KR100919817B1 - Wet type scrabber for exhaust gas capable of cleaning eliminator easily - Google Patents
Wet type scrabber for exhaust gas capable of cleaning eliminator easilyInfo
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Abstract
본 발명은 내부 청소가 용이한 습식정화장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 습식정화장치의 내부에 설치된 엘리미네이터를 외부로 들어내지 않고 설치된 채로 청소할 수 있는 습식 정화장치에 관한 것이다.The present invention relates to a wet purifier that is easy to clean the inside, and more particularly, to a wet purifier that can be cleaned while being installed without lifting the eliminator installed inside the wet purifier.
본 발명에 따른 배출가스 습식 정화장치는, 습식정화챔버와, 상기 습식정화챔버의 내부를 입구측 공간과 출구측 공간으로 분리하도록 습식정화챔버 내부에 배치되고 배출가스의 통로를 형성하기 위하여 배치된 복수의 절곡된 블레이드를 포함한 엘리미네이터와, 일단이 상기 습식정화챔버의 입구에 연결되어 있으며 덕트의 일부가 습식정화챔버의 상부보다 높게 설치된 입구덕트와, 일단이 상기 습식정화챔버의 출구에 연결되어 있으며 덕트의 일부가 습식정화챔버의 상부보다 높게 설치된 출구덕트을 포함한다. 제1 배출관은 챔버의 바닥과 액체저장조에 연결되어 있으며, 제1 배출관에는 제1 밸브가 설치되어 있다. 상기 액체저장조로부터 액체를 공급받아 상기 습식정화챔버의 입구측 공간으로 분무하도록 분사노즐이 설치되어 있다. 청소시에는 제1 밸브를 폐쇄하고 챔버 내부에 세척을 위한 액체를 채워서 탈지 탱크로 사용할 수 있다.The exhaust gas wet purifying apparatus according to the present invention is disposed inside the wet purification chamber to separate the wet purifying chamber and the inside of the wet purifying chamber into the inlet space and the outlet space, and is arranged to form a passage of the exhaust gas. An eliminator comprising a plurality of bent blades, an inlet duct one end of which is connected to the inlet of the wet purification chamber and a portion of the duct installed higher than the top of the wet purification chamber, and one end of which is connected to the outlet of the wet purification chamber And part of the duct includes an outlet duct mounted higher than the top of the wet purification chamber. The first discharge pipe is connected to the bottom of the chamber and the liquid reservoir, and the first discharge pipe is provided with a first valve. A spray nozzle is provided to receive liquid from the liquid reservoir and spray the liquid into the inlet side space of the wet purification chamber. When cleaning, the first valve may be closed and the chamber may be filled with a liquid for cleaning to be used as a degreasing tank.
Description
본 발명은 내부 청소가 용이한 습식정화장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 습식정화장치의 내부에 설치된 엘리미네이터를 외부로 들어내지 않고 설치된 채로 청소할 수 있는 습식 정화장치에 관한 것이다.The present invention relates to a wet purifier that is easy to clean the inside, and more particularly, to a wet purifier that can be cleaned while being installed without lifting the eliminator installed inside the wet purifier.
본 발명은 한국환경기술진흥원 지원 차세대핵심환경기술 개발사업의 연구 개발 결과물이다(과제번호 2007-01001-0028-0, 과제명 '소각시설에서 발생되는 먼지, 가스, 백연 동시 제거용 100,000 m3/hr 규모의 하이브리드 시스템의 실증화').The present invention is the result of research and development of the next generation core environmental technology development project supported by Korea Environmental Technology Development Institute (project number 2007-01001-0028-0, project name '100,000 m 3 / hr scale hybrid system ').
도 6에는 종래의 배출가스를 습식으로 정화처리하기 위한 장치가 도시되어 있다. 도 6에 도시된 배출가스 습식정화장치는, 정화처리챔버(10) 내에 설치된 엘리미네이터(11)의 전방에서 액체를 분무하여, 배출가스에 포함된 분진이나, 유해한 물질을 제거하도록 되어 있다. 배출가스가 산성인 경우에는 배출가스를 중화처리하기 위한 NaOH와 같은 알카리성 용액을 분무하여 산성 배출가스를 중화처리하고, 엘리미네이터(11)에서 산성가스가 알카리 용액과 반응하여 생성된 염이나 분진을 제거하여 배출시킨다. 엘리미네이터(11)에서 분리된 분진이나 염은 수분과 함께 정화처리챔버(10)의 바닥에 설치된 배출관(21)을 통하여 액체저장조(20)로 낙하된다. 액체저장조(20)에 저장된 액체는 펌프(30)를 통하여 노즐(18)로 공급되어 재순환하도록 되어 있다.6 shows an apparatus for wet purifying a conventional exhaust gas. In the exhaust gas wet purifying apparatus shown in FIG. 6, the liquid is sprayed in front of the eliminator 11 provided in the purification chamber 10 to remove dust and harmful substances contained in the exhaust gas. When the exhaust gas is acidic, it neutralizes the acidic exhaust gas by spraying an alkaline solution such as NaOH to neutralize the exhaust gas, and salt or dust generated by reacting the acid gas with the alkali solution in the eliminator 11. Remove and discharge. The dust or salt separated from the eliminator 11 is dropped into the liquid storage tank 20 through the discharge pipe 21 installed at the bottom of the purification chamber 10 together with the water. The liquid stored in the liquid reservoir 20 is supplied to the nozzle 18 through the pump 30 to be recycled.
