KR100855821B1 - Raster scanning type display using the diffraction optical modulation - Google Patents

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Abstract

본 발명은 회절형 광변조기를 이용한 디스플레이 장치에 관한 것으로서, 특히 회절형 광변조기의 하나 또는 복수의 엘리멘트를 이용하여 점광을 변조하여 광세기가 조절된 회절광을 생성한 후에 생성된 회절광을 스캐닝 점광으로 하여 스크린에 래스터 스캐닝하도록 하는 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device using a diffractive light modulator. In particular, the present invention relates to a display device using one or more elements of a diffractive light modulator. The present invention relates to a display apparatus of a raster scanning method using a diffraction type optical modulator for performing raster scanning on a screen using point light.

광변조기, 회절형, 디스플레이, 래스터 스캐닝, Raster scanning Optical Modulators, Diffraction, Displays, Raster Scanning, Raster scanning

Description

회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치{Raster scanning type display using the diffraction optical modulation} Raster scanning type display device using diffractive optical modulator

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치의 구성도.1 is a block diagram of a raster scanning display device using a diffractive optical modulator according to an embodiment of the present invention.

도 2a는 본 발명에 이용되는 함몰형 회절형 광변조기의 단면도이고, 도 2b 및 도 2c는 본 발명에 이용되는 오픈홀 기반의 회절형 광변조기의 단면도.2A is a cross-sectional view of the recessed diffraction type optical modulator used in the present invention, and FIGS. 2B and 2C are cross-sectional views of an open hole-based diffraction type optical modulator used in the present invention.

도 3a는 본 발명의 일실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절형 광변조기의 하나의 엘리멘트의 상부 마이크로 미러에 원형의 점광이 조명된 경우의 평면도이고, 도 3b는 본 발명의 일실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절형 광변조기의 네개의 엘리멘트의 상부 마이크로 미러에 원형의 점광이 조명된 경우의 평면도.FIG. 3A is a plan view of a circular spot light illuminated on the upper micromirror of one element of an open hole-based diffractive optical modulator according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3B is an embodiment of the present invention. Top view of circular point light illuminated on the top micromirrors of the four elements of an open-hole-based diffractive optical modulator.

도 4는 도 1의 투사부의 상세 구성도.4 is a detailed configuration diagram of the projection unit of FIG. 1.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

102 : 디스플레이 광학계 104 : 디스플레이 전자계 102 display optical system 104 display electronic system

106 : 레이저 108 : 조명광학부106: laser 108: illumination optics

110 : 회절형 광변조기 112 : 필터 광학부110: diffraction optical modulator 112: filter optical portion

116 : 투사부 116: projection unit

본 발명은 회절형 광변조기를 이용한 디스플레이 장치에 관한 것으로서, 특히 회절형 광변조기의 하나 또는 복수의 엘리멘트를 이용하여 점광을 변조하여 광세기가 조절된 회절광을 생성한 후에 생성된 회절광을 스캐닝 점광으로 하여 스크린에 래스터 스캐닝하도록 하는 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device using a diffractive light modulator. In particular, the present invention relates to a display device using one or more elements of a diffractive light modulator. The present invention relates to a display apparatus of a raster scanning method using a diffraction type optical modulator for performing raster scanning on a screen using point light.

미세기술의 진전에 따라서, 소위 마이크로 머신(MEMS: Micro Electro Mechanical Systems, 초소형 전기적·기계적 복합체)소자 및 MEMS소자를 조립한 소형기기가 주목되고 있다.In accordance with the progress of microtechnology, attention has been paid to small devices incorporating so-called Micro Electro Mechanical Systems (MEMS) devices and MEMS devices.

MEMS소자는 실리콘기판, 글래스기판 등의 기판상에 미세구조체로서 형성되고, 기계적 구동력을 출력하는 구동체와, 구동체를 제어하는 반도체 집적회로 등을 전기적으로, 또한 기계적으로 결합시킨 소자이다. MEMS소자의 기본적인 특징은 기계적 구조로서 구성되어 있는 구동체가 소자의 일부에 조립되어 있는 것이며, 구동체의 구동은 전극간의 쿨롱의 힘 등을 응용하여 전기적으로 행해진다.A MEMS device is a device formed as a microstructure on a substrate such as a silicon substrate or a glass substrate, and electrically and mechanically coupled to a driver for outputting a mechanical driving force, a semiconductor integrated circuit for controlling the driver, and the like. A basic feature of the MEMS device is that a drive body constructed as a mechanical structure is assembled to a part of the device, and the drive of the drive body is performed electrically by applying the coulomb force between the electrodes.

최근에는, 이러한 MEMS 소자를 사용하는 광변조기가 개발되었다. 그러한 광 변조기의 일예로는 블룸(Bloom) 등의 미국특허 제5,311,360호에 개시되어 있는 격자 광밸브(GLV:grating light valve)가 있는데, 상기 특허에서 GLV는 반사모드 및 회절모드로 구성가능하다. Recently, optical modulators using such MEMS devices have been developed. An example of such an optical modulator is a grating light valve (GLV) disclosed in US Pat. No. 5,311,360 to Bloom et al., Wherein the GLV is configurable in reflection mode and diffraction mode.

한편, 상술의 MEMS 소자를 적용한 광변조 소자로서의 GLV 디바이스 등을 디스플레이 응용에 사용하기 위해서는 그에 따른 디스플레이 장치의 개발이 요구된다.On the other hand, in order to use a GLV device or the like as an optical modulation device to which the above-described MEMS device is applied to a display application, development of a display device according to the above is required.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 회절형 광변조기의 하나 또는 복수의 엘리멘트를 이용하여 점광을 변조한 후에 변조된 점광을 스캐닝 점광으로 하여 스크린에 래스터 스캐닝하도록 한 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, the diffraction of raster scanning on the screen using the modulated point light as the scanning point light after modulating the point light using one or a plurality of elements of the diffractive optical modulator It is an object of the present invention to provide a raster scanning display device using a fluorescent modulator.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명은, 광원에서 출사된 광을 점광으로 조사하기 위한 조명 광학부; 엘리멘트가 상기 조명 광학부에서 입사된 점광을 변조하여 광세기가 조절된 복수의 회절차수의 회절광을 생성하는 회절형 광변조기; 상기 회절형 광변조기로부터 형성된 회절광을 스캐닝 점광으로 하여 스크린에 수평 스캐닝과 수직 스캐닝을 반복하는 래스터 스캐닝을 수행하여 2차원 영상을 생성하 는 투사부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.The present invention for solving the above problems, the illumination optical unit for irradiating the light emitted from the light source with point light; A diffraction type optical modulator, the element modulating the point light incident from the illumination optical unit to generate diffracted light having a plurality of diffraction orders of which light intensity is controlled; And a projection unit configured to generate a two-dimensional image by performing raster scanning by repeating horizontal scanning and vertical scanning on the screen using the diffracted light formed from the diffractive light modulator as scanning point light.

