KR100956287B1 - Planarizing sheet and process for preparation of color filter using the same - Google Patents
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Abstract
평탄화 시트는 접촉면의 표면 장력(23℃)이 30 mN/m 이하, 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 20 ㎚ 이하인 이형층과, 이형층측의 면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 50 ㎚ 이하인 기재층과, 탄성률(23℃)이 0.5 ㎫ 내지 20 ㎫, 두께가 0.1 ㎜ 내지 5 ㎜인 탄성층을 차례대로 적층한 것이며, 투명 수지층 전체를 균일하게 평탄화할 수 있으면서, 상기 투명 수지층을 형성하는 투명 잉크가 역전사(逆轉寫)되는 것을 방지할 수 있고, 또한 이물의 혼입에 의한 투명 수지층의 결함을 발생시키기 어렵다. 또한 컬러 필터의 제조 방법은 상기 평탄화 시트(6)를, 이형층을 외측으로 하여 휘감아 고정한 롤러(7)를, 기판(1)상에 형성한 투명 수지층(5)의 표면에 접촉시킨 상태에서 전동(轉動)시켜서, 상기 표면을 평탄화한다. The flattening sheet has a release surface whose surface tension (23 ° C) of the contact surface is 30 mN / m or less, and the arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve is 20 nm or less, and the arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve of the surface on the release layer side. A substrate layer having a thickness of 50 nm or less and an elastic layer having a modulus of elasticity (23 ° C.) of 0.5 MPa to 20 MPa and a thickness of 0.1 mm to 5 mm are laminated in this order, and the entire transparent resin layer can be flattened uniformly while being transparent It is possible to prevent reverse transfer of the transparent ink forming the resin layer, and hardly cause defects in the transparent resin layer due to the incorporation of foreign matter. In addition, in the manufacturing method of a color filter, the said flattening sheet 6 was made to contact the surface of the transparent resin layer 5 formed on the board | substrate 1 with the roller 7 which wound and fixed the release layer outside. The surface is flattened by rolling.
평탄화 시트, 컬러 필터 Flattening sheet, color filter
Description
본 발명은 컬러 필터를 구성하는, 적어도 일부가 착색된 투명 수지층의 표면에 접촉시킴으로써, 상기 투명 수지층의 표면을 평탄화하기 위하여 사용하는 평탄화 시트와, 상기 평탄화 시트를 사용한 컬러 필터의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a flattening sheet used to planarize the surface of the transparent resin layer by contacting the surface of at least a part of the colored transparent resin layer constituting the color filter, and a method for producing a color filter using the flattening sheet. It is about.
액정 디스플레이(LCD) 등의 플랫 패널 디스플레이에 사용하는 컬러 필터는, 투명한 기판상에, 상기 액정 디스플레이 등을 구성하는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 각 화소에 대응한, 상기 각 색으로 착색된 투명 잉크로 이루어지는 스트라이프 패턴을, 화소마다 규칙적으로 배열시켜서 인쇄하여, 투명 수지층을 형성함으로써 제조된다.The color filter used for flat panel displays, such as a liquid crystal display (LCD), corresponds to each pixel of red (R), green (G), and blue (B) which comprises the said liquid crystal display etc. on a transparent substrate. The stripe pattern which consists of the transparent ink colored by each said color is produced by arrange | positioning regularly for every pixel, and forming a transparent resin layer.
그러나, 상기 각 색으로 착색된 투명 잉크를 각종 인쇄법에 의해 인쇄하여 형성한 각 색의 스트라이프 패턴은, 각각, 투명 잉크의 표면 장력에 의해, 그 표면이 스트라이프의 양단측에서 낮고, 중앙부에서 높은 돌출 형상으로 형성되기 때문에, 각 색의 스트라이프 패턴의 집합체로서의 투명 수지층의 표면은 상기 스트라이프 패턴의 돌출 형상에 대응한 요철(凹凸) 형상이 되고, 상기 요철에 의해 빛이 난 반사되어, 표시의 콘트라스트가 저하되거나, 예컨대 LCD의 경우는, 액정의 응답 불균일이 발생한다는 문제가 있었다. 그래서, 기판상에 형성된 투명 수지층의 표면을 평탄화하기 위하여, 여러 가지 기술적인 검토가 행해져 왔다.However, the stripe patterns of each color formed by printing the transparent inks colored by the above colors by various printing methods, respectively, have a low surface at both ends of the stripe and a high surface at the center due to the surface tension of the transparent ink. Since it is formed in a protruding shape, the surface of the transparent resin layer as an aggregate of stripe patterns of each color becomes a concave-convex shape corresponding to the protruding shape of the stripe pattern, and the light is reflected by the concave-convex, and thus There is a problem that the contrast is lowered or, for example, in the case of LCD, the response unevenness of the liquid crystal occurs. Thus, various technical studies have been conducted to planarize the surface of the transparent resin layer formed on the substrate.
예컨대, 일본국 특허 공개 공보 JP62-280804A(1987), JP03-156419A(l991)에는, 상기 스트라이프 패턴의 베이스가 되는 투명 잉크로서, 전자선 경화형, 자외선 경화형 등의 투명 잉크를 사용함과 아울러, 상기 투명 잉크를 사용하여, 각 색의 스트라이프 패턴을 인쇄하여 형성한 투명 수지층 위에, 필름이나 유리 기판 등의 평판 형상의 가압 부재를 포개서 프레스함으로써, 상기 투명 수지층의 표면을 평탄화한 상태에서, 전자선 또는 자외선을 조사하여 투명 잉크를 경화시킨 후, 상기 가압 부재를 박리하는 것이 기재되어 있다.For example, in Japanese Patent Laid-Open Publications JP62-280804A (1987) and JP03-156419A (l991), a transparent ink such as an electron beam curing type or an ultraviolet curing type is used as the transparent ink serving as the base of the stripe pattern, and the transparent ink is used. Electron beams or ultraviolet rays in a state where the surface of the transparent resin layer is flattened by pressing and pressing a plate-like pressing member such as a film or a glass substrate onto the transparent resin layer formed by printing a stripe pattern of each color using It is described that the pressure member is peeled off after irradiating and curing the transparent ink.
또한, JP03-154003A(1991)에는, 스트라이프 패턴을, 열경화성의 투명 잉크에 의해 형성하여 열경화시킨 후, 상기 각 색의 스트라이프 패턴으로 이루어지는 투명 수지층 위에, 가압 부재로서의 필름을 포갠 상태에서, 상기 필름을 공기압에 의해 균일하게 가압함으로써, 상기 투명 수지층의 표면을 평탄화하는 것이 기재되어 있다.In JP03-154003A (1991), after the stripe pattern is formed by thermosetting transparent ink and thermally cured, the film as the pressing member is wrapped on the transparent resin layer formed of the stripe patterns of the respective colors. It is described to planarize the surface of the transparent resin layer by uniformly pressing the film by air pressure.
그러나, 이들 문헌에 기재된, 평판 형상의 가압 부재를 사용하여 평탄화하는 방법에서는, 상기 가압 부재를 투명 수지층의 표면에 포갤 때에, 양자 사이에 기포가 잔류하기 쉽고, 잔류한 기포를 제거하지 않고 평탄화 처리를 행했을 때에는, 평탄화 후의 투명 수지층의 표면에, 기포의 흔적이 결함으로서 남는다는 문제가 있다.However, in the method of flattening using a flat plate-like pressing member described in these documents, bubbles are likely to remain between both when the pressing member is folded on the surface of the transparent resin layer, and the flattening is performed without removing the remaining bubbles. When the treatment is performed, there is a problem that traces of bubbles remain as defects on the surface of the transparent resin layer after planarization.
그 때문에, 예컨대 JP03-156419A(1991)에서는, 기포가 잔류하지 않도록, 가압 부재로서의 유리 기판을, 투명 수지층의 표면에 포개는 절차를 면밀하게 규정하고 있으나, 상기 절차를 실시하기 위해서는, 상기 문헌의 도면에 기재되어 있는 바와 같은 전용의 장치를 사용하여, 신중한 작업을 행하지 않으면 안되기 때문에, 컬러 필터의 생산성이 낮아지고, 비용이 비싸진다는 문제가 있다.Therefore, in JP03-156419A (1991), for example, the procedure for superimposing the glass substrate as the pressing member on the surface of the transparent resin layer so as not to leave bubbles is precisely prescribed. Careful work must be carried out using a dedicated device as described in the drawings, which results in a problem that the productivity of the color filter is low and the cost is high.
한편, H02-297502A(1990)에는, 기판의 표면에 평판 오프셋 인쇄법에 의해 스트라이프 패턴을 인쇄하기 위하여 사용한, 외주면에 오프셋 블랭킷을 휘감은 롤러의 상기 오프셋 블랭킷의 표면을, 인쇄 후의 투명 수지층의 표면에 접촉시킨 상태에서, 상기 롤러를 상기 투명 수지층상에서 전동(轉動)시킴으로써, 투명 수지층의 표면을 평탄화하는 것이 기재되어 있다.On the other hand, in H02-297502A (1990), the surface of the said offset blanket of the roller which wound the offset blanket on the outer peripheral surface used for printing a stripe pattern by the flat plate offset printing method on the surface of a board | substrate is the surface of the transparent resin layer after printing. It is described to planarize the surface of a transparent resin layer by rolling the said roller on the said transparent resin layer in the state made to contact with.
또한, H08-075914A(1996)에는, 상기 투명 수지층 위에, 착색제를 함유하지 않는 투명 잉크를 인쇄한 후, 외주면에 이형 처리를 실시한 금속 롤러를 사용하여, 상기와 동일하게 해서 평탄화하는 것이 기재되어 있다. 또한, H08-234013A(1996)에는, 외주면에 이형 처리를 실시한 롤러의 상기 외주면에, 스트라이프 패턴의 베이스가 되는 투명 잉크를 직접적으로 공급하면서, 상기 롤러를 기판상에서 전동시킴으로써, 공급된 투명 잉크를 기판의 표면에 인쇄하여 스트라이프 패턴을 형성하는 것과 동시에, 평탄화하는 것이 기재되어 있다.In addition, H08-075914A (1996) describes that the printing is carried out on the transparent resin layer, and then flattened in the same manner as above using a metal roller subjected to a release treatment on the outer circumferential surface after printing the transparent ink containing no colorant. have. In addition, H08-234013A (1996) transfers the roller on a substrate while directly supplying the transparent ink serving as the base of the stripe pattern to the outer circumferential surface of the roller subjected to the release treatment on the outer circumferential surface, thereby supplying the supplied transparent ink to the substrate. It is described to print on the surface of and form a stripe pattern, and at the same time planarize.
이들 문헌에 기재된, 롤러를 사용하여 평탄화하는 방법에서는, 상기 롤러를투명 수지층 상에서, 순차 전동시키면서 상기 투명 수지층의 표면을 평탄화시킬 수 있기 때문에, 기포의 잔류에 의한 결함의 문제는 발생하기 어렵다.In the method of flattening using the rollers described in these documents, the surface of the transparent resin layer can be flattened while the roller is sequentially rotated on the transparent resin layer, so that the problem of defects due to residual bubbles is unlikely to occur. .
