KR100916142B1 - 도포 장치 및 이를 이용한 도포 방법 - Google Patents
도포 장치 및 이를 이용한 도포 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100916142B1 KR100916142B1 KR1020070117948A KR20070117948A KR100916142B1 KR 100916142 B1 KR100916142 B1 KR 100916142B1 KR 1020070117948 A KR1020070117948 A KR 1020070117948A KR 20070117948 A KR20070117948 A KR 20070117948A KR 100916142 B1 KR100916142 B1 KR 100916142B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- coating
- application
- gun
- curing
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
도포 장치 및 이를 이용한 도포 방법에서, 거리 측정 센서는 도포 유닛이 기판 상으로 실리콘을 도포하기 이전에 도포 유닛의 진행 방향에 따라서 회전하도록 구현되어 기판과의 거리를 측정한다. 도포 유닛의 높이는 거리 측정 센서로부터 측정된 거리를 근거로하여 설정되고, 도포 유닛은 도포하고자 하는 방향에 따라서 회전하도록 구현되어 기판 상으로 실리콘을 제공한다. 경화 유닛은 도포 유닛의 후단에 구비되어 상기 기판 상에 도포된 실리콘에 UV광을 제공하여 실리콘을 경화시킨다. 따라서, 기판에 양방향으로 실리콘 도포가 가능하며, 도포된 실리콘을 정상적으로 경화시킬 수 있다.
Description
본 발명은 도포 장치 및 이를 이용한 도포 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 양방향 도포가 가능한 도포 장치 및 이를 이용한 도포 방법에 관한 것이다.
평판 디스플레이 제조장치 중 도포 장치는 평판 디스플레이 제조용 유리기판에 실리콘을 도포하는 장치이다. 일반적인 도포 장치는 기판의 상부에 구비되고, 일 방향으로 이동하면서 기판 표면 상에 실리콘을 도포하는 도포건을 포함한다.
일반적인 도포 공정은 기판을 로딩(loading)시키는 단계, 도포건을 기판의 상부에서 일정속도로 이동시키면서 기판 표면에 실리콘을 도포하는 단계, 그리고 기판을 언로딩(unloading)시키는 단계를 포함한다.
그러나, 상술한 도포 장치에서 도포건은 기 설정된 시작 위치에서 한 방향으로 이동하면서 기판의 표면 상에 실리콘을 도포하는 단방향 도포 방식을 채택하고 있다. 그래서, 도포가 완료된 이후에는 도포건을 다시 시작 위치로 이동시킨 후 그 위치에서 도포 공정을 다시 시작하여야 한다.
따라서, 실리콘 도포가 완료된 후 도포건을 다시 도포 시작 위치로 이동시키 는 시간만큼 도포 공정 시간이 지연되고, 그 결과 평판 디스플레이의 생산성이 저하된다.
따라서, 본 발명의 목적은 기판 상으로 처리액을 양방향으로 도포할 수 있는 도포 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기한 도포 장치를 이용한 도포 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따른 도포 장치는 도포 방향에 따라서 전진 및 후진하도록 구현되고, 기판과의 거리를 측정하는 거리 측정 센서, 상기 거리 측정 센서로부터 측정된 거리를 근거로하여 상기 기판과의 거리가 조절되고, 상기 도포 방향에 따라서 전진 및 후진하도록 구현되어 상기 기판 상으로 처리액을 제공하는 도포 유닛, 및 상기 기판 상으로 제공된 처리액을 경화시키는 경화 유닛을 포함한다.
본 발명의 일 예로, 상기 도포 유닛은 상기 기판 상으로 상기 처리액을 도포하는 도포건, 및 상기 도포건이 전진 및 후진하도록 상기 도포건을 회전시키는 회전부재를 포함한다.
상기 경화 유닛은 전진하는 상기 도포건의 후단에 제공되어 상기 기판 상의 상기 처리액을 경화시키는 제1 경화부재, 및 후진하는 상기 도포건의 후단에 제공되어 상기 기판 상의 상기 처리액을 경화시키는 제2 경화부재를 포함한다.
