KR100870423B1 - Semiconductor memory device - Google Patents
Semiconductor memory device Download PDFInfo
- Publication number
- KR100870423B1 KR100870423B1 KR1020070063718A KR20070063718A KR100870423B1 KR 100870423 B1 KR100870423 B1 KR 100870423B1 KR 1020070063718 A KR1020070063718 A KR 1020070063718A KR 20070063718 A KR20070063718 A KR 20070063718A KR 100870423 B1 KR100870423 B1 KR 100870423B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- voltage
- internal
- outputting
- internal voltage
- pad
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 27
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims abstract description 42
- 230000004044 response Effects 0.000 claims abstract description 22
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 15
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 6
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 3
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/02—Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters
- G11C29/021—Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters in voltage or current generators
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/08—Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
- G11C29/12—Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
- G11C29/1201—Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details comprising I/O circuitry
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/08—Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
- G11C29/48—Arrangements in static stores specially adapted for testing by means external to the store, e.g. using direct memory access [DMA] or using auxiliary access paths
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/12—Bit line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, equalising circuits, for bit lines
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/08—Word line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, for word lines
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/10—Decoders
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C2207/00—Indexing scheme relating to arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C2207/10—Aspects relating to interfaces of memory device to external buses
- G11C2207/105—Aspects related to pads, pins or terminals
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
Abstract
Description
도 1은 종래기술에 따른 반도체메모리소자 내 뱅크 및 패드의 배치도.1 is a layout view of a bank and a pad in a semiconductor memory device according to the prior art.
도 2는 반도체메모리소자 내 전압 생성부와, 도 1의 내부전압 패드부와 기준전압 패드부의 연결 관계를 도시한 도면.FIG. 2 is a diagram illustrating a connection relationship between a voltage generator in a semiconductor memory device, an internal voltage pad part, and a reference voltage pad part of FIG.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 반도체메모리소자 내 뱅크 및 패드의 배치도.3 is a layout view of a bank and a pad in a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
도 4는 반도체메모리소자 내 전압 생성부와, 도 3의 모니터용 패드와, 저전압패드와, 기준전압 패드부의 연결 관계를 도시한 도면.4 is a diagram illustrating a connection relationship between a voltage generator in a semiconductor memory device, a pad for a monitor of FIG. 3, a low voltage pad, and a reference voltage pad;
도 5는 도 4의 선택부의 내부 회로도와 모니터용 패드와의 연결관계를 도시한 도면.FIG. 5 is a diagram illustrating a connection relationship between an internal circuit diagram of the selector of FIG. 4 and a pad for a monitor; FIG.
도 6은 도3 내지 도 5에 도시된 본 발명의 시뮬레이션 파형도로서, 모니터용 패드를 통해 측정되는 전압 레벨을 도시.FIG. 6 is a simulation waveform diagram of the present invention shown in FIGS. 3 to 5, showing voltage levels measured through a monitor pad. FIG.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings
280 : 선택부280: selection unit
295 : 테스트신호 생성부295: test signal generator
290 : 모니터용 패드290: pad for monitor
본 발명은 반도체 설계 기술에 관한 것으로, 특히 외부신호의 입출력을 위한 반도체메모리소자의 패드에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor design technology, and more particularly to a pad of a semiconductor memory device for input and output of an external signal.
일반적으로 반도체메모리소자는 다양한 외부신호의 입력을 받아들이거나 출력하기 위한 접점인 패드를 갖는다. 이 패드의 수는 최소한 스펙에서 규정된 각종 신호 및 외부 공급 전위의 종류만큼 구성되어야 한다. 뿐만 아니라, 반도체 장치는 테스트를 위한 별도의 패드을 추가로 구비하는 것이 일반적이다. 이와 같이, 추가로 구비되는 패드들은 반도체 장치의 내부 발생 전위를 검출(Monitoring)하거나, 내부신호를 외부에서 인가하기 위해 사용된다.In general, a semiconductor memory device has a pad as a contact point for receiving or outputting input of various external signals. The number of pads shall consist of at least the types of signals and external supply potentials specified in the specification. In addition, it is common for semiconductor devices to further include a separate pad for testing. As such, the pads additionally provided are used to monitor an internal generated potential of the semiconductor device or to apply an internal signal from the outside.
도 1은 종래기술에 따른 반도체메모리소자 내 뱅크 및 패드의 배치도이다.1 is a layout view of a bank and a pad in a semiconductor memory device according to the related art.