그러나, 롤러로서, H02-297502A(1990)에 기재된, 평판 오프셋 인쇄법에 의한 스트라이프 패턴의 인쇄에 사용한 것과 동일한 오프셋 블랭킷을 휘감은 것을 사용한 경우에는, 상기 오프셋 블랭킷이 판으로부터 투명 잉크를 양호하게 수용하여, 기판의 표면에 양호하게 전사할 수 있는 것을 고려해서, 그 표면의 투명 잉크에 대한 젖음성이나, 전체로서의 유연성 등의 특성이 설정되어 있기 때문에, 평탄화시에, 투명 수지층을 형성하는 투명 잉크가 오프셋 블랭킷의 표면에 역전사(逆轉寫)되어, 투명 수지층에 오목부 등의 결함을 발생시키거나, 투명 수지층이 파괴되기 쉽고, 또한 투명 수지층 전체를 균일하게 평탄화하는 것이 어렵다는 문제가 있었다.However, in the case where the roller is wound around the same offset blanket as used for printing the stripe pattern by the flat plate offset printing method described in H02-297502A (1990), the offset blanket satisfactorily receives transparent ink from the plate. In consideration of being able to transfer to the surface of the substrate satisfactorily, properties such as wettability to the transparent ink on the surface and flexibility as a whole are set, so that the transparent ink forming the transparent resin layer at the time of planarization is There was a problem that it was reverse-transferred on the surface of the offset blanket to cause defects such as recesses in the transparent resin layer, the transparent resin layer was easily broken, and it was difficult to uniformly flatten the entire transparent resin layer.
또한, H08-075914A(1996), H08-234013A(1996)에 기재된, 외주면을 이형 처리한 금속 롤러 등을 사용한 경우에는, 상기 금속 롤러 등이 반대로 너무 딱딱하여, 투명 수지층의 고르지 못한 두께 등에 유연하게 대응할 수 없기 때문에, 역시 투명 수지층 전체를 균일하게 평탄화하는 것이 어렵다는 문제가 있었다. 또한, 상기 금속 롤러 등은 외주면의 이형 처리가 열화하여, 투명 수지층을 형성하는 투명 잉크가 상기 외주면에 역전사되기 쉬워졌을 때에는, 전체를 교환하지 않으면 안된다는 문제도 있었다.In addition, when using the metal roller etc. which carried out the mold release process of the outer peripheral surface described in H08-075914A (1996) and H08-234013A (1996), the said metal roller etc. are reversely too hard, and it is flexible in the uneven thickness of a transparent resin layer, etc. Since it cannot cope easily, there also existed a problem that it was difficult to planarize the whole transparent resin layer uniformly. Moreover, the said metal roller etc. also had a problem that when the mold release process of the outer peripheral surface deteriorated and the transparent ink which forms a transparent resin layer became easy to reverse-transfer to the said outer peripheral surface, the whole must be replaced.
그래서, 발명자는 투명 수지층의 표면에 접촉시키는 접촉면이, 투명 수지층을 형성하는 투명 잉크의 역전사를 방지하는 특성이 우수하고, 게다가, 전체로서 상기 투명 수지층을 평탄화하는 데 적합한 적당한 유연성을 갖는 평탄화 시트를, 상기 롤러의 외주면에 교환 가능하게 휘감아서, 평탄화에 사용하는 것을 검토하였 다.Therefore, the inventor has excellent properties for preventing the reverse transfer of the transparent ink forming the transparent resin layer, and the contact surface brought into contact with the surface of the transparent resin layer, and furthermore, has the appropriate flexibility suitable for flattening the transparent resin layer as a whole. The planarizing sheet was wound around the outer circumferential surface of the roller so as to be replaceable and used for planarization.
그러나, 상기 평탄화 시트로서, 종래의 오프셋 블랭킷과 동일한 구성을 가지면서, 접촉면의, 투명 잉크에 대한 젖음성이나, 전체로서의 유연성 등의 특성을 미세하게 조정했을 뿐인 것을 사용한 경우에는, 특히, 롤러의 외주면에 평탄화 시트를 휘감아 고정할 때에, 양자 사이에 이물이 끼이는 등 했을 때에, 상기 이물의 형상이 평탄화 시트의 접촉면에 돌기로서 드러나, 평탄화한 투명 수지층에, 상기 돌기에 대응한 오목부 등의 결함이 발생하기 쉬운 것이 판명되었다.However, especially in the case of using the flattening sheet having the same configuration as that of the conventional offset blanket and only finely adjusting characteristics such as wettability to the transparent ink, flexibility as a whole, etc. of the contact surface, in particular, the outer peripheral surface of the roller When the foreign material is sandwiched between the two, when the flattening sheet is wound around and fixed to the flattening sheet, the shape of the foreign material is exposed as a projection on the contact surface of the flattening sheet. It turned out that a defect is easy to generate | occur | produce.
본 발명의 목적은 투명 수지층 전체를 균일하게 평탄화할 수 있으면서, 상기 투명 수지층을 형성하는 투명 잉크가 역전사되는 것을 방지할 수 있으며, 또한 이물의 혼입에 의한 투명 수지층의 결함을 발생시키기 어려운 평탄화 시트를 제공하는 데 있다. 또한, 본 발명의 목적은 상기 평탄화 시트를 사용한 컬러 필터의 제조 방법을 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to be able to uniformly flatten the entire transparent resin layer, to prevent the reverse ink of the transparent ink forming the transparent resin layer, and to prevent the defect of the transparent resin layer due to the incorporation of foreign matter. It is to provide a flattening sheet. Moreover, the objective of this invention is providing the manufacturing method of the color filter using the said flattening sheet.
본 발명의 평탄화 시트는, 투명 수지층의 표면에 접촉시키는 접촉면으로부터 이면을 향하여 차례대로 적층된, 상기 접촉면을 구성하는 이형층과, 기재층과, 탄성층을 구비하고 있고, The flattening sheet of this invention is equipped with the release layer which comprises the said contact surface laminated | stacked in order from the contact surface made to contact the surface of a transparent resin layer toward the back surface, a base material layer, and an elastic layer,
상기 이형층의, 접촉면의 표면 장력(23℃)이 30 mN/m 이하이고, 또한 상기 접촉면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 20 ㎚ 이하이며,The surface tension (23 degreeC) of the contact surface of the said release layer is 30 mN / m or less, and the arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve of the said contact surface is 20 nm or less,
상기 기재층의, 상기 이형층측의 면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 50 ㎚ 이하임과 아울러,While the arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve of the surface of the release layer side of the base material layer is 50 nm or less,
상기 탄성층의 탄성률(23℃)이 0.5 ㎫ 내지 20 ㎫, 두께가 0.1 ㎜ 내지 5 ㎜인 것을 특징으로 하는 것이다.The elasticity modulus (23 degreeC) of the said elastic layer is characterized by being 0.5 Mpa-20 Mpa, and thickness of 0.1 mm-5 mm.
본 발명에 따르면, 차례대로 적층한 각 층 중, 이형층의 접촉면의 표면 장력(23℃)을 30 mN/m 이하로 함으로써, 투명 수지층을 형성하는 투명 잉크가 상기 접촉면에 역전사되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 기재층의 이형층측의 면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)를 50 ㎚ 이하로 함과 아울러, 상기 면상에 형성되는 이형층의 접촉면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)를 20 ㎚ 이하로 함으로써, 상기 이형층 표면의 평활성을 향상시켜, 평탄화되는 투명 수지층 표면의 평활성을 향상시킬 수 있다.According to the present invention, the surface tension (23 ° C.) of the contact surface of the release layer is set to 30 mN / m or less in each of the laminated layers in order to prevent the transparent ink forming the transparent resin layer from being reverse-transferred onto the contact surface. Can be. Further, the arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve of the surface on the release layer side of the base material layer is 50 nm or less, and the arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve of the contact surface of the release layer formed on the surface is 20 nm. By setting it as the following, the smoothness of the surface of the said release layer can be improved, and the smoothness of the surface of the transparent resin layer planarized can be improved.
게다가, 본 발명에 따르면, 탄성층의 탄성률(23℃)을 0.5 ㎫ 내지 20 ㎫, 두께를 0.1 ㎜ 내지 5 ㎜로 함으로써, 평탄화 시트 전체에, 투명 수지층을 평탄화하는 데 적합한 적당한 유연성을 부여할 수 있다. 또한, 상기 평탄화 시트를, 롤러의 외주면에 휘감아 고정할 때에, 양자 사이에 이물이 끼이는 등의 경우에, 상기 이물의 형상을 흡수해서, 접촉면에, 상기 형상에 대응한 돌기가 드러나는 것을 억제하여, 평탄화되는 투명 수지층에, 상기 돌기에 대응한 오목부 등의 결함이 발생하는 것을 방지할 수 있다.Furthermore, according to the present invention, by providing the elastic modulus (23 ° C) of 0.5 MPa to 20 MPa and the thickness of 0.1 mm to 5 mm in the elastic layer, appropriate flexibility suitable for flattening the transparent resin layer can be provided to the entire flattening sheet. Can be. Further, when the flattening sheet is wound around and fixed to the outer circumferential surface of the roller, in the case of foreign matter being caught between the two, the shape of the foreign material is absorbed, and the contact surface suppresses the projection corresponding to the shape. It can be prevented that defects, such as a recessed part corresponding to the said protrusion, generate | occur | produce in the transparent resin layer planarized.
본 발명의 평탄화 시트는, 접촉면을 외측으로 하여 롤러의 외주면에 휘감은 상태에서, 투명 수지층의 표면에 접촉면을 접촉시키고, 상기 투명 수지층상에서 롤러를 전동시킴으로써, 상기 투명 수지층의 표면을 평탄화하기 위하여 사용하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 앞서 설명한 바와 같이, 롤러를 투명 수지층상에서, 순차 전동시키면서 상기 투명 수지층의 표면을 평탄화시킬 수 있기 때문에, 기포의 잔류에 의한 결함의 문제를 발생시키기 어렵게 할 수 있다.The flattening sheet of the present invention flattens the surface of the transparent resin layer by bringing the contact surface into contact with the surface of the transparent resin layer while the contact surface is wound to the outer peripheral surface of the roller and rolling the roller on the transparent resin layer. It is preferable to use it. As a result, as described above, the surface of the transparent resin layer can be flattened while the rollers are sequentially rotated on the transparent resin layer, so that the problem of defects due to the remaining of bubbles can be less likely to occur.
이형층은 두께가 30 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 이형층의 두께가 30 ㎛ 이하이면, 평탄화 시트 전체에, 투명 수지층을 평탄화하는 데 적합한 적당한 유연성 을 부여하는 효과를 더욱 향상시킬 수 있다. 또한, 기재층은 인장 탄성률(23℃)이 100 ㎫ 이상, 두께가 50 ㎛ 내지 500 ㎛인 것이 바람직하다.It is preferable that a release layer is 30 micrometers or less in thickness. If the thickness of a mold release layer is 30 micrometers or less, the effect which gives suitable softness suitable for flattening a transparent resin layer to the whole flattening sheet can be improved further. The base layer preferably has a tensile modulus of elasticity (23 ° C) of 100 MPa or more and a thickness of 50 µm to 500 µm.
