KR100941649B1 - Slope type electro polishing device - Google Patents

Slope type electro polishing device Download PDF

Info

Publication number
KR100941649B1
KR100941649B1 KR1020080022767A KR20080022767A KR100941649B1 KR 100941649 B1 KR100941649 B1 KR 100941649B1 KR 1020080022767 A KR1020080022767 A KR 1020080022767A KR 20080022767 A KR20080022767 A KR 20080022767A KR 100941649 B1 KR100941649 B1 KR 100941649B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
workpiece
electrolyte
circumferential surface
transfer
cathode
Prior art date
Application number
KR1020080022767A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20090097558A (en
Inventor
김상훈
조보연
Original Assignee
발렉스코리아 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 발렉스코리아 주식회사 filed Critical 발렉스코리아 주식회사
Priority to KR1020080022767A priority Critical patent/KR100941649B1/en
Publication of KR20090097558A publication Critical patent/KR20090097558A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100941649B1 publication Critical patent/KR100941649B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F7/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic removal of material from objects; Servicing or operating
    • C25F7/02Regeneration of process liquids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F3/00Electrolytic etching or polishing
    • C25F3/16Polishing
    • C25F3/22Polishing of heavy metals
    • C25F3/24Polishing of heavy metals of iron or steel
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25FPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F3/00Electrolytic etching or polishing
    • C25F3/16Polishing
    • C25F3/30Polishing of semiconducting materials

Abstract

관 형상의 가공물의 내주면을 연마하는 슬로프 타입 전해연마장치가 개시되어 있다. 본 발명에 따른 전해연마장치는 경사로 제공되고 상부면 상에는 수용되는 가공물의 외주면과 접촉하면서 양극의 전원을 인가하는 접지브라켓이 장착되는 가공물 수용 플레이트를 가지는 가공물 수용부; 가공물 수용 플레이트의 타측에 배치되고 전해액이 충진됨과 아울러 일측면 상에는 가공물의 타단이 끼워지는 다수의 삽입공이 형성된 전해액 순환조와, 가공물 수용 플레이트의 일측에 인접한 상부면 상에 배치되고 타측면 상에는 가공물의 일단이 삽입 장착됨과 아울러 전해액 순환조의 전해액을 가공물의 내주면 상으로 공급하는 다수의 분기관이 형성된 매니폴드와, 전해액 순환조와 매니폴드를 연결하는 전해액 공급라인과, 전해액 공급라인에 장착되는 순환펌프를 가지는 전해액 순환공급부; 및 전해액 순환조의 타측에 배치되어 가공물 타단에서 일단으로 가공물의 내주면을 따라 삽입됨과 아울러 가공물의 내주면 상에 음극의 전류를 인가할 수 있도록 연장단부에는 전극봉이 구비되고 외주면은 절연물질로 코팅된 다수의 캐소드 와이어와, 전해액 순환조의 타측에 수직하게 배치되고 가공물에 삽입된 캐소드 와이어를 이송시키는 이송유닛을 가지는 캐소드 이송부로 이루어진다. A slope type electropolishing apparatus for polishing an inner circumferential surface of a tubular workpiece is disclosed. Electrolytic polishing apparatus according to the present invention is provided with an inclined and the workpiece receiving portion having a workpiece receiving plate is mounted on the upper surface and the ground bracket for applying the power of the positive electrode while contacting the outer peripheral surface of the workpiece received; An electrolyte circulating tank disposed on the other side of the workpiece receiving plate and filled with an electrolyte solution, and having a plurality of insertion holes into which one end of the workpiece is fitted, and one end of the workpiece disposed on an upper surface adjacent to one side of the workpiece receiving plate. And a manifold in which a plurality of branch pipes are formed to supply the electrolyte of the electrolyte circulation tank onto the inner circumferential surface of the workpiece, an electrolyte supply line connecting the electrolyte circulation tank and the manifold, and a circulation pump mounted to the electrolyte supply line. Electrolyte circulation supply unit; And a plurality of electrodes disposed on the other side of the electrolyte circulating tank and inserted along the inner circumferential surface of the workpiece from one end of the workpiece to one end, and having an electrode rod at the extended end so as to apply a current of the cathode on the inner circumferential surface of the workpiece. It consists of a cathode transfer part which has a cathode wire and the transfer unit which is arrange | positioned perpendicular to the other side of the electrolyte circulation tank, and transfers the cathode wire inserted in the workpiece | work.

Description

슬로프 타입 전해연마장치{SLOPE TYPE ELECTRO POLISHING DEVICE}Slope type electropolishing device {SLOPE TYPE ELECTRO POLISHING DEVICE}

본 발명은 스테인리스관의 내주면을 연마하는 전해연마장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 가공물이 올려지는 프레임을 소정의 각도를 가지도록 경사지게 형성하고, 가공물의 내주면 상으로 공급된 전해액이 배출되는 전해액 순환탱크에 인접하게 프레임의 하측으로 연장되게 캐소드 이송유닛을 구비함으로써, 개선된 캐소드 이송유닛으로 인해 전해연마장치를 협소한 작업 공간 내에 용이하게 설치할 수 있어 작업 공간의 활용도를 높일 수 있고, 경사진 프레임이 제공되게 때문에 길이가 긴 가공물을 연마할 수 있을 뿐만 아니라 가스배출이 용이한 슬로프 타입 전해연마장치에 관한 것이다.The present invention relates to an electropolishing apparatus for polishing an inner circumferential surface of a stainless steel pipe, and more particularly, an electrolyte solution circulation in which a frame on which a workpiece is placed is inclined to have a predetermined angle, and the electrolyte supplied to the inner circumferential surface of the workpiece is discharged. By providing the cathode transfer unit adjacent to the tank and extending below the frame, the improved cathode transfer unit allows the electrolytic polishing device to be easily installed in a narrow work space, thereby increasing the utilization of the work space, and the inclined frame. The present invention relates to a slope type electropolishing apparatus which can not only polish long workpieces but also easily discharge gas.

