KR100853542B1 - Lamination apparatus and fabricating method of organic light emitting diode display device using the same - Google Patents

Lamination apparatus and fabricating method of organic light emitting diode display device using the same Download PDF

Info

Publication number
KR100853542B1
KR100853542B1 KR1020070022556A KR20070022556A KR100853542B1 KR 100853542 B1 KR100853542 B1 KR 100853542B1 KR 1020070022556 A KR1020070022556 A KR 1020070022556A KR 20070022556 A KR20070022556 A KR 20070022556A KR 100853542 B1 KR100853542 B1 KR 100853542B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
donor substrate
acceptor
magnets
acceptor substrate
Prior art date
Application number
KR1020070022556A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
이선희
Original Assignee
삼성에스디아이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성에스디아이 주식회사 filed Critical 삼성에스디아이 주식회사
Priority to KR1020070022556A priority Critical patent/KR100853542B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100853542B1 publication Critical patent/KR100853542B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/50—Forming devices by joining two substrates together, e.g. lamination techniques
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/18—Deposition of organic active material using non-liquid printing techniques, e.g. thermal transfer printing from a donor sheet
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

A lamination apparatus and a method for fabricating an organic light emitting diode display device using the same are provided to improve a lifetime and a characteristic of a transfer layer by blocking an external contaminant through close adhesion of a donor substrate and an acceptor substrate. A lamination apparatus includes chucks(100) and holders(103). The chucks include a plurality of first magnets(100a) and support an acceptor substrate(104). The holders are positioned on the chucks and fix a donor substrate(105). A plurality of second magnets(110a) are provided on the chucks. The chuck includes one or a plurality of first vacuum holes(101) and second vacuum holes(102). The first magnets or the second magnets are electromagnets. The first vacuum holes fix the acceptor substrate. The second vacuum holes closely adheres the donor substrate to the acceptor substrate.

Description

라미네이션 장치 및 이를 이용한 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법 {Lamination Apparatus and Fabricating Method of Organic Light Emitting Diode display device using the same}Lamination Apparatus and Fabricating Method of Organic Light Emitting Diode display device using the same}

도 1은 본 발명에 의한 라미네이션 장치이다.1 is a lamination apparatus according to the present invention.

도 2a 내지 2c는 본 발명에 의한 라미네이션 공정도이다.2A to 2C are lamination process diagrams according to the present invention.

도 3은 본 발명에 의한 레이져 열전사법이다.3 is a laser thermal transfer method according to the present invention.

도 4a 내지 4c는 본 발명에 의한 다른 형태의 라미네이션 공정도이다. 4a to 4c is a lamination process diagram of another form according to the present invention.

도 5는 본 발명에 의한 억셉터 기판의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of an acceptor substrate according to the present invention.

도 6은 본 발명에 의한 도너기판의 단면도이다.6 is a cross-sectional view of the donor substrate according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명> <Description of the symbols for the main parts of the drawings>

100: 척 100a, 100b: 제1자석 100: chuck 100a, 100b: first magnet

101: 제1진공홀 102: 제2진공홀 101: first vacuum hole 102: second vacuum hole

104: 억셉터 기판 105: 도너기판104: acceptor substrate 105: donor substrate

110a, 110b: 제2자석110a, 110b: second magnet

본 발명은 라미네이션 장치 및 이를 사용하는 유기 전계 발광 표시장치 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 전자석을 이용한 라미네이션에 관한 것이다.The present invention relates to a lamination device and a method of manufacturing an organic light emitting display device using the same, and more particularly, to a lamination using an electromagnet.

평판 표시 장치 중에서 유기 전계 발광 표시장치는 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 발광하는 현상을 이용하는데, 이는 양극과 음극을 통하여 주입된 전자와 정공이 재결합(Recombination)하여 여기자(Excition)를 형성하고, 상기 여기자가 안정된 상태인 기저상태로 천이 되면서 에너지를 특정한 파장의 빛으로 방출하는 현상을 이용한 것이다. 특히, 낮은 전압에서 구동이 가능하고 얇은 박막형태로 만들 수 있으며, 넓은 시야각과 빠른 응답속도를 갖고 있어서 기존의 LCD(Liquid Crystal Display)와는 다르게 측면에서도 화면에 잔상이 남지 않는 장점을 갖는 차세대 디스플레이 장치이다.Among the flat panel displays, the organic light emitting display uses a phenomenon of emitting light when an electric current flows through an organic compound, which recombines electrons and holes injected through an anode and a cathode to form an excitation. As the excitons transition to a stable state, a phenomenon of emitting energy as light having a specific wavelength is used. In particular, it is possible to drive at low voltage, can be made into a thin film form, and has a wide viewing angle and fast response speed, unlike the existing LCD (Liquid Crystal Display), the next-generation display device has the advantage that does not remain on the screen from the side to be.