도 6에 도시된 것과 같은 배출가스 습식정화장치는 장시간 사용할 경우 엘리미네이터에 분진이나 중화처리 시 생성된 염이 달라붙어서 정화효과가 떨어지게 된다. 따라서 일정한 주기로 엘리미네이터(11)를 정화처리챔버(10)에서 들어내어 세척을 해주어야 한다. 엘리미네이터(11)는 중량이 무겁고 부피가 크기 때문에 정화처리챔버(10)로부터 엘리미네이터(11)를 들어내기 위하여 별도의 장비가 필요하고 청소작업이 대단히 번거롭다. 특히 청소 작업시에 정화처리챔버(10) 외부에 있는 엘리미네이터 투입구 볼트들을 전부 풀어서 엘리미네이터를 꺼낸 후, 고압 호스 등으로 엘리미네이터를 청소한 후 다시 엘리미네이터를 엘리미네이터 투입구로 투입하고, 엘리미네이터 투입구 볼트를 체결하여 청소를 하도록 되어 있어서 많은 시간과 인력이 소요되며 설비의 가동율을 저하시키는 문제점이 있다.When the exhaust gas wet purification apparatus as shown in FIG. 6 is used for a long time, the salt generated during the dusting or neutralization treatment adheres to the eliminator, thereby reducing the purification effect. Therefore, the eliminator 11 should be lifted out of the purification chamber 10 at regular intervals and cleaned. Since the eliminator 11 is heavy and bulky, separate equipment is required to lift the eliminator 11 from the purification chamber 10 and the cleaning operation is very cumbersome. In particular, during the cleaning operation, remove all the eliminator inlet bolts outside the purification chamber 10, take out the eliminator, clean the eliminator with a high pressure hose, etc., and then return the eliminator to the eliminator inlet. Injecting and fastening the eliminator inlet bolt to clean, it takes a lot of time and manpower, there is a problem that reduces the operation rate of the equipment.
본 발명은 상기와 같은 종래의 배출가스 습식 정화장치의 청소시 문제점을 해결하기 위한 것이다. 본 발명은 정화처리챔버의 구조를 변경하여 청소 시에 정화처리챔버를 탈지 탱크로 변형시켜 엘리미네이터를 들어내지 않고 습식정화장치 내부 및 엘리미네이터를 간편하게 청소할 수 있는 배출가스 습식 정화장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention is to solve the problem of cleaning the conventional exhaust gas wet purifier as described above. The present invention is to change the structure of the purifying treatment chamber to change the purification treatment chamber in the degreasing tank at the time of cleaning to provide an exhaust gas wet purifier that can easily clean the inside of the wet purifier and the eliminator without lifting the eliminator It aims to do it.
또한 본 발명은 정화처리장치의 청소를 용이하게 자주 할 수 있도록 하여 배출가스로부터 분진, 미스트, 수분, 응축수 등의 제거 효율을 높일 수 있는 배출가스 습식 정화장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide an off-gas wet purifier capable of easily cleaning the purifying treatment apparatus so as to increase the removal efficiency of dust, mist, water, condensate, and the like from the off-gas.
본 발명에 따른 배출가스 습식 정화장치는, 배출가스가 유입되기 위한 입구와 처리된 배출가스가 유출되기 위한 출구를 구비하고 바닥면에 제1 배출구멍이 형성되어 있으며 상기 입구로 유입된 배출가스가 출구를 향하여 수평방향으로 흐르도록 입구와 출구가 배치된 습식정화챔버와, 상기 습식정화챔버의 내부를 입구측 공간과 출구측 공간으로 분리하도록 습식정화챔버 내부에 배치되고 배출가스의 통로를 형성하기 위하여 배치된 복수의 절곡된 블레이드를 포함한 엘리미네이터와, 액체저장조와, 일단이 상기 제1 배출 구멍에 연결되어 있으며 타단이 상기 액체저장조에 연결된 제1 배출관과, 상기 제1 배출관에 연결된 제1 밸브와, 상기 액체저장조로부터 액체를 공급받아 상기 습식정화챔버의 입구측 공간으로 분무하도록 설치된 분사노즐을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 습식정화챔버에 설치된 엘리미네이터를 청소하기 위하여 상기 제1 밸브를 폐쇄하고 습식정화챔버 내에 세척액을 공급하여 엘리미네이터를 설치된 상태에서 청소를 할 수 있다.Exhaust gas wet purifier according to the present invention has an inlet for the exhaust gas flows in and an outlet for the treated exhaust gas flows out, the first exhaust hole is formed on the bottom surface and the exhaust gas flowing into the inlet A wet purging chamber in which the inlet and the outlet are disposed to flow in a horizontal direction toward the outlet, and the inside of the wet purifying chamber is disposed in the wet purifying chamber to separate the interior of the wet purging chamber into the inlet space and the outlet side space and form a passage of the exhaust gas. An eliminator including a plurality of bent blades disposed for the purpose, a liquid reservoir, a first discharge tube having one end connected to the first discharge hole and the other end connected to the liquid reservoir, and a first connected to the first discharge tube. A valve and a spray nozzle installed to receive liquid from the liquid reservoir and spray the liquid into an inlet space of the wet purification chamber. And that is characterized. According to the present invention, in order to clean the eliminator installed in the wet purification chamber, the first valve may be closed and the cleaning solution may be supplied into the wet purification chamber to clean the eliminator.
