode for an electrocardiogram sensor according to the present embodiment is shown in Figure 6, as can be seen from Figure 6 it can be seen that the surface state is very good.

<< 비교예Comparative example 1> 1>

상기 심전도 센서용 전극의 제조방법에 있어서, 팔라듐 시드를 적층하는 촉매화처리단계와 촉매활성화단계를 거치지 않고, 은/염화은 코팅처리에 있어서 플루오르화리튬(LiF)을 사용하지 않은 것을 상기 실시예 1의 제조방법에 따랐다.In the method of manufacturing an electrode for an electrocardiogram sensor, Example 1 is that lithium fluoride (LiF) is not used in the silver / silver chloride coating process without undergoing a catalytic treatment step and a catalyst activation step of stacking palladium seeds. According to the preparation method.

상기 비교예1에 의한 결과로서, 은 도금층 형성단계 후의 결과를 FIB(집속이온빔)을 통해 사진 분석을 하였고, 도 7의(a)에 나타내었고, EDS 장비로 성분분석을 한 사진을 도 7의(b)에 나타내었다.As a result of Comparative Example 1, the result after the silver plating layer forming step was analyzed by the FIB (focusing ion beam), shown in Figure 7 (a), the photo of the component analysis with the EDS equipment of Figure 7 It is shown in (b).

그에 따른 결과로써, 시드 적층단계를 제외하고 공정을 흘렸을 때에는 전체적으로 미도금이 발생하며 일부 도금이 되더라도 밀착력이 약한 도금이 형성됨을 확인할 수 있다. As a result, when the process is passed except for the seed lamination step, it can be confirmed that unplating occurs as a whole and plating is formed even if some plating is weak.

한편, 완성된 심전도 센서용 전극의 표면사진에 대하여 도 8에 나타내었다. 도 8을 통해 알 수 있듯이 그 표면 거칠기의 정도가 매우 큼을 알 수 있다.Meanwhile, FIG. 8 is a surface photograph of the completed electrode for an electrocardiogram sensor. As can be seen from FIG. 8, the degree of surface roughness is very large.

그리고, 완성된 제품에 대한 테스트의 결과를 하기 표1에 나타내었는데, 내식성이 많이 약함을 확인할 수 있었다.
And, the results of the test for the finished product is shown in Table 1, it was confirmed that the corrosion resistance is much weak.

<< 비교예Comparative example 2> 2>

상기 심전도 센서용 전극의 제조방법에 있어서, 은/염화은 코팅처리에 있어서 사과산 및 오산화바나듐(V2O5))을 제외한 치환액을 이용하여 코팅을 한 것을 제외하고는 실시예 1의 제조방법과 같다.In the manufacturing method of the electrode for an electrocardiogram sensor, in the silver / silver chloride coating treatment except that the coating using a substitution solution except for malic acid and vanadium pentoxide (V 2 O 5 )) and the manufacturing method of Example 1 same.

비교예 2에 의해 완성된 심전도 센서용 전극의 표면사진에 대하여 도 9에 나타내었다. 도 9을 통해 알 수 있듯이 그 표면 거칠기의 정도가 매우 큼을 알 수 있다.The surface photograph of the electrode for an electrocardiogram sensor completed by Comparative Example 2 is shown in FIG. 9. As can be seen from Figure 9 it can be seen that the degree of surface roughness is very large.

한편, 오산화바나듐의 사용을 하지 않은 결과로서 하기 표1에서 살펴보는 바와 같이 저항값이 매우 크게 측정되었다.
On the other hand, as a result of not using vanadium pentoxide, as shown in Table 1, the resistance value was measured very large.

<< 시험예Test Example >>

본 발명의 특징으로서의 저임피던스성과 고내식성에 대한 테스트 및 기타의 테스트 값을 알아보기 위해, 상기 실시예 1내지 비교예 2에 의해 제조된 심전도 센서용 전극에 대한 테스트를 수행하여 다음 <표 1>에 나타내었다.
In order to find out the test for low impedance and high corrosion resistance as a feature of the present invention and other test values, the test for the electrocardiogram sensor manufactured by Example 1 to Comparative Example 2 was performed to the following <Table 1> Indicated.