상기 유기 전계 발광표시장치는 발광소자로 사용하는 재료와 공정에 따라, 습식공정을 사용하는 고분자형 소자와 증착공정을 사용하는 저분자형 소자로 크게 나눌 수 있다.The organic light emitting display device can be broadly classified into a polymer type device using a wet process and a low molecular type device using a deposition process according to materials and processes used as light emitting devices.

상기 고분자형 유기 전계 발광소자는 화소전극을 포함한 기판상에 잉크젯 프린팅 방법이나 스핀코팅 방법을 사용하여 발광층을 적층하고 대향전극을 형성하여 소자를 구현한다. 한편, 상기 저분자형 유기 전계 발광소자는 화소전극을 포함한 기판상에 증착 공정에 의해 발광층을 포함한 유기층을 적층하고 대향전극을 형성하 여 소자를 구현한다. 상기 고분자 또는 저분자 발광층의 패터닝 방법 중 잉크젯 프린팅 방법의 경우 발광층 이외의 유기층들의 재료가 제한적이고, 기판 상에 잉크젯 프린팅을 위한 구조를 형성해야 하는 단점이 있다. 또한 증착공정에 의해 발광층을 패터닝을 하는 경우에는 금속 마스크의 사용으로 인하여 대형 소자의 제작에 어려움이 있다. 따라서, 대체기술로 레이저 열전사법(LITI: Laser Induced Thermal Imaging)이 사용되는데, 광원에서 나오는 레이저를 전사층과 광열변환층으로 형성된 도너기판에 조사하면, 상기 레이저의 에너지는 광열변환층에 흡수되어 열에너지로 변환되고, 상기 열에너지에 의해 전사층 물질이 억셉터 기판으로 전사되어 패턴이 형성된다. 상기 도너기판을 상기 억셉터 기판상에 위치하여 서로 밀착시키는 것을 라미네이션이라 하는데, 상기 라미네이션의 밀착하기 위한 가압 수단으로 기존에는 롤러나 공압을 사용하였으나 정밀한 제어가 어렵고 독립된 동작을 구현 할 수 없는 단점이 존재한다. The polymer type organic electroluminescent device implements a device by laminating a light emitting layer and forming a counter electrode using an inkjet printing method or a spin coating method on a substrate including a pixel electrode. On the other hand, the low molecular type organic electroluminescent device is implemented by stacking an organic layer including a light emitting layer on the substrate including the pixel electrode by a deposition process and forming a counter electrode. In the inkjet printing method of the patterning method of the polymer or low molecular light emitting layer, the material of the organic layers other than the light emitting layer is limited, and there is a disadvantage that a structure for inkjet printing must be formed on the substrate. In addition, when the light emitting layer is patterned by a deposition process, it is difficult to manufacture a large device due to the use of a metal mask. Therefore, as an alternative technology, laser induced thermal imaging (LITI) is used. When a laser beam emitted from a light source is irradiated onto a donor substrate formed of a transfer layer and a photothermal conversion layer, energy of the laser is absorbed into the photothermal conversion layer. Converted into thermal energy, the transfer layer material is transferred to the acceptor substrate by the thermal energy to form a pattern. Laminating the donor substrate on the acceptor substrate to be in close contact with each other is referred to as lamination. As a pressing means for closely contacting the lamination, rollers or pneumatics have been used in the past, but precise control is difficult and independent operation cannot be realized. exist.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여, 분할된 자석을 이용하여 독립된 제어가 가능한 라미네이션을 도너기판의 중앙부에서 외곽부로 순차적으로 실시하여, 도너기판과 억셉터 기판 사이에서 발생되는 기포 및 움 등의 불량을 제거함에 그 목적이 있다.Therefore, in order to solve the above-mentioned problems of the prior art, a lamination capable of independent control using a divided magnet is sequentially performed from the center portion of the donor substrate to the outer portion, so as to separate the donor substrate and the acceptor substrate. The purpose is to remove defects such as bubbles and bubbles generated.

본 발명의 상기 목적은 복수 개의 제1자석을 구비하며 억셉터 기판을 지지하는 척;The object of the present invention is a chuck having a plurality of first magnets and supporting the acceptor substrate;

상기 척상에 위치하며 도너기판을 고정하는 홀더; 및A holder positioned on the chuck to fix a donor substrate; And

상기 척상에 복수 개의 제2자석을 구비하며, 상기 제1자석 또는 제2자석이 전자석인 것을 특징으로 하는 라미네이션 장치에 의해 달성된다.A plurality of second magnets are provided on the chuck, and the first magnet or the second magnet is an electromagnet.

