KR100846121B1 - Substrate transfer apparatus - Google Patents

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KR100846121B1
KR100846121B1 KR1020070020917A KR20070020917A KR100846121B1 KR 100846121 B1 KR100846121 B1 KR 100846121B1 KR 1020070020917 A KR1020070020917 A KR 1020070020917A KR 20070020917 A KR20070020917 A KR 20070020917A KR 100846121 B1 KR100846121 B1 KR 100846121B1
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송준호
한석구
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세메스 주식회사
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Abstract

A substrate processing apparatus is provided to distribute contact between a substrate and a guide roller uniformly and guide a substrate smoothly. A substrate conveyance shaft(120) conveys a substrate(1) by rotating in a conveyance direction of the substrate, and is associated with a first magnet(140). A motor(150) generates driving force necessary for rotating the substrate conveyance shaft. A second magnet forms magnetic force between the first and second magnets, and rotates by receiving rotating force of the substrate conveyance shaft from the first magnet through the magnetic force. A guide roller(180) guides the substrate and is coupled with the second magnet. The guide roller rotates by receiving the rotating force of the substrate conveyance shaft through the second magnet.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS}Substrate Processing Unit {SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS}

도 1은 종래 기술에 따른 기판 처리 장치를 도시한 단면도.1 is a cross-sectional view showing a substrate processing apparatus according to the prior art.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 도시한 단면도.2 is a cross-sectional view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>

100; 기판 처리 장치 110; 처리실100; Substrate processing apparatus 110; Treatment room

110a; 처리실 내부 110b; 처리실 외부110a; Process chamber interior 110b; Outside the treatment room

111; 처리실 벽 120; 기판 반송 샤프트111; Treatment chamber wall 120; Substrate conveying shaft

125; 구동 가이드 베벨 마그네틱 130; 반송 롤러125; Drive guide bevel magnetic 130; Conveying roller

140; 반송 마그네틱 150; 모터140; Bounce magnetic 150; motor

160; 모터축 170; 구동 마그네틱160; Motor shaft 170; Driving magnetic

180; 가이드 롤러 190; 회전축180; Guide roller 190; Axis of rotation

195; 종동 가이드 베벨 마그네틱 200; 베이스195; Driven guide bevel magnetic 200; Base

210; 고정 프레임210; Fixed frame

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 기판을 원할하 게 가이드할 수 있는 기판 가이드 롤러를 구비한 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate processing apparatus having a substrate guide roller capable of smoothly guiding a substrate.

액정 디스플레이 소자의 패널을 제조하는데 사용되는 평판 유리기판과 같은 기판을 처리하는데 있어서, 기판을 처리실 내부에서 또는 각 처리실 사이에서 반송시키기 위해선 기판 반송 샤프트가 구비된 기판 처리 장치를 이용하는 것이 종래이다. 기판 처리 장치에 있어서 구동부의 안정성은 기판 처리 공정에 있어서 에칭과 같은 처리 공정의 안정성 측면은 물론 처리 시간이나 택트 타임(Tact time)과 같은 공정 시간의 관리 측면 등에서 매우 중요한 요소로 작용한다.In processing a substrate such as a flat glass substrate used to manufacture a panel of a liquid crystal display element, it is conventional to use a substrate processing apparatus equipped with a substrate conveying shaft in order to convey the substrate inside or between processing chambers. In the substrate processing apparatus, the stability of the driving unit plays a very important factor in terms of the stability of the processing process such as etching in the substrate processing process, as well as the management of the process time such as the processing time and the tact time.