비고Remarks 에칭에 따른
표면상태분석Etching
Surface Condition Analysis 성분의
차이Ingredient
Difference Pd 석출상태
분석Pd Precipitation
analysis 은도금
두께 측정silver plate
Thickness measurement 코팅층의 AC
임피던스 측정AC of coating layer
Impedance Measurement 내식성
측정Corrosion resistance
Measure 분석방법Analysis method 3D PROFILER3D PROFILER -- EDS및
STRIKE도금 후 상태확인EDS and
Check status after plating STRIKE 도금 후 도금두께 측정하기Measuring Plating Thickness After Plating 저항측정기사용Use of resistance meter 염수분무기사용Use salt spray 실시예1Example 1 Ra 값 감소(40)
Rt 값 감소(0.5)Ra value reduction (40)
Rt value reduction (0.5) -- Pd성분 있음Pd ingredient 0.8㎛0.8 μm 0.5Ω  0.5 Ω 24Hr24Hr 실시예2Example 2 Ra 값 감소
Rt 값 감소Ra value decrease
Rt value decrease -- Pd성분 있음Pd ingredient 0.7㎛0.7 μm 0.7 Ω0.7 Ω 16 Hr16 Hr 비교예1Comparative Example 1 Ra 값 감소
Rt 값 감소Ra value decrease
Rt value decrease LiF 미포함Without LiF Pd성분 없음No Pd ingredient 0.2㎛0.2 μm 11Ω11Ω 3Hr3Hr 비교예2Comparative Example 2 V2O5 미포함Without V 2 O 5 Pd성분 없음No Pd ingredient 0.3㎛0.3 μm 13 Ω13 Ω 5 Hr5 Hr

○ 내식성 테스트는 염수분무기를 이용하여 24시간 후의(R/N값 9.0이상) 표면을 체크하였다.The corrosion resistance test checked the surface after 24 hours (R / N value 9.0 or more) using the salt spray machine.

○ 임피던스 테스트는 저항측정기를 이용하여 시험하였다.The impedance test was conducted using a resistance meter.

○ 에칭에 따른 표면상태 분석은 3D Profiler를 이용하여 시험하였다.The surface condition analysis by etching was tested using 3D Profiler.

○ Pd 석출상태를 분석하기 위해 EDS성분분석을 하여 Pd 성분 미검출되었다.○ Pd component was not detected by EDS component analysis to analyze Pd precipitation state.

은도금 두께측정은 X-ray를 이용하여 측정하였다.
Silver plating thickness measurement was measured using X-ray.

이상에서 본 발명의 기재된 일 실시예를 중심으로 상세히 설명하였지만, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.Although the above has been described in detail with reference to one embodiment of the present invention, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications are possible within the scope and spirit of the present invention, and such modifications and variations are included in the appended claims. It is natural to belong.

Claims (11)