또한, 베이스 기판, 광열변환층 및 전사층을 포함하는 도너기판을 제공하고;In addition, there is provided a donor substrate comprising a base substrate, a photothermal conversion layer and a transfer layer;

상기 도너기판을 억셉터 기판상에 위치시키고;Positioning the donor substrate on an acceptor substrate;

상기 도너기판과 상기 억셉터 기판을 전자석으로 라미네이션 하고;Laminating the donor substrate and the acceptor substrate with an electromagnet;

상기 도너기판 상부에 레이저를 조사하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치 제조방법에 의해서도 달성된다.It is also achieved by a method of manufacturing an organic light emitting display device, characterized in that the laser is irradiated on the donor substrate.

본 발명의 상기 목적과 기술적 구성 및 그에 따른 작용효과에 관한 자세한 사항은 본 발명의 바람직한 실시 예를 도시하고 있는 도면을 참조한 이하 상세한 설명에 의해 보다 명확하게 이해될 것이다.Details of the above objects and technical configurations and the effects thereof according to the present invention will be more clearly understood by the following detailed description with reference to the drawings showing preferred embodiments of the present invention.

도 1은 본 발명에 의한 라미네이션 장치이다. 1 is a lamination apparatus according to the present invention.

복수 개의 제1자석(100a)을 구비하는 척(100)이 위치하고, 상기 제1자석은(100a)은 바람직하게 전자석으로 이루어질 수 있는데, 상기 전자석을 이용하면 도선에 전류가 흘러 도선 주위에 자기장이 형성되고 이러한 원리를 이용하여 영구 자석으로는 얻을 수 없는 매우 강력한 자기장 및 세기의 조절이 가능하다. 더욱이 전류방향을 변환하면 극성을 변환할 수 있어서, 상기 제1자석(100a)의 극성을 변환하여 제2자석(110a)과 극성을 상이하게 할 수 있고, 이 때, 발생한 인력에 의해서 제2자석(110a)이 도너기판(105)을 가압하여 억셉터 기판(104)과 도너기판(105)을 밀착하는 라미네이션(112)을 실시할 수 있다. 보다 상세한 설명은 도 4a 내지 도 4c의 라미네이션 공정도에서 설명된다.Wherein the chuck 100 having a plurality of first magnets (100a) is located, the first magnet (100a) is preferably made of an electromagnet, when using the electromagnet current flows through the conductor to the magnetic field around the conductor This principle allows the control of very strong magnetic fields and intensities which are not attainable with permanent magnets. Furthermore, when the current direction is changed, the polarity can be changed, so that the polarity of the first magnet 100a can be changed to make the polarity different from that of the second magnet 110a. The 110a may press the donor substrate 105 to perform the lamination 112 for bringing the acceptor substrate 104 into close contact with the donor substrate 105. A more detailed description is given in the lamination process diagram of FIGS. 4A-4C.

상기 척(100) 사이에는 하나 또는 복수 개의 제1진공홀(101) 및 제2진공홀(102)을 포함하는데, 상기 제1진공홀(101)은 상기 척(100) 상에 위치하는 억셉터 기판(104)을 진공 형성을 통해서 고정시키는 역할을 하며, 제2진공홀(102)은 억셉터 기판(104)의 양끝단부상의 도너기판(105)을 진공 형성을 통해서 상기 억셉터 기판(104)에 밀착하여 외부 오염물을 차단할 수 있고, 결국, 도너기판 전사층(70)의 수명과 특성이 개선할 수 있다. 상기 억셉터 기판(104)은 유기 전계 발광소자일 수 있으며, 도 5를 참조하면, 기판(10) 상의 일정영역에 반도체층(20)이 위치하고, 상기 반도체층(20)은 비정질 실리콘막을 결정화한 다결정 실리콘막으로 형성될 수 있으며, 상기 반도체층(20) 상에 게이트 절연막(25)이 위치하고, 상기 게이트 절연막(25) 상에 상기 반도체층(20)과 중첩하는 게이트 전극(30)이 위치한다. 상기 게이트 전극(30) 상에 상기 반도체층(20) 및 상기 게이트 전극(30)을 덮는 제1층간 절연막(35)이 위치하며, 상기 제1층간 절연막(35) 상에 상기 제1층간 절연막(35) 및 게이트 절연막(25)을 관통하여 상기 반도체층(20)의 양단부와 접속하는 소스/드레인 전극(41a, 41b)을 형성하는 박막트랜지스터를 구성한다. The chuck 100 includes one or a plurality of first vacuum holes 101 and a second vacuum hole 102, the first vacuum hole 101 is an acceptor located on the chuck 100. The substrate 104 serves to fix the substrate 104 through vacuum formation, and the second vacuum hole 102 forms the donor substrate 105 on both ends of the acceptor substrate 104 by vacuum forming the acceptor substrate 104. ) To close the external contaminants, and as a result, the lifespan and characteristics of the donor substrate transfer layer 70 may be improved. The acceptor substrate 104 may be an organic electroluminescent device. Referring to FIG. 5, the semiconductor layer 20 is positioned in a predetermined region on the substrate 10, and the semiconductor layer 20 crystallizes an amorphous silicon film. The gate insulating layer 25 may be formed on the semiconductor layer 20, and the gate electrode 30 overlapping the semiconductor layer 20 may be disposed on the gate insulating layer 25. . A first interlayer insulating layer 35 covering the semiconductor layer 20 and the gate electrode 30 is positioned on the gate electrode 30, and the first interlayer insulating layer 35 is formed on the first interlayer insulating layer 35. 35 and a thin film transistor forming source / drain electrodes 41a and 41b connected to both ends of the semiconductor layer 20 through the gate insulating film 25.