기계적으로 가공된 가공물은 표면 조도가 떨어지기 때문에 표면 조도를 높일 수 있도록 연마공정을 거치게 된다. 연마방법으로는 크게 기계적 연마방법 및 전해연마방법이 통상적으로 사용한다. The mechanically processed workpiece is subjected to a polishing process to increase the surface roughness because the surface roughness is reduced. As the polishing method, a mechanical polishing method and an electropolishing method are generally used.

일반적인 전해연마(Electro Polishing)는 전해조 내에 양극(+; Anode)과 음극(-; Cathode)을 설치한다. 양극(+)에는 연마할 금속소재를 연결하고, 음극(-)에는 전극봉을 연결하여 전해조 내에 전해액이 공급된 상태로 전류를 인가하는데, 이 때 음극(-)인 전극봉에서는 용해 작용 없이 다량의 수소가스가 발생하고, 양극(+)인 금속소재에는 금속표면에 산화층(Oxide Film)을 형성하면서 미량의 산소를 발생시켜 금속 표면의 용해가 이루어져 그 표면을 연마시키게 된다. In general electropolishing, a positive electrode (+) and a negative electrode (−) are installed in an electrolytic cell. Connect the metal material to be polished to the anode (+), and connect the electrode to the cathode (-) to apply the current while the electrolyte is supplied in the electrolytic cell. Gas is generated, and the metal material, which is the anode (+), forms an oxide layer on the metal surface and generates a small amount of oxygen to dissolve the metal surface, thereby polishing the surface.

즉, 산화층 내의 금속이온은 주위의 전해액보다 낮은 금속농도를 가지며 농도차에 의한 삼투현상으로 금속이온이 전해액으로 이동하게 되고, 또한 산화층 내에서도 전해액과 접하는 바깥층의 이온이동이 활발하게 일어나 금속소재의 돌출부위를 덮고 있는 절연성 산화층의 두께를 줄여 돌출부위를 전해액 중에 서서히 드러나게 하며, 금속소재의 산화층에서 산소가 발생하게 되고, 이 산소는 산화층의 표면을 따라 전해액으로 이동하면서 산화층 표면부의 돌출부위를 선택적으로 용해시켜 금속표면의 평활화가 가능하게 작용하게 된다. That is, the metal ions in the oxide layer have a lower metal concentration than the surrounding electrolyte solution, and the metal ions move to the electrolyte due to osmotic phenomena due to the difference in concentration, and also the ion transport of the outer layer in contact with the electrolyte in the oxide layer is active, causing the metal material to protrude. By reducing the thickness of the insulating oxide layer covering the site, the protrusions are gradually exposed in the electrolyte, and oxygen is generated in the oxide layer of the metal material, and the oxygen moves along the surface of the oxide layer to the electrolyte and selectively selects the protrusions of the surface of the oxide layer. By dissolving, the metal surface can be smoothed.

이러한 전해연마는 여러 산업분야에서 활용되고 있으며, 특히 반도체 및 LCD 제조공정에서는 초순도 가스를 안내하는 배관라인으로 사용된다. Such electropolishing is used in various industrial fields, and in particular, it is used as a piping line for guiding ultrapure gas in semiconductor and LCD manufacturing processes.

도 1은 종래 반도체 배관라인의 내주면을 연마하는 전해연마장치를 보인 도면이다. 1 is a view showing an electropolishing apparatus for polishing an inner circumferential surface of a conventional semiconductor piping line.

도시된 바와 같이, 종래 전해연마장치(10)는 가공물 수용부(20), 전해액 순환공급부(30) 및 캐소드 이송부(40)를 구비한다. As shown in the drawing, the conventional electrolytic polishing apparatus 10 includes a workpiece receiving portion 20, an electrolyte circulation supplying portion 30, and a cathode transfer portion 40.

가공물 수용부(20)는 연마가공 될 가공물(P), 즉 다수의 스테인리스관이 수평하게 안치되는 수평하게 배치되는 가공물 수용 프레임(22)을 구비하고, 가공물 수용 프레임(22)에는 가공물(P)의 외주면에 양극(+)의 전원을 인가하는 다수의 접지브라켓(24)이 제공된다. The workpiece receiving portion 20 includes a workpiece P to be polished, that is, a workpiece receiving frame 22 arranged horizontally in which a plurality of stainless steel pipes are horizontally placed, and the workpiece P on the workpiece receiving frame 22. A plurality of grounding brackets 24 are provided on the outer circumferential surface of the anode for applying a positive power.

전해액 순환공급부(30)는 가공물 수용 프레임(22)의 일측에 인접한 상부에 배치되고 가공물 수용 프레임(22)에 수용된 각각의 가공물(P)의 내주면 상으로 전해액을 공급하는 분기관(32)과, 가공물 수용 프레임(22)의 타측에 배치되고 가공물(P)의 내주면을 따라 안내된 전해액이 취합되는 전해액 순환조(34)와, 전해액 순환조(34) 내의 전해액을 분기관(32) 측으로 안내하는 순환펌프(36)를 구비한다.The electrolyte circulation supply unit 30 is a branch pipe 32 disposed at an upper portion adjacent to one side of the workpiece receiving frame 22 and supplying an electrolyte solution onto the inner circumferential surface of each workpiece P accommodated in the workpiece receiving frame 22, An electrolyte circulating tank 34 arranged on the other side of the workpiece receiving frame 22 and guided along the inner circumferential surface of the workpiece P, and an electrolyte in the electrolyte circulating tank 34 to guide the branch pipe 32 side. A circulation pump 36 is provided.