본 발명의 일 예로, 상기 처리액은 실리콘으로 이루어지고, 상기 제1 및 제2 경화부재 각각은 상기 실리콘으로 UV광을 제공하는 발광 다이오드로 이루어진다.
본 발명의 다른 측면에 따른 도포 방법에 따르면, 도포 방향에 따라서 이동하면서 기판과의 거리를 측정한다. 측정된 거리를 근거로하여 상기 기판과 도포건과의 거리를 조절한다. 도포 방향에 따라서 상기 도포건의 진행 방향을 설정한다. 상기 도포건을 상기 도포 방향으로 이동시키면서 상기 기판 상으로 처리액을 제공한다. 상기 기판 상으로 제공된 상기 처리액을 경화시킨다.
본 발명의 일 예로, 상기 처리액은 실리콘으로 이루어지고, 상기 처리액을 경화시키는 단계는 상기 실리콘으로 UV광을 조사하는 단계를 포함한다.
이와 같은 도포 장치 및 이를 이용한 도포 방법에 따르면, 회전 가능한 도포 유닛과 거리 측정 센서 유닛을 구비하고, 도포 유닛을 기준으로 양측에 구비된 제1 및 제2 경화부재를 구비함으로써, 기판에 양방향으로 실리콘 도포가 가능하고, 도포된 실리콘을 정상적으로 경화시킬 수 있다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해지도록, 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달되도록 하기 위해 제공되는 것이다. 또한, 본 실시예에서는 평판 디스플레이 제조용 유리 기판에 실리콘을 도포하는 장치를 예로 들어 설명하였으나, 본 발명은 웨이퍼, 필름액정용 플레시블 기판, 포토마스크용 기판, 그리고 컬러 필터용 기판 등과 같은 다양한 종류의 기판에 처리액을 도포하는 모든 장치에 적용이 가능하다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 도포 장치를 나타낸 측면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 도포 장치(100)는 준비된 기판(10) 상으로 실리콘(11)을 도포하기 위하여 기판(10) 상에 구비된 거리 측정 센서(110), 도포 유닛(120), 제1 및 제2 경화 부재(131, 132)로 이루어진다.
거리 측정 센서(110)는 기판(10)의 휨 정도를 측정하기 위하여 지정된 위치에서 기판(10)의 상면으로 레이저를 조사한다. 거리 측정 센서(110)는 기판(10)에 의해서 반사된 레이저를 수신하여 기판(10)과의 거리를 측정하고, 측정된 거리와 기 설정된 기준 거리를 비교하여 기판(10)의 휨을 판단한다.
판단 결과는 이후에 기판(10)에 대한 도포 유닛(120)의 높이를 조절하는데 이용된다. 즉, 기판(10)의 휨에 의해서 거리 측정 센서(110)와 기판(10)과의 거리가 기준 거리보다 가깝다고 판단되면, 도포 유닛(120)을 기 설정된 기준 높이보다 높게 이동시키고, 기판(10)과 거리 측정 센서(110)의 거리가 기준 거리보다 멀다고 판단되면, 도포 유닛(120)을 기준 높이보다 낮게 이동시킨다.
여기서, 거리 측정 센서(110)는 기판(10) 상으로 레이저를 조사하는 센서부(111) 및 센서부(111)를 도포 유닛(120)의 진행 방향으로 회전시키는 제1 회전부재(112)로 이루어진다. 즉, 기판(10)의 휨 정도를 측정하는 단계는 도포 단계보다 선행되어야 하므로, 도포 유닛(120)의 진행 방향에 따라서 거리 측정 센서(110)의 진행 방향도 달라진다. 따라서, 제1 회전부재(112)는 도포 유닛(120)의 진행 방향 으로 센서부(111)의 진행 방향을 결정하는 역할을 수행한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 상기 도포 유닛(120)의 진행 방향이 제1 방향(D1)으로 결정되면, 상기 거리 측정 센서(110)는 상기 도포 유닛(120)의 좌측에 구비되어 상기 기판(10)의 휨 정도를 측정한다. 한편, 도 2에 도시된 바와 같이, 도포 유닛(120)의 진행 방향이 제1 방향(D1)과 반대하는 제2 방향(D2)으로 결정되면, 상기 거리 측정 센서(110)는 제1 회전 부재(112)에 의해서 회전하여 상기 도포 유닛(120)의 우측에 구비된다. 따라서, 상기 거리 측정 센서(110)는 상기 도포 유닛(120)이 제2 방향(D2)으로 진행하기 이전에 상기 기판(10)의 휨 정도를 측정하여 상기 도포 유닛(120)의 높이를 조절하는데 필요한 정보를 제공한다.