기재층의 인장 탄성률(23℃)이 100 ㎫ 이상이면, 평탄화 시트의, 면 방향의 인장 강도를 향상시켜, 상기 평탄화 시트를 롤러의 외주면에 일정한 장력을 가하면서 휘감아 고정할 때 등에, 이형층이 면 방향의 신장에 추종하지 못하여 박리하거나, 크랙을 발생시키는 것을 방지할 수 있다. 또한, 기재층의 두께가 50 ㎛ 내지 500 ㎛이면, 평탄화 시트에, 롤러의 외주면에 휘감기 위한 적당한 추종성과, 간단히 구부러지거나 하지 않기 위한 적당한 강성을 부여할 수 있다.When the tensile modulus (23 ° C.) of the base material layer is 100 MPa or more, the tensile strength in the planar direction of the flattening sheet is improved, and the release layer is formed when the flattening sheet is wound and fixed while applying a constant tension to the outer peripheral surface of the roller. It can prevent it from following an elongation of surface direction, or peeling off and generating a crack. Moreover, when the thickness of a base material layer is 50 micrometers-500 micrometers, the following can be given to the planarizing sheet with the moderate followability for winding around the outer peripheral surface of a roller, and the moderate rigidity for not bending easily.
본 발명의 컬러 필터의 제조 방법은, 기판의 표면에, 적어도 일부가 착색된 투명 수지층을 형성하는 공정과, 접촉면을 외측으로 하여 롤러의 외주면에 휘감은 본 발명의 평탄화 시트의 상기 접촉면을, 상기 투명 수지층의 표면에 접촉시킨 상태에서, 상기 롤러를 투명 수지층상에서 전동시킴으로써, 상기 표면을 평탄화하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 것이다.The manufacturing method of the color filter of this invention is a process of forming the transparent resin layer in which at least one part was colored on the surface of a board | substrate, and said contact surface of the flattening sheet of this invention which wound around the outer peripheral surface of a roller with the contact surface outside, said And rolling the roller on the transparent resin layer in a state of being in contact with the surface of the transparent resin layer, characterized by including the step of flattening the surface.
본 발명에 따르면, 투명 수지층을 평탄화하기 위하여, 상기 본 발명의 평탄화 시트를 휘감은 롤러를 사용하고 있기 때문에, 투명 수지층을 형성하는 투명 잉크가 역전사되거나, 이물의 혼입에 의한 투명 수지층의 결함을 발생시키지 않고, 투명 수지층 전체를 균일하게 평탄화할 수 있다. 그 때문에, 상기 결함 등이 없는 표면이 평활한 투명 수지층을 구비한 컬러 필터를 제조할 수 있다.According to the present invention, in order to flatten the transparent resin layer, the roller wound around the flattening sheet of the present invention is used, so that the transparent ink forming the transparent resin layer is reverse-transferred or the defect of the transparent resin layer due to the incorporation of foreign matters. The entire transparent resin layer can be flattened uniformly without generating any Therefore, the color filter provided with the transparent resin layer with the smooth surface without the said defect etc. can be manufactured.
본 발명의 평탄화 시트는, 투명 수지층의 표면에 접촉시키는 접촉면으로부터 이면을 향하여 차례대로 적층된, 상기 접촉면을 구성하는 이형층과, 기재층과, 탄성층을 구비하고 있다. 상기 이형층은 투명 수지층의 표면에 접촉시키는 접촉면을 구성하는 층이며, 상기 접촉면의 표면 장력(23℃)이 30 mN/m 이하일 필요가 있다. 접촉면의 표면 장력이 30 mN/m를 넘는 경우에는, 이형층의 투명 수지층으로부터의 이형성이 저하되어서, 평탄화시에, 투명 수지층을 형성하는 투명 잉크가 접촉면에 역전사되어, 투명 수지층에 오목부 등의 결함을 발생시키거나, 투명 수지층이 파괴된다는 문제를 발생시킨다.The flattening sheet of this invention is equipped with the release layer which comprises the said contact surface laminated | stacked in order from the contact surface made to contact the surface of a transparent resin layer toward the back surface, a base material layer, and an elastic layer. The said release layer is a layer which comprises the contact surface which contacts the surface of a transparent resin layer, and the surface tension (23 degreeC) of the said contact surface needs to be 30 mN / m or less. When the surface tension of the contact surface is more than 30 mN / m, the releasability from the transparent resin layer of the release layer is lowered, so that at the time of planarization, the transparent ink forming the transparent resin layer is reverse-transferred onto the contact surface and concave in the transparent resin layer. It may cause defects such as inconsistency or cause a problem that the transparent resin layer is broken.
또, 투명 수지층의 접촉면에의 역전사의 발생을 보다 한층 확실하게 방지하는 것을 고려하면, 상기 접촉면의 표면 장력(23℃)은 5 mN/m 내지 25 mN/m, 특히 10 mN/m 내지 20 mN/m인 것이 바람직하다. 또한 이형층은 후술하는 도포법 등에 의해 형성하는 것이 바람직하며, 그 경우에, 접촉면의 표면 장력(23℃)을 상기 범위로 할 수 있는 재료에 의해 이형층을 형성하면, 상기 이형층의 기재층에의 밀착성을 확보하여, 이형층이 박리에 의해 조기에 상실되어 버리는 것을 억제해서, 평탄화 시트의 장수명화를 도모하는 것도 가능해진다.Further, in consideration of more reliably preventing the occurrence of reverse transfer to the contact surface of the transparent resin layer, the surface tension (23 ° C.) of the contact surface is 5 mN / m to 25 mN / m, in particular 10 mN / m to 20 It is preferable that it is mN / m. Moreover, it is preferable to form a mold release layer by the coating method etc. which are mentioned later, In that case, when a mold release layer is formed by the material which can make the surface tension (23 degreeC) of a contact surface into the said range, the base material layer of the said mold release layer It is also possible to secure the adhesion to the sheet, to suppress the release layer from being lost early due to peeling, and to increase the life of the flattened sheet.
이형층의 표면 장력(γs)(23℃)은, Fowkes 이론의 확장으로서의 Owens and Wendt법에 의해 구한 값으로 나타내는 것으로 한다. 즉, 온도 23℃의 측정 환경하, 측정 대상으로서의 이형층의 표면에, 표면 장력(γL)과, 상기 표면 장력의 분산 성분(γL d)과, 극성 성분(γL p)이 기지인 용제의 액적을 적하해서, Kyowa Interface Science Co., Ltd. 제조의 전자동 접촉각 측정기(Fully automated contact angle meter) DM700을 사용하여 측정한, 상기 용제의 접촉각(θ)(°)과, 상기 표면 장력(γL), 분산 성분(γL d), 및 극성 성분(γL p)으로부터, 식(1):The surface tension (γ s ) (23 ° C.) of the release layer shall be represented by a value obtained by the Owens and Wendt method as an extension of the Fowkes theory. That is, the surface tension (γ L ), the dispersion component (γ L d ) of the surface tension, and the polar component (γ L p ) are known on the surface of the release layer as the measurement object under the measurement environment at a temperature of 23 ° C. Droplets of the solvent were added dropwise to Kyowa Interface Science Co., Ltd. The contact angle θ (°) of the solvent, the surface tension γ L , the dispersion component γ L d , and the polar component measured using a fully automated contact angle meter DM700 From (γ L p ), formula (1):
γL(1+Cosθ)=2(γS dγL d)1/2+2(γS PγL p)1/2 … (1)γ L (1 + Cos θ) = 2 (γ S d γ L d ) 1/2 +2 (γ S P γ L p ) 1/2 . (One)
에 의해, 상기 이형층의 표면의 표면 장력(γS)의 분산 성분(γS d)과, 극성 성분(γS p)을 구하고, 상기 분산 성분(γS d)과, 극성 성분(γS P)으로부터, 또한 식(2):By this, the dispersion component (γ S d ) and the polar component (γ S p ) of the surface tension (γ S ) of the surface of the release layer were obtained, and the dispersion component (γ S d ) and the polar component (γ S ) were obtained. From P ), also formula (2):
γS=γS d+γS p …(2)γ S = γ S d + γ S p ... (2)
에 의해, 이형층의 표면 장력(γS)(23℃)을 구한다.By this, the surface tension γ S (23 ° C.) of the release layer is obtained.
이형층은 표면 장력이 상기 범위 내인 층을 형성할 수 있는 여러 가지 재료에 의해 형성할 수 있으나, 특히 실리콘 수지나 불소 수지 등의 표면 에너지가 작은 수지에 의해 형성하는 것이 상기 이형층의 내구성을 향상하여, 평탄화 시트의 장수명화를 도모하는 데 바람직하다. 이형층은 상기 수지 또는 그 전구체를 포함하는 도포액을, 기재층의 한쪽 면에 도포한 후, 건조시키거나, 전구체를 포함하는 경우는, 상기 전구체를 반응시켜서 수지를 생성시키는, 이른바 도포법에 의해 형성할 수 있다.The release layer may be formed of various materials capable of forming a layer having a surface tension within the above range, but in particular, the release layer may be formed of a resin having a low surface energy such as silicone resin or fluorine resin to improve durability of the release layer. This is preferable for achieving a longer life of the flattening sheet. In a release layer, after apply | coating the coating liquid containing the said resin or its precursor to one surface of a base material layer, it is made to dry, or when it contains a precursor, what is called a coating method which makes the precursor react and produces resin. It can form by.
또한, 이형층은 상기 접촉면의 일본 공업 규격 JIS B0601:2001「제품의 기하 특성 사양(GPS)-표면 성상: 윤곽 곡선 방식-용어, 정의 및 표면 성상 파라미터 」(ISO 4287:1997과 일치)에 규정된, 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 20 ㎚ 이하일 필요가 있다. 산술 평균 거칠기(Ra)가 20 ㎚를 넘는 경우에는, 이형층의 표면의 평활성이 저하되기 때문에, 상기 표면을 가압하여 평탄화되는 투명 수지층의 표면에, 이형층의 표면 형상이 전사됨으로써, 투명 수지층의 두께가 불균일하게 된다. 그 때문에, 상기 투명 수지층을 갖는 컬러 필터를, 예컨대 LCD 등에 편입시켰을 때에는, 투명 수지층의 두께의 불균일에 따라, 표시에 농도의 불균일이 발생하여, 화질이 저하된다는 문제를 발생시킨다.In addition, the release layer is defined in Japanese Industrial Standard JIS B0601: 2001 "Geometry Characteristics of the Product (GPS)-Surface Properties: Contour Curve Method-Terms, Definitions and Surface Properties Parameters" of the contact surface (according to ISO 4287: 1997). The arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve needs to be 20 nm or less. When arithmetic mean roughness Ra exceeds 20 nm, since the smoothness of the surface of a release layer falls, the surface shape of a release layer is transferred to the surface of the transparent resin layer which pressurizes the said surface and planarizes, so that a transparent number The thickness of the strata becomes uneven. Therefore, when the color filter having the above-mentioned transparent resin layer is incorporated into, for example, an LCD or the like, a variation in density occurs in the display in accordance with the non-uniformity of the thickness of the transparent resin layer, resulting in a problem of deterioration in image quality.
또, 투명 수지층의 두께의 불균일을 가능한 한 작게 하여, LCD 등의 표시의 화질을 더욱 향상시키는 것을 고려하면, 이형층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)는 15 ㎚ 이하, 특히 10 ㎚ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 상기 효과를 보다 한층 향상시키는 것을 고려하면, 산술 평균 거칠기(Ra)는 작으면 작을수록 바람직하고, 그 하한은 0 ㎚까지도 포함할 수 있다.In addition, considering that the nonuniformity of the thickness of the transparent resin layer is made as small as possible to further improve the image quality of a display such as an LCD, the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the release layer is 15 nm or less, particularly 10 nm or less. desirable. In consideration of further improving the above effect, the smaller the arithmetic mean roughness Ra is, the more preferable, and the lower limit may include up to 0 nm.
