KR100954328B1 - Liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 광경화형 시일재를 이용하여 공정 시간을 단축시키고 시일재에 의해 액정이 오염됨을 방지할 수 있으며, 시일재의 경화를 용이하게 하고 패널 크기를 감소시킬 수 있는 액정표시장치 및 제조 방법에 관한 것으로, 액티브 영역과 상기 액티브 영역을 둘러싸는 더미 영역으로 구분되어 서로 마주보는 제 1, 제 2 기판; 상기 제 2 기판의 더미 영역에 형성되며 양측 외주면에 그 외주면을 따라서 형성되는 요부 패턴을 갖는 블랙매트릭스층; 상기 요부 패턴과 중첩되며 상기 블랙매트릭스층을 둘러싸도록 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성되어 상기 제 1, 제 2 기판을 합착하는 시일재; 상기 시일재에 의해 합착된 제 1, 제 2 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하며, 상기 요부 패턴의 깊이는 상기 시일재의 폭보다 낮거나 동일하게 형성되는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a liquid crystal display and a manufacturing method which can shorten the process time by using the photocurable sealing material and prevent the liquid crystal from being contaminated by the sealing material, and facilitate the curing of the sealing material and reduce the panel size. First and second substrates divided into an active region and a dummy region surrounding the active region and facing each other; A black matrix layer formed in the dummy region of the second substrate and having recess portions formed on both outer peripheral surfaces thereof along the outer peripheral surfaces thereof; A sealing material overlapping the recessed portion pattern and formed between the first and second substrates to surround the black matrix layer to bond the first and second substrates together; And a liquid crystal layer formed between the first and second substrates bonded by the seal member, wherein the recess pattern has a depth smaller than or equal to the width of the seal member.

액정표시장치, 액정 적하 방식, 광 경화형 시일재Liquid crystal display device, liquid crystal dropping method, light curing type sealing material

Description

액정표시장치 및 제조 방법{Liquid crystal display device and method for manufacturing the same}Liquid crystal display device and method for manufacturing the same

도 1은 종래 기술에 의한 액정표시장치의 평면도1 is a plan view of a conventional liquid crystal display device

도 2a 내지 도 2d는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ'선상에 따른 종래 기술에 의한 액정표시장치의 제조 공정 단면도이다. 2A to 2D are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device according to the prior art along the line II ′ of FIG. 1.

도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정 적하 방법을 이용한 액정표시장치의 평면도3 is a plan view of a liquid crystal display using the liquid crystal dropping method according to the first embodiment of the present invention.

도 4a 내지 도 4e는 도 3의 Ⅱ-Ⅱ'선상의 액정 적하 방법을 이용한 액정표시장치의 제조 공정 단면도4A to 4E are cross-sectional views of a manufacturing process of the liquid crystal display device using the liquid crystal dropping method along the II-II 'line of FIG.

도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정 적하 방법을 이용한 액정표시장치의 평면도5 is a plan view of a liquid crystal display using the liquid crystal dropping method according to the second embodiment of the present invention.

도 6은 도 5의 Ⅲ-Ⅲ'선상의 액정 적하 방법을 이용한 액정표시장치의 단면도FIG. 6 is a cross-sectional view of a liquid crystal display using the liquid crystal dropping method on the III-III 'line of FIG.

도 7a 내지 도 7e는 도 5의 Ⅳ-Ⅳ'선상의 액정 적하 방법을 이용한 액정표시장치의 제조 공정 단면도7A to 7E are cross-sectional views of a manufacturing process of a liquid crystal display using the liquid crystal dropping method along the line IV-IV 'of FIG. 5.

도 8은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 액정 적하 방법을 이용한 액정표시장치의 평면도 8 is a plan view of a liquid crystal display using the liquid crystal dropping method according to the third embodiment of the present invention.                 

도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for the main parts of the drawings

300 : 제 1 기판 310 : UV 및 열경화형 시일재300: first substrate 310: UV and thermosetting sealing material

320 : 액티브 영역 330 : 블랙매트릭스층320: active area 330: black matrix layer

340 : 금속 패턴 350 : 제 2 기판340: metal pattern 350: second substrate

본 발명은 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로, 특히 UV 경화형 시일재를 이용하여 기판을 합착하는 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, in which a substrate is bonded using a UV curable sealing material.

정보화 사회가 발전함에 따라 표시장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있으며, 이에 부응하여 근래에는 LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display)등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔고 일부는 이미 여러 장비에서 표시장치로 활용되고 있다.As the information society develops, the demand for display devices is increasing in various forms, and in recent years, liquid crystal display devices (LCDs), plasma display panels (PDPs), electro luminescent displays (ELDs), and vacuum fluorescent (VFD) Various flat panel display devices such as displays have been studied, and some of them are already used as display devices in various devices.

그 중에, 현재 화질이 우수하고 경량, 박형, 저소비 전력의 장점으로 인하여 이동형 화상 표시장치의 용도로 브라운관(Cathode Ray Tube)을 대체하면서 LCD가 가장 많이 사용되고 있으며, 노트북 컴퓨터의 모니터와 같은 이동형의 용도 이외에도 텔레비젼 등으로 다양하게 개발되고 있다.Among them, LCD is the most widely used to replace the cathode ray tube as a mobile image display device because of the excellent image quality, light weight, thinness, and low power consumption, and mobile type such as a notebook computer monitor. In addition, it is being developed in various ways such as TV.

이와 같이 액정표시장치가 여러 분야에서 화면 표시장치로서의 역할을 하기 위해 여러 가지 기술적인 발전이 이루어 졌음에도 불구하고 화면 표시장치로서 화 상의 품질을 높이는 작업은 상기 장점과 배치되는 면이 많이 있다. 따라서, 액정표시장치가 일반적인 화면 표시장치로서 다양한 부분에 사용되기 위해서는 경량, 박형, 저 소비전력의 특징을 유지하면서도 고정세, 고휘도, 대면적 등 고 품위 화상을 얼마나 구현할 수 있는가에 발전의 관건이 걸려 있다고 할 수 있다.As described above, although various technical advances have been made in order for the liquid crystal display device to serve as a screen display device in various fields, the task of improving the image quality as the screen display device has many advantages and arrangements. Therefore, in order to use a liquid crystal display device in various parts as a general screen display device, the key to development is how much high definition images such as high definition, high brightness, and large area can be realized while maintaining the characteristics of light weight, thinness, and low power consumption. It can be said.

이와 같은 액정표시장치는, 화상을 표시하는 액정패널과 상기 액정 패널에 구동신호를 인가하기 위한 구동부로 크게 구분될 수 있으며, 상기 액정패널은 일정 공간을 갖고 합착된 제 1, 제 2 유리 기판과, 상기 제 1, 제 2 유리 기판 사이에 형성된 액정층으로 구성된다. Such a liquid crystal display device may be broadly divided into a liquid crystal panel displaying an image and a driving unit for applying a driving signal to the liquid crystal panel, wherein the liquid crystal panel includes first and second glass substrates bonded to each other with a predetermined space. And a liquid crystal layer formed between the first and second glass substrates.

여기서, 상기 제 1 유리 기판(TFT 기판)에는, 일정 간격을 갖고 일 방향으로 배열되는 복수개의 게이트 라인과, 상기 각 게이트 라인과 수직한 방향으로 일정한 간격으로 배열되는 복수개의 데이터 라인과, 상기 각 게이트 라인과 데이터 라인이 교차되어 정의된 각 화소영역에 매트릭스 형태로 형성되는 복수개의 화소 전극과 상기 게이트 라인의 신호에 의해 스위칭되어 상기 데이터 라인의 신호를 상기 각 화소 전극에 전달하는 복수개의 박막 트랜지스터가 형성된다.Here, the first glass substrate (TFT substrate) includes a plurality of gate lines arranged in one direction at a predetermined interval, a plurality of data lines arranged at regular intervals in a direction perpendicular to the respective gate lines, and the respective angles. A plurality of thin film transistors which are switched by a plurality of pixel electrodes formed in a matrix form in each pixel region defined by crossing gate lines and data lines and signals of the gate lines to transfer the signals of the data lines to the pixel electrodes. Is formed.