한편, 캐소드 이송부(40)는 가공물(P)의 내주면 상으로 삽입됨과 아울러 음극(-)의 전류가 인가되는 캐소드(42)와, 가공물(P)의 내주면에 삽입된 캐소드(42)를 가공물(P)의 외부로 이송시키는 이송수단(44)을 구비한다. On the other hand, the cathode transfer part 40 is inserted into the inner peripheral surface of the workpiece (P), the cathode 42 is applied to the current of the negative electrode (-), and the cathode 42 inserted into the inner peripheral surface of the workpiece (P) the workpiece ( And a conveying means 44 for conveying to the outside of P).

전술한 종래 전해연마장치(10)의 사용상태를 간략하게 설명하면, 다수의 가공물(P)의 일단을 분기관(32)에 장착하고, 분기관(32)에 장착된 가공물(P)의 내주면 상으로 캐소드(42)를 가공물(P)의 일단까지 삽입한다. 이러한 상태에서 접지브라켓(24) 및 캐소드(42)에 전원을 인가하고, 전해액을 가공물(P)의 내주면 상으로 공급하면, 캐소드(42)는 이송수단(44)에 의해서 가공물(P)의 타단으로 이송되면서 가공물(P)의 내주면을 연마하게 된다.Briefly describing the state of use of the conventional electrolytic polishing apparatus 10 described above, one end of the plurality of workpieces (P) is mounted on the branch pipe (32), the inner peripheral surface of the workpiece (P) mounted on the branch pipe (32) The cathode 42 is inserted up to one end of the workpiece P. When power is applied to the ground bracket 24 and the cathode 42 in this state, and the electrolyte is supplied onto the inner circumferential surface of the workpiece P, the cathode 42 is transferred to the other end of the workpiece P by the transfer means 44. The inner peripheral surface of the workpiece (P) is polished while being transferred to.

그런데, 전술한 종래 전해연마장치(10)는 캐소드(42)를 이송시키는 이송수단(44)이 가공물 수용 프레임(22)의 길이와 비슷한 길이를 가지기 때문에 협소한 작업 공간에는 설치가 용이하지 못한 문제점이 있었다. However, the above-described conventional electrolytic polishing apparatus 10 has a problem that it is not easy to install in a narrow working space because the conveying means 44 for transporting the cathode 42 has a length similar to that of the workpiece receiving frame 22. There was this.

또한 종래 전해연마장치(10)는 가공물 수용 프레임(22)이 바닥면에 대하여 수평하게 제공되기 때문에 마찬가지로 협소한 작업 공간에는 설치가 용이하지 못 할 뿐만 아니라 길이가 긴 가공물(P)을 가공하지 못하는 또 다른 문제점이 있었다. In addition, in the conventional electropolishing apparatus 10, since the workpiece receiving frame 22 is provided horizontally with respect to the bottom surface, it is not only easy to install in a narrow work space but also cannot process a long workpiece P. There was another problem.

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 가공물이 올려지는 프레임을 소정의 각도를 가지도록 경사지게 형성하고, 가공물의 내주면 상으로 공급된 전해액이 배출되는 전해액 순환탱크에 인접하게 프레임의 하측으로 연장되게 캐소드 이송유닛을 구비함으로써, 개선된 캐소드 이송유닛으로 인해 전해연마장치를 협소한 작업 공간 내에 용이하게 설치할 수 있어 작업 공간의 활용도를 높일 수 있고, 경사진 프레임이 제공되게 때문에 길이가 긴 가공물을 연마할 수 있을 뿐만 아니라 가스배출이 용이한 슬로프 타입 전해연마장치를 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, an object of the present invention is to form a frame on which the workpiece is placed to be inclined to have a predetermined angle, the electrolyte solution is discharged supplied on the inner peripheral surface of the workpiece By providing a cathode transfer unit adjacent to the circulation tank and extending downwards of the frame, the improved cathode transfer unit allows the electrolytic polishing apparatus to be easily installed in a narrow work space, thereby increasing the utilization of the work space, and inclined. Since the frame is provided, it is possible to grind a long workpiece, and to provide a slope type electropolishing apparatus that is easy to discharge gas.

상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위해서 본 발명은,In order to achieve the object of the present invention as described above, the present invention,

관 형상의 가공물의 내주면을 연마하는 전해연마장치에 있어서,In the electropolishing apparatus for polishing the inner peripheral surface of the tubular workpiece,

일측에서 타측으로 높아지는 경사로 제공되고 상부면 상에는 수용되는 가공 물의 외주면과 접촉하면서 양극의 전류를 인가하는 접지브라켓이 장착되는 가공물 수용 플레이트를 가지는 가공물 수용부;A workpiece accommodating part having a workpiece accommodating plate provided at an inclination from one side to the other side and having a ground bracket for applying a current of the anode while contacting the outer circumferential surface of the workpiece accommodated on the upper surface;