그러나, 도포법에 의해 형성되는 이형층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)는, 하지(下地)인 기재층의 이형층을 형성하는 면의 표면 상태의 영향을 받는다는 것, 상기 기재층의 이형층을 형성하는 면을 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0 ㎚인 요철이 없는 완전한 평활면으로 마감하는 것이 실질적으로 곤란하다는 것 등을 고려하면, 이형층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)는 3 ㎚ 이상, 특히 5 ㎚ 이상인 것이 바람직하다.However, the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the release layer formed by the coating method is affected by the surface state of the surface forming the release layer of the base layer, which is a base, and the release layer of the base layer. Considering that it is practically difficult to finish the surface forming the surface with a perfect smooth surface without unevenness in which the arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve is 0 nm, the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the release layer is It is preferable that it is 3 nm or more, especially 5 nm or more.
도포법에 의해 형성되는 이형층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 상기 범위로 조정하기 위해서는, 상기와 같이, 이형층의 표면의 표면 상태가 하지인 기재층 의 이형층을 형성하는 면의 표면 상태의 영향을 받기 때문에, 상기 기재층의 면을 가능한 한 평활하게 마감하는 것이 매우 중요하다. 또한, 도포법에 의해 이형층을 형성할 때에, 예컨대, 그 외주면이 연마 마감된 도포봉을 사용한 바코트법이나, 스프레이 코트법 등의, 가능한 한 표면이 평활한 도막을 형성할 수 있는 도포 방법을 채용하는 것이나, 필요에 따라서, 형성 후의 이형층의 표면을 연마하여 마감하는 것도 중요하다. 이형층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)는, COLOR 3D Laser Scanning Microscope[Keyence Corporation 제조의 VK-9700]를 사용해서, 비접촉 3차원 측정(Noncontact 3D measurement)하여 얻은 결과로부터, 앞서 설명한 JIS 규격에 준거해서 산출한 값으로 나타내는 것으로 한다.In order to adjust the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the mold release layer formed by the apply | coating method to the said range, the surface of the surface which forms the mold release layer of the base material layer whose surface state of the surface of a mold release layer is a base as mentioned above. Since it is influenced by the state, it is very important to finish the surface of the base layer as smoothly as possible. In addition, when forming a release layer by the apply | coating method, the coating method which can form the coating film as smooth as possible, for example, the bar coat method using the coating rod whose outer peripheral surface was polished, the spray coating method, etc. It is also important to employ and to polish and finish the surface of the release layer after formation, if necessary. The arithmetic mean roughness Ra of the surface of the release layer is determined by the non-contact 3D measurement using a COLOR 3D Laser Scanning Microscope (VK-9700 manufactured by Keyence Corporation). It shall be represented by the value computed based on it.
이형층의 두께는 30 ㎛ 이하, 특히 15 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 두께가 상기 범위를 넘는 경우에는, 평탄화 시트 전체가 유연해져서, 평탄화시에, 투명 수지층에 균일한 압력을 가할 수 없기 때문에, 상기 투명 수지층을 균일하게 평탄화할 수 없다. 또한, 평탄화시에, 이형층이 전단 방향으로 움직임으로써, 그 표면의 평활성이 저하되어, 투명 수지층의 두께에 불균일을 발생시키거나, 경우에 따라서는, 상기 투명 수지층을 형성하는 투명 잉크가 이형층의 표면에 역전사될 우려가 있다.It is preferable that the thickness of a release layer is 30 micrometers or less, especially 15 micrometers or less. When the thickness exceeds the above range, the entire flattening sheet becomes soft, and at the time of flattening, no uniform pressure can be applied to the transparent resin layer, so that the transparent resin layer cannot be uniformly flattened. In addition, at the time of planarization, when the release layer moves in the shear direction, the smoothness of the surface is lowered, causing unevenness in the thickness of the transparent resin layer, or in some cases, the transparent ink forming the transparent resin layer. There is a possibility of reverse transcription on the surface of the release layer.
또, 이형층의 두께는 0.5 ㎛ 이상, 특히 1 ㎛ 이상인 것이 바람직하다. 두께가 상기 범위 미만인 경우에는, 이형층을 마련하는 것에 의한, 투명 수지층을 형성하는 투명 잉크가 역전사되는 것을 방지하는 효과가 충분히 얻어지지 않을 우려가 있기 때문이다. 이형층의 두께는 상기 이형층의 일부를 아세톤을 사용해서 녹여 박 리하고, 박리되지 않은 부분과의 사이에서 단차를 발생시킨 상태에서, 상기 단차의 높이를 앞서 설명한 COLOR 3D Laser Scanning Microscope[Keyence Corporation 제조의 VK-9700]를 사용해서, 비접촉 3차원 측정(Noncontact 3D measurement)하여 얻은 값으로 나타내는 것으로 한다.Moreover, it is preferable that the thickness of a mold release layer is 0.5 micrometer or more, especially 1 micrometer or more. It is because there exists a possibility that the effect which prevents reverse transcription of the transparent ink which forms a transparent resin layer by providing a mold release layer when a thickness is less than the said range may not be fully acquired. The thickness of the release layer is obtained by melting and peeling a part of the release layer using acetone, and generating a step between the parts that are not peeled off. The height of the step is described by the COLOR 3D Laser Scanning Microscope [Keyence Corporation]. Manufactured VK-9700], and the values obtained by noncontact 3D measurement.
기재층은 그 상하의 이형층 및 탄성층을 지지하여, 주로 평탄화 시트 전체의 면 방향의 인장 강도를 향상시킴과 아울러, 상기 평탄화 시트에, 롤러의 외주면에 휘감기 위한 적당한 추종성과, 간단히 구부러지거나 하지 않기 위한 적당한 강성을 부여하기 위한 층이며, 상기 기재층의 인장 탄성률(23℃)은 100 ㎫ 이상, 특히 200 ㎫ 이상인 것이 바람직하다.The base material layer supports the upper and lower release layers and the elastic layer, and mainly improves the tensile strength in the plane direction of the entire flattened sheet, and is suitable for followability to be wound around the outer circumferential surface of the roller to the flattened sheet, and not easily bent. It is a layer for imparting suitable rigidity, and the tensile modulus of elasticity (23 ° C) of the substrate layer is preferably 100 MPa or more, particularly 200 MPa or more.
인장 탄성률(23℃)이 상기 범위 미만에서는, 평탄화 시트의 면 방향의 인장 강도가 부족하여, 상기 평탄화 시트를 롤러의 외주면에 일정한 장력을 가하면서 휘감아 고정할 때 등에, 이형층이 면 방향의 신장에 추종하지 못하여 박리하거나, 크랙을 발생시킬 우려가 있다. 또, 인장 탄성률(23℃)의 상한은 특별히 한정되지 않는다. 기재층의 인장 탄성률은 온도 23℃의 측정 환경하, 일본 공업 규격 JIS K6251:2004「가황 고무 및 열가소성 고무-인장 특성을 구하는 법」(ISO 37:1994를 수정하였다)에 따라 측정한 값으로 나타내는 것으로 한다.When the tensile modulus (23 ° C.) is less than the above range, the tensile strength in the plane direction of the flattened sheet is insufficient, and when the flattened sheet is wound and fixed while applying a constant tension to the outer peripheral surface of the roller, the release layer is stretched in the plane direction. There is a risk of not being able to follow and peeling or cracking. In addition, the upper limit of tensile elasticity modulus (23 degreeC) is not specifically limited. The tensile modulus of the base material layer is represented by a value measured according to Japanese Industrial Standard JIS K6251: 2004 "Vulcanizing Rubber and Thermoplastic Rubber-Tensile Properties" (Modified ISO 37: 1994) under a measurement environment of a temperature of 23 ° C. Shall be.
기재층은 인장 탄성률이 상기 범위 내인 층을 형성할 수 있는 여러 가지 재료에 의해 형성할 수 있다. 상기 기재층으로서는, 특히 폴리에틸렌테레프탈레이 트(PET) 등의 폴리에스테르계 수지의 필름이나, 나일론 등의 폴리아미드계 수지의 필름, 캡톤(등록 상표) 등의 전 방향족 폴리이미드 수지의 필름 등의 이른바 엔지니어링 플라스틱의 필름이 적합하게 사용된다. 또한, 기재층으로서는, 알루미늄, 니켈, 스테인리스강, 철, 구리 등의 금속의 박 내지 박판도 사용 가능하다.The base material layer can be formed with various materials which can form the layer whose tensile modulus is in the said range. Especially as said base material layer, what is called a film of polyester-based resins, such as polyethylene terephthalate (PET), the film of polyamide-based resins, such as nylon, and the film of all aromatic polyimide resins, such as Kapton (registered trademark), etc. Films of engineering plastics are suitably used. Moreover, as a base material layer, thin-film thin sheets of metals, such as aluminum, nickel, stainless steel, iron, and copper, can also be used.
기재층의 두께는 50 ㎛ 내지 500 ㎛, 특히 75 ㎛ 내지 350 ㎛인 것이 바람직하다. 두께가 상기 범위 미만에서는, 평탄화 시트에 간단히 구부러지거나 하지 않기 위한 적당한 강성을 부여할 수 없고, 상기 범위를 넘는 경우에는, 평탄화 시트에 롤러의 외주면에 휘감기 위한 적당한 추종성을 부여할 수 없기 때문에, 이 어떠한 경우에도, 상기 평탄화 시트를 롤러의 외주면에 일정한 장력을 가하면서 휘감아 고정할 때 등의 취급성이 저하될 우려가 있다. 기재층의 두께는 마이크로미터[예컨대, Mitutoyo Corporation 제조의 방수형 디지털 마이크로미터 "Coolant Proof Micrometer" 등]를 사용하여 측정한 값으로 나타내는 것으로 한다.It is preferable that the thickness of a base material layer is 50 micrometers-500 micrometers, especially 75 micrometers-350 micrometers. If the thickness is less than the above range, it is not possible to impart proper rigidity to the flattening sheet simply or not, and if it is more than the above range, it is impossible to impart proper trackability to be wrapped around the outer peripheral surface of the roller. In any case, there exists a possibility that the handleability, such as when winding up and fixing said flattening sheet | seat while applying a fixed tension to the outer peripheral surface of a roller, may fall. The thickness of a base material layer shall be represented by the value measured using the micrometer (for example, waterproof digital micrometer "Coolant Proof Micrometer" by Mitutoyo Corporation etc.).
기재층의 이형층측의 면의 일본 공업 규격 JIS B0601:2001「제품의 기하 특성 사양(GPS)-표면 성상:윤곽 곡선 방식-용어, 정의 및 표면 성상 파라미터」(ISO 4287:1997과 일치)에 규정된, 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)는 50 ㎚ 이하일 필요가 있다. 산술 평균 거칠기(Ra)가 50 ㎚를 넘는 경우에는, 그 표면에, 도포법에 의해 형성되는 이형층의 접촉면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 앞서 설명한 20 ㎚ 이하의 범위를 넘기 때문에, LCD 등의 화질이 저하된다는 문제를 발생시킨다.Prescribed in Japanese Industrial Standard JIS B0601: 2001 "Geometric Characteristics Specification (GPS)-Surface Properties: Contour Curve Method-Terms, Definitions, and Surface Properties Parameters" of the surface on the release layer side of the base material layer (according to ISO 4287: 1997). The arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve must be 50 nm or less. When arithmetic mean roughness Ra exceeds 50 nm, since arithmetic mean roughness Ra of the contact surface of the release layer formed by the apply | coating method on the surface exceeds 20 nm or less range previously mentioned, This causes a problem of deterioration of image quality.