습식정화챔버 내에 세척액을 가득 채워서 청소를 할 수 있도록 하기 위하여는, 일단이 상기 습식정화챔버의 입구에 연결되어 있으며 덕트의 일부가 습식정화챔버의 상부보다 높게 설치된 입구덕트와, 일단이 상기 습식정화챔버의 출구에 연결되어 있으며 덕트의 일부가 습식정화챔버의 상부보다 높게 설치된 출구덕트를 더 포함하는 것이 바람직하다. 본 발명에 따르면, 습식정화장치를 습식정화챔버 내부 및 엘리미네이터 청소를 위한 탈지 탱크로 변형시킬 수 있게 된다. 즉, 습식정화챔버에 연결된 입구 덕트와 출구덕트의 일부가 습식정화장치의 상부보다 높게 배치되어 있으므로 제1 밸브를 잠근 후에 정화처리장치의 내부에 청소를 위한 가성소다와 같은 세제를 포함하는 액체를 습식정화챔버의 상부까지 채울 수 있다. 정화처리챔버에 청소를 위한 액체를 채우고 일정 시간이 경과하여 챔버의 내부 및 엘리미네이터에 부착된 분진이나 반응염 등이 제거되면, 제1 밸브를 열어서 액체를 배출시킨다. 본 발명에 따르면 청소를 위하여 습식정화챔버 내의 엘리미네이터를 들어내지 않고서도 용이하게 습식 정화장치를 자주 청소할 수 있게 되어, 설비의 가동율 및 분진, 미스트, 수분, 응축수 등의 제거 효과를 높일 수 있게 된다.In order to clean the liquid by filling the cleaning liquid in the wet cleaning chamber, one end is connected to the inlet of the wet cleaning chamber and a part of the duct is installed higher than the upper portion of the wet cleaning chamber, and one end of the wet cleaning. Preferably, the outlet duct further includes an outlet duct connected to an outlet of the chamber and a portion of the duct installed higher than the upper portion of the wet purification chamber. According to the present invention, the wet cleaning apparatus can be transformed into a degreasing tank for cleaning the inside of the wet cleaning chamber and the eliminator. That is, since a part of the inlet duct and the outlet duct connected to the wet purifying chamber is disposed higher than the upper part of the wet purifying apparatus, a liquid containing a detergent such as caustic soda for cleaning is applied to the interior of the purifying apparatus after the first valve is closed. It can be filled up to the top of the wet purification chamber. When the liquid for cleaning is filled in the purifying treatment chamber and a predetermined time elapses, when dust or reactive salts, etc. attached to the inside of the chamber and the eliminator are removed, the first valve is opened to discharge the liquid. According to the present invention, it is possible to easily clean the wet purifier easily without lifting the eliminator in the wet purification chamber for cleaning, so as to increase the operation rate of the equipment and the removal effect of dust, mist, water, condensate, etc. do.
본 발명에 따른 배출가스 습식 정화장치에 있어서, 일단이 상기 출구덕트 또는 입구덕트의 습식정화챔버보다 높은 위치에 연결되어 있고 타단이 상기 액체저장조에 연결된 오버플로우 배관을 더 포함하는 것이 바람직하다. 오버플로우 배관을 설치하면 습식정화챔버에 청소를 위한 액체를 채울 경우 액체가 넘쳐서 입구덕트 전단에 있는 생산시설이나 출구덕트 후단에 있는 블로워와 같은 주변의 설비로 흘러들어가는 것을 방지할 수 있게 된다. 청소를 하지 않을 경우에 오버플로우 배관으로 배출가스가 흐르는 것을 방지하기 위한 제2 밸브를 오버플로우 배관에 추가로 설치하는 것이 바람직하다. 또한 도 3에 도시된 실시예와 같이 상기 제1 밸브는 원격제어가 가능한 콘트롤 밸브를 사용하고, 상기 습식정화챔버에 레벨 센서를 설치하여, 상기 레벨센서의 출력을 입력받아 상기 습식정화챔버 액체의 레벨을 일정수준으로 유지하기 위한 제어기를 사용할 수도 있다.In the wet gas purification apparatus for exhaust gas according to the present invention, it is preferable to further include an overflow pipe having one end connected to a position higher than the wet purifying chamber of the outlet duct or the inlet duct and the other end connected to the liquid reservoir. The installation of an overflow pipe prevents the liquid from overflowing into the wet cleaning chamber when it is filled with liquid for cleaning and into the surrounding facilities such as the production facility in front of the inlet duct or the blower at the rear of the outlet duct. When not cleaning, it is preferable to further install a second valve in the overflow pipe to prevent the exhaust gas from flowing into the overflow pipe. In addition, as shown in FIG. 3, the first valve uses a control valve capable of remote control, installs a level sensor in the wet purification chamber, receives an output of the level sensor, You can also use a controller to keep the level constant.