가공물 수용 플레이트의 타측에 배치되고 전해액이 충진됨과 아울러 일측면 상에는 가공물의 타단이 끼워지는 다수의 삽입공이 형성된 전해액 순환조와, 가공물 수용 플레이트의 일측에 인접한 상부면 상에 배치되고 타측면 상에는 가공물의 일단이 삽입 장착됨과 아울러 전해액 순환조의 전해액을 가공물의 내주면 상으로 공급하는 다수의 분기관이 형성된 매니폴드와, 전해액 순환조와 매니폴드를 연결하는 전해액 공급라인과, 전해액 공급라인에 장착되는 순환펌프를 가지는 전해액 순환공급부; 및An electrolyte circulating tank disposed on the other side of the workpiece receiving plate and filled with an electrolyte solution, and having a plurality of insertion holes into which one end of the workpiece is fitted, and one end of the workpiece disposed on an upper surface adjacent to one side of the workpiece receiving plate. And a manifold in which a plurality of branch pipes are formed to supply the electrolyte of the electrolyte circulation tank onto the inner circumferential surface of the workpiece, an electrolyte supply line connecting the electrolyte circulation tank and the manifold, and a circulation pump mounted to the electrolyte supply line. Electrolyte circulation supply unit; And

전해액 순환조의 타측에 배치되어 가공물 타단에서 일단으로 가공물의 내주면을 따라 삽입됨과 아울러 가공물의 내주면 상에 음극의 전류를 인가할 수 있도록 연장단부에는 전극봉이 구비되고 외주면은 절연물질로 코팅된 다수의 캐소드 와이어와, 전해액 순환조의 타측에 수직하게 배치되고 가공물에 삽입된 캐소드 와이어를 이송시키는 이송유닛을 가지는 캐소드 이송부;로 이루어지며,
이송유닛은 전해액 순환조의 타측에 수직하게 배치되는 한 쌍의 이송롤러와, 한 쌍의 이송롤러 사이로 이송되는 캐소드 와이어가 안내되어 취합되는 수직한 취합탱크를 구비하고,
취합탱크는 이송롤러의 하부에 배치됨과 아울러 취합탱크의 상부는 개방되고, 이송롤러를 통과한 캐소드 와이어를 각각 수납할 수 있도록 다수의 챔버가 구비되며, 어느 하나의 챔버와 이웃한 또 다른 챔버는 수직한 격벽에 의해서 분할되는 슬로프 타입 전해연마장치를 제공한다.
The cathode is disposed on the other side of the electrolyte circulation tank and is inserted along the inner circumferential surface of the workpiece from the other end to the one end, and an electrode rod is provided at the extended end so that the cathode current can be applied on the inner circumferential surface of the workpiece. A cathode transfer part having a wire and a transfer unit arranged to be perpendicular to the other side of the electrolyte circulation tank and transferring the cathode wire inserted into the workpiece;
The transfer unit includes a pair of transfer rollers disposed perpendicularly to the other side of the electrolyte circulation tank, and a vertical collecting tank in which the cathode wires transferred between the pair of transfer rollers are guided and collected.
The collecting tank is disposed at the lower part of the conveying roller, the upper part of the collecting tank is opened, and a plurality of chambers are provided to receive the cathode wires passing through the conveying roller, respectively, and one chamber and another chamber adjacent to the Provided is a slope type electropolishing apparatus divided by vertical bulkheads.

삭제delete

삭제delete

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 슬로프 타입 전해연마장치는 관 형상의 가공물이 수용되는 가공물 수용 플레이트를 일측에서 타측으로 높아지는 경사로 제공하고, 캐소드 와이어가 이송되어 수납되는 이송유닛을 수직하게 배치함으로써, 협소한 작업공간에 용이하게 설치할 수 있어 공간활용도를 높일 수 있다. As described above, according to the present invention, the slope type electropolishing apparatus provides a workpiece receiving plate in which a tubular workpiece is accommodated at an inclination that rises from one side to the other side, and vertically arranges a transfer unit to which the cathode wire is transferred and received. By doing so, it is possible to easily install in a narrow work space and to increase space utilization.

또한, 가공물이 수용되는 가공물 수용 플레이트를 일측에서 타측으로 높아지는 경사로 제공함으로써, 종래 전해연마장치에 비해 길이가 긴 가공물을 연마할 수 있고, 연마작업 중 발생하는 가스의 배출이 용이한 이점이 있다. In addition, by providing a workpiece receiving plate in which the workpiece is accommodated at an inclination that increases from one side to the other side, the workpiece having a longer length can be polished as compared with the conventional electrolytic polishing apparatus, and the gas generated during the polishing operation can be easily discharged.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 슬로프 타입 전해연마장치에 대해 설명한다. Hereinafter, a slope type electropolishing apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 슬로프 타입 전해연마장치를 개략적으로 나타낸 도면 이다. 하기에는 도면의 좌측으로 일측으로 도면의 우측을 타측으로 하여 설명한다.2 is a view schematically showing a slope type electropolishing apparatus according to the present invention. In the following, the left side of the drawing is described as one side and the right side of the drawing as the other side.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 슬로프 타입 전해연마장치(100)는 가공물 수용부(110)와, 가공물 수용부(110)에 배치되는 전해액 순환공급부(120) 및 캐소드 이송부(140)를 구비한다. Referring to FIG. 2, the slope type electrolytic polishing apparatus 100 according to the present invention includes a workpiece accommodating part 110, an electrolyte circulation supply part 120, and a cathode conveying part 140 disposed at the workpiece accommodating part 110. do.