도 1은 종래 기술에 따른 기판 처리 장치를 도시한 단면도이다. 도 1을 참조하면, 종래의 기판 처리 장치(10)는 기판(1)을 처리하는 처리실(11)을 구비한다. 처리실(11)의 내부(11a)에는 기판(1)을 반송하는 기판 반송 샤프트(12)가 구비되고, 외부(11b)에는 기판 반송 샤프트(12)를 회전시키는 구동력을 발생시키는 모터(15)가 구비된다. 기판 반송 샤프트(12)에는 기판(1)과 직접 접촉하는 반송 롤러(13)가 설치되고 일단에는 모터(15)의 회전력을 전달받는 반송 마그네틱(14)이 구비될 수 있다. 모터(15)는 모터축(16)을 매개로 구동 마그네틱(17)이 설치된다. 모터(15)가 동작하면 구동 마그네틱(17)이 회전하고 자력에 의해 반송 마그네틱(14)이 회전하게 되면 기판 반송 샤프트(12)가 회전하게 되어 기판(1)이 반송된다.1 is a cross-sectional view showing a substrate processing apparatus according to the prior art. Referring to FIG. 1, a conventional substrate processing apparatus 10 includes a processing chamber 11 for processing a substrate 1. The inside 11a of the processing chamber 11 is provided with a substrate conveying shaft 12 for conveying the substrate 1, and the outer 11b has a motor 15 for generating a driving force for rotating the substrate conveying shaft 12. It is provided. The substrate conveying shaft 12 may be provided with a conveying roller 13 in direct contact with the substrate 1, and a conveying magnetic 14 receiving the rotational force of the motor 15 at one end thereof. The motor 15 is provided with a driving magnetic 17 via the motor shaft 16. When the motor 15 operates, the driving magnetic 17 rotates, and when the conveying magnetic 14 rotates by magnetic force, the substrate conveying shaft 12 rotates and the substrate 1 is conveyed.

처리실(11)의 내부(11a)에는 기판 반송시 기판(1)의 측면과 접촉하여 기판(1)을 가이드하는 가이드 롤러(18)가 구비된다. 가이드 롤러(18)는 회전축(19)을 중심으론 회전하며, 회전축(19)은 처리실(11)의 내부(11a)에 고정된 베이스(20)에 연결된다. 이와 같이, 종래에는 기판 가이드 롤러(18)는 모터(15)에 연결되지 아니하고 단지 기판(1)의 반송시 기판(1)과의 접촉에 의해 회전하게끔 설계되어 있다. 이와 같이, 종래의 가이드 롤러(18)는 기판(1)과의 접촉 부위가 고르지 못하고 특정 부위에만 편중되므로써 국부적인 마모가 발생하거나 또는 일부가 갈라지는 불량 현상을 유발하게 되어 수명이나 유지보수 측면에서 문제점이 있었다.The interior 11a of the processing chamber 11 is provided with a guide roller 18 which contacts the side surface of the substrate 1 and guides the substrate 1 during substrate transfer. The guide roller 18 rotates about the rotation shaft 19, and the rotation shaft 19 is connected to the base 20 fixed to the interior 11a of the processing chamber 11. As described above, the substrate guide roller 18 is conventionally designed not to be connected to the motor 15 but to be rotated only by contact with the substrate 1 at the time of conveyance of the substrate 1. As such, the conventional guide roller 18 has a problem in terms of service life or maintenance due to uneven contact with the substrate 1 and to be biased only at a specific part, causing local wear or a defective part of cracking. There was this.

이에 본 발명은 상술한 종래 기술상에서의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 기판과 가이드 롤러와의 접촉을 고르게 분산시킬 수 있는 기판 처리 장치를 제공함에 있다.The present invention has been made to solve the above problems in the prior art, an object of the present invention to provide a substrate processing apparatus that can evenly distribute the contact between the substrate and the guide roller.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 기판 가이드 롤러를 기판 반송과 동시에 능동적으로 구동시켜 기판 접촉면의 국부적인 편중 현상을 억제할 수 있는 것을 특징으로 한다.The substrate processing apparatus according to the present invention for achieving the above object is characterized in that it is possible to actively drive the substrate guide roller simultaneously with the substrate conveyance to suppress the local bias phenomenon of the substrate contact surface.