또한, 본 발명은, 광원으로부터 출사된 광을 점광으로 조사하기 위한 조명 광학부; 복수의 엘리멘트가 상기 조명 광학부에서 입사된 점광을 변조하여 광세기가 조절된 복수의 회절차수의 회절광을 생성하는 회절형 광변조기; 상기 회절형 광변조기로부터 형성된 회절광을 스캐닝 점광으로 하여 스크린에 수평 스캐닝과 수직 스캐닝을 반복하는 래스터 스캐닝을 수행하여 2차원 영상을 생성하는 투사부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In addition, the present invention, the illumination optical unit for irradiating the light emitted from the light source with the point light; A diffraction type optical modulator for generating a plurality of diffraction light having a plurality of diffraction orders of which light intensity is modulated by a plurality of elements modulating the point light incident from the illumination optical unit; And a projection unit configured to generate a two-dimensional image by performing raster scanning by repeating horizontal scanning and vertical scanning on the screen using the diffracted light formed from the diffractive light modulator as scanning point light.

이제, 도 1 이하의 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a raster scanning display device using a diffractive optical modulator according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 1.

도 1는 본 발명의 일실시예에 따른 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치의 구성도이다. 1 is a block diagram of a raster scanning display device using a diffractive optical modulator according to an embodiment of the present invention.

도 1를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치는 디스플레이 광학계(102)와 디스플레이 전자계(104)를 포함한다. 디스플레이 광학계(102)는 레이저(106), 레이저(106)로부터 나오는 빛을 회절형 광변조기(110)에 원형 또는 타원형의 점광(spot beam)으로 조사하기 위해 원형 점광 또는 타원형 점광을 만들어 주는 조명 광학부(108), 조명 광학부(108)로부터 조사된 점광을 회절시켜 사용하기를 원하는 회절차수의 회절광의 광세기가 조절된 복수의 회절차수의 회절광을 생성하는 회절형 광변조기(110), 회절형 광변조기(110)에서 출사된 복수의 회절차수의 회절광을 차수분리하고 분리된 여러 차수의 회절광중에서 사용하기를 원하는 차수의 회절광을 통과시키는 필터 광학부(112), 필터 광학부(112)를 통과한 회절광을 스캐닝 점광으로 하여 디스플레이 스크린에 래스터 스캐닝을 수행하는 투사부(116), 및 디스플레이 스크린(118)을 포함한다. Referring to FIG. 1, a raster scanning display device using a diffractive optical modulator according to an embodiment of the present invention includes a display optical system 102 and a display electronic system 104. The display optical system 102 is an illumination optical that generates circular point light or elliptical point light to irradiate the light from the laser 106 and the laser 106 with a circular or elliptical spot beam to the diffraction type optical modulator 110. The diffraction type light modulator 110 generates diffracted light of a plurality of diffraction orders in which the light intensity of the diffracted light of the diffraction order desired to be used is diffracted by the point light irradiated from the illumination optical unit 108 to be used. Filter optical unit 112 for separating the diffracted light of the plurality of diffraction orders emitted from the diffractive light modulator 110 and passing the diffracted light of the order desired to be used among the separated diffraction light of the plurality of orders, A projection unit 116 for performing raster scanning on the display screen using the diffracted light passing through the filter optical unit 112 as scanning point light, and a display screen 118.

디스플레이 전자계(104)는 레이저(106), 회절형 광변조기(110) 및 투사부(116)에 접속된다.The display electromagnetic field 104 is connected to the laser 106, the diffractive light modulator 110, and the projection unit 116.

디스플레이 전자계(104)는 레이저(106)에 전력을 제공한다. 레이저(106)는 레이저 조명을 방출하는데, 레이저 조명의 단면은 원형이고, 그 광의 세기 프로파일은 가우시안(Gausian) 분포를 하고 있으며, 일예로 레이저(106)(실제로는 R광원의 레이저, G광원의 레이저, B광원의 레이저로 이루어져 있다)는 R광, G광, B광을 순차적으로 방출하도록 할 수 있다. 조명 광학부(108)는 레이저(106)가 방출한 레이저 조명을 원형 또는 타원형의 점광으로 변환하여 회절형 광변조기(110)상에 집속시킨다. 이러한 조명 광학부(108)는 일예로 볼록렌즈(미도시)로 이루어지거나 볼록렌즈(미도시)와 콜리메이팅 렌즈(미도시)를 포함하여 구성될 수 있다. The display field 104 provides power to the laser 106. The laser 106 emits laser illumination, the cross section of the laser illumination being circular, the intensity profile of the light having a Gaussian distribution, for example, the laser 106 (actually a laser of an R light source, a G light source). Laser, B light source laser) can emit R light, G light, B light sequentially. The illumination optical unit 108 converts the laser light emitted by the laser 106 into circular or elliptical point light and focuses it on the diffractive light modulator 110. The illumination optical unit 108 may be formed of, for example, a convex lens (not shown) or may include a convex lens (not shown) and a collimating lens (not shown).

한편, 회절형 광변조기(110)는 조명광학부(108)로부터 원형의 또는 타원형의 점광이 입사되면, 디스플레이 전자계(104)의 제어에 따라 점광을 회절시켜 복수의 회절차수를 갖는 회절광을 생성하게 되는데 이때 사용하기를 원하는 회절차수의 회절광의 광세기를 적절하게 조정한다.On the other hand, when the circular or elliptical point light is incident from the illumination optical unit 108, the diffraction type optical modulator 110 diffracts the point light under the control of the display electron system 104 to generate diffracted light having a plurality of diffraction orders. In this case, the light intensity of the diffracted light of the diffraction order desired to be used is appropriately adjusted.

이러한 회절형 광변조기(110)의 일예가 도 2a 내지 도 2c에 도시되어 있는 데, 도 2a는 본 발명에 이용되는 압전 재료를 이용한 함몰형 회절형 광변조기의 단면도이고, 도 2b 및 도 2c는 본 발명에 이용되는 오픈홀 기반의 압전 재료를 이용한 회절형 광변조기의 단면도이다.An example of such a diffraction type optical modulator 110 is shown in FIGS. 2A to 2C, which is a cross-sectional view of a recessed diffraction type optical modulator using a piezoelectric material used in the present invention, and FIGS. 2B and 2C A cross-sectional view of a diffractive optical modulator using an open hole-based piezoelectric material used in the present invention.

도면을 참조하면, 본 발명에 이용되는 함몰형 박막 압전 광변조기는 실리콘 기판(210)과, 복수의 엘리멘트(212a~212n)를 구비하고 있다.Referring to the drawings, the recessed thin film piezoelectric optical modulator used in the present invention includes a silicon substrate 210 and a plurality of elements 212a to 212n.

여기에서, 복수의 엘리멘트(212a~212n)는 일정한 폭을 가지며 일정하게 정렬하여 함몰형 박막 압전 광변조기를 구성한다. 또한, 이러한 복수의 엘리멘트(212a~212n)는 서로 다른 폭을 가지며 교번하여 정렬하여 함몰형 박막 압전 광변조기를 구성한다. 또한, 이러한 엘리멘트(212a~212n)는 일정간격(거의 엘리멘트(212a~212n)의 폭과 같은 거리)을 두고 이격되어 위치할 수 있으며 이 경우에 실리콘 기판(210)의 상면의 전부에 형성된 마이크로 미러층이 입사된 빛을 반사하여 회절시킨다. Herein, the plurality of elements 212a to 212n have a constant width and are regularly aligned to form a recessed thin film piezoelectric optical modulator. In addition, the plurality of elements 212a to 212n have different widths and alternately arranged to form a recessed thin film piezoelectric optical modulator. In addition, the elements 212a to 212n may be spaced apart from each other at a predetermined interval (almost the same distance as the width of the elements 212a to 212n), and in this case, the micromirrors formed on the entire upper surface of the silicon substrate 210. The layer reflects the incident light and diffracts it.