먼저, 가공물 수용부(110)는 가공물 수용 플레이트(112)를 구비한다. 가공물 수용 플레이트(112)는 일측에서 타측으로 높아지는 경사로 제공된다. 이러한 가공물 수용 플레이트(112)의 상부면에는 가공물 수용 플레이트(112)의 길이를 따라 다수의 가공물(P), 즉 스테인리스관이 수용된다. 바람직하게는 가공물 수용 플레이트(112)는 다수의 다리프레임(114)에 의해서 바닥면 상에 지지된다. 한편, 가공물 수용 플레이트(112)에는 가공물(P)의 외주면에 접촉하면서 가공물(P)에 양극(+)의 전류가 인가되는 다수의 접지브라켓(116)이 장착된다. 바람직하게는 접지브라켓(116)은 가공물 수용 플레이트(112)의 폭 방향으로 연장된다. First, the workpiece receiving portion 110 includes a workpiece receiving plate 112. The workpiece receiving plate 112 is provided at an inclination that rises from one side to the other side. On the upper surface of the workpiece receiving plate 112, a plurality of workpieces P, that is, stainless steel pipes, are accommodated along the length of the workpiece receiving plate 112. Preferably, the workpiece receiving plate 112 is supported on the bottom surface by a plurality of leg frames 114. On the other hand, the workpiece receiving plate 112 is equipped with a plurality of grounding bracket 116 is applied to the workpiece (P) the current of the positive pole (+) while contacting the outer peripheral surface of the workpiece (P). Preferably, the ground bracket 116 extends in the width direction of the workpiece receiving plate 112.

이와 같이 형성된 가공물 수용부(110)에는 전해액 순환공급부(120) 및 캐소드 이송부(140)가 배치된다. In the workpiece receiving unit 110 formed as described above, the electrolyte circulation supply unit 120 and the cathode transfer unit 140 are disposed.

전해액 순환공급부(120)는 전해액이 충진되는 전해액 순환조(122)와, 전해액 순환조(122)로부터 전해액을 공급받아 가공물(P)의 내주면 상으로 공급하는 매니폴드(124)를 구비한다. The electrolyte circulation supply unit 120 includes an electrolyte circulation tank 122 in which the electrolyte is filled, and a manifold 124 that receives the electrolyte solution from the electrolyte circulation tank 122 and supplies the electrolyte solution onto the inner circumferential surface of the workpiece P.

전해액 순환조(122)는 가공물 수용 플레이트(112)의 타측에 배치되고, 매니폴드(124)는 가공물 수용 플레이트(112)의 일측에 인접한 상부면 상에 배치되는데, 전해액 순환조(122)의 일측면 상에는 가공물(P)의 타단이 삽입되는 다수의 삽입 공(126)이 형성되고, 매니폴드(124)의 타측면 상에는 가공물(P)의 일단이 삽입 장착됨과 아울러 전해액을 가공물(P)의 내주면 상으로 공급하는 다수의 분기관(128)이 형성된다. 한편, 전해액 순환조(122)와 매니폴드(124)는 관 형상의 전해액 공급라인(130)으로 연결되고, 매니폴드(124)에 인접한 전해액 공급라인(130)에는 순환펌프(132)가 장착된다. The electrolyte circulating tank 122 is disposed on the other side of the workpiece receiving plate 112, and the manifold 124 is disposed on an upper surface adjacent to one side of the workpiece receiving plate 112, which is one of the electrolyte circulating tank 122. On the side surface, a plurality of insertion holes 126 into which the other end of the work piece P is inserted are formed, and one end of the work piece P is inserted and mounted on the other side of the manifold 124, and the electrolyte is injected into the inner peripheral surface of the work piece P. Multiple branch pipes 128 are formed which feed into the bed. Meanwhile, the electrolyte circulation tank 122 and the manifold 124 are connected to the tubular electrolyte supply line 130, and the circulation pump 132 is mounted on the electrolyte supply line 130 adjacent to the manifold 124. .

도 3은 도 2에 도시된 캐소드 이송부를 확대하여 나타낸 사시도이다.3 is an enlarged perspective view of the cathode transfer part illustrated in FIG. 2.

도 2 및 도 3을 참조하면, 캐소드 이송부(140)는 전해액 순환공급부(120)의 전해액 순환조(122)의 타측에 배치된다. 이러한 캐소드 이송부(140)는 다수의 캐소드 와이어(142) 및 이송유닛(144)을 구비한다. 2 and 3, the cathode transfer unit 140 is disposed at the other side of the electrolyte circulation tank 122 of the electrolyte circulation supply unit 120. The cathode transfer part 140 includes a plurality of cathode wires 142 and a transfer unit 144.

캐소드 와이어(142)는 음극(-)의 전류가 인가됨과 아울러 가공물(P)의 타단에서 일단으로 가공물(P)의 내주면을 따라 삽입된다. 이러한 캐소드 와이어(142)의 외주면은 절연물질로 코팅되며, 캐소드 와이어(142)의 연장단부에는 전극봉(146)이 구비된다.The cathode wire 142 is inserted along the inner circumferential surface of the workpiece P from one end of the workpiece P to one end thereof while a current of the cathode P is applied thereto. The outer circumferential surface of the cathode wire 142 is coated with an insulating material, and the electrode rod 146 is provided at an extended end of the cathode wire 142.

한편, 이송유닛(144)은 전해액 순환조(122)의 타측에 수직하게 배치되는 한 쌍의 이송롤러(148a, 148b)와, 한 쌍의 이송롤러(148a, 148b) 사이로 이송되는 캐소드 와이어(142)가 안내되어 취합되는 수직한 취합탱크(150)를 구비한다. On the other hand, the transfer unit 144 is a cathode wire 142 is transferred between a pair of feed rollers (148a, 148b) and a pair of feed rollers (148a, 148b) disposed perpendicular to the other side of the electrolyte circulation tank 122 ) Is provided with a vertical collecting tank 150 is guided and collected.