그리고 제 2 유리 기판(C/F 기판)에는, 상기 화소 영역을 제외한 부분의 빛을 차단하기 위한 블랙매트릭스층과, 칼라 색상을 표현하기 위한 칼라 필터층과 화상을 구현하기 위한 공통 전극이 형성된다.The second glass substrate (C / F substrate) is provided with a black matrix layer for blocking light in portions other than the pixel region, a color filter layer for expressing color colors, and a common electrode for implementing an image.

이와 같이 형성된 제 1, 제 2 기판 사이에 액정층을 형성하는데 액정층의 형성 방법에 따라 진공 주입식과 액정 적하식으로 구분된다. A liquid crystal layer is formed between the first and second substrates formed as described above, and is classified into a vacuum injection method and a liquid crystal dropping method according to the method of forming the liquid crystal layer.

즉, 액정 주입식은 상기와 같은 제 1 또는 제 2 기판에 액정 주입구를 갖도 록 시일재(sealant)를 도포하여 상기 제 1, 제 2 기판을 일정 공간을 갖도록 합착한 다음, 진공 장비내에서 합착된 기판을 진공시키고 상기 액정 주입구를 액정액에 담가 액정이 주입되도록 하는 방법이다. 그러나, 이와 같은 액정 주입 방식은 액정을 주입하는 시간이 많이 소요되고 특히 큰 사이즈의 액정표시장치를 제조할 경우 그 시간이 더 많이 소요되며 액정 주입이 제대로 이루어지지 않은 경우가 발생한다.That is, in the liquid crystal injection type, a sealant is applied to the first or second substrate as described above to have a liquid crystal injection hole, and the first and second substrates are bonded to have a predetermined space, and then bonded in a vacuum apparatus. The substrate is vacuumed and the liquid crystal injection hole is immersed in the liquid crystal liquid to inject the liquid crystal. However, such a liquid crystal injection method takes a lot of time to inject the liquid crystal, especially when manufacturing a large size liquid crystal display device takes more time and the liquid crystal injection is not made properly.

이와 같은 종래 액정표시장치 및 그 제조 방법을 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Such a conventional liquid crystal display and a method of manufacturing the same will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래의 액정 주입 방식을 이용한 액정표시장치의 평면도이고, 도 2a 내지 도 2d는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ'선상에 따른 종래 기술에 의한 액정표시장치의 제조 공정도이다.1 is a plan view of a liquid crystal display device using a conventional liquid crystal injection method, and FIGS. 2A to 2D are manufacturing process diagrams of a liquid crystal display device according to the prior art along the line II ′ of FIG. 1.

도 1에서, 액티브 영역에 게이트 라인, 데이터 라인, 박막트랜지스터 및 화소전극을 구비한 박막트랜지스터 어레이가 형성되고 전면에 스페이서가 산포된 제 1 기판(100)과, 액티브 영역(120)에 블랙매트릭스층, 칼라필터 및 공통전극 등을 구비한 칼라필터 어레이가 형성되고 상기 액티브 영역(120) 외곽에 열경화형 시일재(110)가 도포된 제 2 기판(150)을 준비한다.In FIG. 1, a thin film transistor array including a gate line, a data line, a thin film transistor, and a pixel electrode is formed in an active region, a spacer is disposed on a front surface thereof, and a black matrix layer is formed in an active region 120. A color filter array including a color filter, a common electrode, and the like is formed, and a second substrate 150 having a thermosetting sealing material 110 coated on the outer portion of the active region 120 is prepared.

그리고, 상기 열경화형 시일재(110)가 도포된 부분이 하 방향을 향하도록 하여 상기 제 2 기판(150)을 상기 제 1 기판(100)위에 위치시켜 상기 두 기판을 가압하여 합착한 다음, 열을 가하여 열경화형 시일재(110)를 경화시킨다. 이 때 상기 열경화형 시일재(110)는 액정을 주입하기 위한 주입구(111)가 형성되도록 도포된 다. 이 상태를 도 1에 도시하였다.Then, the second substrate 150 is placed on the first substrate 100 so that the portion coated with the thermosetting seal member 110 faces downward, and presses the two substrates together, and then heat The hardening of the thermosetting sealing material 110 is added by adding a. At this time, the thermosetting sealing material 110 is applied to form an injection hole 111 for injecting liquid crystal. This state is shown in FIG.

도 1에서는 하나의 단위 패널을 나타내었지만, 유리 기판에 복수개의 패널을 동시에 합착하고 열경화형 시일재(110)를 경화시킨 다음, 각 단위 패널별로 절단한 후 각 패널별로 액정을 진공 주입한다. Although one unit panel is illustrated in FIG. 1, a plurality of panels are simultaneously bonded to a glass substrate, and the thermosetting seal member 110 is cured, and then the liquid crystals are vacuum-injected for each panel after cutting each unit panel.

이와 같은 종래의 액정표시장치의 제조 방법을 도 2를 참조하여 설명하면 다음과 같다.Referring to FIG. 2, a conventional method for manufacturing such a liquid crystal display is described as follows.

도 2a와 같이, 액티브 영역(Active Area, 120)이 정의되어 액티브 영역에 복수개의 게이트 라인(도면에는 도시되지 않음), 데이터 라인(도면에는 도시되지 않음), 화소 전극(도면에는 도시되지 않음) 및 박막트랜지스터(도면에는 도시되지 않음)를 구비한 박막트랜지스터 어레이가 형성되고, 액티브 영역 주변의 일측에 공통 라인 등의 금속 패턴(140)이 형성된 제 1 기판(100) 상부에 제 1 배향막(101)을 형성한다. As shown in FIG. 2A, an active area 120 is defined to define a plurality of gate lines (not shown), data lines (not shown), and pixel electrodes (not shown) in the active area. And a thin film transistor array including a thin film transistor (not shown), and a first alignment layer 101 formed on the first substrate 100 on which metal patterns 140, such as a common line, are formed at one side around the active area. ).

그리고, 액티브 영역(120)에 블랙매트릭스(도면에는 도시되지 않음), 복수개의 칼라필터층(도면에는 도시되지 않음) 및 공통 전극(도면에는 도시되지 않음)이 형성되고 액티브 영역 주변에 블랙매트릭스층(130)이 형성된 제 2 기판(150) 상부에 제 2 배향막(151)을 형성한다.A black matrix (not shown), a plurality of color filter layers (not shown) and a common electrode (not shown) are formed in the active region 120, and a black matrix layer is formed around the active region. The second alignment layer 151 is formed on the second substrate 150 on which the 130 is formed.

도 2b와 같이, 상기 제 1 배향막(101) 상에 스페이서(102)를 산포하고, 제 2배향막(151)상의 액티브 영역(120) 외곽에 열경화형 시일재(110)를 도포한다. As shown in FIG. 2B, the spacer 102 is dispersed on the first alignment layer 101, and the thermosetting sealing material 110 is coated on the outside of the active region 120 on the second alignment layer 151.