실리콘 기판(210)은 엘리멘트(212a~212n)에 공간을 제공하기 위하여 함몰부를 구비하고 있으며, 절연층(211)이 상부 표면에 증착되어 있고, 함몰부의 양측에 엘리멘트(212a~212n)의 단부가 부착되어 있다.The silicon substrate 210 has depressions to provide space in the elements 212a to 212n, and an insulating layer 211 is deposited on the upper surface, and ends of the elements 212a to 212n are formed on both sides of the depressions. Attached.

각각의 엘리멘트(여기에서는 도면부호 212a에 대해서만 자세히 설명하지만 나머지 212b~212n도 동일하다)는 막대 형상을 하고 있으며 중앙부분이 실리콘 기판(210)의 함몰부에 이격되어 위치하도록 양끝단의 하면이 각각 실리콘 기판(210)의 함몰부를 벗어난 양측지역에 부착되어 있고, 실리콘 기판(210)의 함몰부에 위치한 부분이 상하로 이동가능한 하부지지대(213a)를 포함한다.Each element (herein, only the reference numeral 212a is described in detail, but the remaining 212b to 212n is the same) has a rod shape, and the lower surfaces of both ends are positioned so that the center portion is spaced apart from the depression of the silicon substrate 210. A portion of the silicon substrate 210 that is attached to both side regions outside the depression and positioned in the depression of the silicon substrate 210 includes a lower support 213a that is movable up and down.

또한, 엘리멘트(212a)는 하부지지대(213a)의 좌측단에 적층되어 있으며, 압전 전압을 제공하기 위한 하부전극층(214a)와, 하부전극층(214a)에 적층되어 있으며 양면에 전압이 인가되면 수축 및 팽창하여 상하 구동력을 발생시키는 압전 재료층(215a)와, 압전 재료층(215a)에 적층되어 있으며 압전재료층(215a)에 압전 전압을 제공하는 상부 전극층(216a)을 포함하고 있다.In addition, the element 212a is stacked on the left end of the lower support 213a, and is laminated on the lower electrode layer 214a and the lower electrode layer 214a for providing a piezoelectric voltage, and contracts and A piezoelectric material layer 215a that expands to generate a vertical driving force and an upper electrode layer 216a that is stacked on the piezoelectric material layer 215a and provide a piezoelectric voltage to the piezoelectric material layer 215a are included.

또한, 엘리멘트(212a)는 하부지지대(213a)의 우측단에 적층되어 있으며, 압전 전압을 제공하기 위한 하부전극층(214a')과, 하부전극층(214a')에 적층되어 있으며 양면에 전압이 인가되면 수축 및 팽창하여 상하 구동력을 발생시키는 압전 재료층(215a')과, 압전 재료층(215a')에 적층되어 있으며 압전재료층(215a')에 압전 전압을 제공하는 상부 전극층(216a')을 포함하고 있다.In addition, the element 212a is stacked on the right end of the lower support 213a, and is stacked on the lower electrode layer 214a 'and the lower electrode layer 214a' for providing a piezoelectric voltage. A piezoelectric material layer 215a 'that contracts and expands to generate a vertical driving force, and an upper electrode layer 216a' that is stacked on the piezoelectric material layer 215a 'and provides a piezoelectric voltage to the piezoelectric material layer 215a'. Doing.

도 2b은 본 발명에 이용되는 오픈홀 기반의 회절형 광변조기의 사시도이다. 도 2b를 참조하면, 오픈홀 기반의 회절 광변조기는 실리콘 기판(221)과, 절연층(222), 하부 마이크로 미러(223)와, 복수의 엘리멘트(230a~230n))로 구성되어 있다. Figure 2b is a perspective view of an open hole-based diffractive optical modulator used in the present invention. Referring to FIG. 2B, the open hole-based diffractive optical modulator is composed of a silicon substrate 221, an insulating layer 222, a lower micro mirror 223, and a plurality of elements 230a to 230n.

여기에서, 하부 마이크로 미러(223)는 실리콘 기판(221)의 상부에 증착되어 있으며, 입사하는 빛을 반사하여 회절시킨다. 하부 마이크로 미러(223)에 사용되는 물질로는 메탈(Al, Pt, Cr, Ag 등)이 사용될 수 있다. Here, the lower micro mirror 223 is deposited on the silicon substrate 221 and reflects and diffracts incident light. As a material used for the lower micromirror 223, metal (Al, Pt, Cr, Ag, etc.) may be used.

엘리멘트(대표적으로 도면부호 230a에 대해서만 설명하지만 나머지도 같다)는 리본 형상을 하고 있으며 중앙부분이 실리콘 기판(221)의 함몰부에 이격되어 위치하도록 양끝단의 하면이 각각 실리콘 기판(221)의 함몰부를 벗어난 양측지역에 부착되어 있는 하부 지지대(231a)를 구비하고 있다.The elements (typically described only with reference to 230a but the same are the same) have a ribbon shape and the lower surfaces of both ends are recessed of the silicon substrate 221 so that the center portion is spaced apart from the recessed portion of the silicon substrate 221. The lower support part 231a which is attached to the both side area | regions which are out of a part is provided.

하부 지지대(231a)의 양측면에는 압전층(240a, 240a')이 구비되어 있으며, 구비된 압전층(240a, 240a')의 수축 팽창에 의해 엘리멘트(230a)의 구동력이 제공된다.Piezoelectric layers 240a and 240a 'are provided on both side surfaces of the lower support 231a, and the driving force of the element 230a is provided by contraction and expansion of the provided piezoelectric layers 240a and 240a'.

그리고, 좌우측의 압전층(240a, 240a')은 압전 전압을 제공하기 위한 하부전극층(241a, 241a')과, 하부전극층(241a, 241a')에 적층되어 있으며 양면에 전압이 인가되면 수축 및 팽창하여 상하 구동력을 발생시키는 압전 재료층(242a, 242a')과, 압전 재료층(242a, 242a')에 적층되어 있으며 압전재료층(242a, 242a')에 압전 전압을 제공하는 상부 전극층(243a, 243a')을 구비하고 있다. 상부 전극층(243a, 243a')과 하부 전극층(241a, 241a')에 전압이 인가되면 압전재료층(242a, 242a')은 수축 팽창을 하여 하부 지지대(231a)의 상하 운동을 발생시킨다.The left and right piezoelectric layers 240a and 240a 'are stacked on the lower electrode layers 241a and 241a' for providing the piezoelectric voltage and the lower electrode layers 241a and 241a ', and contract and expand when voltage is applied to both surfaces. The upper electrode layers 243a, which are stacked on the piezoelectric material layers 242a and 242a 'that generate vertical driving force, and which provide piezoelectric voltages to the piezoelectric material layers 242a and 242a'. 243a '). When voltage is applied to the upper electrode layers 243a and 243a 'and the lower electrode layers 241a and 241a', the piezoelectric material layers 242a and 242a 'contract and expand to generate vertical movement of the lower support 231a.