상기 박막트랜지스터 상에는 제2층간 절연막(50)이 위치하는데 상기 제2층간 절연막(50)은 상기 박막트랜지스터를 보호하기 위하여 패시베이션막 및 상기 박막트랜지스터의 단차를 완화하기 위한 평탄화막을 구비할 수 있다. 상기 제2층간 절연막(50) 상에 제2층간 절연막(50)을 관통하여 상기 소스/드레인 전극(41a, 41b) 중 어느 하나에 접속하는 화소전극(55)이 위치하며 상기 화소전극(55)은 ITO(Indium Tin Oxide)막 또는 IZO(Indium Zine Oxide)막일 수 있다. 상기 화소전극(55) 상에는 상기 화소전극의 일부를 노출시키는 개구부(60a)를 갖는 화소정의막(60)이 위치한다.A second interlayer insulating film 50 is positioned on the thin film transistor, and the second interlayer insulating film 50 may include a passivation film and a planarization film for alleviating the step difference of the thin film transistor to protect the thin film transistor. A pixel electrode 55 is disposed on the second interlayer insulating layer 50 to connect to one of the source / drain electrodes 41a and 41b and penetrates the pixel electrode 55. May be an indium tin oxide (ITO) film or an indium zine oxide (IZO) film. A pixel definition layer 60 having an opening 60a exposing a portion of the pixel electrode is disposed on the pixel electrode 55.

이어서, 상기 억셉터 기판(104)상에는 홀더(103)에 의해서 회전방향(103a) 으로 당겨져서 고정되는 도너기판(105)이 위치되고, 상기 도너기판(105)은 베이스 기판(70) 상에 다수 개의 층이 형성된 구조로써, 도 6을 참조하여, 베이스 기판(70), 상기 베이스 기판(70) 상에 위치한 광열변환층(71), 상기 광열변환층(71) 상에 위치하는 전사층(72)을 포함하며, 라미네이션을 실시하기 위해 역방향으로 뒤집은 형태이다. 상기 전사층(72)은 유기 전계 발광소자의 발광층일 수 있고, 나아가서 정공주입층, 정공수송층, 전자수송층, 전자주입층으로 이루어진 군에서 하나의 층을 포함하여 형성된 것일 수 있다.Subsequently, a donor substrate 105 which is pulled and fixed in the rotational direction 103a by the holder 103 is positioned on the acceptor substrate 104, and the donor substrate 105 is formed on the base substrate 70. Structure having two layers formed thereon, with reference to FIG. 6, the base substrate 70, the photothermal conversion layer 71 positioned on the base substrate 70, and the transfer layer 72 positioned on the photothermal conversion layer 71. ) And reversed in order to perform lamination. The transfer layer 72 may be a light emitting layer of an organic electroluminescent device, and may further include one layer from a group consisting of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.