도 2c와 같이, 상기 열경화형 시일재(110)가 도포된 부분이 하 방향을 향하도록 하여 상기 제 2 기판(150)을 제 1 기판(100)상에 위치시켜 상기 제 1, 제 2 기판(100, 150)을 합착하고, 상기 열경화형 시일재(110)을 경화시킨다. 이 때, 상기 열경화형 시일재(110)는 기존의 합착 장비인 핫 프레스(Hot Press, 170)에서 140℃, 1시간 동안 열경화된다. As shown in FIG. 2C, the second substrate 150 is positioned on the first substrate 100 so that the portion coated with the thermosetting seal member 110 faces downward, and thus the first and second substrates ( 100 and 150 are bonded together to cure the thermosetting sealing material 110. At this time, the thermosetting sealing material 110 is thermally cured at 140 ℃, 1 hour in a hot press (Hot Press, 170) of the conventional bonding equipment.

그리고, 도면에는 도시되지 않았지만. 각 단위 패널별로 절단 공정을 수행한 후, 각 단위 패널에, 도 2d와 같이, 상기 액정 주입구(111)를 통해 액정(103a)을 진공 주입한다. 이 때, 액정 주입은 챔버내에서 LCD 패널의 내부와 외부와의 압력 차이를 이용하는 진공 주입법을 사용한다. 상기 액정 주입을 위한 액정 주입구는 액정 주입이 완료된 후 봉지된다(End Seal). And although not shown in the drawing. After performing a cutting process for each unit panel, the liquid crystal 103a is vacuum-injected into each unit panel through the liquid crystal injection hole 111 as shown in FIG. 2D. At this time, the liquid crystal injection uses a vacuum injection method that uses a pressure difference between the inside and the outside of the LCD panel in the chamber. The liquid crystal injection hole for the liquid crystal injection is sealed after the liquid crystal injection is completed (End Seal).

여기서, 상기 열경화형 시일재는 에폭시 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지 등이 있으며, 현재 에폭시 수지를 가장 많이 사용하고 있다.Here, the thermosetting seal material is an epoxy resin, a urethane resin, a phenol resin, and the like, and currently use the epoxy resin most frequently.

상기 에폭시 수지는 에폭시 링이 경화제인 아민, 아마이드 등에 의해 열리고, 이 열린 링이 반응 사이트가 되어 다른 에폭시 링을 연쇄적으로 열어 고분자 사슬을 만든다. 이것을 경화라고 한다. 상기 에폭시 수지는 실온에서 즉시 반응하는 상온 경화형에서 120~140℃의 열을 주면 30분에서 1시간 사이에 경화되는 열경화형이 있다. 상기 반응을 완결시키기 위해 열을 주는 방법이 많이 사용된다. 경화된 에폭시 화합물은 양 유리 기판을 잘 접착시킨다. The epoxy resin is opened by amines, amides, etc., in which an epoxy ring is a curing agent, and the open ring becomes a reaction site to chain open another epoxy ring to form a polymer chain. This is called curing. The epoxy resin is a thermosetting type that is cured in 30 minutes to 1 hour when the heat of 120 ~ 140 ℃ in the room temperature curing type that reacts immediately at room temperature. Many methods of heating are used to complete the reaction. The cured epoxy compound adheres well to both glass substrates.

그러나 이와 같은 종래의 액정 주입 방식의 액정표시장치 제조 방법에 있어서는 다음과 같은 문제점이 있었다.However, such a conventional liquid crystal display device manufacturing method of the liquid crystal display device has the following problems.

첫째, 패널의 크기가 증가함에 따라 액정 주입 시간이 너무 많이 걸리고 액 정 주입이 완전히 이루어지지 않음으로 인한 불량이 다수 발생할 수 있다.First, as the size of the panel increases, a large number of defects may occur due to too much liquid crystal injection time and incomplete liquid crystal injection.

둘째, 열경화형 시일재를 사용하므로 열 경화 시 열팽창을 초래하게 되고, 시일재가 경화되는 동안 경화되지 않은 시일재가 흘러나와 액정을 오염시키므로 얼룩이 생긴다. Second, since the heat-curable sealing material is used, thermal expansion is caused during thermal curing, and uncured sealing material flows out while the sealing material is cured to contaminate the liquid crystal, resulting in staining.

즉, 상기 열 경화형 시일재인 에폭시 수지는 완전 경화를 시키려면 250℃ 정도에서 2~3시간 가열하여야 하므로 완전 경화가 되기 전에 액티브 영역쪽으로 흘러서 액정을 오염시키고 더불어 얼룩을 만든다.That is, the epoxy resin of the heat-curable sealing material needs to be heated at about 250 ° C. for 2 to 3 hours in order to completely cure, and contaminates the liquid crystal and stains the liquid before flowing to the active region.

본 발명은 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 광경화형 시일재 (광 및 열경화형 시일재 포함)를 이용하여 공정 시간을 단축시키고 시일재에 의해 액정이 오염됨을 방지할 수 있으며, 시일재의 경화를 용이하게 하고 패널 크기를 감소시킬 수 있는 액정표시장치 및 그 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, it is possible to shorten the process time by using a photo-curable sealing material (including light and thermosetting sealing material) and to prevent the liquid crystal is contaminated by the sealing material, the seal It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same that can facilitate the curing of ash and reduce the panel size.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치는, 액티브 영역과 상기 액티브 영역을 둘러싸는 더미 영역으로 구분되어 서로 마주보는 제 1, 제 2 기판; 상기 제 2 기판의 더미 영역에 형성되며 양측 외주면에 그 외주면을 따라서 형성되는 요부 패턴을 갖는 블랙매트릭스층; 상기 요부 패턴과 중첩되며 상기 블랙매트릭스층을 둘러싸도록 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성되어 상기 제 1, 제 2 기판을 합착하는 시일재; 상기 시일재에 의해 합착된 제 1, 제 2 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하며, 상기 요부 패턴의 깊이는 상기 시일재의 폭보다 낮거나 동일하게 형성되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising: first and second substrates which are divided into an active region and a dummy region surrounding the active region and face each other; A black matrix layer formed in the dummy region of the second substrate and having recess portions formed on both outer peripheral surfaces thereof along the outer peripheral surfaces thereof; A sealing material overlapping the recessed portion pattern and formed between the first and second substrates to surround the black matrix layer to bond the first and second substrates together; And a liquid crystal layer formed between the first and second substrates bonded by the seal member, wherein the recess pattern has a depth smaller than or equal to the width of the seal member.

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상기 요부 패턴의 깊이가 상기 시일재의 폭과 동일한 경우, 상기 시일재의 일측 모서리가 상기 요부 패턴이 형성되지 않은 블랙매트릭스층의 끝단과 일치되도록 형성됨에 특징이 있다.When the depth of the recess pattern is the same as the width of the seal member, one side edge of the seal member may be formed to coincide with the end of the black matrix layer on which the recess pattern is not formed.

상기 요부 패턴의 깊이가 상기 시일재의 폭보다 낮은 경우, 상기 시일재의 일측 모서리가 상기 요부 패턴이 형성된 블랙매트릭스층의 끝단과 일치되도록 형성됨에 특징이 있다.When the depth of the recess pattern is lower than the width of the seal member, one side edge of the seal member may be formed to coincide with the end of the black matrix layer on which the recess pattern is formed.

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상기 시일재는 광 경화형 시일재임에 특징이 있다.The sealing material is characterized in that it is a photo-curable sealing material.