한편, 하부 지지대(231a)의 중앙 부분에는 상부 마이크로 미러(250a)가 증착되어 있으며 복수의 오픈홀(251a1~251a4)을 구비하고 있다. 여기에서 오픈홀(251a1~251a4)의 모양은 직사각형이 바람직하지만 원형, 타원형 등 어떤 폐곡선의 형상도 가능하다. 그리고, 오픈홀(251a1~251a4)은 상기 실리콘 기판(221)을 가로지는 방향과 직각 방향에 정렬되어 있는 것읕 특징으로 한다.On the other hand, the upper micro mirror 250a is deposited on the central portion of the lower support 231a and has a plurality of open holes 251a1 to 251a4. Here, the shape of the open holes 251a1 to 251a4 is preferably rectangular, but any closed curve such as circular or elliptical may be used. The open holes 251a1 to 251a4 are arranged in a direction perpendicular to a direction crossing the silicon substrate 221.

이러한 오픈홀(251a1~251a4)은 엘리멘트(230a)에 입사되는 입사광이 관통하여 오픈홀(251a1~251a4)이 형성된 부분에 대응하는 하부 마이크로 미러(223)에 입사광이 입사되도록 하며, 이렇게 하여 하부 마이크로 미러(223)와 상부 마이크로 미러(250a)가 형성한 회절광이 하나의 화소를 형성할 수 있도록 한다.The open holes 251a1 to 251a4 allow incident light incident on the element 230a to penetrate the incident light to the lower micromirror 223 corresponding to the portion where the open holes 251a1 to 251a4 are formed. The diffracted light formed by the mirror 223 and the upper micromirror 250a allows one pixel to be formed.

즉, 일예로 오픈홀(251a1~251a4)이 형성된 상부 마이크로 미러(250a)의 반사면 (A)부분에서 반사된 광과 하부 마이크로 미러(223)의 반사면 (B)부분에 반사된 광이 회절광을 형성하여 하나의 화소를 형성할 수 있다.That is, as an example, light reflected from the reflective surface A portion of the upper micromirror 250a having the open holes 251a1 to 251a4 and the light reflected from the reflective surface B portion of the lower micromirror 223 is diffracted. One pixel may be formed by forming light.

이때, 상부 마이크로 미러(250a)의 오픈홀(251a1~251a4)이 형성된 부분을 관통하여 입사되는 입사광은 하부 마이크로 미러(223)의 해당 반사면에 입사할 수 있으며 상부 마이크로 미러(250a)와 하부 마이크로 미러(223)의 간격이 λ/4의 홀수배가 될 때 최대의 회절광을 발생시킨다. In this case, incident light incident through a portion where the open holes 251a1 to 251a4 of the upper micromirror 250a are formed may be incident on a corresponding reflective surface of the lower micromirror 223 and the upper micromirror 250a and the lower micromirror. The maximum diffracted light is generated when the distance between the mirrors 223 becomes an odd multiple of lambda / 4.

한편, 도 2b는 오픈홀(251a1~251a4)이 상부 마이크로 미러(250a)가 실리콘 기판(221)을 가로지는 방향과 직각 방향에 정렬되어 있는 것읕 특징으로 하는 오픈홀 기반의 회절형 광변조기에 대하여 개시하고 있지만 도 2c는 상부 마이크로 미러(250a)가 실리콘 기판(221)을 가로지르는 방향과 동일한 방향으로 정렬되어 있는 복수의 오픈홀(251a1', 251a2')을 구비하고 있는 오픈홀 기반의 회절형 광변조기에 대하여 개시하고 있다.On the other hand, Figure 2b is an open hole-based diffraction type optical modulator characterized in that the open holes (251a1 ~ 251a4) are aligned in a direction perpendicular to the direction in which the upper micro mirror 250a crosses the silicon substrate 221. 2C shows an open hole-based diffraction type having a plurality of open holes 251a1 ′ and 251a2 ′ in which the upper micro mirror 250a is aligned in the same direction as the direction crossing the silicon substrate 221. An optical modulator is disclosed.

도 3a는 본 발명에 따른 오픈홀 기반의 회절형 광변조기의 하나의 엘리멘트의 상부 마이크로 미러(110a)에 원형의 R광, G광, B광이 순차적으로 입사된 경우의 평면도를 예시한 것이다.FIG. 3A illustrates a plan view of circular R light, G light, and B light sequentially entering the upper micromirror 110a of one element of the open hole-based diffractive optical modulator according to the present invention.

도면을 참조하면 원형의 광이 상부 마이크로 미러(310a)의 모든 반사면(310a-1~310a-3)과 홀(311a-1, 311a-2)중에서 일부 반사면(310a-1, 310a-2)과 모든 홀(311a-1, 311a-2)에 원형의 R광, G광, B광이 순차적으로 입사된다.Referring to the drawings, the circular light is partially reflected from all of the reflecting surfaces 310a-1 to 310a-3 and the holes 311a-1 and 311a-2 of the upper micro mirror 310a. ) And all of the holes 311a-1 and 311a-2 are sequentially incident circular R light, G light, and B light.

이처럼 상부 마이크로 미러(310a)의 일부 반사면(310a-1, 310a-2)과 홀(310a-1, 310a-2)에 원형의 광을 입사시키면, 상부 마이크로 미러(310a)의 일부 반사면(310a-1, 310a-2)과 상부 마이크로 미러(310a)의 홀(311a-1, 311a-2)에 대응되는 하부 마이크로 미러(미도시)의 일부 반사면(미도시)의 단차에 의해 입사된 원형의 점광이 회절되어 여러 회절 차수를 갖는 회절광이 생성된다. As such, when circular light is incident on the partially reflective surfaces 310a-1 and 310a-2 and the holes 310a-1 and 310a-2 of the upper micromirror 310a, the partial reflective surface of the upper micromirror 310a ( Incident by a step of some reflective surfaces (not shown) of the lower micromirrors (not shown) corresponding to the 310a-1 and 310a-2 and the holes 311a-1 and 311a-2 of the upper micromirror 310a. Circular point light is diffracted to produce diffracted light having various diffraction orders.

이때, 상부 마이크로 미러(310a)를 상하로 움직여 상부 마이크로 미러(310a)의 일부 반사면(310a-1, 310a-2)과 하부 마이크로 미러(미도시)의 일부 반사면(미도시)의 단차를 변화시키게 되면 그에 따라 회절광의 광세기가 변화되게 되어 스크린(미도시)에 래스터 스캐닝을 수행하여 원하는 2차원 영상을 생성할 수 있다. At this time, by moving the upper micro mirror 310a up and down, a step between the partial reflective surfaces 310a-1 and 310a-2 of the upper micro mirror 310a and the partial reflective surface (not shown) of the lower micro mirror 310 (not shown) may be adjusted. As a result, the light intensity of the diffracted light is changed accordingly, so that a desired two-dimensional image may be generated by performing raster scanning on a screen (not shown).

여기에서는 엘리멘트의 상부 마이크로 미러(310a)에 원형의 점광이 입사된 경우에 대하여 설명하였지만, 타원형의 점광이 입사되는 경우에도 동일한 설명이 가능하다.Here, the case where circular point light is incident on the upper micromirror 310a of the element has been described, but the same description is also possible when the elliptical point light is incident.