상기 특징을 구현할 수 있는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 기판에 대한 처리 공정이 진행되는 처리실과; 상기 기판을 반송하며 베벨 기어 형태의 제1 마그네틱이 조합된 기판 반송 샤프트와; 상기 기판 반송 샤프트를 회전시키는데 필요한 구동력을 발생시키는 모터와; 상기 기판을 가이드하며 상기 제1 마그네틱의 회전시 더불어 회전하는 베벨 기어 형태를 가지는 제2 마그네틱이 조합된 가이드 롤러를 포함하는 것을 특징으로 한다.A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention capable of implementing the above features includes: a processing chamber in which a processing process for a substrate is performed; A substrate conveyance shaft carrying the substrate and having a first magnetic in the form of a bevel gear; A motor for generating a driving force necessary to rotate the substrate conveying shaft; And a guide roller that guides the substrate and combines a second magnetic having a bevel gear shape which rotates together with the rotation of the first magnetic.

본 실시예에 있어서, 상기 제1 및 제2 마그네틱은 접촉하지 않는다.In this embodiment, the first and second magnetics are not in contact.

본 실시예에 있어서, 상기 제1 마그네틱은 수직 방향으로 세워진 베벨 기어 형태이고, 상기 제2 마그네틱은 수평 방향으로 뉘어진 베벨 기어 형태이다.In the present embodiment, the first magnetic is in the form of a bevel gear erected in the vertical direction, and the second magnetic is in the form of a bevel gear which is divided in the horizontal direction.

본 실시예에 있어서, 상기 모터는 디스크 형태의 구동 마그네틱을 포함하고, 상기 기판 반송 샤프트는 상기 구동 마그네틱과 대면하는 디스크 형태의 반송 마그네틱을 포함한다.In the present embodiment, the motor includes a drive magnet in the form of a disc, and the substrate transfer shaft includes a disc shaped transfer magnet that faces the drive magnet.

본 실시예에 있어서, 상기 가이드 롤러는 상기 기판이 상기 기판 반송 샤프트에 의해 반송되는 경우 상기 제1 및 제2 마그네틱 사이의 자력에 의해 능동적으로 회전한다.In this embodiment, the guide roller is actively rotated by the magnetic force between the first and second magnetic when the substrate is conveyed by the substrate conveying shaft.

본 발명에 의하면, 기판 반송 샤프트에 베벨 기어 형태의 마그네틱을 설치하고 이 마그네틱과는 비접촉하는 베벨 기어 형태의 마그네틱을 갖는 가이드 롤러를 설치함으로써 기판 반송 진행과 동시에 가이드 롤러가 회전되게끔 한다. 그러므로써, 가이드 롤러가 마치 능동적으로 회전되므로 기판과의 접촉 부위가 비교적 고르게 분산된다. According to the present invention, a guide roller having a bevel gear type magnetic is provided on the substrate conveying shaft and a bevel gear type non-contacting magnet is made to rotate while the substrate conveyance progresses. Thus, as the guide rollers are actively rotated, the contact portions with the substrate are dispersed evenly.

이하, 본 발명에 따른 기판 처리 장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a substrate processing apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명과 종래 기술과 비교한 이점은 첨부된 도면을 참조한 상세한 설명과 특허청구범위를 통하여 명백하게 될 것이다. 특히, 본 발명은 특허청구범위에서 잘 지적되고 명백하게 청구된다. 그러나, 본 발명은 첨부된 도면과 관련해서 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다. 도면에 있어서 동일한 참조부호는 다양한 도면을 통해서 동일한 구성요소를 나타낸다.Advantages over the present invention and prior art will become apparent through the description and claims with reference to the accompanying drawings. In particular, the present invention is well pointed out and claimed in the claims. However, the present invention may be best understood by reference to the following detailed description in conjunction with the accompanying drawings. Like reference numerals in the drawings denote like elements throughout the various drawings.