한편, 기판(10)의 휨에 따라서 도포 유닛(120)의 높이가 설정되면, 도포 유닛(120)은 기판(10) 상으로 실리콘(11)을 도포한다. 구체적으로, 상기 도포 유닛(120)은 상기 기판(10) 상으로 실리콘(11)을 제공하는 도포건(121) 및 도포건(121)의 진행 방향을 결정하는 제2 회전 부재(122)로 이루어진다. 실리콘 도포 방향이 제1 방향(D1)으로 결정되면, 제2 회전 부재(122)는 도포건(121)이 제1 방향(D1)으로 이동하도록 회전시킨다. 따라서, 상기 도포건(121)은 제1 방향(D1)으로 이동하면서 상기 기판(10) 상으로 실리콘(11)을 공급한다
한편, 상기 제1 방향(D1)으로의 실리콘 도포가 완료되면 도 2에 도시된 바와 같이 제2 회전 부재(122)는 제2 방향(D2)으로 진행하도록 상기 도포건(121)을 회전시키고, 상기 도포건(121)은 제2 방향(D2)으로 이동하면서 상기 기판(10) 상으로 실리콘(11)을 공급한다. 따라서, 기판(10) 상으로 실리콘(11)을 도포하는데 있어 서, 양방향 도포가 가능해진다.
도 1에 도시된 바와 같이, 제1 방향(D1)으로 실리콘(11) 도포가 진행될 경우, 도포 유닛(120)의 우측에 구비된 제1 경화부재(131)가 동작한다. 따라서, 제1 방향(D1)으로 진행하는 도포 유닛(120)에 의해서 기판(10) 상으로 실리콘(11)이 도포되면, 제1 경화부재(131)는 상기 기판(10) 상으로 UV 광을 조사하여 상기 기판(10) 상에 제공된 실리콘(11)을 경화시킨다.
한편, 도 2에 도시된 바와 같이, 제2 방향(D2)으로 실리콘(11) 도포가 진행될 경우, 도포 유닛(120)의 좌측에 구비된 제2 경화부재(132)이 동작한다. 따라서, 제2 방향(D2)으로 진행하는 도포 유닛(120)에 의해서 기판(10) 상으로 실리콘(11)이 도포되면, 제2 경화부재(132)는 상기 기판(10) 상으로 UV광을 조사하여 상기 기판(10) 상에 제공된 실리콘(11)을 경화시킨다.
이처럼, 도포 장치(100)는 실리콘(11)의 도포 방향에 따라서 실리콘(11)을 경화시키기 위해 제1 및 제2 경화부재(131, 132) 중 어느 하나를 선택하여 동작시킴으로써, 양방향 도포시 실리콘(11) 경화가 정상적으로 이루어질 수 있도록 한다.
도 3은 도 1 및 도 2에 도시된 도포 장치를 이용한 도포 과정을 나타낸 순서도이다.
도 1 내지 3을 참조하면, 기판(10) 상에서 실리콘(11)을 도포하는 방향 즉, 도포건(121)의 진행 방향을 설정한다(S210).
진행 방향이 설정되면, 거리 측정 센서(110)를 도포건(121)의 진행 방향으로 회전시켜 도포건(121)으로부터 실리콘(11)이 출력되기 이전에 거리 측정 센서(110) 를 이용하여 기판(10)과의 거리를 측정한다.
이후, 측정된 거리를 근거로하여 기판에 대한 도포건(121)의 높이를 조절한다(S230). 즉, 측정된 거리가 기준 거리보다 크면 도포건(121)의 높이를 낮추고, 측정된 거리가 기준 거리보다 작으면 도포건(121)의 높이를 높이는 방식으로 도포건의 높이를 조절한다.
