KR100904458B1 - 오존수 혼합액 공급 장치 및 방법과, 이를 이용한 기판처리 설비 - Google Patents
오존수 혼합액 공급 장치 및 방법과, 이를 이용한 기판처리 설비 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (13)
- 오존수와 처리액을 혼합하는 혼합 유닛과;상기 혼합 유닛으로부터 오존수 혼합액을 전달받고, 오존수 혼합액을 처리 유닛들로 분배하는 분배 유닛과;상기 분배 유닛 내의 상기 오존수 혼합액을 배출하는 배출 라인을 개폐하는 개폐 부재를 가지는 배출 유닛과;상기 분배 유닛 내의 압력을 센싱하는 압력 감지 유닛과;상기 압력 감지 유닛으로부터 검출 신호를 전달받아 상기 개폐 부재의 구동 압력을 제어하는 제어 유닛;을 포함하는 것을 특징으로 하는 오존수 혼합액 공급 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 혼합 유닛은 인라인 혼합 방식으로 오존수와 처리액을 혼합하도록 구성되어진 것을 특징으로 하는 오존수 혼합액 공급 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 혼합 유닛은,일단이 오존수 공급 라인과 처리액 공급 라인의 합류 지점에 연결되고 타단이 상기 분배 유닛에 연결되는 혼합액 라인과;상기 혼합액 라인 상에 설치되며, 상기 혼합액 라인으로 유입된 오존수와 처리액을 유동시키면서 혼합하는 혼합기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 오존수 혼합액 공급 장치.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 개폐 부재는,상기 배출 라인 상에 설치되는 릴리프 밸브와;상기 릴리프 밸브로 공기를 공급하는 공기 공급 부재와;상기 공기 공급 부재와 상기 릴리프 밸브의 사이에 배치되며, 상기 공기 공급 부재로부터 상기 릴리프 밸브로 공급되는 공기의 양을 조절하여 상기 릴리프 밸브의 구동 압력을 조정하는 조정기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 오존수 혼합액 공급 장치.
- 제 4 항에 있어서,상기 제어 유닛은 상기 조정기의 동작을 제어하는 것을 특징으로 하는 오존수 혼합액 공급 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 처리액은 불산(HF) 용액인 것을 특징으로 하는 오존수 혼합액 공급 장치.
- 오존수 혼합액을 이용한 공정이 진행되는 처리 유닛들로 오존수 혼합액을 공급하는 방법에 있어서,혼합액 라인을 통해 상기 오존수 혼합액을 공급받고, 분배 라인을 통해 상기 처리 유닛들로 상기 오존수 혼합액을 분배하는 분배기의 내부 압력을 측정하고, 측정된 상기 분배기의 내부 압력에 따라 상기 분배기에 연결된 배출 라인 상의 개폐 부재의 구동 압력을 조절하는 것을 특징으로 하는 오존수 혼합액 공급 방법.
- 기판을 지지하는 기판 지지 부재와, 상기 기판 지지 부재에 놓인 기판으로 오존수 혼합액을 분사하는 분사 부재를 가지는 복수 개의 처리 유닛들과;상기 복수 개의 처리 유닛들의 분사 부재로 오존수 혼합액을 공급하는 오존수 혼합액 공급 모듈;을 포함하되,상기 오존수 혼합액 공급 모듈은,오존수와 처리액을 혼합하는 혼합 유닛과;상기 혼합 유닛으로부터 오존수 혼합액을 전달받고, 오존수 혼합액을 상기 처리 유닛들로 분배하는 분배 유닛과;상기 분배 유닛 내의 상기 오존수 혼합액을 배출하는 배출 라인을 개폐하는 개폐 부재를 가지는 배출 유닛과;상기 분배 유닛 내의 압력을 센싱하는 압력 감지 유닛과;상기 압력 감지 유닛으로부터 검출 신호를 전달받아 상기 개폐 부재의 구동 압력을 제어하는 제어 유닛;을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
- 제 8 항에 있어서,상기 혼합 유닛은 인라인 혼합 방식으로 오존수와 처리액을 혼합하도록 구성되어진 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
- 제 9 항에 있어서,상기 혼합 유닛은,일단이 오존수 공급 라인과 처리액 공급 라인의 합류 지점에 연결되고 타단이 상기 분배 유닛에 연결되는 혼합액 라인과;상기 혼합액 라인 상에 설치되며, 상기 혼합액 라인으로 유입된 오존수와 처리액을 유동시키면서 혼합하는 혼합기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
- 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,상기 개폐 부재는,상기 배출 라인 상에 설치되는 릴리프 밸브와;상기 릴리프 밸브로 공기를 공급하는 공기 공급 부재와;상기 공기 공급 부재와 상기 릴리프 밸브의 사이에 배치되며, 상기 공기 공 급 부재로부터 상기 릴리프 밸브로 공급되는 공기의 양을 조절하여 상기 릴리프 밸브의 구동 압력을 조정하는 조정기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
- 제 11 항에 있어서,상기 제어 유닛은 상기 조정기의 동작을 제어하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
- 제 9 항에 있어서,상기 처리액은 불산(HF) 용액인 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
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KR19980015769A (ko) * | 1996-08-23 | 1998-05-25 | 김광호 | 반도체 웨이퍼의 세정방법 |
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