상기 시일재는 광 및 열경화형 시일재임에 특징이 있다.The sealing material is characterized in that it is a light and thermosetting sealing material.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치는, 액티브 영역과 상기 액티브 영역을 둘러싸는 더미 영역으로 구분되어 서로 마주보는 제 1, 제 2 기판; 외주면에 그 외주면을 따라서 형성되는 요부 패턴을 가지며 상기 제 1 기판의 더미 영역에 형성되는 금속 패턴; 상기 요부 패턴과 중첩되며 상기 금속 패턴을 둘러싸도록 형성되도록 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성되어 상기 제 1, 제 2 기판을 합착하는 시일재; 상기 시일재에 의해 합착된 제 1, 제 2 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하며, 상기 요부 패턴의 깊이는 상기 시일재의 폭보다 낮거나 동일하게 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the liquid crystal display according to the present invention for achieving the above object, the first and second substrates divided into an active region and a dummy region surrounding the active region facing each other; A metal pattern having a recess pattern formed along the outer circumferential surface of the outer circumferential surface and formed in a dummy region of the first substrate; A seal member formed between the first and second substrates so as to overlap the recessed part pattern and surround the metal pattern to bond the first and second substrates; And a liquid crystal layer formed between the first and second substrates bonded by the seal member, wherein the recess pattern has a depth smaller than or equal to the width of the seal member.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조 방법은, 제 1 기판을 준비하는 단계; 양측 외주면에 그 외주면을 따라서 형성되는 복수개의 요부 패턴을 갖는 블랙매트릭스층을 제 2 기판의 더미 영역에 형성하는 단계; 상기 요부 패턴에 중첩되며 상기 블랙매트릭스층을 둘러싸도록 상기 블랙매트릭스층위에 광 경화형 시일재를 도포하는 단계; 상기 제 1, 제 2 기판을 합착하는 단계; 그리고 상기 광 경화형 시일재에 광을 조사하여 상기 시일재를 경화시키는 단계를 포함하며, 상기 요부 패턴의 깊이는 상기 시일재의 폭보다 낮거나 동일하게 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present invention for achieving the above object comprises the steps of preparing a first substrate; Forming a black matrix layer having a plurality of recess patterns formed on both sides of the outer circumferential surface along the outer circumferential surface in a dummy region of the second substrate; Applying a photocurable sealing material on the black matrix layer so as to overlap the recessed pattern and surround the black matrix layer; Bonding the first and second substrates together; And curing the seal material by irradiating light to the photocurable seal material, wherein the depth of the recess pattern is formed to be lower than or equal to the width of the seal material.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조 방법은, 외주면에 그 외주면을 따라서 형성되는 복수개의 요부 패턴을 갖는 금속 패턴을 제 1 기판의 더미 영역에 형성하는 단계; 상기 요부 패턴에 중첩되며 상기 금속 패턴을 둘러싸도록 상기 제 1 기판에 광 경화형 시일재를 도포하는 단계; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판에 액정을 적하하는 단계; 상기 액정이 적하되지 않은 제 1 기판 또는 제 2 기판을 상측에 위치시켜 상기 제 1, 제 2 기판을 합착하는 단계; 그리고 상기 광 경화형 시일재에 광을 조사하여 상기 시일재를 경화시키는 단계를 포함하며, 상기 요부 패턴의 깊이는 상기 시일재의 폭보다 낮거나 동일하게 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present invention for achieving the above object comprises the steps of: forming a metal pattern on the outer peripheral surface having a plurality of recess pattern formed along the outer peripheral surface in the dummy region of the first substrate; Applying a photocurable sealing material to the first substrate so as to overlap the recessed pattern and surround the metal pattern; Dropping liquid crystal onto the first substrate or the second substrate; Bonding the first and second substrates to each other by placing the first or second substrate on which the liquid crystal is not dropped; And curing the seal material by irradiating light to the photocurable seal material, wherein the depth of the recess pattern is formed to be lower than or equal to the width of the seal material.

이와 같은 특징을 갖는 본 발명에 따른 액정표시장치 및 그 제조 방법을 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.A liquid crystal display and a manufacturing method thereof according to the present invention having such a feature will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 대면적의 기판에 액정패널을 형성하거나, 액정표시장치가 대화면으로 감에 따라 액정 형성 시간을 단축하기 위하여 액정을 양 기판 합착후 진공 주입하는 방법이 아닌 액정을 적하한 후 합착하는 방법이 필요하고, 이 액정 적하 방법에서는 경화 시간을 줄이고 열팽창을 줄이기 위하여 시일재로 UV 및 열경화형 시일재를 사용함이 고려되어야 한다.First, a liquid crystal panel is formed on a large-area substrate, or a liquid crystal panel is dropped and bonded instead of vacuum injecting liquid crystals after bonding the two substrates in order to shorten the liquid crystal formation time as the liquid crystal display device moves to a large screen. In this liquid crystal dropping method, consideration should be given to using UV and thermosetting sealing materials as sealing materials to reduce curing time and reduce thermal expansion.

또한, 시일재가 광에 의해 경화되려면 시일재가 노출되어야 한다. 따라서, 본 발명은 시일재가 광에 의해 노출되도록 칼라필터 어레이 기판 또는 박막트랜지스터 어레이 기판을 형성한 것이다. In addition, the sealing material must be exposed in order for the sealing material to be cured by light. Therefore, the present invention is to form a color filter array substrate or a thin film transistor array substrate so that the sealing material is exposed by light.

도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정 적하 방법을 이용한 액정표시장치의 평면도이고, 도 4a 내지 도 4e는 도 3의 Ⅱ-Ⅱ'선상의 액정 적하 방법을 이용 한 액정표시장치의 제조 공정 단면도이다.3 is a plan view of a liquid crystal display device using the liquid crystal dropping method according to the first embodiment of the present invention, Figures 4a to 4e is a manufacturing of the liquid crystal display device using the liquid crystal dropping method on the line II-II 'of FIG. It is a process cross section.

본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정 적하 방법을 이용한 액정표시장치는, 도 3과 같이 액티브 영역(320)에 칼라필터 어레이가 형성되고 액티브 영역(320) 주변에 블랙매트릭스층(330)이 형성된 제 2 기판(350)에 UV 및 열경화형 시일재(310)를 도포한다.In the liquid crystal display using the liquid crystal dropping method according to the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. 3, a color filter array is formed in the active region 320 and a black matrix layer 330 is formed around the active region 320. UV and thermosetting sealing material 310 is applied to the second substrate 350.

이 때, 상기 블랙매트릭스층(330) 외곽에 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)가 상기 블랙매트릭스층(330)을 둘러싸도록 형성한다. 그 이유는 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)에 UV가 조사될 수 있도록 하기 위한 것이다. In this case, the UV and thermosetting sealing material 310 is formed outside the black matrix layer 330 to surround the black matrix layer 330. The reason is to allow UV to be irradiated to the UV and thermosetting sealing material 310.

여기서, 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)는 에폭시 아크릴레이트 수지, 우레탄 아크릴레이트 수지, 폴리에스테르 아크릴레이트등 아크릴레이트 작용기를 갖는 수지들을 말한다. 상기 에폭시 아크릴레이트는 경화되면 딱딱하고, 상기 우레탄 아크릴레이트는 경화되면 부드럽다. 상기 UV 경화제는 자외선을 조사 받으면 활성 라디칼을 형성하고 이 라디칼이 아크릴레이트 작용기의 이중 결합과 반응하여 아크릴레이트를 라디칼화한다. 이 활성 아크릴레이트 라디칼은 다른 아크릴레이트의 이중 결합과 반응하여 고분자화하고 이것을 광경화라고 한다. Here, the UV and thermosetting sealing material 310 refers to resins having acrylate functional groups such as epoxy acrylate resin, urethane acrylate resin, polyester acrylate and the like. The epoxy acrylate is hard when cured, and the urethane acrylate is soft when cured. The UV curing agent forms active radicals when irradiated with ultraviolet rays, which radicals react with the double bonds of the acrylate functional groups to radicalize the acrylates. This active acrylate radical reacts with the double bonds of other acrylates to polymerize and is called photocuring.