ㄱ) 50 ~ 60℃ 의 온도에서 5 ~ 15분 동안 ABS 수지를 탈지제에 침적하여 ABS 수지 표면의 유지와 불순물을 침적하여 탈지하는 침적탈지단계;
ㄴ) 상기 침적탈지단계를 거친 ABS 수지를 수세한 후, 에칭액으로 60 ~ 70℃에서 3 ~ 8분간 ABS 수지의 표면을 에칭하는 에칭단계;
ㄷ) 상기 에칭단계를 거친 ABS 수지를 수세한 후, 중화용액으로 20 ~ 30℃에서 1 ~ 3분간 상기 ABS 수지의 표면의 산성분을 제거하기 위한 중화단계;
ㄹ) 상기 중화단계를 거친 ABS 수지를 수세한 후, 촉매제를 사용하여 20 ~ 30℃에서 1 ~3분간 ABS 수지를 침지시켜 시드를 형성시키는 촉매화처리단계;
ㅁ) 상기 촉매화처리단계를 거친 ABS 수지를 수세한 후, 촉매활성화 용액에 40 ~ 60℃에서 1 ~ 3분간 촉매를 활성화 시키는 촉매활성화단계;
ㅂ) 상기 촉매활성화단계를 거친 ABS 수지를 수세한 후, 20 ~ 30℃에서 무전해 도금액을 이용하여 무전해 도금하여 도금체1을 제조하는 무전해도금단계;
ㅅ) 상기 무전해도금단계를 거친 도금체1을 수세한 후, 전해액으로 20 ~ 30℃에서 은/염화은 층 형성단계; 및,
ㅇ) 상기 은/염화은 층 형성단계를 거친 도금체 2를 15~25℃ 에서 0.5 ~ 1.5분간 치환액에 침적하여 은/염화은 층을 코팅하는 코팅단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 심전도 센서용 전극의 제조방법.A) a deposition degreasing step of dipping the ABS resin in the degreasing agent at a temperature of 50 to 60 ° C. for 5 to 15 minutes to deposit and maintain the surface of the ABS resin and depositing impurities;
B) an etching step of washing the ABS resin after the immersion degreasing step, and then etching the surface of the ABS resin for 3 to 8 minutes at 60 ~ 70 ℃ with an etchant;
C) after washing the ABS resin through the etching step, a neutralization step for removing the acid component of the surface of the ABS resin for 1 to 3 minutes at 20 ~ 30 ℃ with a neutralizing solution;
D) after washing the ABS resin passed through the neutralization step, catalyzing the step of forming a seed by immersing the ABS resin for 1 to 3 minutes at 20 ~ 30 ℃ using a catalyst;
ㅁ) a catalyst activation step of activating the catalyst for 1 to 3 minutes at 40 ~ 60 ℃ in the catalyst activating solution after washing the ABS resin after the catalyzed treatment step;
Iii) an electroless plating step of preparing the plated body 1 by washing the ABS resin having undergone the catalyst activation step and electroless plating using an electroless plating solution at 20 to 30 ° C .;
ㅅ) after washing the plating material 1 subjected to the electroless plating step, a silver / silver chloride layer forming step at 20 to 30 ° C. with an electrolyte solution; And,
ㅇ) coating the silver / silver chloride layer by depositing the plating material 2 having undergone the silver / silver chloride layer forming step in a substitution solution at 15˜25 ° C. for 0.5 to 1.5 minutes;
Method of manufacturing an electrode for an electrocardiogram sensor comprising a. 제1항에 있어서,
상기 ㄱ) 탈지단계에서의 탈지액은 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 알킬벤젠술폰삼염의 아니온계, 폴리옥시에틸렌과 폴리옥시프로필렌의 축합물, 수산화나트륨, 탄산나트륨, 메타규산나트륨, 인산나트륨, 및 피로인산나트륨 으로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나 이상임을 특징으로 하는 심전도 센서용 전극의 제조방법.
The method of claim 1,
The degreasing solution in the degreasing step is a polyoxyethylene alkyl ether, an anionic system of alkylbenzene sulfon trichloride, a condensate of polyoxyethylene and polyoxypropylene, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium metasilicate, sodium phosphate, and pyrophosphate A method of manufacturing an electrode for an electrocardiogram sensor, characterized in that at least one selected from the group consisting of sodium.
제1항에 있어서,
상기 ㄴ) 에칭단계에서의 에칭용액은 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 무수크롬산(CrO3) 50 ~ 100g, 80% 농도 황산수용액 300 ~ 500ml, 글리세린 1 ~ 2g, 및 프로필렌글리콜 2 ~ 3g; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성되는 것을 특징으로 하는 심전도 센서용 전극의 제조방법.
The method of claim 1,
B) the etching solution in the etching step, based on 1 liter of aqueous solution, 50-100 g of chromic anhydride (CrO 3 ) as a solute, 300-500 ml of 80% sulfuric acid aqueous solution, 1-2 g of glycerin, and 2-3 g of propylene glycol; And a residual amount of purified water as a solvent.
제1항에 있어서,
상기 ㄷ) 중화단계에서의 중화용액은 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 80% 농도 염산수용액 20 ~ 40ml, 황산 10 ~ 30ml; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성되는 것을 특징으로 하는 심전도 센서용 전극의 제조방법.
The method of claim 1,