또한 발명에 따른 배출가스 습식 정화장치에 있어서, 도 2에 도시된 실시예와 같이, 상기 습식정화챔버의 바닥면으로부터 일정거리 이격된 상부의 측면에는 제2 배출구멍을 형성하고, 상기 엘리미네이터는 하부면이 상기 제2 배출구멍보다 하부에 위치하도록 설치하여, 일단이 상기 제2 배출구멍에 연결되고 타단이 상기 액체저장조에 연결된 제2 배출관과, 상기 제2 배출관에 연결된 제3 밸브를 더 포함하도록 하는 것이 바람직하다. 청소시에는 제1 배출관에 설치된 제1 밸브와 제2 배출관에 설치된 제3 밸브를 폐쇄하여 챔버에 청소를 위한 용액을 채워서 청소를 하고, 운전시에는 제1 밸브를 폐쇄하고 제3 밸브를 개방하여 습식정화챔버의 엘리미네이터의 바닥면까지 일정한 수준의 수위를 유지할 수 있게 된다. 따라서 운전시 엘리미네이터의 하부까지 액체가 차있게 되어 엘리미네이터 하부의 공간으로 배출가스가 통과되는 것을 방지하여, 배출가스에 포함된 분진이나 노즐을 통하여 분무된 수분이 배출되는 것을 방지할 수 있다.In addition, in the exhaust gas wet purifier according to the present invention, as shown in FIG. 2, a second discharge hole is formed on a side surface of the upper part spaced a predetermined distance from the bottom surface of the wet purification chamber, and the eliminator Is installed so that the lower surface is located below the second discharge hole, the second discharge pipe is connected to the second discharge hole and the other end is connected to the liquid reservoir and the third valve connected to the second discharge pipe further It is desirable to include. When cleaning, close the first valve installed in the first discharge pipe and the third valve installed in the second discharge pipe to fill the chamber with a solution for cleaning, and during operation, close the first valve and open the third valve. It is possible to maintain a constant level of water to the bottom of the eliminator of the wet purification chamber. Therefore, the liquid is filled to the lower part of the eliminator during operation to prevent the exhaust gas from passing through the lower part of the eliminator, thereby preventing the dust sprayed through the dust or nozzles contained in the exhaust gas. have.
청소의 효과를 높이기 위하여, 습식정화장치에 상기 습식정화챔버에 채워진 액체를 교반시키기 위한 교반수단을 더 포함하는 것이 바람직하다. 교반수단으로는 청소를 위하여 정화처리챔버의 내부에 채워진 용액에 공기를 공급할 수 있는 폭기수단이나, 교반 스크류 또는 초음파 발생장치를 챔버에 설치하여 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고 챔버 내부에 채워진 액체를 교반할 수 있는 것이면 어느 것이나 가능하다.In order to enhance the cleaning effect, it is preferable to further include a stirring means for stirring the liquid filled in the wet purification chamber in the wet purification apparatus. As the stirring means, aeration means for supplying air to a solution filled in the purification chamber for cleaning, or a stirring screw or an ultrasonic wave generator may be installed in the chamber, but is not limited thereto. Any one can be stirred as long as it can be stirred.
이하에서는 첨부의 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.
도 1은 본 발명에 따른 습식 정화장치의 일실시예의 개략도이다. 도 1에 도시된 실시예의 정화장치는 습식정화챔버(10)의 내부에 엘리미네이터(11)와 용액을 분사하기 위한 분사노즐(18)이 설치되어 있다. 습식정화챔버(10)의 일측에는 배출가스가 유입되기 위한 입구(15)가 형성되어 있고 타측에는 출구(17)가 형성되어 있다. 엘리미네이터(11)는 습식정화챔버(10)의 내부를 입구측 공간과 출구측 공간으로 분리하도록 배치되어 있다. 또한, 습식정화챔버(10)의 하부 바닥면에는 제1 배출구멍(12)이 형성되어 있다. 습식정화챔버(10)의 하부에는 엘리미네이터(11)를 바닥면으로 부터 일정거리 이격되도록 설치하기 위한 설치대(14)가 고정되어 있으나, 엘리미네이터(11)가 제1 배출구멍(12)을 막지 않는 구조로 되어 있는 경우 설치대(14)를 설치하지 않아도 무방하다. 입구(15)와 출구(17)는 입구(17)로 유입된 배출가스가 거의 수평이 되어 흐르도록 형성되어 있다. 제1 배출구멍(12)에는 액체저장조(20)와 연결된 제1 배출관(21)이 연결되어 있다. 제1 배출관(21)에는 액체의 흐름을 개폐하기 위한 제1 밸브(23)가 설치되어 있다. 습식정화챔버(10)의 입구(15)에는 덕트의 일부가 습식정화챔버(10)의 상부보다 높게 설치된 입구덕트(3)가 연결되어 있고, 습식정화챔버(10)의 출구(17)에는 덕트의 일부가 습식정화챔버(10)의 상부보다 높게 설치된 출구덕트(4)가 연결되어 있다. 습식정화챔버(10)보다 상부에 위치하는 출구덕트(4)의 부분에 액체저장조(20)와 연결된 오버플로우배관(5)이 연결되어 있다. 출구덕트(4)는 블로어(90)에 덕트(2)로 연결되어 있으며, 블로어(90)는 굴뚝(100)으로 배출가스를 배출시킨다. 1 is a schematic diagram of one embodiment of a wet purifying apparatus according to the present invention. In the purification apparatus of the embodiment illustrated in FIG. 1, an eliminator 11 and a spray nozzle 18 for spraying a solution are installed inside the wet purification chamber 10. One side of the wet purification chamber 10 is formed with an inlet 15 for introducing the exhaust gas and an outlet 17 is formed on the other side. The eliminator 11 is arranged to separate the inside of the wet purification chamber 10 into an inlet space and an outlet space. In addition, a first discharge hole 12 is formed in the lower bottom surface of the wet purification chamber 10. Although the mounting table 14 for fixing the eliminator 11 so as to be spaced apart from the bottom by a predetermined distance is fixed to the lower portion of the wet purification chamber 10, the eliminator 11 has a first discharge hole 12. If the structure does not block the installation stand 14 may be installed. The inlet 15 and the outlet 17 are formed such that the exhaust gas flowing into the inlet 17 flows almost horizontally. A first discharge pipe 21 connected to the liquid reservoir 20 is connected to the first discharge hole 12. The first discharge pipe 21 is provided with a first valve 23 for opening and closing the flow of liquid. The inlet duct 3 is connected to the inlet 15 of the wet cleaning chamber 10, the part of which is higher than the upper part of the wet cleaning chamber 10, and the duct is connected to the outlet 17 of the wet cleaning chamber 10. A portion of the outlet duct 4 is installed higher than the upper portion of the wet purification chamber 10 is connected. An overflow pipe 5 connected to the liquid reservoir 20 is connected to a portion of the outlet duct 4 located above the wet purification chamber 10. The outlet duct 4 is connected to the blower 90 as a duct 2, and the blower 90 discharges the exhaust gas to the chimney 100.