또, 이형층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 앞서 설명한 적합한 범위 내로 하는 것을 고려하면, 기재층의 이형층측의 면의 산술 평균 거칠기(Ra)는 15 ㎚ 이 하, 특히 10 ㎚ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 이형층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 가능한 한 작게 하는 것을 고려하면, 기재층의 이형층측의 면의 산술 평균 거칠기(Ra)는, 작으면 작을수록 바람직하고, 그 하한은 0 ㎚까지도 포함할 수 있다.In addition, considering that the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the release layer is in a suitable range described above, the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the release layer side of the base material layer is preferably 15 nm or less, particularly 10 nm or less. Do. In addition, in consideration of making the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the release layer as small as possible, the smaller the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the release layer side of the base material layer, the smaller the smaller, and the lower limit thereof is 0 nm. It can also include.
그러나, 앞서 설명한 바와 같이, 기재층의 이형층을 형성하는 면을, 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0 ㎚인, 요철이 없는 평활면으로 마감하는 것은, 기재층의 생산성 등을 고려하면, 실질적으로 곤란하고, 상기 생산성 등을 고려하면, 산술 평균 거칠기(Ra)는 3 ㎚ 이상, 특히 5 ㎚ 이상인 것이 바람직하다. 기재층의 이형층을 형성하는 면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 상기 범위 내로 조정하기 위해서는, 예컨대, 상기 기재층이 금속의 박 내지 박판 등인 경우에는, 그 표면을 연마하는 등 해서 평활하게 마감하면 된다. 또한, 기재층이 이른바 엔지니어링 플라스틱 필름 등인 경우는, 예컨대, 압출 성형이나 연신 등의 필름을 제조하는 각 공정에서의 조건을 조정하거나, 제조한 필름의 표면을 연마하는 등 하여, 평활하게 다듬질하면 된다. 기재층의 이형층을 형성하는 면의 산술 평균 거칠기(Ra)는 앞서 설명한 COLOR 3D Laser Scanning Microscope[Keyence Corporation 제조의 VK-9700]를 사용해서, 비접촉 3차원 측정(Noncontact 3D measurement)하여 얻은 결과로부터, 앞서 설명한 JIS 규격에 준거해서 산출한 값으로 나타내는 것으로 한다.However, as mentioned above, finishing the surface which forms the release layer of a base material layer with the smooth surface without an unevenness | corrugation whose arithmetic mean roughness Ra of a roughness curve is 0 nm considers productivity of a base material layer, etc. In consideration of the productivity and the like, the arithmetic mean roughness Ra is preferably 3 nm or more, particularly 5 nm or more. In order to adjust the arithmetic mean roughness Ra of the surface which forms the release layer of a base material layer in the said range, for example, when the said base material layer is a thin foil or a thin plate, etc., if it finishes smoothly by grinding the surface, etc. do. In addition, when a base material layer is what is called an engineering plastic film etc., what is necessary is to smoothly smooth out, for example, adjusting the conditions in each process of manufacturing films, such as extrusion molding and extending | stretching, or grinding the surface of the produced film. . The arithmetic mean roughness Ra of the surface forming the release layer of the base material layer is obtained from the results obtained by noncontact 3D measurement using the aforementioned COLOR 3D Laser Scanning Microscope (VK-9700, manufactured by Keyence Corporation). It shall be represented by the value computed based on the JIS standard mentioned above.
탄성층은 쿠션층으로서, 평탄화시에, 투명 수지층에 균일한 압력을 가함과 아울러, 롤러의 외주면에 평탄화 시트를 휘감아 고정할 때에, 양자 사이에 이물이 끼이는 등의 경우에, 상기 이물의 형상을 흡수해서, 평탄화 시트의 접촉면에 돌기로서 드러나는 것을 억제하여, 평탄화되는 투명 수지층에, 상기 돌기에 대응한 오목부 등의 결함이 발생하는 것을 방지하기 위한 층이며, 탄성률(23℃)이 0.5 ㎫ 내지 20 ㎫, 두께가 0.1 ㎜ 내지 5 ㎜일 필요가 있다.The elastic layer is a cushion layer, which is applied to the transparent resin layer at the time of flattening, and the foreign matter is caught between them when the flattening sheet is wound around and fixed to the outer circumferential surface of the roller. It is a layer for absorbing a shape and suppressing it from appearing as a processus | protrusion on the contact surface of a planarization sheet, and preventing defects, such as a recessed part corresponding to the said protruding, from occurring in the planarized transparent resin layer, and an elasticity modulus (23 degreeC) is It is necessary to be 0.5 Mpa-20 Mpa, and thickness must be 0.1 mm-5 mm.
탄성층의 탄성률(23℃)이 0.5 ㎫ 미만이거나, 또는 두께가 5 ㎜를 넘는 경우에는, 평탄화 시트 전체가 너무 유연해져서, 평탄화시에, 투명 수지층에 균일한 압력을 가할 수 없기 때문에, 상기 투명 수지층을 균일하게 평탄화할 수 없다. 한편, 탄성률(23℃)이 20 ㎫를 넘거나, 또는 두께가 0.1 ㎜ 미만에서는, 롤러의 외주면에 평탄화 시트를 휘감아 고정할 때에, 양자 사이에 이물이 끼이는 등 한 경우에, 상기 이물의 형상을 충분히 흡수할 수 없어, 상기 이물의 형상이 평탄화 시트의 접촉면에 돌기로서 드러나, 평탄화한 투명 수지층에, 상기 돌기에 대응한 오목부 등의 결함이 발생한다.When the elastic modulus (23 ° C.) of the elastic layer is less than 0.5 MPa or the thickness is more than 5 mm, the entire flattening sheet becomes too flexible, so that uniform pressure cannot be applied to the transparent resin layer during flattening. The transparent resin layer cannot be flattened uniformly. On the other hand, when the elasticity modulus (23 ° C) exceeds 20 MPa or the thickness is less than 0.1 mm, the foreign material is caught between the two when the flattening sheet is wound around the outer circumferential surface of the roller. Can not be sufficiently absorbed, and the shape of the foreign material is exposed as a projection on the contact surface of the flattening sheet, and defects such as recesses corresponding to the projections are generated in the flattened transparent resin layer.
또, 평탄화 시트 전체에 적당한 유연성을 부여하여, 평탄화시에, 투명 수지층에 균일한 압력을 가하는 것과, 이물이 끼이는 등 했을 때에, 상기 이물의 형상을 충분히 흡수해서, 평탄화 시트의 접촉면에 돌기로서 드러나는 것을 억제하는 것과의 밸런스를 고려하여, 결함이 없고, 게다가 균일하게 평탄화된 투명 수지층을 형성하는 것을 고려하면, 탄성층의 탄성률(23℃)은 0.8 ㎫ 내지 15 ㎫인 것이 바람직하고, 두께는 0.125 ㎜ 내지 0.35 ㎜인 것이 바람직하다.Further, when the flattening sheet is provided with appropriate flexibility, when the flattening is applied, a uniform pressure is applied to the transparent resin layer, and when foreign matter is caught, the shape of the foreign matter is sufficiently absorbed, and the protrusions are formed on the contact surface of the flattening sheet. In consideration of the balance between suppressing the appearance of the resin layer and considering the formation of a transparent resin layer having no defects and uniformly flattening, the elastic modulus (23 ° C) of the elastic layer is preferably 0.8 MPa to 15 MPa, The thickness is preferably 0.125 mm to 0.35 mm.
탄성층은 상기 특성을 만족하는 여러 가지 재료에 의해 형성할 수 있으며, 특히, 발포 또는 비발포의 고무나 연질 수지에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 탄성층의 탄성률은 온도 23℃의 측정 환경하, 앞서 설명한 일본 공업 규격 JIS K6251:2004 「가황 고무 및 열가소성 고무-인장 특성을 구하는 법」(IS0 37:1994를 수정하였다)에 따라 측정한 값으로 나타내는 것으로 한다. 또한, 두께는 이것도 앞서 설명한 마이크로미터[예컨대, Mitutoyo Corporation 제조의 방수형 디지털 마이크로미터 "Coolant Proof Micrometer" 등]를 사용하여 측정한 값으로 나타내는 것으로 한다.The elastic layer can be formed of various materials satisfying the above characteristics, and in particular, it is preferable to form the foam or non-foamed rubber or soft resin. The elastic modulus of the elastic layer is a value measured according to the above-mentioned Japanese Industrial Standard JIS K6251: 2004 "Vulcanizing Rubber and Thermoplastic Rubber-Tensile Properties" (modified IS0 37: 1994) under a measuring environment at a temperature of 23 ° C. It shall be shown. In addition, thickness shall also be represented by the value measured using the micrometer mentioned above (for example, the waterproof digital micrometer "Coolant Proof Micrometer" by Mitutoyo Corporation etc.).
본 발명의 평탄화 시트는 상기 이형층, 기재층, 및 탄성층의 3층만으로 형성해도 좋으나, 상기 각 층 사이에, 예컨대 접착층 등을 개재시켜도 좋다. 또한, 이형층, 기재층, 및 탄성층의 각 층을, 각각, 앞서 설명한 각 특성을 만족하는 2층 이상의 층으로 이루어지는 적층 구조로 형성해도 좋다. 상기 3층만으로 이루어지는 평탄화 시트는 예컨대 기재층의 한쪽 면에, 이형층의 베이스가 되는 도포액을 도포한 후, 앞서 설명한 바와 같이 건조 내지 반응시켜서 이형층을 형성함과 아울러, 상기 기재층의 반대면에, 탄성층의 베이스가 되는 고무 또는 연질 수지를 용제로 녹인, 액상 내지 페이스트상의 풀제를 도포해서 건조시키고, 또한 필요에 따라서 경화 반응시켜서 탄성층을 형성함으로써 제조된다.Although the planarization sheet of this invention may be formed only by three layers of the said release layer, a base material layer, and an elastic layer, you may interpose an adhesive layer etc. between each said layer, for example. In addition, you may form each layer of a release layer, a base material layer, and an elastic layer in the laminated structure which consists of two or more layers which satisfy | fill each above-mentioned characteristic, respectively. The planarization sheet composed of only the three layers is, for example, coated on one side of the base material layer with a coating liquid serving as a base of the release layer, and then dried or reacted as described above to form a release layer, and opposite to the base material layer. It is manufactured by coating and drying a liquid or paste-like paste, in which rubber or soft resin serving as the base of the elastic layer is dissolved in a solvent on the surface, followed by curing as necessary to form an elastic layer.