상기 홀더(103)는 도너기판(105)을 고정하기 위하여 회전방향(103a)에 의해 상기 도너기판(105)을 당기는데, 이는 상기 도너기판(105)과 상기 억셉터 기판(104)이 라미네이션(112)되는 영역이외에서 불필요하게 접촉되어 발생하는 불량을 방지하고 양호한 라미네이션(112)을 하기 위함이다. 상기 도너기판(105) 상에는 제2자석(110a)이 위치하는데, 상기 제2자석(110a)은 상기 제1자석(100a)의 대응되는 위치에 분할된 형태로 구비되며, 바람직하게는 전자석을 이용할 수 있는데, 상기 전자석을 이용하면 도선에 전류가 흘러 도선 주위에 자기장이 형성되고, 이러한 원리를 이용하여 영구자석으로는 얻을 수 없는 매우 강력한 자기장 및 세기의 조절이 가능하다. 더욱이 전류방향을 변환하면 극성을 변환 할 수 있어서, 상기 제2자석(110a)의 극성을 변환하여 제1자석(100a)과 극성을 상이하게 할 수 있고, 이 때, 발생한 인력에 의해 제2자석이 도너기판(105)을 가압하여 억셉터 기판(104)과 도너기판(105)을 밀착하는 라미네이션(112)을 실시할 수 있다. 보다 상세한, 설명은 도 2a 내지 도 2c의 라미네이션 공정도에서 설명되어 진다.The holder 103 pulls the donor substrate 105 by the direction of rotation 103a to fix the donor substrate 105, which is characterized by the lamination of the donor substrate 105 and the acceptor substrate 104. This is to prevent defects caused by unnecessary contact outside the region to be 112 and to achieve good lamination 112. The second magnet 110a is positioned on the donor substrate 105, and the second magnet 110a is provided in a divided form at a corresponding position of the first magnet 100a, preferably using an electromagnet. By using the electromagnet, a current flows through the conductive wire to form a magnetic field around the conductive wire, and by using this principle, it is possible to control a very strong magnetic field and strength which cannot be obtained with a permanent magnet. Furthermore, when the current direction is changed, the polarity can be changed, so that the polarity of the second magnet 110a can be changed so that the polarity is different from that of the first magnet 100a. The donor substrate 105 can be pressed to perform a lamination 112 for bringing the acceptor substrate 104 into close contact with the donor substrate 105. More details are described in the lamination process diagram of FIGS. 2A-2C.

도 2a 내지 2c는 본 발명에 의한 라미네이션 공정도이다.2A to 2C are lamination process diagrams according to the present invention.

도 2a을 참조하면, A영역에서 제1자석(100a)는 S극이고 제2자석(110a)은 S극으로 극성이 동일하여 자석의 서로 미는 힘인 척력이 작용하여 라미네이션을 할 수 없으나, 상기 제2자석의 극성이 변환하면 B영역에서와 같이 제1자석(100a)이 S극이고 제2자석(110b)이 N극으로 서로 극성이 상이하게 되어 자석의 상호 당기는 힘인 인력의 작용으로 제2자석(110b)이 도너기판(105)을 가압하여 도너기판(105)과 어셉터 기판(104)을 밀착시키는 라미네이션(112)을 실시 할 수 있다. Referring to FIG. 2A, in the region A, the first magnet 100a is the S pole and the second magnet 110a is the S pole, so the repulsive force, which is the pushing force of the magnets, cannot be applied. When the polarities of the two magnets are changed, the first magnet 100a is the S pole and the second magnet 110b is the N pole, as shown in the region B. The polarities of the two magnets are different from each other. The 110b may press the donor substrate 105 to perform the lamination 112 for bringing the donor substrate 105 into close contact with the acceptor substrate 104.

이 때, 제1진공홀(101)에 의한 진공형성으로 억셉터 기판(104)이 고정되고 홀더 (103)는 도너기판(105)을 고정하기 위하여 회전 방향(103a)으로 당김으로써, 상기 도너기판(105)과 억셉터 기판(104)이 라미네이션(112) 되는 영역 외에서 불필요하 게 접촉되어 발생하는 불량을 방지 할 수 있다.At this time, the acceptor substrate 104 is fixed by the vacuum formation by the first vacuum hole 101, and the holder 103 is pulled in the rotation direction 103a to fix the donor substrate 105, thereby providing the donor substrate. A defect caused by unnecessary contact between the 105 and the acceptor substrate 104 outside the lamination 112 can be prevented.

또한, 도 2b와 같이 상기 제2자석의 극성변환(110b)을 도너기판(105) 중심부에서 외곽부로 순차적으로 제어함으로써 도너기판(105)과 억셉터 기판(104)사이의 기포 및 움 등의 불량을 방지하여 양호한 라미네이션(112)을 할 수 있다. Also, as shown in FIG. 2B, the polarity change 110b of the second magnet is sequentially controlled from the center of the donor substrate 105 to the outer portion, thereby causing defects such as bubbles and hollows between the donor substrate 105 and the acceptor substrate 104. Can be prevented to achieve good lamination 112.