액체저장조(20)에 저장된 액체는 정화처리하고자 하는 배출가스의 종류에 따라 적당한 것을 선택하여 사용할 수 있다. 분진이나 먼지가 많은 배출가스인 경우에는 물을 정화처리액체로 사용할 수도 있고, 산성의 배출가스인 경우에는 중화처리를 하기 위하여 가성소다(NaOH) 용액을 사용할 수도 있다. 액체저장조(20)에 저장된 용액은 펌프(30)를 통하여 습식정화챔버(10)의 입구측 공간에 설치된 분사노즐(18)로 공급하도록 되어 있다. 도시하지는 않았으나, 액체저장조(20)의 용액을 펌프(30)로 공급하기 전에 분사노즐(18)이 막히는 것을 방지하기 위하여 액체저장조(20)의 슬러지 등을 정화하기 위한 폐수처리시설을 설치할 수도 있다.The liquid stored in the liquid storage tank 20 may be selected and used according to the type of exhaust gas to be purified. In the case of dust or dust exhaust gas, water may be used as a purification liquid, and in the case of acidic exhaust gas, caustic soda (NaOH) solution may be used for neutralization treatment. The solution stored in the liquid reservoir 20 is supplied to the injection nozzle 18 provided in the inlet space of the wet purification chamber 10 through the pump 30. Although not shown, a wastewater treatment facility may be installed to purify the sludge of the liquid reservoir 20 to prevent the injection nozzle 18 from being blocked before the solution of the liquid reservoir 20 is supplied to the pump 30. .
도 4는 본 발명에 따른 습식 정화장치에 사용되는 엘리미네이터의 일실시예의 사시도이고이다. 도 4을 참조하면, 엘리미네이터(11)는 손잡이가 설치된 상판(11a)과, 복수의 블레이드(11b)를 수용하기 위한 프레임(11d)과, 하판(11c)과, 상판(11a) 및 하판(11c)에 설치된 복수의 블레이드(11b)로 구성된다. 상기 복수의 블레이드(11b)는 수직으로 배치되어 배출가스로부터 제거되는 수분이나 분진이 중력에 의하여 습식정화챔버(10)의 바닥면으로 떨어지도록 한다. 또한, 각각의 브레이드(11b)는 배출가스의 흐름 방향을 안내하여 미립자를 제거할 수 있도록 절곡되어 있다. 또한, 상판(11a) 및 하판(11c)에는 블레이드(11b)가 설치되기 위한 설치홈(11c-1)이 형성되어 있다.Figure 4 is a perspective view of one embodiment of an eliminator used in the wet purifying apparatus according to the present invention. Referring to FIG. 4, the eliminator 11 includes a top plate 11a provided with a handle, a frame 11d for accommodating a plurality of blades 11b, a bottom plate 11c, a top plate 11a, and a bottom plate. It consists of the some blade 11b provided in 11c. The plurality of blades 11b are disposed vertically so that moisture or dust removed from the exhaust gas falls to the bottom surface of the wet purification chamber 10 by gravity. In addition, each braid 11b is bent to remove the fine particles by guiding the flow direction of the exhaust gas. In addition, mounting grooves 11c-1 for installing the blades 11b are formed in the upper plate 11a and the lower plate 11c.
도 5는 본 발명에 따른 습식정화장치에 있어서 분사노즐과 엘리미네이더의 다양한 배치상태도이다. 도 5a에 도시된 것과 같이 분사노즐로 부터 액체가 분무되는 방향이 배출가스 유동 방향(화살표 방향)의 하류를 향하도록(도 1에 도시된 것과 반대로) 분사노즐(18)을 설치하거나, 도 5b에 도시된 것과 같이 한쌍의 분무노즐(18)을 분무 방향이 대향하도록 설치하거나, 도 5c에 도시된 것과 같이 복수의 엘리미네이터(11)의 사이에 설치할 수도 있다.5 is a view illustrating various arrangements of the spray nozzle and the eliminator in the wet purifying apparatus according to the present invention. As shown in FIG. 5A, the spray nozzle 18 is installed such that the liquid sprayed from the spray nozzle is directed downstream of the discharge gas flow direction (arrow direction) (as opposed to that shown in FIG. 1), or FIG. 5B As shown in FIG. 5, a pair of spray nozzles 18 may be installed so that the spray directions are opposite, or as shown in FIG. 5C, between the plurality of eliminators 11.