도 3b는 본 발명의 일실시예에 따른 오픈홀 기반의 회절형 광변조기의 네개의 엘리멘트의 상부 마이크로 미러(310a'~310d')에 원형의 점광인 R광, G광, B광이 순차 입사된 경우의 평면도를 예시한 것이다.Figure 3b is a circular point light R, G light, B light is sequentially incident on the upper micro-mirrors (310a '~ 310d') of the four elements of the open-hole-based diffractive optical modulator according to an embodiment of the present invention The plan view in the case of the above is illustrated.

도면을 보게 되면, 네개의 엘리멘트의 상부 마이크로 미러(310a'~310d')중 제1 상부 마이크로 미러(310a')에는 모든 반사면(310a'-1~310a'-4)과 모든 홀(311a'-1~311a'-3)중에서 일부 반사면(310a'-2, 310a'-3)과 일부 홀(311a'-2)에 원형의 점광이 입사됨을 알 수 있으며, 제2 상부 마이크로 미러(310b')는 모든 반사면(310b'-1~310b'-4)과 홀(311b'-1~311b'-3)에 원형의 점광이 입사됨을 알 수 있고, 제3 상부 마이크로 미러(310c') 또한 모든 반사면(310c'-1~310c'-4)과 모든 홀(311c'-1~311c'-3)에 원형의 점광이 입사됨을 알 수 있으며, 제4 상부 마이크로 미러(310d')는 모든 반사면(310d'-1~310d'-4)과 홀(311d'-1~311d'-3)중에서 일부 반사면(310d'-2, 310d'-3)과 일부 홀(311d'-2)에 원형의 점광이 입사됨을 알 수 있다. 그리고, 여기에서는 네개의 엘리멘트의 상부 마이크로 미러(310a'~310d')의 각각에 대하여 일부 반사면과 일부 홀에 원형의 점광이 입사되록 하였지만, 응용에 따라서는 원형의 점광이 아닌 타원형 또는 사각형의 점광을 사용한다면 입사되는 면적을 더 넓힐 수 있으며, 모든 반사면과 모든 홀에 원형의 점광이 입사되도록 할 수도 있다. Referring to the drawings, the first upper micromirrors 310a 'of the four elements of the upper micromirrors 310a' to 310d 'have all the reflection surfaces 310a'-1 to 310a'-4 and all the holes 311a'. It can be seen that circular point light is incident on some of the reflective surfaces 310a'-2 and 310a'-3 and some holes 311a'-2 from -1 to 311a'-3, and the second upper micromirror 310b ') Shows that the circular point light is incident on all the reflective surfaces 310b'-1 to 310b'-4 and the holes 311b'-1 to 311b'-3, and the third upper micromirror 310c' In addition, it can be seen that circular point light is incident on all of the reflective surfaces 310c'-1 to 310c'-4 and all of the holes 311c'-1 to 311c'-3, and the fourth upper micromirror 310d ' Some of the reflecting surfaces 310d'-2 and 310d'-3 and some of the holes 311d'-2 among all the reflecting surfaces 310d'-1 to 310d'-4 and the holes 311d'-1 to 311d'-3. It can be seen that circular point of light is incident on (). Here, circular point light is incident on some of the reflective surfaces and some holes on each of the four elements of the upper micromirrors 310a 'to 310d'. However, depending on the application, an elliptical or rectangular shape may be used instead of the circular point light. If you use point light, you can increase the incident area and make circular point light incident on all reflective surfaces and all holes.

이처럼 상부 마이크로 미러(310a'~310d')의 일부 반사면과 일부 홀에 원형의 광을 입사시키면, 상부 마이크로 미러(310a'~310d')의 일부 반사면과 상부 마이크로 미러(310a'~310d')의 홀에 대응되는 하부 마이크로 미러(미도시)의 일부 반사면(미도시)의 단차에 의해 입사된 원형의 점광이 회절되어 여러 회절 차수를 갖는 회절광이 생성된다. As such, when circular light is incident on some reflective surfaces and some holes of the upper micromirrors 310a 'to 310d', the partially reflective surfaces and the upper micromirrors 310a 'to 310d' of the upper micromirrors 310a 'to 310d' are incident. Circular point light incident by a step of a part of the reflective surface (not shown) of the lower micromirror (not shown) corresponding to the hole of X) is diffracted to generate diffracted light having various diffraction orders.

이때, 상부 마이크로 미러(310a'~310d')를 하나 또는 그 이상을 상하로 움직여 상부 마이크로 미러(310a'~310d')의 반사면과 하부 마이크로 미러(미도시)의 반사면(미도시)의 단차를 변화시키게 되면 그에 따라 회절광의 광세기가 변화되며 스크린(미도시)에 래스터 스캐닝을 수행하여 원하는 2차원 영상을 생성할 수 있다. At this time, one or more of the upper micromirrors 310a 'to 310d' is moved up and down so that the reflective surfaces of the upper micromirrors 310a 'to 310d' and the reflective surfaces of the lower micromirrors (not shown) are not shown. When the step is changed, the light intensity of the diffracted light is changed accordingly, and a desired two-dimensional image may be generated by performing raster scanning on a screen (not shown).

이처럼 복수의 엘리멘트를 이용하여 회절광을 생성하게 되면 하나의 엘리멘트를 이용하여 회절광을 생성하는 것보다 더 넓은 광세기 선택성을 갖는 회절광을 생성할 수 있다. 일예로 네개의 엘리멘트를 이용하여 회절광을 생성할 때 하나의 엘리멘트만 회절광을 생성하도록 하거나, 두개의 엘리멘트가 회절광을 생성하게 하거나, 세개의 엘리멘트가 회절광을 생성하거나, 네개의 엘리멘트가 회절광을 생성하도록 할 수 있어, 회절광을 얻는데 있어 이처럼 네가지의 서로 다른 광세기를 갖는 회절광을 얻을 수 있기 때문에 광세기의 선택성이 향상된다. As such, when the diffracted light is generated using the plurality of elements, the diffracted light having a wider light intensity selectivity may be generated than to generate the diffracted light using one element. For example, when generating diffracted light using four elements, only one element generates diffracted light, two elements generates diffracted light, three elements generates diffracted light, or four elements The diffraction light can be generated, and thus the diffraction light having four different light intensities can be obtained in obtaining the diffraction light, thereby improving the selectivity of the light intensity.

그리고, 여기에서는 엘리멘트의 상부 마이크로 미러(310a'~310d')에 원형의 점광이 입사된 경우에 대하여 설명하였지만, 타원형의 점광이 입사되는 경우에도 동일한 설명이 가능하다.Here, although the case where circular point light is incident on the upper micromirrors 310a 'to 310d' of the element has been described, the same explanation is also possible when the elliptical point light is incident.