이어서, 도 2c와 같이 제2자석의 극성이 모두 변환(110b)되어 도너기판 (105)과 억셉터 기판(105)이 제2자석(100b)에 의해서 라미네이션(112) 되면, 홀더(103)는 off될 수 있으며 제2진공홀(102)의 진공형성으로 도너기판(105) 이 억셉터 기판(104)과 밀착되어 외부 오염물의 원인을 차단할 수 있고, 그로 인해서 전사층(72)의 수명과 특성이 개선되는 보다 양호한 라미네이션을 할 수 있다. Subsequently, as shown in FIG. 2C, when the polarities of the second magnets are all converted 110b and the donor substrate 105 and the acceptor substrate 105 are laminated 112 by the second magnet 100b, the holder 103 is The donor substrate 105 may be in close contact with the acceptor substrate 104 to block the source of external contaminants due to the vacuum formation of the second vacuum hole 102, and thus the lifespan and characteristics of the transfer layer 72. This improved lamination can be made better.

도 3은 본 발명에 의한 레이져 열전사법으로 제2자석(110b)이 제거되고 라미네이션(112)된 도너기판(105)과, 억셉터 기판(104)을 구비하는 척(100) 상에서 레이저 조사장치(120)를 이용하여 레이저를 조사하게 된다. 이 때, 상기 레이저가 조사된 영역은 상기 광열변환층(71)이 상기 레이저 광을 흡수하여 열을 발생시키고, 상기 열이 발생된 광열변환층(71) 하부의 전사층(72)은 열에 의해 상기 광열변환층 (71)과의 접착력에 변화가 생겨 억셉터 기판(104) 상으로 전사된다. 결과적으로, 상기 억셉터 기판(104) 상에는 패터닝된 전사층(미도시)이 형성된다.FIG. 3 shows a laser irradiation apparatus on a chuck 100 including a donor substrate 105 having a second magnet 110b removed and laminated 112 by a laser thermal transfer method and an acceptor substrate 104. 120) to irradiate the laser. In this case, the laser irradiated region generates heat by the photothermal conversion layer 71 absorbing the laser light, and the transfer layer 72 under the photothermal conversion layer 71 where the heat is generated is heated by heat. A change in adhesion force with the photothermal conversion layer 71 occurs and transferred onto the acceptor substrate 104. As a result, a patterned transfer layer (not shown) is formed on the acceptor substrate 104.

도 4a 내지 4c는 본 발명에 의한 다른 형태의 라미네이션 공정도이다.4a to 4c is a lamination process diagram of another form according to the present invention.

도 4a는 A영역에서 제1자석(100a)은 S극이고 제2자석(110a)은 S극으로 극성 이 동일하여 자석의 서로 미는 힘인 척력이 작용하여 라미네이션이 될 수 없으나 상기 제1자석의 극성이 변환하면 C영역에서와 같이 제1자석(100b)이 N극이고 제2자석(110a)이 S극으로 서로 극성이 상이하게 되어 자석의 상호 당기는 힘인 인력의 작용으로 제2자석(110a)이 도너기판(105)을 가압하게 되어 도너기판 (105)과 어셉터 기판(104)을 밀착시키는 라미네이션(112)을 할 수 있다.4A shows that in the region A, the first magnet 100a is the S pole and the second magnet 110a is the S pole. The polarity of the first magnet 100a is the same as the polarity of the first magnet. In this conversion, as in the C region, the first magnet 100b is the N pole and the second magnet 110a is the S pole different from each other, so that the second magnet 110a is caused by the attraction force of the mutual attraction of the magnets. The donor substrate 105 is pressed to form a lamination 112 for bringing the donor substrate 105 into close contact with the acceptor substrate 104.

이 때, 제1진공홀(101)은 진공형성되어 억셉터 기판(104)을 고정하고, 홀더(103)는 도너기판(105)을 고정하기 위하여 회전 방향(103a)으로 당김으로써 상기 도너기판(105)과 억셉터 기판(104)이 라미네이션(112) 되는 영역 이외에서 불필요하게 접촉되어 발생하는 불량을 방지 할 수 있다.At this time, the first vacuum hole 101 is vacuumed to fix the acceptor substrate 104, and the holder 103 is pulled in the rotation direction 103a to fix the donor substrate 105. The defect caused by unnecessary contact between the region 105 and the acceptor substrate 104 other than the region where the lamination 112 is formed can be prevented.