다음, 도포건(121)을 이용하여 기판(10) 상으로 실리콘(11)을 제공한다(S240). 이때, 상기 실리콘(11)은 상기 도포건(121)의 진행 방향으로 순차적으로 도포된다.
이후, 도포건(121)의 진행 방향에 따라서 제1 및 제2 경화부재(131, 132) 중 어느 하나를 선택하여 기판(10) 상으로 도포된 실리콘(11) 측으로 UV 광을 조사함으로써, 기판(10) 상에 도포된 실리콘(11)을 경화시킨다. 이로써, 양방향으로 실리콘(11)을 도포할 수 있는 도포 공정이 완료된다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 도포 장치를 나타낸 측면도이다.
도 3은 도 1 및 도 2에 도시된 도포 장치를 이용한 도포 과정을 나타낸 순서도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
100 : 도포장치 110 : 거리 측정 센서
111 : 센서부 112 : 제1 회전부재
120 : 도포 유닛 121 : 도포건
122 : 제2 회전부재 131, 132 : 제1 및 제2 경화부재
Claims (9)
- 기판상에 처리액을 도포하는 도포건 및 상기 도포건의 도포 방향이 전환되도록 상기 도포건을 회전시키는 회전부재를 갖는 도포 유닛; 및상기 도포건의 도포 방향을 따라 이동하면서 상기 기판과의 거리를 측정하는 거리 측정 센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 거리 측정 센서는 상기 기판상으로 레이저를 조사하는 센서부; 및상기 센서부가 상기 도포건의 도포 방향으로 상기 도포건에 비해 전방에 위치되도록, 상기 센서부를 회전시키는 회전부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 도포 유닛을 뒤따라 이동하면서, 상기 도포건이 도포한 기판상의 처리액을 경화시키는 경화 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 경화 유닛은:전진하는 상기 도포건의 후단에 제공되어 상기 기판 상의 상기 처리액을 경화시키는 제1 경화부재; 및후진하는 상기 도포건의 후단에 제공되어 상기 기판 상의 상기 처리액을 경화시키는 제2 경화부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
- 도포건을 일 방향으로 이동시키면서 기판상에 처리액을 도포하는 단계;상기 도포건의 도포 방향이 전환되도록 상기 도포건을 회전시키는 단계;상기 도포건을 상기 일 방향에 반대되는 방향으로 이동시키면서 기판상에 처리액을 도포하는 단계; 및거리 측정 센서를 상기 도포건의 도포 방향을 따라 이동시키면서, 상기 거리 측정 센서가 기판과의 거리를 측정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도포 방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 거리 측정 센서가 기판과의 거리를 측정하는 단계는 상기 거리 측정 센서를 상기 도포건의 전방에서 상기 도포건을 따라 이동시키면서 이루어지는 것을 특징으로 하는 도포 방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 도포건을 회전시키는 단계는 상기 거리 측정 센서를 회전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도포 방법.