(실시예)(Example)

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 도시한 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 기판(1)에 대하여 예컨대 에칭 처리나 세정 처리와 같은 처리 공정이 실제로 진행되는 내부(110a)를 구획하는 처리실(110)을 갖는다. 여기서의 기판(1)은 액정 디스플레이 소자나 플라즈마 디스플레이 소자의 패널로 사용되는 유리 기판과 같은 평판형 기판일 수 있다. 처리실(110)의 내부(110a)에는 처리 대상물인 기판(1)을 반송시키는 기판 반송 샤프트(120)가 구비되고, 처리실(110)의 외부(110b)에는 기판 반송 샤프트(120)를 회전시키는데 필요한 구동력을 발생시키는 모터(150)가 구비된다.Referring to FIG. 2, the substrate processing apparatus 100 according to an exemplary embodiment of the present invention may include a processing chamber 110 that partitions an interior 110a where a processing process such as an etching process or a cleaning process is actually performed with respect to the substrate 1. Has The substrate 1 here may be a flat substrate such as a glass substrate used as a panel of a liquid crystal display element or a plasma display element. The inside 110a of the processing chamber 110 is provided with a substrate conveying shaft 120 for conveying the substrate 1 as the object to be processed, and the outside 110b of the processing chamber 110 is required for rotating the substrate conveying shaft 120. A motor 150 for generating a driving force is provided.

기판 반송 샤프트(120)에는 기판(1)과 직접 접촉하는 반송 롤러(130)가 설치되고, 처리실(110)의 외부(110b)쪽의 끝부분에는 디스크 형태의 반송 마그네틱(140)이 설치된다. 모터(150)는 모터축(160)을 매개로 디스크 형태의 구동 마그네틱(170)이 설치된다. 반송 마그네틱(140)은 구동 마그네틱(170)과 대면하며, 구동 마그네틱(170)이 회전하는 경우 자력에 의해 반송 마그네틱(140) 역시 회전하게 되고 이에 따라 기판 반송 샤프트(120)가 회전한다.The substrate conveying shaft 120 is provided with a conveying roller 130 in direct contact with the substrate 1, and a conveying magnetic 140 in the form of a disk is provided at the end of the outer side 110b of the processing chamber 110. The motor 150 is provided with a drive magnetic 170 in the form of a disk via the motor shaft 160. The conveying magnetic 140 faces the driving magnetic 170, and when the driving magnetic 170 rotates, the conveying magnetic 140 also rotates by magnetic force, and thus the substrate conveying shaft 120 rotates.

기판 반송 샤프트(120)에는 반송 롤러(130)와 반송 마그네틱(140) 사이에 기판 반송 샤프트(120)의 길이 방향인 수평 방향과 대체로 직교하는 수직 방향으로 세워진 베벨 기어 형태의 구동 가이드 베벨 마그네틱(125)이 설치된다. 반송 마그네틱(140)과 구동 마그네틱(170)이 대면하는 부분의 처리실 벽(111)은 다른 곳에 비해 얇게 설계될 수 있다.The substrate conveying shaft 120 includes a driving guide bevel magnetic 125 in the form of a bevel gear erected in a vertical direction substantially perpendicular to a horizontal direction of the longitudinal direction of the substrate conveying shaft 120 between the conveying roller 130 and the conveying magnetic 140. ) Is installed. The process chamber wall 111 in the portion where the conveying magnetic 140 and the driving magnetic 170 face each other may be designed thinner than other places.