이하에서는 본 실시예의 습식정화장치의 작동에 대하여 설명한다. 습식정화장치를 장시간 사용하여 습식정화챔버(10) 내에 설치된 엘리미네이터(11)에 먼지나 산성가스와 알카리 약품에 의해 반응된 반응염 등이 부착되어 수분이나 가스 및 먼지 등의 제거 효율이 떨어졌을 경우 엘리미네이터(11)를 청소해 주어야 한다. 엘리미네이터(11)의 분진 등 제거 효율이 떨어진 정도는 처리된 배출가스가 유출되기 위한 출구(17)후단에 습도 측정계를 설치하여 수분의 제거 정도를 확인하거나, 파티클 측정장치를 설치하여 먼지의 제거 정도를 확인하거나, 여러가지 가스 측정장치를 설치하여 산성가스의 제거 정도를 확인할 수 있다. 엘리미네이터(11)의 청소를 위하여 먼저 제1 배관(21)에 설치된 제1 밸브(23)를 폐쇄시켜서 청소를 위한 액체가 챔버(10)에 공급된 경우 유출되지 않도록 한다. 다음으로 펌프(30)를 가동하여 습식정화챔버(10)의 내부에 청소를 위한 액체를 공급하여 습식정화챔버(10) 내부에 용액을 꽉 채워서 엘리미네이터(11)가 용액에 잠기도록 한다. 입구(15) 및 출구(17)에 연결된 입구덕트(3) 및 출구덕트(4)의 일부가 습식정화챔버(10) 보다 상부에 위치하도록 되어 있으며, 출구덕트(4)에는 오버플로우 배관(5)이 액체저장조(20)에 연결되어 있어서 습식정화챔버(10)에 과도하게 액체를 공급하여도 입구덕트(3) 전단에 있는 생산시설이나 출구덕트(4) 후단에 있는 블로어(90) 등과 같은 주변의 설비로 용액이 넘쳐서 흘러들어가는 것을 방지할 수 있다. 본 실시예에서는 액체저장조(20)에 저장된 액체를 엘리미네이터(11)를 청소하기 위한 세제로 사용하도록 되어 있으나, 입구덕트(3)나 출구덕트(4) 또는 습식정화챔버(10) 상부에 세정액 투입을 위한 투입구를 설치하여 세정액을 별도로 투입할 수도 있다. 습식정화챔버(10)에 세정액 투입구를 설치할 경우에는 상부면에 형성하는 것이 바람직하다. 엘리미네이터의 세정을 위한 액체로, 물을 사용할 수도 있으나 가성소다를 혼합한 약품이면 더욱 좋다. 보다 효과적인 엘리미네이터 세척을 위하여 가성소다의 농도를 진하게 하여 사용하면 더욱 좋고, 필요할 경우 펌프(30)를 계속 가동시켜 액체가 습식정화챔버(10)와 액체저장조(20)를 계속 순환하도록 할 수도 있다.Hereinafter, the operation of the wet purifying apparatus of the present embodiment will be described. When the wet purifier is used for a long time, the reaction salt reacted by the dust, acid gas, and alkali chemicals is attached to the eliminator 11 installed in the wet purge chamber 10, and thus the removal efficiency of moisture, gas, and dust is inferior. If you have to clean the eliminator (11). The degree of elimination of dust such as dust of the eliminator 11 may be set up at the rear of the outlet 17 through which the treated exhaust gas is discharged to check the degree of removal of moisture, or by installing a particle measuring device. The degree of removal can be checked, or various gas measuring devices can be installed to check the degree of acid gas removal. In order to clean the eliminator 11, first, the first valve 23 installed in the first pipe 21 is closed to prevent leakage of the liquid when the liquid for cleaning is supplied to the chamber 10. Next, the pump 30 is operated to supply a liquid for cleaning to the inside of the wet purification chamber 10 to fill the solution inside the wet purification chamber 10 so that the eliminator 11 is submerged in the solution. A part of the inlet duct 3 and the outlet duct 4 connected to the inlet 15 and the outlet 17 is located above the wet purge chamber 10, and the outlet duct 4 has an overflow pipe 5 ) Is connected to the liquid reservoir 20 so that even if the liquid is excessively supplied to the wet purification chamber 10, such as a blower 90 at the rear of the production facility or the outlet duct 4 in front of the inlet duct 3. It can prevent the solution from overflowing to the surrounding equipment. In the present embodiment, the liquid stored in the liquid reservoir 20 is used as a detergent for cleaning the eliminator 11, but the inlet duct 3, the outlet duct 4, or the wet purification chamber 10 is disposed on the top. The cleaning solution may be added separately by installing an inlet for cleaning solution. When the cleaning liquid inlet is provided in the wet purification chamber 10, it is preferably formed on the upper surface. As a liquid for cleaning the eliminator, water may be used, but a medicine containing caustic soda is preferable. It is better to increase the concentration of caustic soda for more effective eliminator cleaning, and if necessary, continue to operate the pump 30 so that the liquid can continue to circulate through the wet purification chamber 10 and the liquid reservoir 20. have.
습식정화챔버(10)에 세척을 위한 액체를 투입한 후 일정한 시간이 경과하여 엘리미네이터(11)의 세척이 완료되면, 제1 밸브(23)를 개방하여 세정액을 배출시킨다. 세정액을 배출시킬 경우에 액체저장조(20)의 용량이 적을 경우 외부로 배출되도록 할 수도 있다. 세척이 완료되면 입구덕트(3)로 배출가스를 공급하여 세정장치를 정상적으로 가동시킨다.After the cleaning of the eliminator 11 is completed after a predetermined time passes after the liquid for cleaning is put into the wet purification chamber 10, the first valve 23 is opened to discharge the cleaning liquid. When the cleaning liquid is discharged, the liquid storage tank 20 may be discharged to the outside when the capacity is small. When the cleaning is completed, the exhaust gas is supplied to the inlet duct 3 to operate the cleaning device normally.
도 2는 본 발명에 따른 습식 정화장치의 다른 실시예의 개략도이다. 도 2에 도시된 실시예가 도 1에 도시된 실시예와 다른 점은, 첫째 습식정화챔버(10)의 내부에 액체를 교반하기 위한 교반수단으로 폭기장치가 설치되어 있는 점이다. 폭기장치는 외부의 공기를 공급하기 위한 배관(50)과 배관의 단부에 설치된 노즐(51)을 포함한다. 둘째, 습식정화챔버(10)의 설치대(14) 상부 측벽에 제2 배출구멍(13)이 형성되어 있고, 제2 배출구멍에 액체저장조(20)에 연결된 제2 배출관(22)이 연결되어 있고, 제2 배출관에는 제3 밸브(24)가 설치되어 있는 점이다. 셋째, 오버플로우배관(5)에 제2 밸브(25)가 설치되어 있는 점이다. 2 is a schematic diagram of another embodiment of a wet purifying apparatus according to the present invention. The embodiment shown in FIG. 2 is different from the embodiment shown in FIG. 1. First, an aeration device is installed as a stirring means for stirring a liquid inside the wet purification chamber 10. The aeration device includes a pipe 50 for supplying outside air and a nozzle 51 provided at an end of the pipe. Second, the second discharge hole 13 is formed in the upper sidewall of the mounting table 14 of the wet purification chamber 10, and the second discharge pipe 22 connected to the liquid reservoir 20 is connected to the second discharge hole. The second discharge pipe is provided with the third valve 24. Third, the second valve 25 is provided in the overflow pipe (5).
본 실시예의 습식 정화장치는, 청소를 할 경우 제1 배출관(21)에 설치된 제1 밸브(23)와 제2 배출관(22)에 설치된 제3 밸브(24)를 폐쇄하고, 오버플로우 배관(5)에 연결된 제2 밸브(25)를 개방한 상태에서 습식정화챔버(10)에 세척액을 투입하여 청소를 한다. 또한 엘리미네이터(11) 청소 효과를 높이기 위하여 액체가 채워진 챔버(10)의 내부에 공기를 공급하여 액체를 교반시킬 수 있도록 되어 있다. 또한 배출가스를 정화하기 위한 운전시에는 제1 밸브(23) 및 제2 밸브(25)를 폐쇄하고 제3 밸브를 개방하여, 습식정화챔버(10)의 엘리미네이터(11)의 바닥면까지 일정한 수준의 수위를 유지할 수 있도록 되어 있다. 따라서 운전시 엘리미네이터(11)의 하부까지 항상 액체가 차있게 되어 엘리미네이터 하부의 공간으로 배출가스가 통과되는 것을 방지하여, 배출가스에 포함된 분진이나 노즐을 통하여 분무된 수분이 배출되는 것을 방지할 수 있다.The wet purifier of this embodiment closes the first valve 23 provided in the first discharge pipe 21 and the third valve 24 provided in the second discharge pipe 22 when cleaning, and the overflow pipe 5 In the state in which the second valve 25 connected to) is opened, the cleaning solution is added to the wet purification chamber 10 to clean it. In addition, in order to enhance the cleaning effect of the eliminator 11, it is possible to stir the liquid by supplying air into the chamber 10 filled with the liquid. In addition, during operation for purifying the exhaust gas, the first valve 23 and the second valve 25 are closed and the third valve is opened to the bottom surface of the eliminator 11 of the wet purification chamber 10. It is designed to maintain a constant level. Therefore, during operation, the liquid is always filled to the lower part of the eliminator 11 to prevent the exhaust gas from passing through the space of the lower eliminator so that the water sprayed through the dust or the nozzle included in the exhaust gas is discharged. Can be prevented.
도 3은 본 발명에 따른 습식 정화장치의 다른 실시예의 개략도이다. 도 3에 도시된 실시예가 도 1에 도시된 실시에와 다른 점은, 첫째 습식정화챔버(10)의 내부에 액체를 교반하기 위한 교반수단으로 폭기장치가 설치되어 있는 점이다. 둘째, 습식정화챔버의 내부에 레벨센서(41)를 설치하고 제1 밸브(23)로 개폐의 제어가 가능한 콘트롤밸브를 사용하였으며, 레벨센서(41)의 신호를 입력받아 제1 밸브(23)의 개폐를 제어하기 위한 제어장치(40)를 구비한 점이다.3 is a schematic view of another embodiment of a wet purifying apparatus according to the present invention. The embodiment shown in FIG. 3 is different from the embodiment shown in FIG. 1, firstly, an aeration device is installed as a stirring means for agitating a liquid inside the wet purification chamber 10. Second, a level sensor 41 is installed inside the wet purification chamber and a control valve capable of controlling opening and closing with the first valve 23 is used. The first valve 23 receives a signal from the level sensor 41. It is provided with a control device 40 for controlling the opening and closing of the.