C) the neutralization solution in the neutralization step is based on 1 liter of aqueous solution, 20-40 ml of hydrochloric acid aqueous solution 20-40 ml, sulfuric acid 10-30 ml as a solute; And a residual amount of purified water as a solvent.
제1항에 있어서,
상기 ㄹ) 촉매화처리단계에서의 촉매제는 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 80% 농도 염산수용액 100 ~ 300ml, 염화팔라듐(PdCl2) 1 ~ 2g, 및 염화주석(SnCl2) 1 ~ 3g; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성되는 것을 특징으로 하는 심전도 센서용 전극의 제조방법.
The method of claim 1,
The catalyst d in the catalyzing step is based on 1 liter of aqueous solution, 100-300 ml of 80% concentration aqueous hydrochloric acid solution, 1-2 g of palladium chloride (PdCl 2 ), and 1-3 g of tin chloride (SnCl 2 ) as a solute; And a residual amount of purified water as a solvent.
제1항에 있어서,
상기 ㅁ) 촉매활성화단계의 촉매활성화 용액은 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 80% 농도 염산수용액 20 ~ 40ml, 및 80% 농도 황산수용액 10 ~ 30ml; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성되는 것을 특징으로 하는 심전도 센서용 전극의 제조방법.
The method of claim 1,
ㅁ) the catalyst activation solution of the catalyst activation step is based on 1 liter of aqueous solution, 20 to 40ml of 80% concentration hydrochloric acid solution, and 10 to 30ml of 80% concentration sulfuric acid solution as a solute; And a residual amount of purified water as a solvent.
제1항에 있어서,
상기 ㅂ) 무전해도금단계에서의 무전해도금액은 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 질산은(AgNO3) 10 ~ 20g, 90% 농도 암모니아수 4 ~ 8mg, 주석산 나트륨 칼륨 300 ~ 400g, 및 에틸렌다이아민테트라아세트산이나트륨염(EDTA2NA) 0.5 ~ 2g; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성되며, 상기 도금체 1은 은(Ag)이 도금되면서 도금의 두께는 0.5 ~ 1 ㎛ 의 두께를 갖게 도금을 수행하는 것을 특징으로 하는 심전도 센서용 전극의 제조방법.
The method of claim 1,
Iii) The electroless solution in the electroless plating step is based on 1 liter of aqueous solution, 10 to 20 g of silver nitrate (AgNO 3 ) as a solute, 4 to 8 mg of 90% concentration ammonia water, 300 to 400 g of sodium tartrate, and ethylenediamine Tetrasodium acetate salt (EDTA2NA) 0.5-2 g; And a residual amount of purified water as a solvent, wherein the plated material 1 is plated with silver (Ag), and the plating has a thickness of 0.5 to 1 μm.
제1항에 있어서,
상기 ㅅ) 은/염화은 층 형성단계에서, 상기 전해액은 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 시안화은(AgCN) 60 ~ 90g, 수산화칼륨(KOH) 2 ~ 6g, 시안화칼륨(KCN) 60 ~ 90g, 탄산칼륨(K2CO3) 5 ~ 30g, 메틸알콜 5 ~ 20ml, 및 메틸에테르 2 ~ 8ml; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성되며, 상기 전해액에 상기 ㅂ)의 도금체 1을 침지시키고, 직류 전류밀도 1 ~ 10 A/dm2 로 전해도금 하는 것을 특징으로 하는 심전도 센서용 전극의 제조방법.
The method of claim 1,
In the step of forming the silver / silver chloride layer, the electrolyte is based on 1 liter of an aqueous solution, 60 to 90 g of silver cyanide (AgCN), 2 to 6 g of potassium hydroxide (KOH), 60 to 90 g of potassium cyanide (KCN), and carbonic acid. 5-30 g of potassium (K 2 CO 3 ), 5-20 ml of methyl alcohol, and 2-8 ml of methyl ether; And a residual amount of purified water as a solvent, and immersing the plating member 1 of the above-mentioned i) in the electrolyte solution and electroplating at a DC current density of 1 to 10 A / dm 2 .
제1항에 있어서,
상기 ㅇ) 코팅단계에서, 상기 치환액은 수용액 1리터를 기준으로, 용질로서 오산화바나듐(V2O5) 1 ~ 5mg, 플루오르화리튬(LiF) 0.1 ~ 0.5mg, 사과산(C4H6O5) 10 ~ 50g, 80% 농도 염산수용액 40 ~ 80ml, 인산(H2PO4) 50 ~ 100mg, 및 80% 농도 황산수용액 20 ~ 60ml; 및 용매로서 잔량 정제수로 구성되는 것을 특징으로 하는 심전도 센서용 전극의 제조방법.
The method of claim 1,
In the coating step, the substitution solution is based on 1 liter of aqueous solution, 1-5 mg of vanadium pentoxide (V 2 O 5 ) as a solute, 0.1-0.5 mg of lithium fluoride (LiF), malic acid (C 4 H 6 O 5 ) 10-50 g, 80% strength hydrochloric acid solution 40-80 ml, phosphoric acid (H 2 PO 4 ) 50-100 mg, and 80% strength sulfuric acid aqueous solution 20-60 ml; And a residual amount of purified water as a solvent.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 의해 제조된 심전도 센서용 전극을 포함하는 심전도 센서.Electrocardiogram sensor comprising an electrode for an electrocardiogram sensor manufactured by any one of claims 1 to 9. 삭제delete
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