처리실(110)의 내부(110a)에는 기판(1) 반송시 기판(1)의 측면과 접촉하여 기판(1)을 가이드하는 가이드 롤러(180)가 회전축(190)을 매개로 베이스(200)에 설치된다. 베이스(200)는 고정 프레임(210)에 의해 처리실(110)의 내부(110a)에서 고정된다. 가이드 롤러(180)에는 기판 반송 샤프트(120)의 길이 방향인 수평 방향으로 뉘어진 베벨 기어 형태의 종동 가이드 베벨 마그네틱(195)이 설치되어 있다. 가이드 롤러(180)는 회전축(190)을 중심으로 회전하는데, 가이드 롤러(180)의 회전에 필요한 구동력은 구동 가이드 베벨 마그네틱(125)과 종동 가이드 베벨 마그네틱(195) 사이에서 작용하는 자력으로부터 얻는다. 구동 가이드 베벨 마그네틱(125)과 종동 가이드 베벨 마그네틱(195)는 직접적으로 접촉하지 아니한다.In the interior 110a of the processing chamber 110, a guide roller 180 which guides the substrate 1 in contact with the side surface of the substrate 1 when the substrate 1 is conveyed, is connected to the base 200 via the rotation shaft 190. Is installed. The base 200 is fixed in the interior 110a of the process chamber 110 by the fixing frame 210. The guide roller 180 is provided with a driven guide bevel magnetic 195 in the form of a bevel gear arranged in the horizontal direction, which is the longitudinal direction of the substrate conveying shaft 120. The guide roller 180 rotates about the rotation axis 190, and the driving force required for the rotation of the guide roller 180 is obtained from the magnetic force acting between the driving guide bevel magnetic 125 and the driven guide bevel magnetic 195. The drive guide bevel magnetic 125 and the driven guide bevel magnetic 195 are not in direct contact.

구체적으로, 모터(150)의 구동에 의해 발생한 회전력이 구동 마그네틱(170)으로 전달되어 구동 마그네틱(170)이 회전하는 경우 반송 마그네틱(140)이 회전하게 된다. 반송 마그네틱(140)의 회전에 의해 기판 반송 샤프트(120)가 회전하게 되면 구동 가이드 베벨 마그네틱(125)이 더불어 회전하게 된다. 구동 가이드 베벨 마그네틱(125)이 회전하게 되면 종동 가이드 베벨 마그네틱(195)이 회전하게 되어 결국 가이드 롤러(180)가 회전하게 되는 것이다. 즉, 가이드 롤러(180)는 기판 반송시 기판(1)과의 접촉에 의한 회전이 아니라 마치 모터(150)의 구동력을 전달받아 능동적으로 회전하며 또한 기판 반송과 연동하여 회전하는 형태를 보이게 된다. In detail, when the driving magnetic force 170 is rotated because the rotational force generated by the driving of the motor 150 is transmitted to the driving magnetic force 170, the transport magnetic 140 rotates. When the substrate conveying shaft 120 is rotated by the rotation of the conveying magnetic 140, the driving guide bevel magnetic 125 rotates together. When the driving guide bevel magnetic 125 is rotated, the driven guide bevel magnetic 195 is rotated, and eventually the guide roller 180 is rotated. That is, the guide roller 180 is not rotated by the contact with the substrate 1 when the substrate is conveyed, but is actively rotated by receiving the driving force of the motor 150 and also rotates in conjunction with the substrate conveyance.

이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니며, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 다른 조합, 변 경 및 환경에서 사용할 수 있다. 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 할 것이다.The detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments, but may be used in various other combinations, changes, and environments without departing from the spirit of the invention. The appended claims should be construed to include other embodiments.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 기판 반송 샤프트에 베벨 기어 형태의 마그네틱을 설치하고 이 마그네틱과는 비접촉하는 베벨 기어 형태의 마그네틱을 갖는 가이드 롤러를 설치함으로써 기판 반송 진행과 동시에 가이드 롤러가 회전되게끔 한다. 가이드 롤러가 마치 능동적으로 회전되므로 기판과의 접촉 부위가 비교적 고르게 분산된다. 이에 따라, 종래와 같은 국부적인 마모 등과 같은 불량 현상이 없어져 수명이 길어지고 유지보수에 소요되는 시간이나 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.As described in detail above, according to the present invention, a guide roller having a bevel gear type magnetic is provided on the substrate conveying shaft and a bevel gear type non-contacting magnet is provided to guide the substrate at the same time as the substrate conveyance progresses. Let it rotate As the guide rollers are actively rotated, the contact areas with the substrate are distributed relatively evenly. Accordingly, defects such as local wear and the like are eliminated as in the prior art, thereby increasing the service life and reducing the time or cost required for maintenance.