이와 같은 구조를 갖도록 형성된 본 발명의 제 1 실시예의 액정표시장치 제조 방법을 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다. The liquid crystal display device manufacturing method of the first embodiment of the present invention formed to have such a structure will be described in detail as follows.

도 4a와 같이, 액티브 영역(Active Area, 320)에 복수개의 게이트 라인(도면에는 도시되지 않음), 데이터 라인(도면에는 도시되지 않음), 화소 전극(도면에는 도시되지 않음) 및 박막트랜지스터(도면에는 도시되지 않음)를 구비한 박막트랜지스터 어레이가 형성되고, 액티브 영역 주변의 일측에 공통 라인 등의 금속 패턴(340)이 형성된 제 1 기판(300) 상부에 제 1 배향막(301)을 형성한다. As shown in FIG. 4A, a plurality of gate lines (not shown), data lines (not shown), pixel electrodes (not shown), and thin film transistors (not shown) are disposed in an active area 320. (Not shown) is formed, and a first alignment layer 301 is formed on the first substrate 300 on which a metal pattern 340 such as a common line is formed on one side of the active area.

그리고, 액티브 영역(320)에 블랙매트릭스(도면에는 도시되지 않음), 복수개의 칼라필터층(도면에는 도시되지 않음) 및 공통 전극(도면에는 도시되지 않음)이 형성되고 액티브 영역 주변에 블랙매트릭스층(330)이 형성된 제 2 기판(350) 상부에 제 2 배향막(351)을 형성한다. In addition, a black matrix (not shown), a plurality of color filter layers (not shown) and a common electrode (not shown) are formed in the active region 320, and a black matrix layer is formed around the active region. The second alignment layer 351 is formed on the second substrate 350 on which the 330 is formed.

이 때, 상기 제 1 배향막(301) 상부에 고착형 스페이서를 산포하거나, 상기 제 2 배향막(351) 형성전에 상기 제 2 기판(350)상에 칼럼 스페이서(도면에는 도시되지 않음)를 형성하고 상기 칼럼 스페이서를 포함한 기판 전면에 제 2 배향막(351)을 형성한다. In this case, a fixed spacer may be dispersed on the first alignment layer 301, or a column spacer (not shown) may be formed on the second substrate 350 before the second alignment layer 351 is formed. The second alignment layer 351 is formed on the entire surface of the substrate including the column spacer.

도 4b와 같이, 상기 제 1 배향막(301) 상부의 액티브 영역(320)에 액정(303)을 적하한다. 여기서, 액정 적하는 액정 디스펜서(dispenser)을 이용하여 액티브 영역(320)에 해당 패널의 사이즈에 적당한 양의 액정을 적하하는 것이다.As shown in FIG. 4B, the liquid crystal 303 is dropped into the active region 320 on the first alignment layer 301. Here, the liquid crystal dropping is a drop of an amount of liquid crystal suitable for the size of the panel to the active region 320 using a liquid crystal dispenser.

그리고 상기 제 2 배향막(351) 상부의 블랙매트릭스층(330) 외곽에 UV 및 열경화형 시일재(310)를 도포한다. 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)는 상기 블랙매트릭스층(330)의 외곽에 최소한 상기 블랙매트릭스층(330)을 둘러싸도록 하여 UV가 상기 시일재에 조사되도록 도포한다. The UV and thermosetting sealing material 310 is coated on the outer side of the black matrix layer 330 on the second alignment layer 351. The UV and thermosetting sealing material 310 is coated so that UV is irradiated onto the sealing material by enclosing at least the black matrix layer 330 at the periphery of the black matrix layer 330.

도 4c와 같이, 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)가 하 방향을 향하도록 상기 제 2 기판(C/F 기판, 350)을 반전시켜, 상기 제 2 기판(350)을 상기 액정(303)이 적하된 제 1 기판(300) 상부에 위치시킨 후 서로 정렬시켜 두 기판을 합착시킨다. As shown in FIG. 4C, the second substrate (C / F substrate) 350 is inverted so that the UV and thermosetting sealing materials 310 face downward, thereby converting the second substrate 350 into the liquid crystal 303. The two substrates are bonded to each other by being positioned on the dropped first substrate 300 and aligned with each other.                     

이 때, 합착하는 방법은, 도면에는 도시되지 않았지만, 진공 챔버내에서 상기 제 1, 제 2 기판(300, 350)을 정렬시킨 후 물리적으로 일차 합착한 후, 진공 챔버를 벤트(vent)시켜 대기압 상태로 만들어 가압한다. At this time, the bonding method is not shown in the drawing, but after aligning the first and second substrates 300 and 350 in the vacuum chamber and physically primary bonding, venting the vacuum chamber to vent It is made in a state and pressurized.

도 4d와 같이, 상기 합착된 기판의 UV 및 열경화형 시일재(310)에 광을 조사하여 일차적으로 경화시켜 합착된 기판을 고정시킨다. As shown in FIG. 4D, the UV and thermosetting sealing materials 310 of the bonded substrate are irradiated with light to firstly harden the bonded substrate.

이 때, 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)를 광 경화시키는 방법은, 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)가 도포된 부분을 제외한 부분은 빛을 차광하도록 만들어진 마스크(320)와 UV 조사장치를 이용하여 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)에 광을 조사한다. At this time, the method of photocuring the UV and heat-curable sealing material 310, the mask 320 and UV irradiation made to shield the light except for the portion to which the UV and heat-curable sealing material 310 is applied The device is irradiated with light to the UV and thermosetting sealing material 310 using a device.

도 4e와 같이, 광경화된 양 기판을 열 경화로(370)에서 120℃∼140℃의 온도로 약 1시간 동안 열 경화시킨다. 이 때, 상기 적하된 액정이 합착된 두 기판 사이에 골고루 퍼지게 된다. 상기 시일재(310)로 UV 경화형 시일재를 사용할 경우는 열 경화 공정을 생략할 수 있다.As shown in FIG. 4E, both photocured substrates are thermally cured at a temperature of 120 ° C. to 140 ° C. in a thermal curing furnace 370. At this time, the dropped liquid crystal is spread evenly between the two substrates bonded. When the UV curable sealing material is used as the sealing material 310, the heat curing process may be omitted.

그러나, 상술한 바와 같은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치 및 그 제조 방법에 있어서는, UV 및 열경화형 시일재(310)를 경화시키기 위해 UV 경로를 상기 블랙매트릭스층(330) 외곽에 형성한다. 따라서, 동일 사이즈의 액정표시장치에서 액정패널의 크기가 커지게 된다.However, in the liquid crystal display device and the method of manufacturing the same according to the first embodiment of the present invention as described above, in order to cure the UV and thermosetting sealing material 310, a UV path is formed outside the black matrix layer 330. Form. Therefore, the size of the liquid crystal panel is increased in the same size liquid crystal display device.

또한, 블랙매트릭스층의 폭을 줄이고 그 부분에 UV 및 열경화형 시일재를 형성하면 액정패널의 크기를 줄일 수 있으나, 백 라이트로부터의 광을 차단해야하므로 무작정 블랙매트릭스층의 폭을 줄일 수 없다. In addition, if the width of the black matrix layer is reduced and UV and thermosetting sealing materials are formed thereon, the size of the liquid crystal panel can be reduced. However, since the light from the backlight must be blocked, the width of the black matrix layer cannot be reduced.                     

따라서, 상기 블랙매트릭스층의 외주면을 부분적으로 패터닝하여 UV를 조사할 수 있는 통로를 형성하여 액정패널의 크기를 감소시킬 수 있는 방법을 본 발명의 제 2 실시예로 다음과 같이 제안한다.Therefore, a method of reducing the size of the liquid crystal panel by forming a passage for irradiating UV by partially patterning the outer circumferential surface of the black matrix layer is proposed as a second embodiment of the present invention as follows.