도 1을 참조하면, 종래기술에 따른 반도체메모리소자는 데이터를 저장하기 위한 단위메모리셀이 어레이 형태로 배치된 제0 내지 제3 뱅크(72, 74, 76, 78)와, 해당 데이터를 입출력하기 위한 복수의 패드를 포함하는 데이터 패드부(10)와, 해당 내부전압을 출력하기 위한 복수의 패드를 포함하는 내부전압 패드부(20)와, 해당 기준전압을 입출력하기 위한 복수의 패드를 포함하는 기준전압 패드부(30)와, 해당 커맨드를 입력받기 위한 복수의 패드를 포함하는 커맨드 패드부(40)와, 해당 어드레스를 입력받기 위한 복수의 패드를 포함하는 어드레스 패드부(50)와, 해당 구동전원을 인가받기 위한 복수의 패드를 포함하는 전원 패드부(60)를 구비한다.Referring to FIG. 1, in the semiconductor memory device according to the related art, the 0 to
이러한 패드들은 반도체메모리소자로의 커맨드, 어드레스, 데이터, 구동전원의 입출력 및 내부신호의 측정을 위한 인터페이스이다.These pads are interfaces for measuring commands, addresses, data, input / output of driving power, and internal signals to semiconductor memory devices.
여기서, 각 패드부는 뱅크의 중간에 배치된다.Here, each pad portion is arranged in the middle of the bank.
도 2는 반도체메모리소자 내 전압 생성부와, 도 1의 내부전압 패드부(20)와 기준전압 패드부(30)의 연결 관계를 도시한 도면이다.FIG. 2 is a diagram illustrating a connection relationship between a voltage generator in a semiconductor memory device, the internal
도 2를 참조하면, 제1 내지 제5 기준전압(VREFP, VREFC, VREFE, VREFB, VREFD)을 생성하기 위한 기준전압 생성부(80)와, 제1 내지 제5 기준전압(VREFP, VREFC, VREFE, VREFB, VREFD)을 인가받아 해당 내부전압(VPP, VCORE, VPERI, VBLP, VCP, VBB, VDLL)을 생성하기 위한 내부전압 생성부(90)와, 내부전압 생성부(90)의 출력전압(VPP, VCORE, VPERI, VBLP, VCP, VBB, VDLL) 중 해당 내부전압을 외부로 출력하기 위한 복수의 패드를 포함하는 내부전압 패드부(20)와, 제1 내지 제5 기준전압(VREFP, VREFC, VREFE, VREFB, VREFD) 중 해당 기준전압을 외부로 입출력하기 위한 복수의 패드를 포함하는 기준전압 패드부(30)와, 내부전압 생성부(90)의 출력전압(VPP, VCORE, VPERI, VBLP, VCP, VBB, VDLL)을 인가받아 구동되는 내부블록(98)을 포함한다.Referring to FIG. 2, a
구동을 간략히 살펴보면, 기준전압 생성부(80)는 제1 내지 제5 기준전압(VREFP, VREFC, VREFE, VREFB, VREFD)을 생성한다. 이어, 내부전압 생성부(90)는 해당 기준전압(VREFP, VREFC, VREFE, VREFB, VREFD)을 인가받아 해당 내부전 압(VPP, VCORE, VPERI, VBLP, VCP, VBB, VDLL)을 생성한다.Referring to the driving, the
이어, 내부전압 패드부(20) 내 패드는 내부전압 생성부(90)의 출력전압(VPP, VCORE, VPERI, VBLP, VCP, VBB, VDLL) 중 해당 내부전압을 외부로 출력한다. 또한, 기준전압 패드부(30)는 제1 내지 제5 기준전압(VREFP, VREFC, VREFE, VREFB, VREFD) 중 해당 기준전압을 외부로 입출력한다.Subsequently, the pad in the internal
또한, 내부블록(98)는 내부전압 생성부(90)의 출력전압(VPP, VCORE, VPERI, VBLP, VCP, VBB, VDLL)을 인가받아 구동된다.In addition, the
이와 같이, 종래기술에 따른 반도체메모리소자는 복수의 기준전압을 입출력하기 위한 복수의 패드와, 내부전압을 출력하기 위한 복수의 패드를 각각 구비하여, 해당 전압의 레벨을 측정한다.As described above, the semiconductor memory device according to the related art includes a plurality of pads for inputting and outputting a plurality of reference voltages and a plurality of pads for outputting an internal voltage, respectively, to measure the level of the corresponding voltage.
이러한 전원용 패드를 전압별로 각각 구비하면, 패드에 의한 칩의 면적이 커지는 문제점이 있다.If each of the power pads is provided for each voltage, there is a problem that the area of the chip due to the pad is increased.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 적은 구현 면적을 가지며 내부전압의 측정이 가능한 반도체메모리소자를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been proposed to solve the above problems of the prior art, and an object thereof is to provide a semiconductor memory device having a small implementation area and capable of measuring an internal voltage.