도 1 및 도 2는 상기 본 발명의 평탄화 시트를 사용한 본 발명의 컬러 필터의 제조 방법의 공정의 일례를 도시하는 단면도이다. 도 1을 참조하여, 이 예의 제조 방법에서는, 우선, 유리 기판 등의 기판(1) 상에, 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 각 화소에 대응한, 상기 각 색으로 착색된 투명 잉크로 이루어지는 스트라이프 패턴(2∼4)을, 화소마다 규칙적으로 배열시켜서 인쇄하여, 투명 수지층(5)을 형성한다. 다음으로, 도 2를 참조하여, 외주면에 본 발명의 평탄화 시트(6)를 휘감 은 롤러(7)의 상기 평탄화 시트(6)의 접촉면을, 인쇄 후의 투명 수지층(5)의 표면에 접촉시킨 상태에서, 상기 롤러(7)를 도면 중에 실선의 화살표 및 흰색 화살표로 나타낸 바와 같이, 상기 투명 수지층(5) 상에서 전동시킴으로써 투명 수지층(5)의 표면을 평탄화하면, 컬러 필터가 제조된다.1 and 2 are cross-sectional views showing an example of a process of the method for producing a color filter of the present invention using the flattening sheet of the present invention. With reference to FIG. 1, in the manufacturing method of this example, each said color corresponding to each pixel of red (R), green (G), and blue (B) on the board | substrate 1, such as a glass substrate, first The
도 1의 공정에서, 기판(1) 상에 스트라이프 패턴(2∼4)을 인쇄하기 위한 인쇄법으로서는, 예컨대 오목판 오프셋 인쇄법, 평판 오프셋 인쇄법, 스크린 인쇄법 등의 종래 공지의 여러 가지 인쇄법이 모두 채용 가능하고, 특히 오목판 오프셋 인쇄법이 적합하게 채용된다. 오목판 오프셋 인쇄법에 있어서는, 스트라이프 패턴의 형상에 대응한 오목부를 갖는 오목판과, 외주면에 오프셋 블랭킷을 휘감은 롤러를 구비한 오목판 오프셋 인쇄기가 사용된다.As the printing method for printing the stripe patterns 2-4 on the board | substrate 1 in the process of FIG. 1, the conventionally well-known various printing methods, such as the recess plate offset printing method, the flat plate offset printing method, the screen printing method, etc. All of these can be employed, and in particular, the concave plate offset printing method is suitably employed. In the concave plate offset printing method, a concave plate offset printing machine having a concave plate having a concave portion corresponding to the shape of a stripe pattern and a roller wound around an offset blanket on an outer circumferential surface is used.
그리고, 상기 오목판의 오목부에, 상기 각 색으로 착색된 투명 잉크를 충전한 후, 오프셋 블랭킷의 표면을 오목판의 표면에 접촉시킨 상태에서, 상기 롤러를 상기 오목판 상에서 전동시킴으로써, 오목부 내의 투명 잉크를 오프셋 블랭킷의 표면에 스트라이프 패턴으로서 전사시킨 후, 상기 오프셋 블랭킷의 표면을 기판의 표면에 접촉시킨 상태에서, 상기 롤러를 상기 기판 상에서 전동시킴으로써, 상기 스트라이프 패턴을 기판의 표면에 전사시키면, 상기 기판의 표면에, 오목판의 오목부에 대응한 스트라이프 패턴을 인쇄할 수 있다.And after filling the recessed part of the said recessed plate with the transparent ink colored by each said color, the said transparent roller in a recessed part is made to roll on the said recessed plate in the state which made the surface of the offset blanket contact the surface of the recessed plate. Is transferred to the surface of the offset blanket as a stripe pattern, and then the roller is transferred on the substrate while the surface of the offset blanket is brought into contact with the surface of the substrate, thereby transferring the stripe pattern to the surface of the substrate. The stripe pattern corresponding to the recessed portion of the recessed plate can be printed on the surface of the recessed plate.
상기 오목판 오프셋 인쇄법에 따르면, 오목판의 표면에, 예컨대 포토리소그래프법 등에 의해 형성한 고정밀도의 패턴에 대응한, 투명 잉크로 이루어지는 스트라이프 패턴을 기판의 표면에 재현성 좋게 인쇄할 수 있다는 이점이 있다. 오목판 오프셋 인쇄기와, 본 발명의 평탄화 시트를 사용하여, 인쇄 후의 투명 수지층을 평탄화하기 위해서는, 오목판 오프셋 인쇄기에, 상기 오프셋 블랭킷을 휘감은 롤러 외에, 평탄화 시트를 휘감은 롤러를 장착하고, 전자의 롤러에 의한 인쇄 공정과, 후자의 롤러에 의한 평탄화 공정을 번갈아 실시하도록 해도 좋다. 또한, 롤러는 1개만으로 하고, 인쇄 공정 종료 후의 롤러에 오프셋 블랭킷을 대신하여, 본 발명의 평탄화 시트를 휘감아 평탄화 공정을 실시하도록 해도 좋다.According to the concave plate offset printing method, there is an advantage that a stripe pattern made of transparent ink corresponding to a high-precision pattern formed by, for example, a photolithography method can be printed on the surface of the concave plate with good reproducibility. . In order to planarize the transparent resin layer after printing using the recess plate offset printing machine and the flattening sheet of this invention, the roller plate which wound the planarization sheet besides the roller which wound the said offset blanket is attached to the recess plate offset printing machine, and is attached to the former roller. May be performed alternately between the printing process and the planarization process by the latter roller. In addition, only one roller may be used, and instead of the offset blanket, the flattening sheet of the present invention may be wound around the roller after the printing step to perform the flattening step.
실시예 1Example 1
기재층으로서, 그 양면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 11.5 ㎚, 인장 탄성률(23℃)이 210 ㎫, 두께가 100 ㎛인 PET 필름[T0RAY INDUSTRIES INC. 제조의 T60]을 준비하였다. 다음으로, 상기 PET 필름을 세로 300 ㎜×가로 400 ㎜의 직사각형 형상으로 잘라내고, 그 한쪽 면의, 직사각형의 두 긴변측의 단 가장자리에, 각각 멘딩 테이프(mending tape)를 부착함과 아울러, PET 필름을, 상기 한쪽 면을 위로 해서 평반상에 고정한 상태에서, 상기 멘딩 테이프를 두께의 가이드로서 이용하고, 직경 12 ㎜의 스테인리스제이며, 또한 외주면이 연마하여 마감된 도포봉을 사용하여, 바코트법에 의해, 상기 한쪽 면에 이형층의 베이스가 되는 실리콘 수지계의 도포액[Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제조의 등록 상표 SEPA-COAT, 단독 경화물의 표면 장력(23℃):16 mN/m]을 도포한 후, 클린오븐 안에서 100℃×10분간의 가열을 하여 도포액을 건조시킴과 아울러, 실리콘 수지를 경화 반응시켜서 이형층을 형성하였다. 상기 이형층의 표면의 표면 장력(23℃)은 16 mN/m, 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)는 8.7 ㎚, 두께는 1 ㎛였다.As a base material layer, PET film whose arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve of both surfaces is 11.5 nm, tensile modulus (23 degreeC) is 210 Mpa, and 100 micrometers in thickness [T0RAY INDUSTRIES INC. T60] was prepared. Next, the PET film is cut out into a rectangular shape having a length of 300 mm x 400 mm, and a mending tape is attached to each of the short edges of the two long sides of the rectangle on one side thereof, In the state which fixed the film on the flat surface with the said one side upward, using the said sticking tape as a guide of thickness, it is made of the stainless steel of diameter 12mm, and uses the coating rod by which the outer peripheral surface was polished and finished, bar coat Method, a silicone resin coating liquid serving as a base of a release layer on the one surface [Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. After applying the registered trademark SEPA-COAT, surface tension (23 ° C.): 16 mN / m], the coating liquid is dried by heating at 100 ° C. for 10 minutes in a clean oven, and the silicone resin The curing reaction was carried out to form a release layer. The surface tension (23 degreeC) of the surface of the said release layer was 16 mN / m, the arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve was 8.7 nm, and thickness was 1 micrometer.
상기 PET 필름을, 이형층을 형성한 측과 반대면을 위로 해서 평반상에 적재하고, 직사각형의 네 변의 단 가장자리에, 각각 스테인리스봉을 놓고, 높이 500 ㎛의 둑을 형성함과 아울러, PET 필름을 평반상에 고정한 상태에서, 상기 스테인리스봉을 두께의 가이드로서 이용하고, 직경 12 ㎜의 스테인리스제이며, 또한 외주면이 연마하여 마감된 도포봉을 사용하여, 바코트법에 의해, 상기 반대면에 탄성층의 베이스가 되는 주형용 우레탄 수지[Hitachi Chemical Co., Ltd. 제조의 KU-5550-9, 단독 경화물의 탄성률(23℃):5.3 ㎫]를 도포한 후, 클린오븐 안에서 40℃×5분간의 가열을 해서 우레탄 수지를 경화시켜서 탄성층을 형성하여, 실시예 1의 평탄화 시트를 제조하였다. 상기 탄성층의 탄성률(23℃)은 5.3 ㎫, 두께는 0.65 ㎜였다.The PET film was placed on a flat surface with the side opposite to the side on which the release layer was formed, and the stainless steel rods were placed on the edges of four rectangular sides, respectively, to form a weft of 500 µm in height, and the PET film In a state where the plate is fixed on a flat plate, the stainless steel rod is used as a guide having a thickness, and a coating rod made of stainless steel having a diameter of 12 mm and polished and finished on its outer circumferential surface is formed on the opposite surface by the bar coating method. Molding urethane resin serving as a base of the elastic layer [Hitachi Chemical Co., Ltd. KU-5550-9 manufactured, and the elasticity modulus (23 degreeC): 5.3 Mpa] of single hardened | cured material are apply | coated, and 40 degreeC * 5 minute (s) of heating are performed in a clean oven, hardening a urethane resin, and an elastic layer is formed, and the Example The flattening sheet of 1 was produced. The elasticity modulus (23 degreeC) of the said elastic layer was 5.3 Mpa, and thickness was 0.65 mm.
실시예 2Example 2
이형층의 베이스가 되는 실리콘 수지계의 도포액으로서, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제조의 등록 상표 SEPA-COAT와, 동사 제조의 KS-830[단독 경화물의 표면 장력(23℃):38 mN/m]을, 중량비로 40:60의 비율로 배합한 것을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2의 평탄화 시트를 제조하였다. 상기 이형층의 표면의 표면 장력(23℃)은 28 mN/m, 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)는 8.7 ㎚, 두께는 1 ㎛였다.As a silicone resin coating liquid serving as a base of the release layer, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Except having used the registered trademark SEPA-COAT of the manufacture and KS-830 [surface tension (23 degreeC): 38mN / m of a single hardened | cured material of the company made) in the ratio of 40:60 by weight ratio, an Example was used. In the same manner as in 1, the flattening sheet of Example 2 was manufactured. The surface tension (23 degreeC) of the surface of the said release layer was 28 mN / m, the arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve was 8.7 nm, and thickness was 1 micrometer.
비교예 1Comparative Example 1
이형층의 베이스가 되는 실리콘 수지계의 도포액으로서, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제조의 등록 상표 SEPA-COAT와, 동사 제조의 KS-830을, 중량비로 20:80의 비율로 배합한 것을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 1의 평탄화 시트를 제조하였다. 상기 이형층의 표면의 표면 장력(23℃)은 32 mN/m, 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)는 8.7 ㎚, 두께는 1 ㎛였다.As a silicone resin coating liquid serving as a base of the release layer, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. The flattening sheet of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the registered trademark SEPA-COAT and KS-830 manufactured by the company were used in a weight ratio of 20:80. The surface tension (23 degreeC) of the surface of the said release layer was 32 mN / m, the arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve was 8.7 nm, and thickness was 1 micrometer.
비교예 2Comparative Example 2
이형층의 베이스가 되는 실리콘 수지계의 도포액으로서, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제조의 KS-830을 단독으로 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 2의 평탄화 시트를 제조하였다. 상기 이형층의 표면의 표면 장력(23℃)은 38 mN/m, 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)는 10.5 ㎚, 두께는 1 ㎛였다.As a silicone resin coating liquid serving as a base of the release layer, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. A flattening sheet of Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the manufactured KS-830 was used alone. The surface tension (23 degreeC) of the surface of the said release layer was 38 mN / m, the arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve was 10.5 nm, and thickness was 1 micrometer.