한편, 필터 광학부(112)는 여러회절차수를 갖는 회절된 광이 입사되면 원하는 회절차수의 회절광을 분리한다. 이러한 필터 광학부(112)의 일예로 푸리에 렌즈(미도시)와 푸리에 필터(미도시)로 구성되어 있으며, 입사되는 회절광중 0차 회절광 또는 ±1차 광을 선택적으로 통과시킨다. 필터 광학부(112)는 도 1을 보면 회절형 광변조기(110)의 바로 후단에 위치하고 있지만 이에 한정되는 것은 아니며 투사부(116)의 후단에 위치할 수도 있다. 그리고, 필터 광학부(112)가 투사부(116)의 후단에 위치하는 경우에는 복수의 회절차수를 갖는 회절광이 충분히 진행하여 회절차수간의 근접거리가 일정정도 이상 확보되어 있기 때문에 회절차수간의 근접거리를 확보하기 위한 별도의 푸리에 렌즈를 필요로 하지 않으며 푸리에 필터만으로 구현할 수 있다. On the other hand, the filter optical unit 112 separates the diffracted light having the desired diffraction order when the diffracted light having the multiple procedure orders is incident. An example of such a filter optical unit 112 includes a Fourier lens (not shown) and a Fourier filter (not shown), and selectively pass zero-order diffracted light or ± first-order light among incident diffracted light. The filter optical unit 112 is located at the rear end of the diffraction type optical modulator 110 in FIG. 1, but is not limited thereto and may be located at the rear end of the projection unit 116. In the case where the filter optical unit 112 is located at the rear end of the projection unit 116, diffraction light having a plurality of diffraction orders proceeds sufficiently, so that the proximity distance between the diffraction orders is secured to a certain degree or more. It does not need a separate Fourier lens to secure close proximity to the water, and can be implemented with only Fourier filters.

그리고, 투사부(116)는 도 4에 도시된 바와 같이 집광 렌즈(116a), 스캐닝 미러(116b)와 프로젝션 렌즈(116c)로 구성되어 있으며, 입사된 회절광을 스크린(118)에 투사한다. 즉, 투사부(116)는 푸리에 필터(미도시)를 통하여 입사되는 회절빔을 스크린(118)에 집속시켜 스팟을 형성시키는 역할을 수행하는 것이다.As shown in FIG. 4, the projection unit 116 includes a condenser lens 116a, a scanning mirror 116b, and a projection lens 116c, and projects the incident diffracted light onto the screen 118. That is, the projection unit 116 serves to form a spot by focusing a diffraction beam incident through a Fourier filter (not shown) to the screen 118.

여기에서, 집광 렌즈(116a)는 푸리에 필터(미도시)를 통과한 회절빔을 스크린(118)에 초점이 맞도록 회절광을 집광시킨다. 물론 집광렌즈(116a)이후에 오목렌즈(미도시)를 더 구비하여 푸리에 필터(미도시)를 통과한 회절빔을 집광한 후에 평행광을 변화시켜 스캐닝 미러(116b)에 투영할 수도 있다.Here, the condenser lens 116a condenses the diffracted light to focus the diffracted beam passing through the Fourier filter (not shown) on the screen 118. Of course, a concave lens (not shown) may be further provided after the condenser lens 116a to condense a diffracted beam passing through a Fourier filter (not shown), and then parallel light may be changed and projected onto the scanning mirror 116b.

스캐닝 미러(116b)는 X스캐닝 미러(116ba)와 Y스캐닝 미러(116bb)로 구성되어 있으며, X스캐닝 미러(116ba)는 디스플레이 전자계(104)의 제어에 따라 입사된 스캐닝 점광을 스크린(118)의 좌에서 우로 스캐닝을 수행하며, Y 스캐닝 미러(116ba)는 디스플레이 전자계(104)의 제어에 따라 입사된 스캐닝 점광을 스크린(118)에 상하로 스캐닝을 수행한다. 물론, 스캐닝 미러(116b)는 X 스캐닝 미러(116ba)와 별도의 Y 스캐닝 미러(116bb)의 조합으로 구성하는 것이 아니라 X축 스캐닝과 Y축 스캐닝을 모두 수행할 수 있는 X-Y 스캐닝 미러(미도시)로 구성할 수도 있다. The scanning mirror 116b is composed of an X scanning mirror 116ba and a Y scanning mirror 116bb, and the X scanning mirror 116ba is configured to scan incident light from the screen 118 under the control of the display electromagnetic field 104. Scanning is performed from left to right, and the Y scanning mirror 116ba scans the incident scanning light on the screen 118 up and down under the control of the display electromagnetic field 104. Of course, the scanning mirror 116b is not composed of a combination of the X scanning mirror 116ba and the separate Y scanning mirror 116bb, but an XY scanning mirror (not shown) capable of performing both X-axis scanning and Y-axis scanning. It can also be configured as.

여기에서, 래스터 스캐닝(Raster Scanning)에 대하여 상세히 설명하면 도 4에 도시된 바와 같이 X 스캐닝 미러(116ba)에 의해 좌에서 우로 좌우스캐닝을 수행하고, Y 스캐닝 미러(116bb)에 의해 다음 라인으로 상하 스캐닝을 수행하며, 다시 X 스캐닝 미러(116ba)에 의해 좌에서 우로 좌우 스캐닝을 수행하고, 다시 Y 스캐닝 미러(116bb)에 의해 다음 라인으로 상하 스캐닝을 수행하며, 다시 X스캐닝 미러(116ba)부터 이러한 동작을 반복수행 하는 것을 말한다. 이러한 래스터 스캐닝의 다른 일예로 좌에서 우로 스캐닝한 후에 다음 라인의 우측으로 상하 스캐닝한 후에 이번에는 우에서 좌로 스캐닝을 하고 라인을 변경한 후에 좌에서 우로 스캐닝을 수행하는 동작을 반복할 수도 있다.Herein, raster scanning will be described in detail. As shown in FIG. 4, left and right scanning is performed from left to right by the X scanning mirror 116ba, and up and down by the Y scanning mirror 116bb to the next line. Scanning is performed again, left to right and left to right scanning by the X scanning mirror 116ba, and up and down scanning to the next line by the Y scanning mirror 116bb, and again from the X scanning mirror 116ba. It means to repeat the action. As another example of such raster scanning, an operation of scanning from left to right and then scanning up and down to the right of the next line may be repeated from right to left and then scanning from left to right after changing the line.

디스플레이 전자계(104)는 투사부(116)의 스캐닝 미러(116b)를 구동시킨다. 투사부(116)는 디스플레이 스크린(118) 상에 2차원적인 이미지를 형성하기 위해서 스캐닝 점광을 디스플레이 스크린(118)에 투영하고 디스플레이 스크린(118)에 걸쳐 스캐닝 점광을 래스터 스캐닝한다. The display electromagnetic field 104 drives the scanning mirror 116b of the projection unit 116. The projection unit 116 projects the scanning point light onto the display screen 118 and raster scans the scanning point light over the display screen 118 to form a two-dimensional image on the display screen 118.

한편, 도 1 내지 도 4에서는 하나의 화소를 담당하는 하나의 스캐닝 점광을 사용하여 래스터 스캐닝에 의한 2차원 영상을 생성하도록 하였으나, 다른 실시예로서 소수개의 화소를 담당하는 그에 대응되는 개수의 스캐닝 점광을 사용하여 래스터 스캐닝에 의한 2차원 영상을 생성하도록 할 수 있다.Meanwhile, in FIGS. 1 to 4, a two-dimensional image generated by raster scanning is generated by using one scanning point light for one pixel, but in another embodiment, a number of scanning point lights corresponding to a few pixels. It can be used to generate a two-dimensional image by raster scanning.