상기의 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따르면, 테스트신호에 응답하여 복수의 내부전압 중 하나를 선택하여 출력하기 위한 선택수단; 상기 선택수단의 출력전압을 외부로 출력하기 위한 모니터용 패드; 복수의 기준전압을 생성하기 위한 기준전압 생성수단; 상기 복수의 기준전압을 인가받아 상기 복수의 내부전압을 생성하기 위한 내부전압 생성수단; 및 상기 복수의 기준전압 중 해당 기준전압을 외부로 입출력하기 위한 복수의 패드를 포함하는 기준전압 패드를 구비하는 반도체메모리소자가 제공된다.According to an aspect of the present invention for achieving the above technical problem, selecting means for selecting and outputting one of a plurality of internal voltage in response to a test signal; A monitor pad for outputting the output voltage of the selection means to the outside; Reference voltage generating means for generating a plurality of reference voltages; Internal voltage generation means for generating the plurality of internal voltages by receiving the plurality of reference voltages; And a reference voltage pad including a plurality of pads for inputting and outputting a corresponding reference voltage to the outside of the plurality of reference voltages.
삭제delete
본 발명의 다른 측면에 따르면, 복수의 기준전압을 생성하기 위한 기준전압 생성수단; 상기 복수의 기준전압을 인가받아 복수의 내부전압을 생성하기 위한 내부전압 생성수단; 상기 복수의 기준전압 중 해당 기준전압을 외부로 입출력하기 위한 복수의 패드를 포함하는 기준전압 패드수단; 테스트신호에 응답하여 복수의 내부전압 중 하나를 선택하여 출력하기 위한 선택수단; 상기 선택수단의 출력전압을 외부로 출력하기 위한 모니터용 패드; 및 상기 복수의 내부전압 중 하나를 외부로 출력하기 위한 저전압 패드를 구비하는 반도체메모리소자가 제공된다.According to another aspect of the invention, the reference voltage generating means for generating a plurality of reference voltage; Internal voltage generating means for generating a plurality of internal voltages by receiving the plurality of reference voltages; Reference voltage pad means including a plurality of pads for inputting and outputting a corresponding reference voltage from the plurality of reference voltages to the outside; Selecting means for selecting and outputting one of a plurality of internal voltages in response to a test signal; A monitor pad for outputting the output voltage of the selection means to the outside; And a low voltage pad for outputting one of the plurality of internal voltages to the outside.
이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the technical idea of the present invention. do.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 반도체메모리소자 내 뱅크 및 패드의 배치도이다.3 is a layout view of a bank and a pad in a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 반도체메모리소자는 데이터를 저장하기 위 한 단위메모리셀이 어레이 형태로 배치된 제0 내지 제3 뱅크(720, 740, 760, 780)와, 해당 데이터를 입출력하기 위한 복수의 패드를 포함하는 데이터 패드부(100)와, 저전압을 입출력하기 위한 저전압패드(260)와, 복수의 내부전압 중 선택된 하나를 출력하기 모니터용 패드(290)와, 해당 기준전압을 입출력하기 위한 복수의 패드를 포함하는 기준전압 패드부(300)와, 해당 커맨드를 입력받기 위한 복수의 패드를 포함하는 커맨드 패드부(400)와, 해당 어드레스를 입력받기 위한 복수의 패드를 포함하는 어드레스 패드부(500)와, 해당 구동전원을 인가받기 위한 복수의 패드를 포함하는 전원 패드부(600)를 구비한다.Referring to FIG. 3, a semiconductor memory device according to an exemplary embodiment of the present invention may include zeroth through
이와 같이, 본 발명에 따른 반도체메모리소자를 도 1에 도시된 종래와 비교하여 보면, 내부전압 패드부 대신 하나의 모니터용 패드(290)를 구비하는 것을 알 수 있다. 이는 테스트신호 생성부(295)와 선택부(280)를 더 포함하므로써, 테스트신호(T0, T1, T2)의 인가에 따라 선택된 전압만이 공유된 모니터용 패드(290)를 통해 출력되도록 제어하기 때문이다. 따라서, 도 3에 도시된 본 발명과 같이, 종래 내부전압 별로 구비된 전압의 출력을 위한 패드를 줄일 수 있다.As described above, it can be seen that the semiconductor memory device according to the present invention is provided with one
도 4는 반도체메모리소자 내 전압 생성부와, 도 3의 모니터용 패드(290)와, 저전압패드(260)와, 기준전압 패드부(300)의 연결 관계를 도시한 도면이다.4 is a diagram illustrating a connection relationship between a voltage generator in the semiconductor memory device, the
도 4를 참조하면, 제1 내지 제5 기준전압(VREFP, VREFC, VREFE, VREFB, VREFD)을 생성하기 위한 기준전압 생성부(800)와, 제1 내지 제5 기준전압(VREFP, VREFC, VREFE, VREFB, VREFD)을 인가받아 해당 내부전압(VPP, VCORE, VPERI, VBLP, VCP, VBB, VDLL)을 생성하기 위한 내부전압 생성부(900)와, 테스트신호(T0, T1, T2)를 생성하기 위한 테스트신호 생성부(295)와, 테스트신호(T0, T1, T2)에 응답하여 내부전압 생성부(900)의 출력전압(VPP, VCORE, VPERI, VBLP, VCP, VDLL) 중 하나를 선택하여 출력하기 위한 선택부(280)와, 선택부(280)의 출력전압을 외부로 출력하기 위한 모니터용 패드(290)와, 내부전압 생성부(900)의 저전압(VBB)을 외부로 입출력하기 위한 저전압 패드(260)와, 제1 내지 제5 기준전압(VREFP, VREFC, VREFE, VREFB, VREFD) 중 해당 기준전압을 외부로 입출력하기 위한 복수의 패드를 포함하는 기준전압 패드부(300)와, 내부전압 생성부(900)의 출력전압(VPP, VCORE, VPERI, VBLP, VCP, VBB, VDLL)을 인가받아 구동되는 내부블록(980)을 포함한다.Referring to FIG. 4, a
내부전압 생성부(900)는 제1 기준전압(VREFP)을 인가받아 워드라인을 드라이빙 시 사용되는 고전압(VPP)을 생성하기 위한 고전압 생성부(910)와, 제2 기준전압(VREFC)을 인가받아 논리값 1에 대응되는 데이터 인가 시 사용되는 코어전압(VCORE)을 생성하기 위한 코어전압 생성부(920)와, 제3 기준전압(VREFE)을 인가받아 페리영역의 구동 시 사용되는 페리전압(VPERI)을 생성하기 위한 페리전압 생성부(930)와, 코어전압(VCORE)을 인가받아 비트라인의 프리차지 시 사용되는 프리차지전압(VBLP)을 생성하기 위한 프리차지전압 생성부(940)와, 코어전압(VCORE)을 인가받아 메모리셀 내 커패시터의 플레이트에 사용되는 셀플레이트전압(VCP)을 생성하기 위한 셀플레이트전압 생성부(950)와, 제4 기준전압(VREFB)을 인가받아 트랜지스터의 바디단에 인가되는 저전압(VBB)을 생성하기 위한 저전압 생성부(960)와, 제5 기준전압(VREFD)을 인가받아 지연고정루프의 구동 시 사용되는 지연고정루프전압(VDLL)을 생성하기 위한 지연고정루프전압 생성부(970)를 구비한다.The
구동을 간략히 살펴보면, 기준전압 생성부(800)는 제1 내지 제5 기준전압(VREFP, VREFC, VREFE, VREFB, VREFD)을 생성한다. 여기서, 제1 기준전압(VREFP)은 고전압(VPP)의 생성 시 기준이 되며, 제2 기준전압(VREFC)은 코어전압(VCORE)의 생성 시 기준이 되며, 제3 기준전압(VREFE)은 페리전압(VPERI)의 생성 시 기준이 되며, 제4 기준전압(VREFB)은 저전압(VBB)의 생성 시 기준이 되며, 제5 기준전압(VREFD)은 지연고정루프전압(VDLL)의 생성 시 기준이 된다.Referring to the driving, the
이어, 내부전압 생성부(900)는 해당 기준전압(VREFP, VREFC, VREFE, VREFB, VREFD)을 인가받아 해당 내부전압(VPP, VCORE, VPERI, VBLP, VCP, VBB, VDLL)을 생성한다. 구체적으로, 고전압 생성부(910)는 제1 기준전압(VREFP)을 인가받아 워드라인을 드라이빙 시 사용되는 고전압(VPP)을 생성하며, 코어전압 생성부(920)는 제2 기준전압(VREFC)을 인가받아 논리값 1에 대응되는 데이터 인가 시 사용되는 코어전압(VCORE)을 생성하며, 페리전압 생성부(930)는 제3 기준전압(VREFE)을 인가받아 페리영역의 구동 시 사용되는 페리전압(VPERI)을 생성하며, 프리차지전압 생성부(940)는 코어전압(VCORE)을 인가받아 비트라인의 프리차지 시 사용되는 프리차지전압(VBLP)을 생성하며, 셀플레이트전압 생성부(950)는 코어전압(VCORE)을 인가받아 메모리셀 내 커패시터의 플레이트에 사용되는 셀플레이트전압(VCP)을 생성하며, 저전압 생성부(960)는 제4 기준전압(VREFB)을 인가받아 트랜지스터의 바디단에 인가되는 저전압(VBB)을 생성하며, 지연고정루프전압 생성부(970)는 제5 기준전압(VREFD)을 인가받아 지연고정루프의 구동 시 사용되는 지연고정루프전압(VDLL)을 생성한다.Subsequently, the
이어, 테스트신호 생성부(295)는 테스트신호(T0,T1, T2)를 생성한다. 이어, 선택부(280)는 테스트신호(T0,T1, T2)에 응답하여 내부전압 생성부(900)의 출력전압(VPP, VCORE, VPERI, VBLP, VCP, VDLL) 중 선택하여 모니터용 패드(290)로 출력한다.Subsequently, the
또한, 기준전압 패드부(300)는 제1 내지 제5 기준전압(VREFP, VREFC, VREFE, VREFB, VREFD) 중 해당 기준전압을 외부로 입출력한다.In addition, the reference
또한, 내부블록(980)는 내부전압 생성부(900)의 출력전압(VPP, VCORE, VPERI, VBLP, VCP, VBB, VDLL)을 인가받아 구동된다.In addition, the
이와 같이, 본 발명에 따른 반도체메모리소자는 내부전압을 측정하기 위한 모니터용 패드를 구비하여, 복수의 내부전압 중 하나를 선택적으로 측정한다. 따라서, 종래 복수의 내부전압 별로 각각 구비하던 패드를, 본 발명에서는 여러개의 내부전압이 공유함으로써 필요한 패드의 수를 줄인다. 패드의 공유에 관해 다음 도면을 참조하여 구체적으로 살펴보도록 한다.As described above, the semiconductor memory device according to the present invention includes a monitor pad for measuring the internal voltage, and selectively measures one of the plurality of internal voltages. Therefore, in the present invention, the pads provided for each of the plurality of internal voltages are shared by the plurality of internal voltages, thereby reducing the number of required pads. The sharing of the pad will be described in detail with reference to the following drawings.
한편, 다음에서는 선택부를 내부 도면을 참조하여 구체적으로 살펴보도록 한다.Meanwhile, the selection unit will be described in detail with reference to the internal drawings.
도 5는 도 4의 선택부(280)의 내부 회로도와 모니터용 패드(290)와의 연결관계를 도시한 도면이다.FIG. 5 is a diagram illustrating an internal circuit diagram of the
도 5를 참조하면, 선택부(280)는 테스트신호(T0, T1, T2)를 디코딩하여 복수의 선택신호(X0 ~ X5, XB0 ~ XB5)를 생성하기 위한 디코딩부(281)와, 해당 선택신호(X0 ~ X5, XB0 ~ XB5)에 응답하여 해당 내부전압(VPP, VCORE, VPERI, VBLP, VCP, VDLL)을 모니터용패드(290)로 출력하기 위한 전달부(286)를 포함한다.Referring to FIG. 5, the
디코딩부(281)는 테스트신호 T0를 반전하기 위한 인버터(I7)와, 테스트신호 T1을 반전하기 위한 인버터(I8)와, 테스트신호 T2를 반전하기 위한 인버터(I9)와, 인버터(I7, I8, I9)의 출력을 입력으로 가져 선택신호 X0를 출력하기 위한 낸드게이트(ND1)와, 낸드게이트(ND1)의 출력을 반전하여 선택신호 XB0로 출력하기 위한 인버터(I1)와, 테스트신호 T0와 인버터(I8, I9)의 출력을 입력으로 가져 선택신호 X1를 출력하기 위한 낸드게이트(ND2)와, 낸드게이트(ND2)의 출력을 반전하여 선택신호 XB1로 출력하기 위한 인버터(I2)와, 테스트신호 T1와, 인버터(I7, I9)의 출력을 입력으로 가져 선택신호 X2를 출력하기 위한 낸드게이트(ND3)와, 낸드게이트(ND3)의 출력을 반전하여 선택신호 XB2로 출력하기 위한 인버터(I3)와, 테스트신호 T0, T1와, 인버터(I9)의 출력을 입력으로 가져 선택신호 X3를 출력하기 위한 낸드게이트(ND4)와, 낸드게이트(ND4)의 출력을 반전하여 선택신호 XB3로 출력하기 위한 인버터(I4)와, 테스트신호 T2와, 인버터(I7, I8)의 출력을 입력으로 가져 선택신호 X4를 출력하기 위한 낸드게이트(ND5)와, 낸드게이트(ND5)의 출력을 반전하여 선택신호 XB4로 출력하기 위한 인버터(I5)와, 테스트신호 T0, T2와, 인버터(I8)의 출력을 입력으로 가져 선택신호 X5를 출력하기 위한 낸드게이트(ND6)와, 낸드게이트(ND6)의 출력을 반전하여 선택신호 XB5로 출력하기 위한 인버터(I6)를 구비한다.