도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정 적하 방법을 이용한 액정표시장치의 평면도이고, 도 6은 도 5의 Ⅲ-Ⅲ'선상의 액정 적하 방법을 이용한 액정표시장치의 단면도이며, 도 7a 내지 도 7e는 도 5의 Ⅳ-Ⅳ'선상의 액정 적하 방법을 이용한 액정표시장치의 제조 공정 단면도이다. FIG. 5 is a plan view of a liquid crystal display using the liquid crystal dropping method according to the second embodiment of the present invention. FIG. 6 is a cross-sectional view of the liquid crystal display using the liquid crystal dropping method on the line III-III ′ of FIG. 5, and FIG. 7A. 7E to 7E are cross-sectional views illustrating the manufacturing process of the liquid crystal display device using the liquid crystal dropping method along the line IV-IV ′ of FIG. 5.

본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치 제조 방법은, 도 5에 도시한 바와 같이, 더미 영역과 액티브 영역(320)으로 구분되는 제 2 기판(35)에서 액티브 영역(320)에 칼라필터 어레이가 형성되고 상기 액티브 영역 외곽의 더미 영역에 백 라이트의 광을 차단하는 블랙매트릭스층을 형성하되, 상기 블랙매트릭스층(330)의 외주면을 부분적으로 요부를 갖도록 패터닝하여 UV를 조사할 수 있는 통로를 형성한다. 이 때, 상기 요부는 시일재의 폭과 동일한 깊이로 형성하거나 폭보다 낮은 깊이로 형성한다.In the manufacturing method of the liquid crystal display according to the second exemplary embodiment of the present invention, as shown in FIG. 5, a color filter is applied to the active region 320 in the second substrate 35 divided into the dummy region and the active region 320. An array is formed and a black matrix layer is formed in the dummy region outside the active region to block the light of the backlight, and the passage for irradiating UV by patterning the outer circumferential surface of the black matrix layer 330 to have a recessed portion. To form. At this time, the recess is formed to the same depth as the width of the sealing material or to a depth lower than the width.

이 때, 상기 블랙매트릭스층(330)의 요부 패턴이 시일재의 폭과 동일한 깊이로 형성되는 경우는 요부 패턴이 형성되지 않은 블랙매트릭스층(330)의 끝단과 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)의 모서리가 일치되도록 하고, 상기 블랙매트릭스층(330)의 요부 패턴이 시일재의 폭보다 낮은 깊이로 형성되는 경우는 요부 패턴이 형성되지 않은 블랙매트릭스층(330)의 끝단보다 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)가 더 외곽에 형성되도록 한다. At this time, when the recess pattern of the black matrix layer 330 is formed to the same depth as the width of the seal member, the end of the black matrix layer 330 on which the recess pattern is not formed and the UV and thermosetting seal member 310 are formed. When the edges of the black matrix layer 330 are formed to have a recess pattern having a depth lower than the width of the sealing member, the UV and thermosetting seals are formed at the ends of the black matrix layer 330 where the recess pattern is not formed. The ash 310 is further formed outside.                     

마찬가지로, 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)는 에폭시 아크릴레이트 수지, 우레탄 아크릴레이트 수지, 폴리에스테르 아크릴레이트등 아크릴레이트 작용기를 갖는 수지들을 사용한다. Similarly, the UV and thermosetting sealing material 310 uses resins having acrylate functional groups such as epoxy acrylate resins, urethane acrylate resins, polyester acrylates, and the like.

이와 같은 구조를 갖도록 형성된 본 발명의 제 2 실시예의 액정표시장치의 제조 방법을 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다. The manufacturing method of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention formed to have such a structure will be described in detail as follows.

도 7a와 같이, 액티브 영역(Active Area, 320)에 복수개의 게이트 라인(도면에는 도시되지 않음), 데이터 라인(도면에는 도시되지 않음), 화소 전극(도면에는 도시되지 않음) 및 박막트랜지스터(도면에는 도시되지 않음)를 구비한 박막트랜지스터 어레이가 형성되고, 액티브 영역 주변의 일측에 공통 라인 등의 금속 패턴(340)(IPS 모드에서는 형성하지 않음)이 형성된 제 1 기판(300) 상부에 제 1 배향막(301)을 형성한다. As shown in FIG. 7A, a plurality of gate lines (not shown), data lines (not shown), pixel electrodes (not shown), and thin film transistors (not shown) are formed in an active area 320. A thin film transistor array having a thin film transistor array (not shown) is formed, and a first pattern is formed on the first substrate 300 on which a metal pattern 340 (not formed in IPS mode), such as a common line, is formed on one side of the active area. An alignment film 301 is formed.

그리고, 액티브 영역(320) 및 액티브 영역 주변에 블랙매트릭스층(330)(액티브 영역 주변에만 도시됨)을 형성하고, 액티브 영역에 칼라필터층(도면에는 도시되지 않음) 및 공통 전극(도면에는 도시되지 않음)을 형성한다. 이 때, 상기 액티브 영역 주변에 형성된 블랙매트릭스층(330)은 외주면이 부분적으로 요부를 갖도록 패터닝되어 UV를 조사할 수 있는 통로가 형성되도록 한다. 이 때, 상기 요부는 시일재의 폭과 동일한 깊이로 형성하거나 폭보다 낮은 깊이로 형성한다. Then, a black matrix layer 330 (shown only around the active region) is formed around the active region 320 and the active region, and a color filter layer (not shown) and a common electrode (not shown in the figure) are formed in the active region. Not formed). At this time, the black matrix layer 330 formed around the active region is patterned such that its outer circumferential surface has a recessed portion to form a passage for irradiating UV. At this time, the recess is formed to the same depth as the width of the sealing material or to a depth lower than the width.

이와 같이 형성된 제 2 기판(350) 상부에 제 2 배향막(351)을 형성한다. The second alignment layer 351 is formed on the second substrate 350 formed as described above.

이 때, 상기 제 1 배향막(301) 상부에 고착형 스페이서를 산포하거나, 상기 제 2 기판(350)상에 칼럼 스페이서(도면에는 도시되지 않음)를 형성하고 상기 칼럼 스페이서를 포함한 기판 전면에 제 2 배향막(351)을 형성한다. In this case, a fixed spacer may be dispersed on the first alignment layer 301, or a column spacer (not shown) may be formed on the second substrate 350, and the second substrate may be formed on the entire surface of the substrate including the column spacer. An alignment film 351 is formed.

도 7b와 같이, 상기 제 1 배향막(301) 상부의 액티브 영역(320)에 액정(303)을 적하한다. 여기서, 액정 적하는 액정 디스펜서(dispenser)을 이용하여 액티브 영역(320)에 해당 패널의 사이즈에 적당한 양의 액정을 적하하는 것이다.As illustrated in FIG. 7B, the liquid crystal 303 is dropped into the active region 320 on the first alignment layer 301. Here, the liquid crystal dropping is a drop of an amount of liquid crystal suitable for the size of the panel to the active region 320 using a liquid crystal dispenser.

그리고 상기 제 2 배향막(351) 상부의 블랙매트릭스층(330) 외곽에 UV 및 열경화형 시일재(310)를 도포한다. 즉, 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)는 상기 블랙매트릭스층(330)의 끝 부분에 걸쳐 형성된다. 이 때, 상기 블랙매트릭스층(330)의 요부 패턴이 시일재의 폭과 동일한 깊이로 형성되는 경우는 요부 패턴이 형성되지 않은 블랙매트릭스층(330)의 끝단과 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)의 모서리가 일치되도록 하고, 상기 블랙매트릭스층(330)의 요부 패턴이 시일재의 폭보다 낮은 깊이로 형성되는 경우는 요부 패턴이 형성되지 않은 블랙매트릭스층(330)의 끝단보다 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)의 일측 모서리가 더 외곽에 형성되도록 한다. The UV and thermosetting sealing material 310 is coated on the outer side of the black matrix layer 330 on the second alignment layer 351. That is, the UV and thermosetting sealing material 310 is formed over the end of the black matrix layer 330. At this time, when the recess pattern of the black matrix layer 330 is formed to the same depth as the width of the seal member, the end of the black matrix layer 330 on which the recess pattern is not formed and the UV and thermosetting seal member 310 are formed. When the edges of the black matrix layer 330 are formed to have a recess pattern having a depth lower than the width of the sealing member, the UV and thermosetting seals are formed at the ends of the black matrix layer 330 where the recess pattern is not formed. One edge of the ash 310 is further formed on the outer edge.

도 7c와 같이, 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)가 하 방향을 향하도록 상기 제 2 기판(C/F 기판, 350)을 반전시켜, 상기 제 2 기판(350)을 상기 액정(303)이 적하된 제 1 기판(300) 상부에 위치시킨 후 서로 정렬시켜 두 기판을 합착시킨다.As shown in FIG. 7C, the second substrate (C / F substrate) 350 is inverted so that the UV and thermosetting sealing materials 310 face downward, thereby converting the second substrate 350 into the liquid crystal 303. The two substrates are bonded to each other by being positioned on the dropped first substrate 300 and aligned with each other.

이 때, 합착하는 방법은, 도면에는 도시되지 않았지만, 진공 챔버내에서 상기 제 1, 제 2 기판(300, 350)을 정렬시킨 후 물리적으로 일차 합착한 후, 진공 챔버를 벤트(vent)시켜 대기압 상태로 만들어 가압한다. At this time, the bonding method is not shown in the drawing, but after aligning the first and second substrates 300 and 350 in the vacuum chamber and physically primary bonding, venting the vacuum chamber to vent It is made in a state and pressurized.

도 7d와 같이, 상기 합착된 기판의 UV 및 열경화형 시일재(310)에 광을 조사 하여 일차적으로 경화시켜 합착된 기판을 고정시킨다. As shown in FIG. 7D, the UV and thermosetting sealing materials 310 of the bonded substrate are irradiated with light to primarily cure the bonded substrate.

이 때, 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)를 경화시키는 방법은, 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)가 도포된 부분을 제외한 부분은 빛을 차광하도록 만들어진 마스크(320)와 UV 조사장치를 이용하여 상기 UV 및 열경화형 시일재(310)에 광을 조사한다. At this time, the method of curing the UV and thermosetting sealing material 310, the mask 320 and the UV irradiating device is made to shield the light except for the portion coated with the UV and thermosetting sealing material 310 Irradiate light to the UV and thermosetting sealing material 310 by using.

도 7e와 같이, 광경화된 양 기판을 열 경화로(370)에서 120℃∼140℃의 온도로 약 1시간 동안 열 경화시킨다. 이 때, 상기 적하된 액정이 합착된 두 기판 사이에 골고루 퍼지게 된다. 상기 시일재(310)로 UV 경화형 시일재를 사용한 경우 열 경화 공정을 생략할 수 있다.As shown in FIG. 7E, both photocured substrates are thermally cured at a temperature of 120 ° C. to 140 ° C. in the thermal curing furnace 370. At this time, the dropped liquid crystal is spread evenly between the two substrates bonded. When the UV curable sealing material is used as the sealing material 310, the heat curing process may be omitted.

여기서, 상기 블랙매트릭스층의 외곽부에 요부 패턴을 형성하는 방법을 제 1 기판에 형성된 금속 전극(공통 전극)(340)에 그대로 적용할 수 있다.Here, the method of forming the recess pattern on the outer portion of the black matrix layer may be applied to the metal electrode (common electrode) 340 formed on the first substrate as it is.

즉, 도 8은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 액정 적하 방법을 이용한 액정표시장치의 평면도로서, 상기 제 1 기판(300)의 액티브 영역 주변의 일측에 공통 라인 등의 금속 패턴(340) 형성하되, 상기 금속 패턴(340)의 외주면이 부분적으로 요부를 갖도록 패터닝하여 UV를 조사할 수 있는 통로를 형성한다. 이 때, 상기 요부는 시일재의 폭과 동일한 깊이로 형성하거나 폭보다 낮은 깊이로 형성한다. 그리고 나머지는 도 5과 같다.That is, FIG. 8 is a plan view of a liquid crystal display device using the liquid crystal dropping method according to the third embodiment of the present invention, in which metal patterns 340 such as common lines are formed on one side of the first substrate 300 around the active area. However, the outer circumferential surface of the metal pattern 340 is patterned to have a recessed portion to form a passage for irradiating UV. At this time, the recess is formed to the same depth as the width of the sealing material or to a depth lower than the width. And the rest is shown in FIG.

또한, 이와 같이 블랙매트릭스층(330) 또는 금속 패턴(340)에 요부 패턴을 형성하는 방법은 액정주입 방식의 액정표시장치 제조 방법에서도 UV 및 열경화형 시일재를 이용할 경우 적용할 수 있다.In addition, the method of forming the recess pattern on the black matrix layer 330 or the metal pattern 340 may be applied to the method of manufacturing a liquid crystal display device using a liquid crystal injection method when using UV and thermosetting sealing materials.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명에 따른 액정표시장치의 제조방법에 있어서는 다음과 같은 효과가 있다.The manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present invention as described above has the following effects.

첫째, 칼라필터 어레이 기판의 더미 영역 또는 박막트랜지스터 어레이 기판의 더미 영역에 형성되는 블랙매트릭스층 또는 금속 패턴의 외곽부에 요부 패턴을 형성하여 UV 조사 통로를 만들기 때문에 UV 및 열경화형 시일재를 사용할 시, 빠른 시간내에 경화가 이루어짐에 따라 시일재에 의해 액정이 오염되어 나타나는 얼룩을 방지할 수 있다.First, when UV and thermosetting sealing materials are used, a UV irradiation path is formed by forming a recessed pattern in an outer portion of a black matrix layer or a metal pattern formed in a dummy region of a color filter array substrate or a dummy region of a thin film transistor array substrate. As the curing is performed in a short time, it is possible to prevent stains caused by contamination of the liquid crystal by the sealing material.

둘째, 상기와 같이 블랙매트릭스층 또는 금속 패턴의 외곽부에 요부 패턴을 형성하여 UV 조사 통로를 형성하므로 액정 마진 영역을 줄여 패널의 크기를 축소시킬 수 있다. Second, as described above, since the recess pattern is formed on the outer portion of the black matrix layer or the metal pattern to form a UV irradiation path, the size of the panel can be reduced by reducing the liquid crystal margin area.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술 사상을 이탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

따라서, 본 발명의 기술적 범위는 실시예에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의하여 정해져야 한다.Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the embodiments, but should be defined by the claims.