본 실시예의 습식 정화장치는, 청소를 할 경우 제1 배출관(21)에 설치된 제1 밸브(23)를 폐쇄하고, 펌프를 가동시켜서 습식정화챔버(10)의 내부에 액체를 공급한다. 레벨센서(41)로부터 습식정화챔버(10) 내의 수위에 대한 정보를 입력받아 제어장치로 콘트롤 밸브(23)의 개폐 및 펌프(30)의 동작을 제어하여 청소에 적정한 수위를 유지하거나 액체가 순환되도록 한다. 물론 오버플로우배관(5)에 콘트롤밸브를 추가로 설치하여 제어장치(40)로 개폐를 제어할 수도 있다. 또한 배출가스를 정화하기 위한 운전시에는 레벨센서(41)로부터 챔버(10) 내부의 수위에 대한 정보를 입력받아, 제1 밸브(23)의 개폐를 제어하여 습식정화챔버(10)의 엘리미네이터(11)의 바닥면까지 일정한 수준의 수위를 유지하도록 할 수 있다. 따라서 운전시 엘리미네이터(11)의 하부까지 항상 액체가 차있게 되어 엘리미네이터 하부의 공간으로 배출가스가 통과되는 것을 방지하여, 배출가스에 포함된 분진이나 분사노즐(18)을 통하여 분무된 수분이 배출되는 것을 방지할 수 있다.In the wet purifying apparatus of the present embodiment, when cleaning, the first valve 23 provided in the first discharge pipe 21 is closed, and the pump is operated to supply liquid to the inside of the wet purification chamber 10. The level sensor 41 receives the information on the water level in the wet purification chamber 10 to control the opening and closing of the control valve 23 and the operation of the pump 30 by a control device to maintain an appropriate water level for cleaning or to circulate liquid. Be sure to Of course, by additionally installing a control valve on the overflow pipe (5) it may be controlled to open and close the control device (40). In addition, during operation to purify the exhaust gas receives the information on the water level in the chamber 10 from the level sensor 41, the opening and closing of the first valve 23 to control the elimination of the wet purification chamber 10 It is possible to maintain a constant level of water to the bottom surface of the data (11). Therefore, the liquid is always filled to the lower part of the eliminator during operation to prevent the exhaust gas from passing through the space under the eliminator, and is sprayed through the dust or the injection nozzle 18 contained in the exhaust gas. It is possible to prevent the discharge of moisture.
본 발명에 의하면, 습식정화챔버의 하부에 연결된 배출관에 밸브를 설치하여, 청소시 밸브를 폐쇄한 상태에서 세척액을 습식정화챔버에 공급하여 용이하게 엘리미네이터를 청소할 수 있다. 또한, 본 발명에 의한 바람직한 실시예로 입구덕트 및 출구덕트의 일부가 습식정화챔버의 상부보다 높게 설치되어 있고, 습식정화챔버의 바닥에 연결된 배출관에 밸브가 설치된 습식정화장치가 제공된다. 즉 습식정화장치의 구조를 변경하여 엘리미네이터 청소를 위한 탈지 탱크로 전환하여 사용할 수 있게 된다. 따라서 챔버 내부에 가성소다와 같은 세제를 포함하는 액체를 채워서 엘리미네이터를 외부로 들어내지 않고서도 용이하게 청소할 수 있다. 또한, 폭기수단이나 교반용 스크류를 설치하여 청소의 효과를 높일 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면 엘리미네이터를 쉽게 자주 청소할 수가 있게 되어 설비의 가동율과 배출가스의 정화 효율을 높일 수 있게 된다.According to the present invention, by installing a valve in the discharge pipe connected to the lower portion of the wet purification chamber, it is possible to easily clean the eliminator by supplying the cleaning liquid to the wet purification chamber in a state in which the valve is closed during cleaning. In addition, according to a preferred embodiment of the present invention, a part of the inlet duct and the outlet duct is installed higher than the upper portion of the wet purification chamber, and a wet purification apparatus provided with a valve is provided in the discharge pipe connected to the bottom of the wet purification chamber. In other words, by changing the structure of the wet purifier can be used to switch to the degreasing tank for cleaning the eliminator. Therefore, by filling a liquid containing a detergent such as caustic soda inside the chamber can be easily cleaned without lifting the eliminator outside. In addition, the effect of cleaning can be enhanced by providing an aeration means or a stirring screw. In addition, according to the present invention, the eliminator can be easily and frequently cleaned, thereby increasing the operation rate of the equipment and the purification efficiency of the exhaust gas.
앞에서 설명되고, 도면에 도시된 본 발명의 일 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 될 것이다.An embodiment of the present invention described above and illustrated in the drawings should not be construed as limiting the technical spirit of the present invention. The protection scope of the present invention is limited only by the matters described in the claims, and those skilled in the art can change and change the technical idea of the present invention in various forms. Therefore, such improvements and modifications will fall within the protection scope of the present invention, as will be apparent to those skilled in the art.
도 1은 본 발명에 따른 습식 정화장치의 일실시예의 개략도1 is a schematic diagram of one embodiment of a wet purifying apparatus according to the present invention;
도 2는 본 발명에 따른 습식 정화장치의 다른 실시예의 개략도2 is a schematic view of another embodiment of a wet purifying apparatus according to the present invention;
도 3은 본 발명에 따른 습식 정화장치의 또 다른 실시예의 개략도3 is a schematic view of another embodiment of a wet purifying apparatus according to the present invention;
도 4는 본 발명에 따른 습식 정화장치에 사용되는 엘리미네이터의 일실시예의 사시도Figure 4 is a perspective view of one embodiment of the eliminator used in the wet purifying apparatus according to the present invention
도 5는 본 발명에 따른 습식정화장치에 있어서 분사노즐과 엘리미네이터의 다양한 배치상태도5 is a view illustrating various arrangements of the spray nozzle and the eliminator in the wet purifying apparatus according to the present invention.
도 6는 종래의 습식 정화장치의 개략도6 is a schematic view of a conventional wet purifier
<도면 부호의 간단한 설명><Short description of drawing symbols>
3 입구덕트 4 출구덕트3 Entrance duct 4 Exit duct
5 오버플로우 배관 10 정화처리챔버5 Overflow piping 10 Purification chamber
11 엘리미네이터 18 분사노즐11 Eliminator 18 Injection Nozzle
20 액체저장조 21 제1 배출관20 Liquid reservoir 21 First discharge pipe
22 제2 배출관 23 제1 밸브22 2nd discharge line 23 1st valve
24 제3 밸브 25 제2 밸브24 3rd valve 25 2nd valve
30 펌프 90 블로워30 pumps 90 blowers
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