- 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 처리액을 경화시키는 경화 유닛을 상기 도포건을 뒤따라 이동시키면서, 상기 도포건이 상기 기판상에 제공된 처리액을 경화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 도포 방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 기판상에 제공된 처리액을 경화시키는 단계는:전진하는 상기 도포건의 후단에서 기판상의 상기 처리액을 경화시키는 단계; 및후진하는 상기 도포건의 후단에서 기판상의 상기 처리액을 경화시키는 단계를 포함하되,상기 전진하는 상기 도포건의 후단에서 기판상의 상기 처리액을 경화시키는 단계와 상기 후진하는 상기 도포건의 후단에서 기판상의 상기 처리액을 경화시키는 단계는 각각 서로 상이한 경화부재를 이용하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 도포 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070117948A KR100916142B1 (ko) | 2007-11-19 | 2007-11-19 | 도포 장치 및 이를 이용한 도포 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070117948A KR100916142B1 (ko) | 2007-11-19 | 2007-11-19 | 도포 장치 및 이를 이용한 도포 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090051516A KR20090051516A (ko) | 2009-05-22 |
KR100916142B1 true KR100916142B1 (ko) | 2009-09-08 |
Family
ID=40859576
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070117948A KR100916142B1 (ko) | 2007-11-19 | 2007-11-19 | 도포 장치 및 이를 이용한 도포 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100916142B1 (ko) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001087693A (ja) | 1999-09-27 | 2001-04-03 | Hitachi Techno Eng Co Ltd | ペースト塗布機 |
KR100362470B1 (ko) * | 1995-01-13 | 2003-05-17 | 삼성전자 주식회사 | 자외선경화실리콘을이용한자동실리콘디스펜서및그방법 |
KR20050071219A (ko) * | 2003-12-31 | 2005-07-07 | 동부아남반도체 주식회사 | 반도체용 현상장치 |
KR20060113238A (ko) * | 2005-04-30 | 2006-11-02 | 주식회사 에스에프에이 | 보호막 도포 장치 |
-
2007
- 2007-11-19 KR KR1020070117948A patent/KR100916142B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100362470B1 (ko) * | 1995-01-13 | 2003-05-17 | 삼성전자 주식회사 | 자외선경화실리콘을이용한자동실리콘디스펜서및그방법 |
JP2001087693A (ja) | 1999-09-27 | 2001-04-03 | Hitachi Techno Eng Co Ltd | ペースト塗布機 |
KR20050071219A (ko) * | 2003-12-31 | 2005-07-07 | 동부아남반도체 주식회사 | 반도체용 현상장치 |
KR20060113238A (ko) * | 2005-04-30 | 2006-11-02 | 주식회사 에스에프에이 | 보호막 도포 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20090051516A (ko) | 2009-05-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105032708A (zh) | 涂布装置、工件制造方法、显示装置用构件制造装置及方法 | |
US8677933B2 (en) | Film forming apparatus forming a coating film using spiral coating while adjusting sound wave projected onto the coating film | |
CN102645763B (zh) | 封框胶宽检测的方法、***和设备 | |
CN111745957A (zh) | 增材制造装置以及增材制造方法 | |
KR102240655B1 (ko) | 노광 장치 및 이를 이용한 노광 방법 | |
KR100916142B1 (ko) | 도포 장치 및 이를 이용한 도포 방법 | |
JP7285719B2 (ja) | 樹脂貼り機 | |
JP2016147231A (ja) | 塗布装置 | |
JP2010042393A (ja) | 基板のリペア区間設定方法(methodfordesignatingrepairsectiononsubstrate) | |
TWI575002B (zh) | Film forming apparatus and film forming method | |
KR100992903B1 (ko) | 기판의 리페어방법 | |
JP6341635B2 (ja) | 薄膜形成方法及び薄膜形成装置 | |
US20210107094A1 (en) | Apparatus for and method of polishing surface of substrate | |
US20160374221A1 (en) | Vacuum attachment device and method for attaching display motherboard | |
US20200031056A1 (en) | Sla-type 3d printer and printing method with light source compensation | |
WO2020040076A1 (ja) | 塗布物質塗布済対象物の製造方法 | |
KR101084272B1 (ko) | 레이저 조사 시스템 | |
US7473567B2 (en) | Change rate prediction method, storage medium, and substrate processing system | |
JP2009224395A (ja) | 接合方法および接合装置 | |
KR20140042694A (ko) | 기판 접합 장치, 기판 접합 방법 및 도포 장치 | |
KR20210028491A (ko) | 도포 장치 및 이를 이용한 도포방법 | |
JP7523127B2 (ja) | 紫外線硬化層の硬化状態を評価する方法及び製品の製造方法 | |
JP7414680B2 (ja) | インプリント方法、インプリント装置、及び膜形成装置 | |
KR102318594B1 (ko) | 기판 처리 방법, 기판 처리 장치 및 기록 매체 | |
KR101970444B1 (ko) | 단방향 또는 양방향 디스플레이 패널의 레진 도포장치, 그리고 이를 활용한 레진 도포방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120829 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130903 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140902 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |