KR100870145B1 - 이송 부재의 세정 유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치 - Google Patents

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세메스 주식회사
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Abstract

세정 유닛은 제1 분사부, 제2 분사부, 세정조 및 커버부를 포함한다. 제1 분사부는 기판을 파지하는 척과 척 상부에 연결되고, 척을 지지하는 척 홀더를 포함하는 이송부 중에서 척으로 세정액을 분사한다. 제2 분사부는 이송부 중에서 척 홀더로 세정액을 분사한다. 세정조는 이송부의 척을 그 내부에 위치시킬 수 있고, 제1 분사부로부터 분사되는 세정액과 제2 분사부로부터 분사되는 세정액을 수집한다. 커버부는 세정조의 개방된 부위를 폐쇄시키도록 설치되고, 제1 분사부로부터 분사되는 세정액과 제2 분사부로부터 분사되는 세정액이 세정조의 개방된 부위를 통하여 외부로 누출되는 것을 방지한다. 따라서, 이송부의 척과 척 홀더를 세정할 때 세정조의 개방된 부위를 외부로부터 폐쇄하여 척과 척 홀더를 세정하기 위한 세정액이 외부로 누출되는 것을 방지할 수 있다.

Description

이송 부재의 세정 유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치{CLEANING UNIT OF TRANSFERRING MEMBER AND APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATES HAVING THE SAME}
본 발명은 이송 부재의 세정 유닛 이를 갖는 기판 처리 장치에 관한 것으로써, 더욱 상세하게는 기판을 이송하는 부재를 세정하기 위한 유닛 및 이를 가지면서 상기 기판을 처리하는 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 소자는 실리콘을 기초로 한 웨이퍼와 같은 반도체 기판으로부터 제조된다. 구체적으로, 상기 반도체 소자는 증착 공정, 포토리소그래피 공정, 식각 공정, 이온 주입 공정, 세정 공정, 검사 공정 등을 포함하여 제조된다.
상기와 같은 공정들 중 세정 공정에서는 상기 반도체 기판을 서로 다른 케미컬이 채워진 다수의 처리조들에 투입시켜 상기 반도체 기판의 표면에 잔류하는 이물질을 제거한다. 이때, 상기 반도체 기판은 다수 개를 하나로 묶어 별도의 이송부를 통해 이송하여 상기 케미컬에 투입된다.
상기 이송부는 상기 반도체 기판들을 파지하는 척, 상기 척의 상부를 홀딩하는 척 홀더 및 상기 척 홀더와 연결된 이송 몸체를 포함한다. 여기서, 상기 척은 실질적으로, 상기 반도체 기판들을 지지하여 상기 처리조에 같이 투입됨에 따라, 상기 케미컬이 묻을 수 있다. 이에, 상기 세정 공정에서는 상기 척을 세정하기 위한 세정조를 별도로 배치시켜 상기 척을 물과 같은 세정액을 이용하여 세정한다.
그러나, 상기 척이 상기 반도체 기판과 같이 상기 처리조에 투입될 때, 상기 척 홀더에도 상기 케미컬이 묻거나, 상기 척을 세정하는 도중 상기 케미컬이 섞인 상기 세정액이 외부로 누출됨으로써, 주위의 다른 부품 또는 장비를 오염시키는 문제점을 갖는다.
따라서, 본 발명은 이와 같은 문제점을 감안한 것으로써, 본 발명의 목적은 이송부의 척과 척 홀더를 세정할 때 세정조의 개방된 부위를 외부로부터 폐쇄할 수 있는 세정 유닛을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기한 세정 유닛을 갖는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 일 특징에 따른 세정 유닛은 제1 분사부, 제2 분사부, 세정조 및 커버부를 포함한다. 상기 제1 분사부는 기판을 파지하는 척과 상기 척 상부에 연결되고, 상기 척을 지지하는 척 홀더를 포함하는 이송부 중에서 상기 척으로 세정액을 분사한다. 상기 제2 분사부는 상기 이송부 중에서 상기 척 홀더로 세정액을 분사한다. 상기 세정조는 상기 이송부의 척을 그 내부에 위치시킬 수 있고, 상기 제1 분사부로부터 분사되는 세정액과 상기 제2 분사부로부터 분사되는 세정액을 수집한다. 상기 커버부는 상기 세정조의 개방된 부위를 폐쇄시키도록 설치되고, 상기 제1 분사부로부터 분사되는 세정액과 상기 제2 분사부로부터 분사되는 세정액이 상기 세정조의 개방된 부위를 통하여 외부로 누출되는 것을 방지한다.
상기 커버부는 상기 세정조로부터 슬라이딩 방식에 따라 상기 개방된 부위로 돌출될 수 있다. 이와 달리, 상기 커버부는 기 제작되어 외부로부터 상기 세정조의 개방된 부위를 커버할 수 있다.
한편, 상기 제2 분사부는 외부로부터 슬라이딩 방식에 따라 상기 척 홀더의 세정이 가능한 위치로 이동하는 것을 특징으로 할 수 있다.
상술한 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여, 일 특징에 따른 기판 처리 장치는 적재부, 표면 처리부, 이송부 및 세정부를 포함한다. 상기 적재부는 케미컬에 의하여 그 표면이 처리되는 기판이 적재된다. 상기 표면 처리부는 그 내부에 상기 케미컬이 채워져 상기 기판의 표면을 처리한다. 상기 이송부는 상기 적재부와 상기 표면 처리부 사이에서 상기 기판을 이송하고, 상기 기판을 파지하는 척과 상기 척 상부에 연결되고, 상기 척을 지지하는 척 홀더를 포함한다. 상기 세정부는 개방된 부위가 외부로부터 폐쇄되면서 상기 척과 상기 척 홀더를 세정한다.
상기 세정부는 상기 이송부의 척으로 세정액을 분사하는 제1 분사부, 상기 이송부의 척 홀더로 세정액을 분사하는 제2 분사부, 상기 이송부의 척을 그 내부에 위치시킬 수 있고, 상기 제1 분사부로부터 분사되는 세정액과 상기 제2 분사부로부터 분사되는 세정액을 수집하는 세정조, 및 상기 세정조의 개방된 부위를 폐쇄시키도록 설치되고, 상기 제1 분사부로부터 분사되는 세정액과 상기 제2 분사부로부터 분사되는 세정액이 상기 세정조의 개방된 부위를 통하여 외부로 누출되는 것을 방지하는 커버부를 포함한다.
이러한 이송 부재의 세정 유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치에 따르면, 이송부의 척과 상기 척의 상부를 지지하는 척 홀더에 각각 세정액을 분사하는 제1 분사 부 및 제2 분사부를 포함하고, 상기 제1 분사부 및 상기 제2 분사부를 통해 상기 척과 상기 척 홀더를 세정할 때, 상기 세정저의 개방된 부위를 커버부를 통해 외부로부터 폐쇄시킴으로써, 상기 척과 상기 척 홀더의 세정 도중 상기 척과 상기 척 홀더에 묻어 있는 케미컬을 씻은 상기 세정액이 외부로 누출되는 것을 방지할 수 있다.
즉, 상기 세정액의 누출로 인하여 다른 부품 또는 장비를 이차 오염시키는 것을 방지할 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 이송 부재의 세정 유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 개략적인 구성도이며, 도 2는 도 1에 도시된 기판 처리 장치의 이송부와 일 실시예에 따른 세정 유닛을 나타낸 사시도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장 치(1000)는 적재부(100), 표면 처리부(200), 이송부(300) 및 세정 유닛(400)을 포함한다.
상기 적재부(100)에는 반도체 소자를 제조하는데 사용되는 웨이퍼(wafer)와 같은 기판(10)이 적재된다. 일반적으로, 상기 기판(10)은 상기 적재부(100)에 병렬로 다수 개가 적재된다. 예를 들어, 상기 적재부(100)에는 상기 기판(10)이 약 25매 또는 약 50매가 한 묶음으로 되어 적재될 수 있다. 이에, 상기 적재부(100)에는 상기 기판(10)들을 지지하면서 고정하기 위한 기판 지지용 구조물이 배치될 수 있다.
상기 표면 처리부(200)는 상기 기판(10)의 표면을 처리한다. 구체적으로, 상기 표면 처리부(200)는 상기 기판(10)의 표면에 잔류하는 이물질을 제거한다. 이를 위하여, 상기 표면 처리부(200)에는 케미컬(20)이 채워진다. 상기 케미컬(20)은 일 예로, 황산(H2SO4), 염산(HCl), 불산(HF), 과산화수소 용액(H2O2) 등을 포함할 수 있다. 이와 달리, 상기 표면 처리부(200)는 포트 레지스트막이 패터닝된 상기 기판(10)의 표면을 식각할 수도 있다. 이때, 상기 케미컬(20)은 식각용 용액을 포함할 수 있다.
상기 이송부(300)는 상기 적재부(100)와 상기 표면 처리부(200) 사이에서 상기 기판(10)을 이송한다. 상기 이송부(300)는 상기 기판(10)들을 파지하는 척(310), 상기 척(310)과 연결되고, 상기 척(310)의 상부를 지지하는 척 홀더(320) 및 상기 척 홀더(320)와 연결된 이송 몸체(330)를 포함한다.
상기 척(310)은 상기 기판(10)들의 병렬 배치 방향을 따라 길게 형성된다. 상기 척(310)은 적어도 두 개의 지지대를 포함하여 상기 기판(10)들의 양 옆을 파지한다. 즉, 상기 척(310)은 상기 기판(10)들을 중심으로 오므라졌다, 벌려졌다 하는 동작을 한다. 이에, 상기 척(310)의 동작을 위한 구동력은 상기 척 홀더(320)로부터 발생되어 인가된다. 여기서, 상기 척(310)의 동작을 위한 신호는 상기 척 홀더(320)와 연결된 상기 이송 몸체(330)로부터 전송된다. 이와 달리, 상기 척(310)의 동작을 위한 구동과 그 구동을 위한 신호가 모두 상기 이송 몸체(330)로부터 발생되어 전달될 수 있다.
상기 척 홀더(320)는 상기 척(310)의 동작을 가이드한다. 상기 척 홀더(320)는 상기 척(310)을 안정적으로 지지하기 위하여 소정 무게를 갖는 블록 형상으로 이루어질 수 있다. 상기 척 홀더(320)는 상기 이송 몸체(330)와 연결 로드(340)를 통하여 연결된다. 여기서, 상기 연결 로드(340)와 상기 척(310)은 실질적으로, 수직인 구조를 가질 수 있다.
상기 이송 몸체(330)는 실질적으로, 상기 적재부(100)와 상기 표면 처리부(200)의 사이를 이동하면서 상기 척(310)에 의하여 지지되는 상기 기판(10)들을 이송시킨다. 상기 이송 몸체(330)는 상기 연결 로드(340)를 상하 방향을 따라 이송시킨다. 이로써, 상기 연결 로드(340)에 연결된 상기 척 홀더(320)와 상기 척(310)도 상하 방향을 따라 이송한다. 또한, 상기 이송 몸체(330)가 상기 적재부(100)와 상기 표면 처리부(200) 사이에서 원활하게 이동하도록 하기 위하여, 상기 이송 몸체(330)의 하부에는 레일에 설치될 수 있다.
상기 세정 유닛(400)은 상기 척(310)과 상기 척 홀더(320)를 세정한다. 이 하, 상기 세정 유닛(400)은 도 3 및 도 4를 추가적으로 참조하여 상세하게 설명하고자 한다.
도 3은 도 2의 세정 유닛에서 이송부를 세정하는 상태를 나타낸 도면이며, 도 4는 도 2의 세정 유닛이 외부로부터 폐쇄된 상태를 나타낸 사시도이다.
도 3 및 도 4를 추가적으로 참조하면, 상기 세정 유닛(400)은 세정조(410), 제1 분사부(420), 제2 분사부(430) 및 커버부(440)를 포함한다.
상기 세정조(410)는 상기 척(310)과 상기 척 홀더(320)를 세정하기 위한 공간을 제공한다. 상기 세정조(410)는 실질적으로, 상기 이송 몸체(330)의 이송 동작을 통해 상기 척(310)이 상부로부터 투입된다. 이때, 상기 척 홀더(320)는 상기 세정조(410)의 상부로 노출된 형상을 갖는다.
상기 제1 분사부(420)는 상기 세정조(410)의 내부에 위치하여 상기 세정조(410)로 투입되는 상기 척(310)을 세정한다. 상기 제1 분사부(420)는 상기 척(310)을 감싸면서 상기 세정조(410)의 내벽과 결합하는 구조를 갖는다. 이에, 상기 제1 분사부(420)는 상기 이송 몸체(330)를 이용하여 상기 척(310)을 상하 방향으로 이송시킴으로써, 상기 척(310)을 세정한다. 이와 달리, 상기 제1 분사부(420)는 상기 세정부의 내벽을 따라 상하 방향으로 이동하여 상기 척(310)을 세정할 수 있다.
상기 제1 분사부(420)는 탈이온수(DIW)와 같은 세정액(30)을 실질적으로, 상기 척(310)에 분사한다. 이에, 상기 제1 분사부(420)는 상기 세정액(30)을 분사하는 제1 분사 노즐(422)을 포함할 수 있다. 상기 제1 분사 노즐(422)은 소정의 분사 각을 가지면서 상기 세정액(30)을 분사할 수 있다.
한편, 상기 제1 분사부(420)는 상기 척(310)을 건조 상태에서 그 표면에 잔류하는 상기 케미컬(20)을 제거하고자 할 경우에는 상기 세정액(30)을 대신하여 세정 가스를 분사할 수도 있다. 상기 세정 가스는 일 예로, 질소(N2) 가스를 포함할 수 있다.
상기 제2 분사부(430)는 상기 척(310)이 상기 세정조(410)로 투입될 때, 상기 척 홀더(320)의 상부에 위치한다. 상기 제2 분사부(430)는 외부로부터 슬라이딩 방식에 따라 상기 척 홀더(320)의 상부로 이동하여 배치된다.
예를 들어, 상기 세정조(410)가 상기 이송 몸체(330)의 반대편에 대응하여 돌출부(412)를 포함한다면, 상기 제2 분사부(430)는 상기 돌출부(412)로부터 슬라이딩되어 상기 척 홀더(320)의 상부로 이동하여 위치한다. 구체적으로, 상기 제2 분사부(430)는 상기 척(310) 및 상기 척 홀더(320)를 세정하고 할 때에는 상기와 같이, 슬라이딩되어 상기 척 홀더(320)의 상부에 위치하고, 상기 세정을 하지 않을 경우에는 상기 돌출부(412) 속으로 들어가 외관상 보이지 않게 된다.
상기 제2 분사부(430)는 상기 척 홀더(320)에 실질적으로, 상기 세정액(30)을 분사하여 상기 척 홀더(320)를 세정한다. 이에, 상기 제2 분사부(430)는 상기 세정액(30)을 분사하기 위한 제2 분사 노즐(432)을 포함할 수 있다. 상기 제2 분사 노즐(432)은 실질적으로, 상기 제1 분사 노즐(422)과 동일한 구성을 가질 수 있다. 또한, 상기 제2 분사부(430)도 상기 세정액(30)을 대신에, 상기 세정 가스를 분사할 수 있다.
상기 커버부(440)는 상기 제1 분사부(420) 및 상기 제2 분사부(430)를 통하여 상기 척(310)과 상기 척 홀더(320)가 세정될 때, 상기 세정조(410)의 개방된 부위, 즉 척 홀더(320)의 노출된 부위를 외부로부터 폐쇄한다. 즉, 상기 척(310)과 상기 척 홀더(320)를 세정하기 위한 상기 세정액(30)이 외부로 누출되는 것을 방지한다. 상기 커버부(440)는 상기 세정조(410)가 상기 돌출부(412)를 포함할 경우, 제1, 제2 및 제3 차단막(442, 444, 446)을 포함할 수 있다.
상기 제1 및 제2 차단막(442, 444)은 상기 돌출부(412)와 수직한 상기 세정조(410)의 양측에 형성된다. 상기 제3 차단막(446)은 상기 돌출부(412)와 대향하면서 상기 제1 및 제2 차단막(442, 444)에 수직한 상기 세정조(410)의 일측에 형성된다.
상기 제1, 제2 및 제3 차단막(442, 444, 446)은 상기 세정조(410) 상부의 가장 자리에서 슬라이딩 방식에 따라 상부로 돌출되어 상기 척 홀더(320)의 상부에 배치되는 상기 제2 분사부(430)와 만나는 구조를 갖는다. 여기서, 상기 제1, 제2 및 제3 차단막(442, 444, 446)은 상기 세정조(410)의 내부로 슬라이딩되어 삽입되는 구조를 가질 수도 있고, 상기 세정조(410)의 외면을 따라 슬라이딩되는 구조를 가질 수도 있다.
이때, 상기 제3 차단막(446)에는 상기 연결 로드(340)를 노출시키기 위한 노출구(447)가 형성된다. 이와 달리, 상기 제3 차단막(446)은 상기 연결 로드(340)의 위치까지만 돌출될 수 있다. 이러한 상기 커버부(440)는 상기 제1, 제2 및 제3 차단막(442, 444, 446)을 슬라이딩 방식에 돌출시키기 위한 전기적이거나, 물리적인 힘이 필요할 수 있다.
한편, 상기 세정조(410)가 상기 돌출부(412)를 포함하지 않는다면, 상기 커버부(440)는 상기 제3 차단막(446)과 대향하면서 상기 제1 및 제2 차단막(442, 444)에 수직한 제4 차단막을 더 포함할 수 있다. 이럴 경우, 상기 제1 및 제2 차단막(442, 444)과 상기 제4 차단막은 일체형 구조를 가질 수 있다. 즉, 상기 제1 및 제2 차단막(442, 444)과 상기 제4 차단막은 동시에 슬라이딩되어 돌출될 수 있다.
따라서, 상기 이송부(300)의 척(310)과 상기 척(310)의 상부를 지지하는 상기 척 홀더(320)를 각각 세정하는 상기 제1 분사부(420) 및 상기 제2 분사부(430)를 포함하고, 상기 제1 분사부(420) 및 상기 제2 분사부(430)를 통해 상기 척(310)과 상기 척 홀더(320)를 세정할 때, 상기 세정조(410)의 노출된 부위를 상기 커버부(440)를 통해 외부로부터 폐쇄시킴으로써, 상기 척(310)과 상기 척 홀더(320)의 세정 도중 상기 케미컬(20)을 포함하는 상기 세정액(30)이 외부로 누출되는 것을 방지할 수 있다.
결과적으로, 상기 케미컬(20)을 포함하는 상기 세정액(30)으로 인하여 주위의 다른 부품 또는 장비가 이차 오염되는 것을 방지할 수 있다.
도 5는 도 1에 도시된 기판 처리 장치의 다른 실시예에 따른 세정 유닛이 외부로부터 폐쇄된 상태를 나타낸 사시도이다.
본 실시예에서, 커버부의 구조를 제외하고는 도 2, 도 3 및 도 4에 도시된 구성과 동일할 수 있으므로, 동일한 참조 번호를 사용하며, 그 중복되는 상세한 설명은 생략하기로 한다.
도 1 및 도 5를 참조하면, 세정 유닛(450)의 커버부(460)는 외부로부터 세정조(410)의 개방된 부위, 즉 이송부(300)의 척 홀더(320)의 노출된 부위를 커버하는 구조를 갖는다.
구체적으로, 상기 커버부(460)는 먼저, 상기 척 홀더(320)의 노출 부위를 충분히 폐쇄할 수 있는 크기로 기 제작된 후, 상기 척 홀더(320)의 상부에 위치하는 제2 분사부(430)의 상부에 안착되면서 세정조(410)의 외면에 결합하여 상기 척 홀더(320)의 노출된 부위를 커버한다.
상기 커버부(460)에는 상기 이송부(300)의 이송 몸체(330)와 척 홀더(320)를 연결하는 연결 로드(340)를 노출시키기 위한 노출구(462)가 형성된다. 이때, 상기 커버부(460)가 상기 제2 분사부(430)의 상부로부터 커버할 때, 상기 연결 로드(340)가 간섭하는 것을 방지하기 위하여 상기 노출구(462)의 아래 부분에는 절개부(464)가 형성된다.
상기 커버부(460)는 플렉시블한 재질로 이루어진다. 이는, 상기 커버부(460)가 상기 척 홀더(320)의 노출 부위를 커버할 때, 상기 절개부(464)를 통해 충분히 상기 연결 로드(340)의 간섭을 방지하고, 다 커버하고 난 다음 상기 절개부(464)가 원상 복귀되면서 상기 척 홀더(320)의 노출 부위가 완벽하게 차단된다. 이때, 상기 커버부(460)는 상기 절개부(464)가 벌어지는 것을 방지하기 위한 벌어짐 방지부(미도시)를 더 포함할 수 있다.
이와 같이, 상기 커버부(460)가 전기적인 힘 또는 물리적인 힘 없이 상기 척 홀더(320)의 노출된 부위를 간단하게 커버할 수 있다. 또한, 상기 커버부(460)가 별도로 관리됨으로써, 유지 보수가 용이한 장점도 있다.
앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
상술한 본 발명은 이송부의 척과 척 홀더를 세정할 때 세정조의 개방된 부위를 외부로부터 폐쇄하여 상기 척과 상기 척 홀더을 세정하기 세정액이 외부로 누출되는 것을 방지하는데 이용할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 개략적인 구성도이다.
도 2는 도 1에 도시된 기판 처리 장치의 이송부와 일 실시예에 따른 세정 유닛을 나타낸 사시도이다.
도 3은 도 2의 세정 유닛에서 이송부를 세정하는 상태를 나타낸 도면이다.
도 4는 도 2의 세정 유닛이 외부로부터 폐쇄된 상태를 나타낸 사시도이다.
도 5는 도 1에 도시된 기판 처리 장치의 다른 실시예에 따른 세정 유닛이 외부로부터 폐쇄된 상태를 나타낸 사시도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10 : 기판 20 : 케미컬
30 : 세정액 100 : 적재부
200 : 표면 처리부 300 : 이송부
400 : 세정 유닛 410 : 세정조
420 : 제1 분사부 430 : 제2 분사부
440 : 커버부 1000 : 기판 처리 장치

Claims (6)

  1. 기판을 파지하는 척과, 상기 척 상부에 연결되고 상기 척을 지지하는 척 홀더를 포함하는 이송부 중에서 상기 척으로 세정액을 분사하는 제1 분사부;
    상기 이송부 중에서 상기 척 홀더로 세정액을 분사하는 제2 분사부;
    상기 이송부의 척을 그 내부에 위치시킬 수 있고, 상기 제1 분사부로부터 분사되는 세정액과 상기 제2 분사부로부터 분사되는 세정액을 수집하는 세정조; 및
    상기 세정조의 개방된 부위에서 상기 척 홀더가 노출된 부위를 폐쇄시키도록 설치되고, 상기 제1 분사부로부터 분사되는 세정액과 상기 제2 분사부로부터 분사되는 세정액이 상기 세정조의 개방된 부위를 통하여 외부로 누출되는 것을 방지하는 커버부를 포함하는 이송 부재의 세정 유닛.
  2. 제1항에 있어서, 상기 커버부는 상기 세정조로부터 슬라이딩 방식에 따라 상기 개방된 부위로 돌출되는 것을 특징으로 하는 이송 부재의 세정 유닛.
  3. 제1항에 있어서, 상기 커버부는 기 제작되어 외부로부터 상기 세정조의 개방된 부위를 커버하는 것을 특징으로 하는 이송 부재의 세정 유닛.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제2 분사부는 외부로부터 슬라이딩 방식에 따라 상기 척 홀더의 세정이 가능한 위치로 이동하는 것을 특징으로 하는 이송 부재의 세정 유닛.
  5. 케미컬에 의하여 그 표면이 처리되는 기판이 적재되는 적재부;
    그 내부에 상기 케미컬이 채워져 상기 기판의 표면을 처리하는 표면 처리부;
    상기 적재부와 상기 표면 처리부 사이에서 상기 기판을 이송하고, 상기 기판을 파지하는 척과, 상기 척 상부에 연결되고 상기 척을 지지하는 척 홀더를 포함하는 이송부; 및
    상기 이송부의 척으로 세정을 분사하는 제1 분사부, 상기 이송부의 척 홀더로 세정액을 분사하는 제2 분사부, 상기 이송부의 척을 그 내부에 위치시킬 수 있고 상기 제1 분사부로부터 분사되는 세정액과 상기 제2 분사부로부터 분사되는 세정액을 수집하는 세정조 및 상기 세정조의 개방된 부위에서 상기 척 홀더가 노출된 부위를 폐쇄시키도록 설치되고 상기 제1 분사부로부터 분사되는 세정액과 상기 제2 분사부로부터 분사되는 세정액이 상기 세정조의 개방된 부위를 통하여 외부로 누출되는 것을 방지하는 커버부를 갖는 세정부를 기판 처리 장치.
  6. 삭제
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990036450U (ko) * 1998-02-21 1999-09-27 구본준 반도체 웨이퍼 세정장치
KR20010091552A (ko) * 2000-03-16 2001-10-23 윤종용 이송 로봇의 척 세정장치

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