실시예 3Example 3
이형층의 베이스가 되는 실리콘 수지계의 도포액으로서, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제조의 등록 상표 SEPA-COAT와, 동사 제조의 KS-837[단독 경화물의 표면장력(23℃):16 mN/m]을, 중량비로 80:20의 비율로 배합한 것을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 3의 평탄화 시트를 제조하였다. 상기 이형층의, 표면의 표면 장력(23℃)은 16 mN/m, 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)는 18 ㎚, 두께는 1 ㎛였다.As a silicone resin coating liquid serving as a base of the release layer, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Except having used the registered trademark SEPA-COAT of the manufacture and KS-837 (surface tension (23 degreeC): 16 mN / m of a single hardened | cured material) made by the company in the ratio of 80:20 by weight ratio, an Example was used. In the same manner as in 1, the flattening sheet of Example 3 was manufactured. The surface tension (23 degreeC) of the surface of this release layer was 16 mN / m, the arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve was 18 nm, and thickness was 1 micrometer.
비교예 3Comparative Example 3
기재층으로서, 그 양면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 66.8 ㎚, 인장 탄성률(23℃)이 230 ㎫, 두께가 100 ㎛인 PET 필름[Teijin DuPont Films Japan Limited 제조의 등록 상표 Melinex S]을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 3의 평탄화 시트를 제조하였다. 상기 PET 필름 상에 형성된 이형층의 표면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)는 39 ㎚였다.As a base material layer, PET film whose arithmetic mean roughness (Ra) of the roughness curve of both surfaces is 66.8 nm, tensile elasticity modulus (23 degreeC) is 230 Mpa, and 100 micrometers in thickness [registered trademark Melinex S manufactured by Teijin DuPont Films Japan Limited] A flattening sheet of Comparative Example 3 was prepared in the same manner as in Example 1 except that was used. The arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve of the surface of the release layer formed on the said PET film was 39 nm.
실시예 4Example 4
기재층으로서, 그 양면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 48 ㎚, 인장 탄성률(23℃)이 230 ㎫, 두께가 100 ㎛인 PET 필름[Toray Industries, Inc. 제조의 S10]을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 4의 평탄화 시트를 제조하였다. 상기 PET 필름 상에 형성된 이형층의 표면의, 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)는 8.7 ㎚였다.As a base material layer, PET film whose arithmetic mean roughness (Ra) of the roughness curve of both surfaces is 48 nm, tensile modulus (23 degreeC) is 230 Mpa, and 100 micrometers in thickness [Toray Industries, Inc.]. The flattening sheet | seat of Example 4 was manufactured like Example 1 except having used S10 of manufacture. Arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve of the surface of the release layer formed on the said PET film was 8.7 nm.
비교예 4Comparative Example 4
기재층으로서, 그 양면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 52 ㎚, 인장 탄성률(23℃)이 230 ㎫, 두께가 100 ㎛인 PET 필름[Toray Industries, Inc. 제조의 S15]을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 4의 평탄화 시트를 제조하였다. 상기 PET 필름 상에 형성된 이형층의 표면의, 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)는 8.7 ㎚였다.As a base material layer, PET film whose arithmetic mean roughness (Ra) of the roughness curve of both surfaces is 52 nm, tensile modulus (23 degreeC) is 230 Mpa, and 100 micrometers in thickness [Toray Industries, Inc.]. A flattening sheet of Comparative Example 4 was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the production S15] was used. Arithmetic mean roughness Ra of the roughness curve of the surface of the release layer formed on the said PET film was 8.7 nm.
실시예 5Example 5
탄성층의 베이스가 되는 주형용 우레탄 수지로서, Hitachi Chemical Co., Ltd. 제조의 KU-7002[단독 경화물의 탄성률(23℃):0.07 ㎫]와, 동사 제조의 KU-7008[단독 경화물의 탄성률(23℃):0.95 ㎫]을, 중량비로 50:50의 비율로 배합한 것을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 5의 평탄화 시트를 제조하였다. 상기 탄성층의 탄성률(23℃)은 0.55 ㎫였다.As a urethane resin for moldings to be the base of an elastic layer, Hitachi Chemical Co., Ltd. KU-7002 [elastic modulus (23 degreeC): 0.07 MPa] of manufacture hardened | cured and KU-7008 [elastic modulus (23 ° C.): 0.95 MPa of manufactured hardened | cured material of the company make, mix | blending in ratio of 50:50 by weight ratio. A flattening sheet of Example 5 was manufactured in the same manner as in Example 1 except that one was used. The elasticity modulus (23 degreeC) of the said elastic layer was 0.55 Mpa.
비교예 5Comparative Example 5
탄성층의 베이스가 되는 주형용 우레탄 수지로서, Hitachi Chemical Co., Ltd. 제조의 KU-7002와, 동사 제조의 KU-7008을, 중량비로 40:60의 비율로 배합한 것을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 5의 평탄화 시트를 제조하였다. 상기 탄성층의 탄성률(23℃)은 0.45 ㎫였다.As a urethane resin for moldings to be the base of an elastic layer, Hitachi Chemical Co., Ltd. The flattening sheet of Comparative Example 5 was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the KU-7002 manufactured and the KU-7008 manufactured by the company were blended in a weight ratio of 40:60. The elasticity modulus (23 degreeC) of the said elastic layer was 0.45 Mpa.
비교예 6Comparative Example 6
탄성층의 베이스가 되는 주형용 우레탄 수지로서, Hitachi Chemical Co., Ltd. 제조의 KU-7002를 단독으로 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 6의 평탄화 시트를 제조하였다. 상기 탄성층의 탄성률(23℃)은 0.07 ㎫였다.As a urethane resin for moldings to be the base of an elastic layer, Hitachi Chemical Co., Ltd. A flattening sheet of Comparative Example 6 was prepared in the same manner as in Example 1 except that KU-7002 was used alone. The elasticity modulus (23 degreeC) of the said elastic layer was 0.07 Mpa.
실시예 6Example 6
탄성층의 베이스가 되는 주형용 우레탄 수지로서, Hitachi Chemical Co., Ltd. 제조의 KU-5550-9와, 동사 제조의 U-801A/B[단독 경화물의 탄성률(23℃):32 ㎫]를, 중량비로 55:45의 비율로 배합한 것을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 6의 평탄화 시트를 제조하였다. 상기 탄성층의 탄성률(23℃)은 18 ㎫였다.As a urethane resin for moldings to be the base of an elastic layer, Hitachi Chemical Co., Ltd. Example 1 except having used KU-5550-9 of manufacture and the thing which mixed U-801A / B [elastic modulus (23 degreeC): 32 MPa of product of hardened | cured material of the company made) in the ratio of 55:45 by weight ratio. In the same manner as in the above, the flattening sheet of Example 6 was prepared. The elasticity modulus (23 degreeC) of the said elastic layer was 18 Mpa.
비교예 7Comparative Example 7
탄성층의 베이스가 되는 주형용 우레탄 수지로서, Hitachi Chemical Co., Ltd. 제조의 KU-5550-9와, 동사 제조의 U-801A/B를, 중량비로 45:55의 비율로 배합한 것을 사용한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 7의 평탄화 시트를 제조하였다. 상기 탄성층의 탄성률(23℃)은 22 ㎫였다.As a urethane resin for moldings to be the base of an elastic layer, Hitachi Chemical Co., Ltd. A flattening sheet of Comparative Example 7 was produced in the same manner as in Example 1 except that KU-5550-9 was manufactured and U-801A / B was manufactured in a ratio of 45:55 by weight. It was. The elasticity modulus (23 degreeC) of the said elastic layer was 22 Mpa.
비교예 8Comparative Example 8
탄성층을, 실리콘 레진[Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제조의 SCR-1011A/B, 단독 경화물의 탄성률(23℃):1400 ㎫]을 사용해서 형성한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 8의 평탄화 시트를 제조하였다. 상기 탄성층의 탄성률(23℃)은 1400 ㎫였다.The elastic layer is a silicone resin [Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Except having formed using SCR-1011A / B of manufacture and the elasticity modulus (23 degreeC): 1400 Mpa] of a single hardened | cured material, it carried out similarly to Example 1, and produced the flattening sheet of the comparative example 8. The elasticity modulus (23 degreeC) of the said elastic layer was 1400 Mpa.
실시예 7, 8, 비교예 9∼11Examples 7, 8 and Comparative Examples 9-11
탄성층의 두께를 0.11 ㎜(실시예 7), 4.8 ㎜(실시예 8), 0.08 ㎜(비교예 9), 5.2 ㎜(비교예 10), 6.5 ㎜(비교예 11)로 한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 7, 8, 비교예 9∼11의 평탄화 시트를 제조하였다.The thickness of the elastic layer was 0.11 mm (Example 7), 4.8 mm (Example 8), 0.08 mm (Comparative Example 9), 5.2 mm (Comparative Example 10), and 6.5 mm (Comparative Example 11). In the same manner as in Example 1, the flattening sheets of Examples 7, 8 and Comparative Examples 9 to 11 were prepared.
비교예 12Comparative Example 12
탄성층을 형성하지 않았던 것 이외는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 12의 평탄화 시트를 제조하였다.A flattening sheet of Comparative Example 12 was produced in the same manner as in Example 1 except that no elastic layer was formed.
평가 시험Evaluation test
세로 300 ㎜×가로 400 ㎜의 유리 기판의 표면에, 평형 오목판 오프셋 인쇄기〔NAKAN CORPORATION 제조〕를 사용하여, 오목판 오프셋 인쇄법에 의해, 오목판 오프셋용 CF 잉크에 의해, 선폭 100 ㎛의 RGB 3색의 스트라이프 패턴을 100 ㎛ 피치로, 도 1에 도시하는 바와 같이 차례대로 배열시켜서 인쇄함으로써, 투명 인쇄층을 형성하였다. 오목판으로서는, 유리제이며, 스트라이프 패턴의 형상에 대응한 오목부의 개구폭이 110 ㎛, 깊이가 7 ㎛인 것을 사용하고, 오프셋 블랭킷으로서는, SRI Research & Development Ltd. 제조의 총 두께 0.9 ㎜의 정밀 인쇄용 실리콘 블랭킷을 사용하였다.On the surface of the glass substrate of 300 mm in length x 400 mm in width, using an intaglio offset printing machine (manufactured by NAKAN CORPORATION), by an intaglio offset printing method, using an intaglio offset CF ink, an RGB tricolor of 100 μm in line width A transparent printed layer was formed by arranging stripe patterns in order of 100 micrometers in pitch as shown in FIG. 1, and printing them. As the concave plate, one having a glass and having an opening width of 110 μm and a depth of 7 μm corresponding to the shape of the stripe pattern was used. As the offset blanket, SRI Research & Development Ltd. A precision printing silicone blanket with a total thickness of 0.9 mm was used.