Claims (6)

상기 기판의 반송 방향으로 회전하여 상기 기판을 반송하며, 제1 마그네틱이 조합된 기판 반송 샤프트와;A substrate conveying shaft which rotates in a conveying direction of the substrate and conveys the substrate, the first magnetic being combined; 상기 기판 반송 샤프트를 회전시키는데 필요한 구동력을 발생시키는 모터와;A motor for generating a driving force necessary to rotate the substrate conveying shaft; 상기 제1 마그네틱과의 사이에 자력을 형성하고, 상기 자력을 통해 상기 제1 마그네틱으로부터 상기 기판 반송 샤프트의 회전력을 전달받아 회전하는 제2 마그네틱; 및A second magnetic force that forms a magnetic force between the first magnetic and rotates by receiving the rotational force of the substrate transfer shaft from the first magnetic through the magnetic force; And 상기 기판을 가이드하며, 상기 제2 마그네틱과 결합하고, 상기 제2 마그네틱을 통해 상기 기판 반송 샤프트의 회전력을 전달받아 회전하는 가이드 롤러;A guide roller which guides the substrate, engages with the second magnetic, and rotates by receiving a rotational force of the substrate conveying shaft through the second magnetic; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.Substrate processing apparatus comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 및 제2 마그네틱은 접촉하지 않는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.And said first and second magnetics are not in contact. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제1 마그네틱은 수직 방향으로 세워진 베벨 기어 형태이고, 상기 제2 마그네틱은 수평 방향으로 뉘어진 베벨 기어 형태인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.And said first magnetic is in the form of a bevel gear erected in a vertical direction, and said second magnetic is in the form of a bevel gear erected in a horizontal direction. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 모터는 디스크 형태의 구동 마그네틱을 포함하고, 상기 기판 반송 샤프트는 상기 구동 마그네틱과 대면하는 디스크 형태의 반송 마그네틱을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.And the motor includes a drive magnet in the form of a disk, and the substrate conveyance shaft includes a drive magnet in the form of a disk facing the drive magnet. 상기 기판의 반송 방향으로 회전하여 상기 기판을 반송하는 기판 반송 샤프트;A substrate conveying shaft which rotates in a conveying direction of said substrate to convey said substrate; 상기 기판 반송 샤프트를 회전시키기 위한 구동력을 발생하는 모터; 및A motor for generating a driving force for rotating the substrate transport shaft; And 상기 기판의 측면과 접촉하여 상기 기판을 가이드 하되, 상기 기판과의 접촉 이외에 능동적으로 회전하는 가이드 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.And a guide roller which guides the substrate in contact with a side surface of the substrate and actively rotates in addition to the contact with the substrate. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 기판 반송 샤프트의 단부에 설치되고, 상기 기판 반송 샤프트와 함께 회전하는 제1 마그네틱; 및A first magnetic disposed at an end of the substrate conveying shaft and rotating together with the substrate conveying shaft; And 상기 제1 마그네틱과의 사이에 자력을 형성하며, 상기 자력을 통해 상기 제1 마그네틱으로부터 상기 기판 반송 샤프트의 회전력을 전달받아 회전하고, 상기 가이드롤러와 결합된 제2 마그네틱을 더 포함하고,A magnetic force is formed between the first magnetic and the second magnetic force is rotated by receiving the rotational force of the substrate transfer shaft from the first magnetic through the magnetic force, and coupled to the guide roller. 상기 가이드 롤러는 상기 제2 마그네틱을 통해 상기 기판 반송 샤프트의 회전력을 전달받아 회전하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The guide roller is a substrate processing apparatus, characterized in that the rotation by receiving the rotational force of the substrate conveying shaft through the second magnetic.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20040019592A (en) * 2002-08-28 2004-03-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 magnetic driving transfer device of glass cleaning apparatus for LCD manufacturing
KR20060022055A (en) * 2004-09-06 2006-03-09 세메스 주식회사 Apparatus for transfer panel

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