또한, 도 1 내지 도 4에서는 하나의 회절형 광변조기를 사용하여 칼라 이미지를 생성하였지만 3개의 회절형 광변조기를 사용하여 칼라 이미지를 생성하게 할 수 있으며, 그렇게 하기 위해서는 2개의 추가적인 회절형 광변조기를 포함하여 그 구현이 가능하다.In addition, although in FIG. 1 to FIG. 4, one diffractive light modulator is used to generate a color image, three diffractive light modulators can be used to generate a color image. Its implementation is possible, including.

상기와 같은 본 발명에 따르면, 1차원 조명계에서 필요한 선형광 형성(Line beam Shaper) 즉 원형의 광을 선형의 광으로 만들어주는 정밀 광학계가 별도로 필요하지 않도록 하는 효과가 있다.According to the present invention as described above, there is an effect that does not need a separate linear beam shaper (line beam shaper) that is necessary in the one-dimensional illumination system, that is, a precision optical system that makes the circular light into linear light.

또한, 본 발명에 따르면 2차원 영상을 형성하기 위하여 하나 또는 소수개의 화소를 담당하는 하나 또는 소수개의 스캐닝 점광을 사용하기 때문에 그에 따라 광학계가 단순해지는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, since one or a few scanning point lights that cover one or a few pixels are used to form a two-dimensional image, the optical system is simplified accordingly.

Claims (14)