전달부(286)는 선택신호 X0와 XB0에 응답하여 프리차지전압(VBLP)을 전달하기 위한 트랜스퍼게이트(TG1)와, 선택신호 X1와 XB1에 응답하여 셀플레이트전압(VCP)을 전달하기 위한 트랜스퍼게이트(TG2)와, 선택신호 X2와 XB2에 응답하여 코어전압(VCORE)을 전달하기 위한 트랜스퍼게이트(TG3)와, 선택신호 X3와 XB3에 응답하여 페리전압(VPERI)을 전달하기 위한 트랜스퍼게이트(TG4)와, 선택신호 X4와 XB4에 응답하여 지연고정루프전압(VDLL)을 전달하기 위한 트랜스퍼게이트(TG5)와, 선택신호 X5와 XB5에 응답하여 고전압(VPP)을 전달하기 위한 트랜스퍼게이트(TG6)를 포함한다.The
선택부(280)의 구동을 간략히 살펴보도록 한다.The driving of the
먼저, 디코딩부(281)는 테스트신호(T0, T1, T2)의 조합에 따라 해당 선택신호(X0 ~ X5, XB0 ~ XB5)를 활성화하고, 전달부(286)는 선택신호(X0 ~ X5, XB0 ~ XB5)의 활성화에 따라 해당 내부전압을 선택하여 모니터용 패드로 출력한다. 예시적으로, 프리차지전압(VBLP)과 셀플레이트전압(VCP)이 선택되는 경우를 각각 살펴보도록 한다.First, the
예를 들어, 테스트신호 생성부(295)가 테스트신호 T0, T1, T2가 모두 논리레벨 'L'로 출력하는 경우를 가정하자. 디코딩부(281)는 테스트신호 T0, T1, T2의 논리레벨 'L'에 응답하여 선택신호 X0를 논리레벨 'L'로, 선택신호 XB0를 논리레벨 'H'로 각각 활성화한다. 이어, 전달부(286) 내 트랜스퍼게이트(TG1)이 선택신호 XO와 XB0의 활성화에 응답하여 프리차지전압(VBLP)을 출력함으로써, 모니터용 패드(290)를 통해 외부로 출력되도록 한다.For example, suppose that the
또한, 테스트신호 T0는 논리레벨 'H'를, T1 및 T2는 논리레벨 'L'를 갖는 경우, 디코딩부(281)는 테스트신호 T0, T1, T2의 논리레벨에 응답하여 선택신호 X1를 논리레벨 'L'로, 선택신호 XB1를 논리레벨 'H'로 각각 활성화한다. 이어, 전달 부(286) 내 트랜스퍼게이트(TG2) 선택신호 X1와 XB1의 활성화에 응답하여 셀플레이트전압(VCP)을 출력함으로써, 모니터용 패드(290)를 통해 외부로 출력되도록 한다.In addition, when the test signal T0 has a logic level 'H' and T1 and T2 have a logic level 'L', the
도 6은 도3 내지 도 5에 도시된 본 발명의 시뮬레이션 파형도로서, 모니터용 패드를 통해 측정되는 전압 레벨을 도시한 것이다.FIG. 6 is a simulation waveform diagram of the present invention shown in FIGS. 3 to 5 and shows voltage levels measured through a monitor pad.