한 쌍의 이송롤러(148a, 148b)는 바닥면 상에서 연장되는 서브프레임(152)에 의해서 선회가능하게 배치됨과 아울러 외주면이 서로 밀착된다. 이러한 한 쌍의 이송롤러(148a, 148b) 사이로는 다수의 캐소드 와이어(142)가 통과하게 되고, 한 쌍의 이송롤러(148a, 148b) 중 어느 하나에 인접하게는 서브프레임(152)에 장착되는 이송모터(154)가 장착된다. 누구나 알 수 있듯이 이송모터(154)의 회전축(156)에는 구동기어(158)가, 이송모터(154)에 인접한 이송롤러(148a)에는 구동기어(158)와 맞물리는 제 1 전달기어(160a)가, 또 다른 이송롤러(148b)에는 제 1 전달기어(160a)와 맞물리는 제 2 전달기어(160b)가 장착된다. The pair of feed rollers 148a and 148b are pivotally disposed by the subframe 152 extending on the bottom surface and the outer peripheral surfaces are in close contact with each other. A plurality of cathode wires 142 passes between the pair of feed rollers 148a and 148b, and is mounted on the subframe 152 adjacent to any one of the pair of feed rollers 148a and 148b. The transfer motor 154 is mounted. As anyone can see, the first transmission gear 160a meshes with the drive gear 158 on the rotating shaft 156 of the feed motor 154 and the feed roller 148a adjacent to the feed motor 154. A further transfer roller 148b is equipped with a second transfer gear 160b that meshes with the first transfer gear 160a.

한편, 취합탱크(150)는 이송롤러(148a, 148b)의 하부에 배치된다. 이러한 취합탱크(150)는 상부가 개방되고, 이송롤러(148a, 148b)를 관통한 캐소드 와이어(142)를 각각 수납할 수 있도록 다수의 챔버(162)가 구비되는데, 어느 하나의 챔버(162)와 이웃한 또 다른 챔버(162)는 수직한 격벽(164)에 의해서 분할된다. On the other hand, the collecting tank 150 is disposed below the feed rollers (148a, 148b). The collecting tank 150 is provided with a plurality of chambers 162 to open the upper portion and to accommodate the cathode wires 142 penetrating the feed rollers 148a and 148b, respectively. Another chamber 162 adjacent to is divided by a vertical partition wall 164.

하기에는 전술한 바와 같이 형성된 슬로프 타입 전해연마장치(100)를 간략하게 설명한다. Hereinafter, the slope type electropolishing apparatus 100 formed as described above will be briefly described.

가공물(P), 즉 스테인리스관의 내주면을 연마하기 위해서는 가공물(P)의 일단을 매니폴드(124)에 형성된 분기관(128)에 삽입 장착하고, 가공물(P)의 타단을 전해액 순환조(122)의 일측면 상에는 형성된 삽입공(126)에 삽입시킨다. 이렇게 가공물(P)의 양단에 장착되면, 가공물(P)의 외주면은 가공물 수용 플레이트(112)에 형성된 접지브라켓(116)과 접촉하게 된다. 이러한 상태에서, 가공물(P)의 내주면 상으로 캐소드 와이어(142)를 삽입한다. To polish the workpiece P, that is, the inner circumferential surface of the stainless steel pipe, one end of the workpiece P is inserted into the branch pipe 128 formed in the manifold 124, and the other end of the workpiece P is placed in the electrolyte circulation tank 122. On one side of the) is inserted into the insertion hole 126 formed. When mounted on both ends of the workpiece (P) in this way, the outer peripheral surface of the workpiece (P) is in contact with the ground bracket 116 formed on the workpiece receiving plate (112). In this state, the cathode wire 142 is inserted onto the inner circumferential surface of the workpiece P. FIG.

전술한 바와 같이, 가공물(P)이 가공물 수용 플레이트(112)에 수용되고 캐소드 와이어(142)가 가공물(P)의 내주면 상에 삽입되면, 접지브라켓(116) 및 캐소드 와이어(142)에 전원을 인가함과 동시에 순환펌프(132) 및 이송모터(154)를 작동시 킨다.As described above, when the workpiece P is accommodated in the workpiece receiving plate 112 and the cathode wire 142 is inserted on the inner circumferential surface of the workpiece P, power is supplied to the ground bracket 116 and the cathode wire 142. Simultaneously with the application, the circulation pump 132 and the transfer motor 154 are operated.

접지브라켓(116)에 양극(+) 전류 및 캐소드 와이어(142)의 전극봉(146)에 음극(-) 전류가 인가되고, 순환펌프(132)에 의해 전해액이 가공물(P)의 내주면 상으로 인가되면, 가공물(P)의 내주면은 전기적으로 연마된다. A positive (+) current is applied to the ground bracket 116 and a negative (-) current is applied to the electrode rod 146 of the cathode wire 142, and the electrolyte is applied onto the inner circumferential surface of the workpiece P by the circulation pump 132. Then, the inner peripheral surface of the workpiece P is electrically polished.

한편, 이송모터(154)가 회전되면, 한 쌍의 이송롤러(148a, 148b)도 회전되는데, 이렇게 이송롤러(148a, 148b)가 회전되면, 캐소드 와이어(142)는 가공물(P)의 내주면 일단에서 타단까지 이송되고, 그 결과 가공물(P)의 내주면 전체가 전기적으로 연마된다. 또한 이송롤러(148a, 148b)에 의해 이송된 각각의 캐소드 와이어(142)는 취합탱크(150)에 형성된 각각의 챔버(162) 내에 수납된다. Meanwhile, when the feed motor 154 is rotated, a pair of feed rollers 148a and 148b are also rotated. When the feed rollers 148a and 148b are rotated in this way, the cathode wire 142 is once inner circumferential surface of the workpiece P. Is transferred to the other end, and as a result, the entire inner circumferential surface of the workpiece P is electrically polished. In addition, the cathode wires 142 transported by the transfer rollers 148a and 148b are accommodated in the respective chambers 162 formed in the collecting tank 150.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당기술 분야의 숙련된 당업자는 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. Although the above has been described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art can variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims. You will understand.