또한, 오목판 오프셋용 CF 잉크로서는, 아디핀산과 프탈산을 등량씩 배합하 고 180℃에서 중합 반응시켜서 합성한 폴리에스테르 수지에, 멜라민〔Sumitomo Chemical Co., Ltd. 제조의 등록 상표 Sumimal〕을 첨가해서, 200℃로 가온하면서, 중량 평균 분자량(Mw)을 2000 내지 20000의 범위 내에서 임의로 조정한 바인더 수지와, 하기 중 어느 하나의 안료와, 분산제〔AJINOMOTO CO., INC. 제조의 등록 상표 AJISPER PB821〕와, 용제로서의 부틸카르비톨아세테이트를, 표 1에 나타낸 비율로 배합하고, 3개의 롤을 사용하여 혼합한 것을 사용하였다.In addition, as the recessed plate offset CF ink, melamine [Sumitomo Chemical Co., Ltd. Ltd.] was added to a polyester resin synthesized by mixing adipic acid and phthalic acid in equal amounts and polymerizing the mixture at 180 ° C. Manufacturing Trademark Sumimal], the binder resin which arbitrarily adjusted the weight average molecular weight (Mw) within the range of 2000-200000, heating at 200 degreeC, any one of the following pigments, and a dispersing agent [AJINOMOTO CO. , INC. Manufactured trademark AJISPER PB821] and butyl carbitol acetate as solvents were blended in the ratios shown in Table 1 and mixed using three rolls.
(안료)(Pigment)
레드: C.I. 피그먼트 레드 245(디케토피롤로피롤 안료)Red: C.I. Pigment Red 245 (diketopyrrolopyrrole pigment)
그린: C.I. 피그먼트 그린 36(할로겐화구리프탈로시아닌 안료)Green: C.I. Pigment Green 36 (halogenated copper phthalocyanine pigment)
블루: C.I. 피그먼트 블루 15:6(구리프탈로시아닌 안료)Blue: C.I. Pigment Blue 15: 6 (copperphthalocyanine pigment)
다음으로, 인쇄기의 롤러로부터 오프셋 블랭킷을 떼어내고, 대신에, 실시예, 비교예에서 제조한 평탄화 시트를 휘감아 고정하였다. 그리고, 상기 평탄화 시트의 접촉면을, 상기 투명 수지층의 표면에 접촉시킨 상태에서, 상기 롤러를 상기 투명 수지층 상에서 전동시킴으로써, 상기 표면을 평탄화한 후, 230℃×30분간의 가열을 하여, 투명 수지층을 경화시켜서 컬러 필터를 제조하였다.Next, the offset blanket was removed from the roller of the printer, and instead, the flattening sheet manufactured in the Example and the comparative example was wound and fixed. Then, by rolling the roller on the transparent resin layer in a state in which the contact surface of the flattening sheet is in contact with the surface of the transparent resin layer, the surface is flattened, and then heated at 230 ° C. for 30 minutes to be transparent. The resin layer was cured to prepare a color filter.
평탄화 후의 평탄화 시트의 접촉면을 관찰하여, 잉크의 역전사가 발생하고 있지 않은지를 확인하였다. 또한, 경화 후의 투명 수지층의 표면을 현미경으로 관찰하여, 평탄화 전과 표면의 요철이 변화되지 않은 것을 평탄화 불량으로서 평가하였다. 또한, 평탄화된 것에 대해서는, 상기 표면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)를, 단차·표면 거칠기·미세 형상 측정 장치[KLA-Tencor Corporation 제조의 Alpha-Step 500]를 사용하여 측정하고, 상기 산술 평균 거칠기(Ra)가 20 ㎚를 넘는 것을, 투명 수지층에 두께의 불균일이 있음, 20 ㎚ 이하인 것을 불균일 없음, 평활성 양호로서 평가하였다. 또한, 상기 투명 수지층의 표면을 현미경으로 관찰하여, 상기 투명 수지층에 오목부 등의 결함이 발생하고 있지 않은지를 확인하였다. 결과를 표 2 내지 표 7에 나타낸다.The contact surface of the flattening sheet after planarization was observed, and it was confirmed whether or not reverse transfer of ink occurred. Moreover, the surface of the transparent resin layer after hardening was observed with the microscope, and the thing which unevenness before the planarization and the surface did not change was evaluated as a planarization defect. In addition, about flattening, the arithmetic mean roughness Ra of the surface roughness curve is measured using the step | step, surface roughness, and micro-shape measuring apparatus [alpha-Step 500 by KLA-Tencor Corporation], The arithmetic The average roughness Ra exceeded 20 nm, and it evaluated as having nonuniformity and 20 nm or less in the transparent resin layer as nonuniformity and favorable smoothness. Moreover, the surface of the said transparent resin layer was observed with the microscope, and it was confirmed whether defects, such as a recessed part, were not generated in the said transparent resin layer. The results are shown in Tables 2-7.
※1: 일부 평탄화 불가. ※2: 평탄화 불가.※ 1: Partial flattening is not possible. * 2: Flattening is not possible.
※3: 일부 평탄화 불가. ※4: 평탄화 불가.※ 3: Partial flattening is not possible. * 4: Flattening is not possible.
각 표로부터, 이형층의 표면의 표면 장력(23℃)이 30 mN/m를 넘는 비교예 1, 2의 평탄화 시트를 사용한 경우에는, 잉크의 역전사가 발생하고 있는 것을 알 수 있었다. 또한, 기재층으로서, 그 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 50 ㎚를 넘는 것을 사용하였기 때문에, 이형층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 20 ㎚를 넘는 비교예 3의 평탄화 시트를 사용한 경우에는, 투명 수지층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 20 ㎚를 넘기 때문에, 상기 투명 수지층의 두께에 불균일이 발생하는 것을 알 수 있었다. 또한, 이형층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)는 20 ㎚ 이하였으나, 기재층으로서, 그 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 50 ㎚를 넘는 것을 사용한 비교예 4의 평탄화 시트를 사용한 경우에는, 역시 투명 수지층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 20 ㎚를 넘기 때문에, 상기 투명 수지층의 두께에 불균일이 발생하는 것을 알 수 있었다. From each table, it turned out that reverse transcription of ink has arisen when the planarization sheets of the comparative examples 1 and 2 whose surface tension (23 degreeC) of the surface of a release layer exceeded 30 mN / m were used. In addition, since the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the release layer used more than 50 nm as a base material layer, when the arithmetic mean roughness Ra of the surface of a mold release layer used the flattening sheet of the comparative example 3 over 20 nm, Since the arithmetic mean roughness Ra of the surface of a transparent resin layer exceeds 20 nm, it turned out that a nonuniformity arises in the thickness of the said transparent resin layer. In addition, although the arithmetic mean roughness Ra of the surface of a release layer was 20 nm or less, when the arithmetic mean roughness Ra of the surface used the thing of the flattening sheet of the comparative example 4 over 50 nm, In addition, since arithmetic mean roughness Ra of the surface of a transparent resin layer exceeds 20 nm, it turned out that a nonuniformity arises in the thickness of the said transparent resin layer.
또한, 탄성층의 탄성률(23℃)이 0.5 ㎫ 미만이었던 비교예 5, 6의 평탄화 시트나, 탄성층의 두께가 5 ㎜를 넘는 비교예 10, 11의 평탄화 시트를 사용한 경우에는, 투명 수지층을 평탄화할 수 없는 것을 알 수 있었다. 또한, 탄성층의 탄성률(23℃)이 20 ㎫를 넘는 비교예 7, 8의 평탄화 시트나, 탄성층을 형성하지 않았던 비교예 12의 평탄화 시트, 탄성층의 두께가 0.1 ㎜ 미만이었던 비교예 9의 평탄화 시트를 사용한 경우에는, 투명 수지층에, 오목부 등의 결함이 발생하는 것을 방지할 수 없는 것을 알 수 있었다. 이에 비해서, 실시예 1∼8의 평탄화 시트를 사용한 경우에는, 모두, 투명 수지층 전체를 균일하게 평탄화할 수 있음과 아울러, 상기 투명 수지층을 형성하는 투명 잉크가 역전사되는 것을 방지할 수 있고, 또한 투명 수지층에, 오목부 등의 결함이 발생하는 것을 방지할 수 있는 것이 확인되었다.In addition, when the flattening sheet of the comparative examples 5 and 6 whose elasticity modulus (23 degreeC) of the elastic layer was less than 0.5 Mpa, and the flattening sheets of the comparative examples 10 and 11 whose thickness of an elastic layer exceeded 5 mm were used, a transparent resin layer It turned out that it cannot be flattened. In addition, the flattening sheet of Comparative Example 7, 8 whose elasticity modulus (23 degreeC) of an elastic layer exceeded 20 Mpa, and the comparative example 9 whose thickness of the flattening sheet of comparative example 12 which did not form an elastic layer, and an elastic layer was less than 0.1 mm. When the planarization sheet of the was used, it turned out that defects, such as a recessed part, cannot be prevented from occurring in a transparent resin layer. On the other hand, in the case where the flattening sheets of Examples 1 to 8 are used, all of the transparent resin layers can be uniformly flattened, and the transparent ink forming the transparent resin layer can be prevented from being reverse-transferred, Moreover, it was confirmed that defects, such as a recessed part, can be prevented from occurring in a transparent resin layer.
도 1은 본 발명의 평탄화 시트를 사용한, 본 발명의 컬러 필터의 제조 방법의 공정의 일례를 도시하는 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows an example of the process of the manufacturing method of the color filter of this invention using the flattening sheet of this invention.
도 2는 도 1의 후속 공정의 일례를 도시하는 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the subsequent step of FIG. 1.
Claims (5)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2007-00123366 | 2007-05-08 | ||
| JP2007123366A JP4909166B2 (en) | 2007-05-08 | 2007-05-08 | Planarizing sheet and color filter manufacturing method using the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20080099127A KR20080099127A (en) | 2008-11-12 |
| KR100956287B1 true KR100956287B1 (en) | 2010-05-10 |
Family
ID=40142512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020080027417A KR100956287B1 (en) | 2007-05-08 | 2008-03-25 | Planarizing sheet and process for preparation of color filter using the same |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4909166B2 (en) |
| KR (1) | KR100956287B1 (en) |
| CN (1) | CN101556346B (en) |
| TW (1) | TWI396631B (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5549495B2 (en) * | 2010-09-13 | 2014-07-16 | 大日本印刷株式会社 | Optical element, method for producing the same, and method for using the same |
| JP6490881B1 (en) * | 2017-10-27 | 2019-03-27 | 日本碍子株式会社 | Process for producing oriented ceramic sintered body and flat sheet |
| CN113467143B (en) * | 2021-06-25 | 2022-05-06 | 惠科股份有限公司 | Array substrate manufacturing method, array substrate and display panel |
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| JPH08234013A (en) * | 1995-02-27 | 1996-09-13 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Production of color filter |
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| JP4019627B2 (en) * | 2000-11-14 | 2007-12-12 | セイコーエプソン株式会社 | COLOR FILTER SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURING METHOD, COLOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD |
| JP3668439B2 (en) * | 2001-06-14 | 2005-07-06 | ソニーケミカル株式会社 | Adhesive film |
| JP2003015536A (en) * | 2001-07-04 | 2003-01-17 | Mitsui Chemicals Inc | Filter for display and display element using the same |
| TWI233499B (en) * | 2003-06-16 | 2005-06-01 | Polyoptocom Corp | An innovative fabrication method for color filter |
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-
2007
- 2007-05-08 JP JP2007123366A patent/JP4909166B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-03-03 TW TW097107318A patent/TWI396631B/en not_active IP Right Cessation
- 2008-03-25 KR KR1020080027417A patent/KR100956287B1/en not_active IP Right Cessation
- 2008-04-11 CN CN2008100875667A patent/CN101556346B/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI396631B (en) | 2013-05-21 |
| KR20080099127A (en) | 2008-11-12 |
| CN101556346A (en) | 2009-10-14 |
| CN101556346B (en) | 2011-05-04 |
| JP4909166B2 (en) | 2012-04-04 |
| JP2008281618A (en) | 2008-11-20 |
| TW200846196A (en) | 2008-12-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
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