또한, 도 4b와 같이 도너기판(105)의 중심부에서 외곽부로 순차적으로 제1자석(100b)의 극성이 변환하여 도너기판(105)과 억셉터 기판(104) 사이의 기포 및 움 등의 불량을 방지하여 보다 양호한 라미네이션(112)을 할 수 있다.In addition, as shown in FIG. 4B, the polarity of the first magnet 100b is sequentially changed from the center of the donor substrate 105 to the outer portion, thereby preventing defects such as bubbles and tears between the donor substrate 105 and the acceptor substrate 104. It is possible to prevent the lamination 112 better.

이어서, 도 4c에서와 같이 제1전자석(100b)의 극성이 모두 변환되어 도너기판(105) 전면를 라미네이션(112) 하면, 홀더(103)는 off될 수 있고 제2진공홀(102)의 진공형성으로 도너기판(105)이 억셉터 기판(104)과 밀착되어 외부 오염물의 원인을 차단할 수 있고, 그로 인해서 전사층(72)의 수명과 특성이 개선되는 보다 양호한 라미네이션을 할 수 있다. Subsequently, as shown in FIG. 4C, when the polarities of the first electromagnets 100b are all converted to the lamination 112 on the entire surface of the donor substrate 105, the holder 103 may be turned off and the vacuum of the second vacuum hole 102 may be formed. As a result, the donor substrate 105 may be in close contact with the acceptor substrate 104 to block the cause of external contaminants, thereby making it possible to perform a better lamination in which the lifespan and characteristics of the transfer layer 72 are improved.

본 발명은 이상에서 살펴본 바와 같이 바람직한 실시 예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기한 실시 예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다.Although the present invention has been shown and described with reference to preferred embodiments as described above, it is not limited to the above-described embodiments and those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention. Various changes and modifications will be possible.

따라서, 본 발명의 라미네이션 장치는 복수 개의 자석을 이용하여 순차적으로 독립된 제어가 가능하여 라미네이션 과정 시 발생되는 기포나 움 등의 불량을 방지하는 효과가 있다.Therefore, the lamination apparatus of the present invention is capable of independently controlling sequentially using a plurality of magnets, thereby preventing defects such as bubbles or um generated during the lamination process.

Claims (8)

복수 개의 제1자석을 구비하며 억셉터 기판을 지지하는 척;A chuck having a plurality of first magnets and supporting an acceptor substrate; 상기 척상에 위치하며 도너기판을 고정하는 홀더; 및A holder positioned on the chuck to fix a donor substrate; And 상기 척상에 복수 개의 제2자석을 구비하며, 상기 척은 하나 또는 복수개의 제1진공홀 및 제2진공홀을 포함하고, 상기 제1자석 또는 제2자석이 전자석인 것을 특징으로 하는 라미네이션 장치.And a plurality of second magnets on the chuck, wherein the chuck includes one or a plurality of first vacuum holes and second vacuum holes, wherein the first magnets or the second magnets are electromagnets. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제1진공홀은 억셉터 기판을 고정하기 위한 것인 것을 특징으로 하는 라미네이션 장치. The first vacuum hole is a lamination device, characterized in that for fixing the acceptor substrate. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제2진공홀은 도너기판을 억셉터 기판상에 밀착시키기 위한 것인 것을 특징으로 하는 라미네이션 장치.And the second vacuum hole is to adhere the donor substrate to the acceptor substrate. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 홀더는 도너기판을 고정하기 위하여 일정방향으로 회전하는 것을 특징 으로 하는 라미네이션 장치.And the holder is rotated in a predetermined direction to fix the donor substrate. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제2자석은 도너기판을 가압하여 억셉터 기판과 밀착하는 라미네이션을 하는 것을 특징으로 하는 라미네이션 장치.The second magnet is a lamination device, characterized in that for pressing the donor substrate by laminating in close contact with the acceptor substrate. 제5항에 있어서, The method of claim 5, 상기 제2자석은 도너기판의 중심부에서 외곽부로 순차적으로 라미네이션하는 것을 특징으로 하는 라미네이션 장치. The second magnet lamination apparatus characterized in that for sequentially laminating from the center of the donor substrate to the outer portion. 척에 의해 지지되는 억셉터 기판 및 광열변환층과 전사층을 포함하는 도너기판을 제공하고; Providing a donor substrate including an acceptor substrate supported by the chuck and a photothermal conversion layer and a transfer layer; 상기 도너기판을 상기 억셉터 기판 상에 위치시킨 후, 제1진공홀에 진공을 걸어 억셉터 기판을 고정하고; Placing the donor substrate on the acceptor substrate and then applying a vacuum to the first vacuum hole to fix the acceptor substrate; 상기 도너기판과 상기 억셉터 기판을 전자석으로 라미네이션 하고; Laminating the donor substrate and the acceptor substrate with an electromagnet; 제2진공홀에 진공을 걸어서 상기 도너기판을 상기 억셉터 기판에 밀착시키고; Applying a vacuum to a second vacuum hole to closely adhere the donor substrate to the acceptor substrate; 상기 도너기판 상부에 레이저를 조사하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조방법.The method of manufacturing an organic light emitting display device, characterized in that for irradiating a laser on the donor substrate. 제7항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 전자석은 척 및 상기 척 상부에 위치하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치 제조방법.And wherein the electromagnet is positioned on the chuck and the chuck.
KR1020070022556A 2007-03-07 2007-03-07 Lamination apparatus and fabricating method of organic light emitting diode display device using the same KR100853542B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070022556A KR100853542B1 (en) 2007-03-07 2007-03-07 Lamination apparatus and fabricating method of organic light emitting diode display device using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020070022556A KR100853542B1 (en) 2007-03-07 2007-03-07 Lamination apparatus and fabricating method of organic light emitting diode display device using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100853542B1 true KR100853542B1 (en) 2008-08-21