도 1은 종래 반도체 배관라인의 내주면을 연마하는 전해연마장치를 보인 도면이고,1 is a view showing an electropolishing apparatus for polishing an inner circumferential surface of a conventional semiconductor piping line,

도 2는 본 발명에 따른 슬로프 타입 전해연마장치를 개략적으로 나타낸 도면이며, 그리고2 is a view schematically showing a slope type electropolishing apparatus according to the present invention, and

도 3은 도 2에 도시된 캐소드 이송부를 확대하여 나타낸 사시도이다.3 is an enlarged perspective view of the cathode transfer part illustrated in FIG. 2.

<도면의주요부분에대한부호의설명>Explanation of symbols on the main parts of the drawing

100 : 슬로프 타입 전해연마장치 110 : 가공물 수용부100: slope type electropolishing apparatus 110: workpiece receiving portion

112 : 가공물 수용 플레이트 116 : 접지브라켓112: workpiece receiving plate 116: grounding bracket

120 : 전해액 순환공급부 122 : 전해액 순환조120: electrolyte circulation supply unit 122: electrolyte solution circulation tank

124 : 매니폴드 128 : 분기관124: manifold 128: branch pipe

130 : 전해액공급라인 140 : 캐소드 이송부130: electrolyte supply line 140: cathode transfer unit

142 : 캐소드 와이어 144 : 이송유닛142: cathode wire 144: transfer unit

150 : 취합탱크 P : 가공물150: collecting tank P: workpiece

Claims (3)

관 형상의 가공물의 내주면을 연마하는 전해연마장치에 있어서,In the electropolishing apparatus for polishing the inner peripheral surface of the tubular workpiece, 일측에서 타측으로 높아지는 경사로 제공되고 상부면 상에는 수용되는 상기 가공물의 외주면과 접촉하면서 양극의 전류를 인가하는 접지브라켓이 장착되는 가공물 수용 플레이트를 가지는 가공물 수용부;A workpiece accommodating part having a workpiece accommodating plate provided at an inclination from one side to the other side and having a ground bracket for applying an electric current of the anode while being in contact with an outer circumferential surface of the workpiece accommodated on the upper surface; 상기 가공물 수용 플레이트의 타측에 배치되고 전해액이 충진됨과 아울러 일측면 상에는 상기 가공물의 타단이 끼워지는 다수의 삽입공이 형성된 전해액 순환조와, 상기 가공물 수용 플레이트의 일측에 인접한 상부면 상에 배치되고 타측면 상에는 상기 가공물의 일단이 삽입 장착됨과 아울러 상기 전해액 순환조의 전해액을 상기 가공물의 내주면 상으로 공급하는 다수의 분기관이 형성된 매니폴드와, 상기 전해액 순환조와 상기 매니폴드를 연결하는 전해액 공급라인과, 상기 전해액 공급라인에 장착되는 순환펌프를 가지는 전해액 순환공급부; 및An electrolyte circulating tank disposed on the other side of the workpiece receiving plate and filled with an electrolyte solution and having a plurality of insertion holes into which one end of the workpiece is fitted, and an upper surface adjacent to one side of the workpiece receiving plate and on the other side of the workpiece receiving plate. An manifold having a plurality of branch pipes having one end inserted into the workpiece and supplying the electrolyte of the electrolyte circulation tank onto the inner circumferential surface of the workpiece, an electrolyte supply line connecting the electrolyte circulation tank and the manifold, and the electrolyte solution An electrolyte circulation supply unit having a circulation pump mounted to a supply line; And 상기 전해액 순환조의 타측에 배치되어 상기 가공물 타단에서 일단으로 상기 가공물의 내주면을 따라 삽입됨과 아울러 상기 가공물의 내주면 상에 음극의 전류를 인가할 수 있도록 연장단부에는 전극봉이 구비되고 외주면은 절연물질로 코팅된 다수의 캐소드 와이어와, 상기 전해액 순환조의 타측에 수직하게 배치되고 상기 가공물에 삽입된 상기 캐소드 와이어를 이송시키는 이송유닛을 가지는 캐소드 이송부;로 이루어지며,It is disposed on the other side of the electrolyte circulating tank is inserted along the inner circumferential surface of the workpiece from one end to the other end of the workpiece, and the electrode is provided on the extended end to apply a negative current on the inner circumferential surface of the workpiece and the outer circumferential surface is coated with an insulating material And a cathode transfer part having a plurality of cathode wires and a transfer unit configured to transfer the cathode wires disposed perpendicular to the other side of the electrolyte circulation tank and inserted into the workpiece. 상기 이송유닛은 상기 전해액 순환조의 타측에 수직하게 배치되는 한 쌍의 이송롤러와, 한 쌍의 상기 이송롤러 사이로 이송되는 상기 캐소드 와이어가 안내되어 취합되는 수직한 취합탱크를 구비하고, The transfer unit includes a pair of transfer rollers disposed perpendicularly to the other side of the electrolyte circulation tank, and a vertical collecting tank in which the cathode wires transferred between the pair of transfer rollers are guided and collected. 상기 취합탱크는 상기 이송롤러의 하부에 배치됨과 아울러 상기 취합탱크의 상부는 개방되고, 상기 이송롤러를 통과한 상기 캐소드 와이어를 각각 수납할 수 있도록 다수의 챔버가 구비되며, 어느 하나의 상기 챔버와 이웃한 또 다른 상기 챔버는 수직한 격벽에 의해서 분할되는 것을 특징으로 하는 슬로프 타입 전해연마장치.The collecting tank is disposed below the conveying roller, the upper part of the collecting tank is opened, and a plurality of chambers are provided to receive the cathode wires that have passed through the conveying roller, respectively. And another adjacent chamber is divided by a vertical partition wall. 제 1 항에 있어서, 한 쌍의 상기 이송롤러는 바닥면 상에서 연장되는 서브프레임에 의해서 선회가능하게 배치됨과 아울러 외주면이 서로 밀착되며, 한 쌍의 상기 이송롤러 사이로는 다수의 상기 캐소드 와이어가 통과하게 되고, 한 쌍의 상기 이송롤러 중 어느 하나에 인접하게는 상기 서브프레임에 장착되는 이송모터가 장착되며, 상기 이송모터의 회전축에는 구동기어가, 상기 이송모터에 인접한 상기 이송롤러에는 상기 구동기어와 맞물리는 제 1 전달기어가, 또 다른 상기 이송롤러에는 상기 제 1 전달기어와 맞물리는 제 2 전달기어가 장착되는 것을 특징으로 하는 슬로프 타입 전해연마장치.The method of claim 1, wherein the pair of feed rollers are arranged rotatably by a subframe extending on the bottom surface and the outer circumferential surface is in close contact with each other, a plurality of the cathode wires pass through a pair of the feed rollers And a feed motor mounted to the subframe is adjacent to any one of the pair of feed rollers, and a drive gear is attached to the rotating shaft of the feed motor, and the drive gear is connected to the feed roller adjacent to the feed motor. And a second transfer gear meshing with the first transfer gear is mounted to the first transfer gear to be engaged, and another transfer roller is engaged with the first transfer gear. 삭제delete
KR1020080022767A 2008-03-12 2008-03-12 Slope type electro polishing device KR100941649B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080022767A KR100941649B1 (en) 2008-03-12 2008-03-12 Slope type electro polishing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080022767A KR100941649B1 (en) 2008-03-12 2008-03-12 Slope type electro polishing device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090097558A KR20090097558A (en) 2009-09-16
KR100941649B1 true KR100941649B1 (en) 2010-02-11