도 6을 참조하면, 선택부(280)에 의해 고전압(VPP)이 출력되는 경우, 모니터용 패드(290)에서는 3.3V의 고전압(VPP)이 측정된다. 그리고 지연고정루프전압(VDLL)이 선택된 경우에는 모니터용 패드(290)에서는 1.9V의 지연고정루프전압(VDLL)이, 페리전압(VPERI)이 선택된 경우에는 모니터용 패드(290)에서는 1.8V의 페리전압(VPERI)이, 코어전압(VCORE)이 선택된 경우에는 모니터용 패드(290)에서는 1.5V의 코어전압(VCORE)이, 셀플레이트전압(VCP)이 선택된 경우에는 모니터용 패드(290)에서는 0.85V의 셀플레이트전압(VCP)이, 프리차지전압(VBLP)이 선택된 경우에는 0.75V의 프리차지전압(VBLP)이 측정된다.Referring to FIG. 6, when the high voltage VPP is output by the
그러므로, 전술한 본 발명에 따른 반도체메모리소자는 테스트신호 생성부(295)와 선택부(280)를 더 포함한다. 따라서, 복수의 내부전압(VPP, VCORE, VPERI, VBLP, VCP, VDLL)이 하나의 모니터용 패드(290)를 공유하고, 테스트신호(T0, T1, T2)의 인가를 통해 선택된 하나만이 모니터용 패드(290)를 통해 외부로 출력되도록 제어한다. 패드의 수를 줄일 수 있어, 패드에 의한 면적을 감소시킬 수 있어, 비용을 절감한다.Therefore, the semiconductor memory device according to the present invention described above further includes a
한편, 전술한 본 발명에서 각 패드부 내 패드의 수는 하나의 실시 예로서, 이에 의해 본 발명의 사상이 제한받지 않는다.On the other hand, in the above-described present invention, the number of pads in each pad portion is one embodiment, whereby the spirit of the present invention is not limited thereto.
또한, 본 발명에서는 복수의 내부전압이 하나의 모니터용 패드를 공유하는 경우를 예시하였으나, 하나 이상의 모니터용 패드를 공유할 수 있으며, 이러한 경우에도 면적의 감소라는 동일한 효과를 갖는다.In addition, in the present invention, a case where a plurality of internal voltages share one monitor pad is illustrated, but one or more monitor pads may be shared, and in this case, the same effect of reducing the area is achieved.
또한, 본 발명에서는 복수의 내부전압만을 예시하였으나, 외부에서 측정이 필요한 내부신호의 경우에도 적용할 수 있다.In addition, in the present invention, only a plurality of internal voltages are illustrated, but the present invention may also be applied to an internal signal that requires external measurement.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시 예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible in the art without departing from the technical spirit of the present invention. It will be clear to those of ordinary knowledge.
전술한 본 발명은 외부에서 측정이 필요한 복수의 전압 중 신호의 통해 선택하여 공유된 패드를 통해 출력함으로써, 필요한 패드의 수를 줄여 면적 및 비용을 감소시킨다.The present invention described above selects a signal among a plurality of voltages that need to be measured externally and outputs it through a shared pad, thereby reducing the number of pads required to reduce area and cost.
Claims (14)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070063718A KR100870423B1 (en) | 2007-06-27 | 2007-06-27 | Semiconductor memory device |
US11/967,582 US7684269B2 (en) | 2007-06-27 | 2007-12-31 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070063718A KR100870423B1 (en) | 2007-06-27 | 2007-06-27 | Semiconductor memory device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100870423B1 true KR100870423B1 (en) | 2008-11-26 |
Family
ID=40160245
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070063718A KR100870423B1 (en) | 2007-06-27 | 2007-06-27 | Semiconductor memory device |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7684269B2 (en) |
KR (1) | KR100870423B1 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101068568B1 (en) * | 2009-03-30 | 2011-09-30 | 주식회사 하이닉스반도체 | Testing interface board for semiconductor device |
KR101959894B1 (en) * | 2012-06-29 | 2019-03-19 | 에스케이하이닉스 주식회사 | Semiconductor integrated circuit and method of measuring internal voltage thereof |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990039586A (en) * | 1997-11-13 | 1999-06-05 | 윤종용 | How to test memory devices with reduced number of test pads |
KR19990061136A (en) * | 1997-12-31 | 1999-07-26 | 김영환 | Supply and consumption current measuring device of internal voltage generator |
JP2006138662A (en) | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Elpida Memory Inc | Semiconductor device and its evaluation circuit |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61289600A (en) * | 1985-06-17 | 1986-12-19 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory device |
US5935253A (en) * | 1991-10-17 | 1999-08-10 | Intel Corporation | Method and apparatus for powering down an integrated circuit having a core that operates at a speed greater than the bus frequency |
TW212243B (en) * | 1991-11-15 | 1993-09-01 | Hitachi Seisakusyo Kk | |
US5212442A (en) * | 1992-03-20 | 1993-05-18 | Micron Technology, Inc. | Forced substrate test mode for packaged integrated circuits |
SE9500724D0 (en) * | 1994-06-23 | 1995-02-24 | Pharmacia Ab | Filtration |
JPH1196795A (en) | 1997-09-25 | 1999-04-09 | Sony Corp | Semiconductor memory |
KR100365736B1 (en) * | 1998-06-27 | 2003-04-18 | 주식회사 하이닉스반도체 | Internal Voltage Generation Circuit and Method of Semiconductor Device Using Test Pad |
US6456099B1 (en) * | 1998-12-31 | 2002-09-24 | Formfactor, Inc. | Special contact points for accessing internal circuitry of an integrated circuit |