Family

ID=39878392

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070022556A KR100853542B1 (en) 2007-03-07 2007-03-07 Lamination apparatus and fabricating method of organic light emitting diode display device using the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100853542B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8999806B2 (en) 2013-04-30 2015-04-07 Samsung Display Co., Ltd. Thermal transfer method and method of manufacturing an organic light emitting display device using the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100636501B1 (en) * 2005-08-30 2006-10-18 삼성에스디아이 주식회사 Laser induced thermal imaging apparatus and method using the same
US20070048658A1 (en) 2005-08-30 2007-03-01 Kang Tae M Method of making an organic light emitting display device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100636501B1 (en) * 2005-08-30 2006-10-18 삼성에스디아이 주식회사 Laser induced thermal imaging apparatus and method using the same
US20070048658A1 (en) 2005-08-30 2007-03-01 Kang Tae M Method of making an organic light emitting display device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8999806B2 (en) 2013-04-30 2015-04-07 Samsung Display Co., Ltd. Thermal transfer method and method of manufacturing an organic light emitting display device using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101001454B1 (en) Electrostatic Chuck and Manufacturing Device of Organic Light Emitting Diode Having the Same
JP4490105B2 (en) Method for depositing material on a deposition substrate through a polymer aperture mask
KR100712953B1 (en) Substrate align device and align method using the same
KR101245220B1 (en) Method of fabricating organic light emitting diodde display
US9685638B2 (en) Method for producing a component
KR101182435B1 (en) Conductive polymer patterned layer and patterning method the layer, organic light emitting device and fabrication method thereof
CN105742495A (en) Method of forming a high resolution organic thin film pattern
KR20060089839A (en) Methods for fabricating patterned organic electroluminescent devices
KR20110107189A (en) Thin film transistor substrate, method of manufacturing the same, and organic light emitting device having the thin film transistor substrate
US20090236977A1 (en) Organic light emitting diode display device and method of fabricating the same
US20210202625A1 (en) Display Substrate and Manufacture Method Thereof
JP2008170927A (en) Electrophoretic display apparatus and manufacturing method thereof
KR20120103388A (en) Flexible display device and manufacturing method thereof
KR100672971B1 (en) Substrate align device
US7686052B2 (en) Lamination apparatus and laser-induced thermal imaging method using the same
TW201037830A (en) Substrate board for display device and method for making the substrate board
KR100807561B1 (en) Donor substrate, method of the same and method of fabricating oled using the same
KR100853542B1 (en) Lamination apparatus and fabricating method of organic light emitting diode display device using the same
JP2008050625A (en) Target for magnetron sputtering, transparent conductive film deposition method, and method of manufacturing organic electroluminescence element
JP2008075165A (en) Method for forming transparent conductive film, method for producing organic electroluminescence diode and magnetron sputtering apparatus
JP2012204202A (en) Organic electroluminescent panel and method for manufacturing the same
JP2001210469A (en) Manufacturing method of organic electroluminescent element
KR100982412B1 (en) Electro-optic device and mthod for manufacturing the same
US20050156512A1 (en) Electroluminescent devices with at least one electrode having apertures and methods of using such devices
US20210408180A1 (en) Display panel, manufacturing method thereof, and display apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120730

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130731

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160801

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180802

Year of fee payment: 11