광원에서 출사된 광을 점광으로 조사하기 위한 조명 광학부;An illumination optical unit for irradiating light emitted from the light source with point light; 엘리멘트가 상기 조명 광학부에서 입사된 점광을 변조하여 광세기가 조절된 복수의 회절차수의 회절광을 생성하는 회절형 광변조기; 및A diffraction type optical modulator, the element modulating the point light incident from the illumination optical unit to generate diffracted light having a plurality of diffraction orders of which light intensity is controlled; And 상기 회절형 광변조기에서 출사된 회절광을 스캐닝 점광으로 하여 스크린에 수평 스캐닝과 수직 스캐닝을 반복하는 래스터 스캐닝을 수행하여 영상을 생성하는 투사부를 포함하여 이루어진 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치.Raster scanning type display using a diffraction type optical modulator comprising a projection unit for generating an image by performing the raster scanning to repeat the horizontal scanning and vertical scanning on the screen by using the diffracted light emitted from the diffraction type optical modulator as scanning point light Device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 회절형 광변조기의 후단에 위치하며 상기 회절형 광변조기에서 형성된 복수의 회절차수를 갖는 회절광에서 원하는 차수의 회절광을 선택하여 통과시키는 필터 광학부를 더 포함하여 이루어진 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치.A diffraction type optical modulator further comprising a filter optical unit positioned at a rear end of the diffraction type optical modulator and selecting and passing the diffracted light having a desired order from the diffraction light having a plurality of diffraction orders formed in the diffraction type optical modulator Raster scanning type display device. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 회절형 광변조기는,The diffraction type optical modulator, 기반 부재; Base member; 상기 기반 부재에 의해 지지되고 있으며 중간 부분은 상기 기반 부재와 이격되어 공간을 확보하고 있고 상기 기반부재에 배향하는 표면이 반사면으로 형성되어 입사광을 반사하는 제1 반사부; A first reflecting part supported by the base member and having an intermediate portion spaced apart from the base member to secure a space, and having a surface oriented on the base member as a reflecting surface to reflect incident light; 상기 기반 부재와 상기 제1 반사부 사이에 상기 제1 반사부와 이격되어 위치하고, 입사되는 광을 반사시키는 반사표면을 가지고 있는 제2 반사부; 및A second reflector between the base member and the first reflector, the second reflector being spaced apart from the first reflector and having a reflective surface for reflecting incident light; And 상기 제1 반사부의 중간 부분을 상기 기반부재로부터 멀어지거나 가까워지도록 움직여 상기 제1 반사부와 상기 제2 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광세기를 변화시키는 구동 수단을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치.And driving means for moving the intermediate portion of the first reflecting portion away from or close to the base member to change the light intensity of the diffracted light formed by the reflected light of the first reflecting portion and the second reflecting portion. Raster scanning display device using a fluorescent modulator. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 회절형 광변조기는,The diffraction type optical modulator, 기반 부재; Base member; 상기 기반 부재에 의해 지지되고 있으며 중간 부분은 상기 기반 부재와 이격되어 공간을 확보하고 있고 상기 기반부재에 배향하는 표면이 반사면으로 형성되어 입사광을 반사하며 적어도 하나의 오픈홀이 형성되어 입사광을 통과시키도록 구성되어 있는 제1 반사부; The intermediate part is supported by the base member, and the middle part is spaced apart from the base member to secure a space, and a surface oriented to the base member is formed as a reflective surface to reflect incident light, and at least one open hole is formed to pass through the incident light. A first reflector configured to be configured to cause a change; 상기 기반 부재와 상기 제1 반사부 사이에 상기 제1 반사부와 이격되어 위치 하고, 상기 제1 반사부의 상기 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 반사표면을 가지고 있는 제2 반사부; 및A second reflector between the base member and the first reflector, the second reflector being spaced apart from the first reflector and having a reflective surface reflecting light incident through the open hole of the first reflector; And 상기 제1 반사부의 중간 부분을 상기 기반부재로부터 멀어지거나 가까워지도록 움직여 상기 제1 반사부와 상기 제2 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광세기를 변화시키는 구동 수단을 포함하여 이루어진 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치.And a driving means for moving the intermediate portion of the first reflecting portion away from or close to the base member to change the light intensity of the diffracted light formed by the reflected light of the first reflecting portion and the second reflecting portion. Raster scanning type display device using. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 조명 광학부는, The illumination optical unit, 상기 광원으로부터 출사되는 광을 집광하여 점광을 형성하는 볼록 렌즈를 포함하여 이루어진 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치.A raster scanning display device using a diffraction type optical modulator comprising a convex lens for condensing light emitted from the light source to form point light. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 조명 광학부는, The illumination optical unit, 상기 광원으로부터 출사되는 광을 집광하여 점광을 형성하는 볼록 렌즈; 및 상기 볼록렌즈를 통과한 광을 평행광으로 만들어주는 콜리메이팅 렌즈를 포함하여 이루어진 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치.A convex lens for collecting the light emitted from the light source to form point light; And a collimating lens for converting the light passing through the convex lens into parallel light. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투사부는,The projection unit, 상기 회절형 광변조기에서 출사되는 회절광을 스캐닝 점광으로 하여 수평 방향으로 스캐닝을 수행하는 수평 스캐너; 및A horizontal scanner for scanning in the horizontal direction by using the diffracted light emitted from the diffractive optical modulator as scanning point light; And 상기 회절형 광변조기에서 출사되는 회절광을 스캐닝 점광으로 하여 수직 방향으로 스캐닝을 수행하는 수직 스캐너를 포함하며,It includes a vertical scanner for scanning in the vertical direction by using the diffracted light emitted from the diffraction light modulator as scanning point light, 상기 수직 스캐너는 상기 수평 스캐너가 수평 방향으로 한 라인 스캐닝을 완료하면 다음 라인으로 수직 스캐닝을 수행하며, 이러한 동작을 반복 수행하는 것을 특징으로 하는 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치.The vertical scanner is a raster scanning display device using a diffractive optical modulator, characterized in that the vertical scanner performs a vertical scanning to the next line when the horizontal scanner completes the scanning of one line in the horizontal direction. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 투사부는,The projection unit, 상기 회절형 광변조기에서 출사되는 회절광을 스캐닝 점광으로 하여 수평 방향으로 스캐닝을 수행하고, 한 라인 스캐닝이 완료되면 다음 라인으로 수직 스캐닝을 수행하며, 이러한 동작을 반복 수행하는 수평-수직 스캐너를 포함하여 이루어진 회절형 광변조기를 이용한 래스터 방식의 디스플레이 장치.Scanning in the horizontal direction by using the diffracted light emitted from the diffractive light modulator as the scanning point light, and when the scanning of one line is completed, performing vertical scanning to the next line, and includes a horizontal-vertical scanner that repeats these operations Raster display device using a diffraction type optical modulator made by. 광원으로부터 출사된 광을 점광으로 조사하기 위한 조명 광학부;An illumination optical unit for irradiating light emitted from the light source with point light; 복수의 엘리멘트가 상기 조명 광학부에서 입사된 점광을 변조하여 광세기가 조절된 복수의 회절차수의 회절광을 생성하는 회절형 광변조기; 및A diffraction type optical modulator for generating a plurality of diffraction light having a plurality of diffraction orders of which light intensity is modulated by a plurality of elements modulating the point light incident from the illumination optical unit; And 상기 회절형 광변조기에서 출사된 회절광을 스캐닝 점광으로 하여 스크린에 수평 스캐닝과 수직 스캐닝을 반복하는 래스터 스캐닝을 수행하여 영상을 생성하는 투사부를 포함하여 이루어진 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치.Raster scanning type display using a diffraction type optical modulator comprising a projection unit for generating an image by performing the raster scanning to repeat the horizontal scanning and vertical scanning on the screen by using the diffracted light emitted from the diffraction type optical modulator as scanning point light Device. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 회절형 광변조기의 후단에 위치하며 상기 회절형 광변조기에서 형성된 복수의 회절차수를 갖는 회절광에서 원하는 차수의 회절광을 선택하여 통과시키는 필터 광학부를 더 포함하여 이루어진 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치.A diffraction type optical modulator further comprising a filter optical unit positioned at a rear end of the diffraction type optical modulator and selecting and passing the diffracted light having a desired order from the diffraction light having a plurality of diffraction orders formed in the diffraction type optical modulator Raster scanning type display device. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 회절형 광변조기는,The diffraction type optical modulator, 기반 부재; Base member; 어레이를 이루고 있으며, 상기 기반 부재에 의해 지지되고 있고 중간 부분은 상기 기반 부재와 이격되어 공간을 확보하고 있으며 상기 기반부재에 배향하는 표면이 반사면으로 형성되어 입사광을 반사하는 복수의 제1 반사부; A plurality of first reflecting portions formed in an array, the first reflecting portion being supported by the base member and having an intermediate portion spaced apart from the base member to secure a space, and having a surface oriented to the base member as a reflecting surface to reflect incident light ; 상기 기반 부재와 상기 제1 반사부 사이에 상기 제1 반사부와 이격되어 위치하고, 입사되는 광을 반사시키는 반사표면을 가지고 있는 제2 반사부; 및A second reflector between the base member and the first reflector, the second reflector being spaced apart from the first reflector and having a reflective surface for reflecting incident light; And 상기 제1 반사부의 중간 부분을 상기 기반부재로부터 멀어지거나 가까워지도록 움직여 상기 제1 반사부와 상기 제2 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광세기를 변화시키는 구동 수단을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치.And driving means for moving the intermediate portion of the first reflecting portion away from or close to the base member to change the light intensity of the diffracted light formed by the reflected light of the first reflecting portion and the second reflecting portion. Raster scanning display device using a fluorescent modulator. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 회절형 광변조기는,The diffraction type optical modulator, 기반 부재; Base member; 어레이를 이루며, 상기 기반 부재에 의해 지지되고 있고 중간 부분은 상기 기반 부재와 이격되어 공간을 확보하고 있으며 상기 기반부재에 배향하는 표면이 반사면으로 형성되어 입사광을 반사하며 적어도 하나의 오픈홀이 형성되어 입사광을 통과시키도록 구성되어 있는 복수의 제1 반사부; An array, supported by the base member, the middle part of which is spaced apart from the base member to secure a space, and a surface oriented to the base member is formed as a reflective surface to reflect incident light, and at least one open hole is formed. A plurality of first reflecting portions configured to pass incident light; 상기 기반 부재와 상기 제1 반사부 사이에 상기 제1 반사부와 이격되어 위치하고, 상기 제1 반사부의 상기 오픈홀을 통과하여 입사되는 광을 반사시키는 반사 표면을 가지고 있는 제2 반사부; 및A second reflecting part spaced apart from the first reflecting part between the base member and the first reflecting part, the second reflecting part having a reflecting surface reflecting light incident through the open hole of the first reflecting part; And 상기 제1 반사부의 중간 부분을 상기 기반부재로부터 멀어지거나 가까워지도록 움직여 상기 제1 반사부와 상기 제2 반사부의 반사광으로 형성되는 회절광의 광세기를 변화시키는 구동 수단을 포함하여 이루어진 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치.And a driving means for moving the intermediate portion of the first reflecting portion away from or close to the base member to change the light intensity of the diffracted light formed by the reflected light of the first reflecting portion and the second reflecting portion. Raster scanning type display device using. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 투사부는,The projection unit, 상기 회절형 광변조기에서 출사되는 회절광을 스캐닝 점광으로 하여 수평 방향으로 스캐닝을 수행하는 수평 스캐너; 및A horizontal scanner for scanning in the horizontal direction by using the diffracted light emitted from the diffractive optical modulator as scanning point light; And 상기 회절형 광변조기에서 출사되는 회절광을 스캐닝 점광으로 하여 수직 방향으로 스캐닝을 수행하는 수직 스캐너를 포함하며,It includes a vertical scanner for scanning in the vertical direction by using the diffracted light emitted from the diffraction light modulator as scanning point light, 상기 수직 스캐너는 상기 수평 스캐너가 수평 방향으로 한 라인 스캐닝을 완료하면 다음 라인으로 수직 스캐닝을 수행하며, 이러한 동작을 반복 수행하는 것을 특징으로 하는 회절형 광변조기를 이용한 래스터 스캐닝 방식의 디스플레이 장치.The vertical scanner is a raster scanning display device using a diffractive optical modulator, characterized in that the vertical scanner performs a vertical scanning to the next line when the horizontal scanner completes the scanning of one line in the horizontal direction. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 투사부는,The projection unit, 상기 회절형 광변조기를 통과한 회절광을 스캐닝 점광으로 하여 수평 방향으로 스캐닝을 수행하고, 한 라인 스캐닝이 완료되면 다음 라인으로 수직 스캐닝을 수행하며, 이러한 동작을 반복 수행하는 수평-수직 스캐너를 포함하여 이루어진 회절형 광변조기를 이용한 래스터 방식의 디스플레이 장치.Scanning in the horizontal direction using the diffracted light passing through the diffractive light modulator as the scanning point light, and when the scanning of one line is completed, the scanning is performed vertically to the next line, and includes a horizontal-vertical scanner which repeats these operations. Raster display device using a diffraction type optical modulator made by.
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