Claims (19)

액티브 영역과 상기 액티브 영역을 둘러싸는 더미 영역으로 구분되어 서로 마주보는 제 1, 제 2 기판;First and second substrates which are divided into an active region and a dummy region surrounding the active region and face each other; 상기 제 2 기판의 더미 영역에 형성되며 양측 외주면에 그 외주면을 따라서 형성되는 요부 패턴을 갖는 블랙매트릭스층;A black matrix layer formed in the dummy region of the second substrate and having recess portions formed on both outer peripheral surfaces thereof along the outer peripheral surfaces thereof; 상기 요부 패턴과 중첩되며 상기 블랙매트릭스층을 둘러싸도록 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성되어 상기 제 1, 제 2 기판을 합착하는 시일재;A sealing material overlapping the recessed portion pattern and formed between the first and second substrates to surround the black matrix layer to bond the first and second substrates together; 상기 시일재에 의해 합착된 제 1, 제 2 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하며,A liquid crystal layer formed between the first and second substrates bonded by the sealing material, 상기 요부 패턴의 깊이는 상기 시일재의 폭보다 낮거나 동일하게 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.And the depth of the recess pattern is lower than or equal to the width of the seal member. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 요부 패턴의 깊이가 상기 시일재의 폭과 동일한 경우, 상기 시일재의 일측 모서리가 상기 요부 패턴이 형성되지 않은 블랙매트릭스층의 끝단과 일치되도록 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치.And when the depth of the recess pattern is equal to the width of the seal member, one edge of the seal member is formed to coincide with an end of the black matrix layer on which the recess pattern is not formed. 삭제delete 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 요부 패턴의 깊이가 상기 시일재의 폭보다 낮게 형성되는 경우, 상기 시일재의 일측 모서리가 상기 요부 패턴이 형성된 블랙매트릭스층의 끝단과 일치되도록 형성됨을 특징으로 하는 액정표시장치.And when the depth of the recess pattern is lower than the width of the seal member, one edge of the seal member is formed to coincide with an end of the black matrix layer on which the recess pattern is formed. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 시일재는 광 경화형 시일재임을 특징으로 하는 액정표시장치.And the sealing material is a photocurable sealing material. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 시일재는 광 및 열경화형 시일재임을 특징으로 하는 액정표시장치.And the sealing material is a light and thermosetting sealing material. 액티브 영역과 상기 액티브 영역을 둘러싸는 더미 영역으로 구분되어 서로 마주보는 제 1, 제 2 기판;First and second substrates which are divided into an active region and a dummy region surrounding the active region and face each other; 외주면에 그 외주면을 따라서 형성되는 요부 패턴을 가지며 상기 제 1 기판의 더미 영역에 형성되는 금속 패턴;A metal pattern having a recess pattern formed along the outer circumferential surface of the outer circumferential surface and formed in a dummy region of the first substrate; 상기 요부 패턴과 중첩되며 상기 금속 패턴을 둘러싸도록 형성되도록 상기 제 1, 제 2 기판 사이에 형성되어 상기 제 1, 제 2 기판을 합착하는 시일재;A seal member formed between the first and second substrates so as to overlap the recessed part pattern and surround the metal pattern to bond the first and second substrates; 상기 시일재에 의해 합착된 제 1, 제 2 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하며,A liquid crystal layer formed between the first and second substrates bonded by the sealing material, 상기 요부 패턴의 깊이는 상기 시일재의 폭보다 낮거나 동일하게 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.And the depth of the recess pattern is lower than or equal to the width of the seal member. 제 1 기판을 준비하는 단계;Preparing a first substrate; 양측 외주면에 그 외주면을 따라서 형성되는 복수개의 요부 패턴을 갖는 블랙매트릭스층을 제 2 기판의 더미 영역에 형성하는 단계;Forming a black matrix layer having a plurality of recess patterns formed on both sides of the outer circumferential surface along the outer circumferential surface in a dummy region of the second substrate; 상기 요부 패턴에 중첩되며 상기 블랙매트릭스층을 둘러싸도록 상기 블랙매트릭스층위에 광 경화형 시일재를 도포하는 단계;Applying a photocurable sealing material on the black matrix layer so as to overlap the recessed pattern and surround the black matrix layer; 상기 제 1, 제 2 기판을 합착하는 단계; 그리고Bonding the first and second substrates together; And 상기 광 경화형 시일재에 광을 조사하여 상기 시일재를 경화시키는 단계를 포함하며,Irradiating light onto the photocurable sealing material to cure the sealing material, 상기 요부 패턴의 깊이는 상기 시일재의 폭보다 낮거나 동일하게 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.And the depth of the recess pattern is lower than or equal to the width of the sealing member. 삭제delete 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 요부 패턴의 깊이가 상기 시일재의 폭과 동일한 경우, 상기 광 경화형 시일재가 상기 블랙매트릭스층의 요부 패턴을 커버하도록 형성함을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.And when the depth of the recess pattern is equal to the width of the seal member, the photocurable seal member is formed to cover the recess pattern of the black matrix layer. 삭제delete 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 요부 패턴의 깊이가 상기 시일재의 폭보다 낮은 경우, 상기 광 경화형 시일재의 일측 모서리가 상기 요부 패턴이 형성된 블랙매트릭스층의 끝단과 일치하도록 형성함을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.And when the depth of the recess pattern is lower than the width of the seal member, one side edge of the photocurable seal member is formed to coincide with an end of the black matrix layer on which the recess pattern is formed. 제 9 항에 있어서, The method of claim 9, 상기 광 경화형 시일재는 열 경화형 시일재를 더 포함함을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.The photocurable sealing material further comprises a thermosetting sealing material. 제 14 항에 있어서, The method of claim 14, 상기 광 경화형 시일재를 광 경화한 후 상기 시일재에 열을 가하여 시일재를 경화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.And curing the sealing material by applying heat to the sealing material after photocuring the photocurable sealing material. 제 9 항에 있어서, The method of claim 9, 상기 광 경화형 시일재를 경화하는 단계는 상기 시일재가 도포된 부분은 빛을 투과하고 나머지 부분은 차광하는 마스크를 이용하여 상기 제 2 기판쪽에서 광을 조사하여 상기 시일재를 경화함을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.The curing of the photocurable sealing material may include curing the sealing material by irradiating light from the second substrate toward the second substrate by using a mask that transmits light to the part to which the sealing material is applied and shields the remaining part. Method for manufacturing a display device. 제 9 항에 있어서, The method of claim 9, 상기 제 1 기판의 액티브 영역에 액정을 적하하는 단계를 더 포함함을 특징 으로 하는 액정표시장치의 제조방법.And dropping liquid crystal into the active region of the first substrate. 제 9 항에 있어서, The method of claim 9, 상기 시일재를 경화시킨 후, 상기 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 액정을 주입하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.And after the curing of the sealing material, injecting a liquid crystal between the first substrate and the second substrate. 외주면에 그 외주면을 따라서 형성되는 복수개의 요부 패턴을 갖는 금속 패턴을 제 1 기판의 더미 영역에 형성하는 단계;Forming a metal pattern in the dummy region of the first substrate, the metal pattern having a plurality of recess patterns formed on the outer circumferential surface along the outer circumferential surface; 상기 요부 패턴에 중첩되며 상기 금속 패턴을 둘러싸도록 상기 제 1 기판에 광 경화형 시일재를 도포하는 단계;Applying a photocurable sealing material to the first substrate so as to overlap the recessed pattern and surround the metal pattern; 상기 제 1 기판 또는 제 2 기판에 액정을 적하하는 단계;Dropping liquid crystal onto the first substrate or the second substrate; 상기 액정이 적하되지 않은 제 1 기판 또는 제 2 기판을 상측에 위치시켜 상기 제 1, 제 2 기판을 합착하는 단계; 그리고Bonding the first and second substrates to each other by placing the first or second substrate on which the liquid crystal is not dropped; And 상기 광 경화형 시일재에 광을 조사하여 상기 시일재를 경화시키는 단계를 포함하며,Irradiating light onto the photocurable sealing material to cure the sealing material, 상기 요부 패턴의 깊이는 상기 시일재의 폭보다 낮거나 동일하게 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.And the depth of the recess pattern is lower than or equal to the width of the sealing member.
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