KR100331551B1 (en) * | 1999-09-08 | 2002-04-06 | 윤종용 | Merged memory and logic semiconductor device having bist circuit |
JP2002074996A (en) * | 2000-08-25 | 2002-03-15 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor integrated circuit |
KR100386947B1 (en) * | 2001-01-03 | 2003-06-09 | 삼성전자주식회사 | Semiconductor memory device capable of outputting a word line voltage via an external pin |
JP2002268910A (en) * | 2001-03-09 | 2002-09-20 | Hitachi Ltd | Semiconductor device having self-test function |
US6757857B2 (en) * | 2001-04-10 | 2004-06-29 | International Business Machines Corporation | Alternating current built in self test (AC BIST) with variable data receiver voltage reference for performing high-speed AC memory subsystem self-test |
KR100414739B1 (en) * | 2002-03-25 | 2004-01-13 | 주식회사 하이닉스반도체 | Internal voltage generator of semiconductor memory device |
US6724214B2 (en) * | 2002-09-13 | 2004-04-20 | Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd. | Test structures for on-chip real-time reliability testing |
DE10243603B4 (en) * | 2002-09-19 | 2007-04-19 | Infineon Technologies Ag | Method for use in trimming, semiconductor device test device for performing the method, and semiconductor device test system |
JP3738001B2 (en) * | 2002-12-03 | 2006-01-25 | 松下電器産業株式会社 | Semiconductor integrated circuit device |
US20050080581A1 (en) * | 2003-09-22 | 2005-04-14 | David Zimmerman | Built-in self test for memory interconnect testing |
US7308624B2 (en) * | 2005-04-28 | 2007-12-11 | Infineon Technologies North America Corp. | Voltage monitoring test mode and test adapter |
US7359811B1 (en) * | 2005-06-16 | 2008-04-15 | Altera Corporation | Programmable logic device with power supply noise monitoring |
-
2007
- 2007-06-27 KR KR1020070063718A patent/KR100870423B1/en active IP Right Grant
- 2007-12-31 US US11/967,582 patent/US7684269B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19990039586A (en) * | 1997-11-13 | 1999-06-05 | 윤종용 | How to test memory devices with reduced number of test pads |
KR19990061136A (en) * | 1997-12-31 | 1999-07-26 | 김영환 | Supply and consumption current measuring device of internal voltage generator |
JP2006138662A (en) | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Elpida Memory Inc | Semiconductor device and its evaluation circuit |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7684269B2 (en) | 2010-03-23 |
US20090003088A1 (en) | 2009-01-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9070428B2 (en) | Semiconductor device | |
US6823485B1 (en) | Semiconductor storage device and test system | |
US9721626B2 (en) | Built-in test circuit of semiconductor apparatus | |
US6327198B1 (en) | Semiconductor memory device having a test mode setting circuit | |
US20030116763A1 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US7898884B2 (en) | Semiconductor device and test method therefor | |
KR100870423B1 (en) | Semiconductor memory device | |
US10276257B2 (en) | Semiconductor device and system relating to the reduction of test time in a ring oscillator burn-in test | |
KR20180008105A (en) | Semiconductor test device and semiconductor test method | |
US9761288B2 (en) | Memory circuit and stack type memory system including the same | |
JPH11317100A (en) | Semiconductor memory | |
KR100673147B1 (en) | Input/Output Line Sharing Apparatus of Semiconductor Memory Device | |
KR100529036B1 (en) | Semiconductor memory device with decreased self refresh current | |
US9281081B1 (en) | Built-in test circuit of semiconductor apparatus | |
US20140181604A1 (en) | Channel control circuit and semiconductor device having the same | |
KR100958805B1 (en) | Apparatus and method for providing power in a semiconductor memory device | |
KR100728569B1 (en) | Circuit for outputting data in semiconductor memory apparatus | |
EP0081381A2 (en) | Refresh address generators for dynamic semiconductor memory devices | |
JP2014006951A (en) | Semiconductor device, method for testing semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor device | |
KR101163033B1 (en) | Bit line precharge power generation circuit | |
KR100799109B1 (en) | Semiconductor device | |
KR20080089015A (en) | Semiconductor memory device with a test code rom | |
KR100213239B1 (en) | Pad control circuit and method | |
US9524760B2 (en) | Data output circuit | |
KR101115456B1 (en) | Multi bit test control circuit |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121022 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131023 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141021 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151020 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161024 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171025 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181022 Year of fee payment: 11 |