Family

ID=41356907

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080022767A KR100941649B1 (en) 2008-03-12 2008-03-12 Slope type electro polishing device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100941649B1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6141800A (en) 1984-07-31 1986-02-28 ジ・アツプジヨン・カンパニー Apparatus for tube interior electropolishing
JPH0184924U (en) * 1987-11-26 1989-06-06
US6660138B2 (en) * 2001-11-28 2003-12-09 Industrial Technology Research Institute Electropolishing process means for an inner surface of a long tube
KR20070114608A (en) * 2006-05-29 2007-12-04 주식회사 아스플로 Method for surface treatment of concavo-convex tube

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6141800A (en) 1984-07-31 1986-02-28 ジ・アツプジヨン・カンパニー Apparatus for tube interior electropolishing
JPH0184924U (en) * 1987-11-26 1989-06-06
US6660138B2 (en) * 2001-11-28 2003-12-09 Industrial Technology Research Institute Electropolishing process means for an inner surface of a long tube
KR20070114608A (en) * 2006-05-29 2007-12-04 주식회사 아스플로 Method for surface treatment of concavo-convex tube

Also Published As

Publication number Publication date
KR20090097558A (en) 2009-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7655118B2 (en) Electrolytic processing apparatus and method
US6153064A (en) Apparatus for in line plating
KR101803490B1 (en) Electrolytic Copper foil manufacturing Device for battery and manufacturing method thereof
JP3357032B2 (en) Plating apparatus and plating method
KR101648537B1 (en) Cylinder plating method and device
JP4445859B2 (en) Apparatus and method for electrolytic treatment of a workpiece having at least a conductive surface
US20040231989A1 (en) Substrate processing appartus and method
KR20080021362A (en) Electrolytic polishing apparatus and polishing method for pipe
RU2375506C2 (en) Method and device for etching of metals
WO2021227853A1 (en) Electrode structure, and electrochemical deposition device and electrochemical deposition method therefor
KR100941649B1 (en) Slope type electro polishing device
CN202610379U (en) Continuous electrolytic polishing device for nickel tungsten alloy strip
JP4212081B2 (en) Continuous wet processing method and apparatus, and liquid sealing method and apparatus
US4326933A (en) Electro-chemical deburring method
KR101017291B1 (en) The device for electrode using continuity plating flexible flat cable
KR100941650B1 (en) Roller type electro polishing device
KR20060115536A (en) Continuous horizontal plating line with roller type cathodes
JP4087839B2 (en) Plating equipment
TWI274088B (en) Roller type electrochemical reaction apparatus
US20070095659A1 (en) Electrolytic processing apparatus and electrolytic processing method
KR102005521B1 (en) Multi-track system for electolytic phosphate coating treatment and how to use
CN217677861U (en) Electroplating equipment
CN220520673U (en) Ultra-wide composite current collector film electroplating equipment
RU2515718C2 (en) Method and device for processing of articles
CN108660501B (en) Electroplating tank based on FPC electroplating

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121122

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131211

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141118

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150202

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161207

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171220

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190131

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191217

Year of fee payment: 11