KR100834832B1 - 오버레이 계측설비를 이용한 패턴의 임계치수 측정방법 - Google Patents
오버레이 계측설비를 이용한 패턴의 임계치수 측정방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
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- 오버레이 계측설비를 이용한 패턴의 임계치수 측정방법에 있어서:웨이퍼 내에 형성되어 있는 소정 패턴의 두께 정보를 입력하여, 상기 오버레이 계측설비의 Z축에 대한 스캔 범위를 결정하는 단계와;오버레이 계측설비의 스텝 피치를 입력한 뒤, 상기 패턴에 대한 레티클내 X, Y 좌표를 입력하는 단계와;상기 오버레이 계측설비에 상기 패턴의 사이즈를 입력한 뒤, 웨이퍼 내에 형성되어 있는 다수개의 패턴중 사이즈를 측정하고자 하는 패턴의 위치를 입력하는 단계와;상기 패턴 상부에 형성되어 있는 패시베이션막에 대한 두께 정보를 입력하는 단계와;상기 패턴의 사이즈를 측정한 뒤, 양품 조건을 입력하는 단계와;상기 패턴의 탑 영역 사이즈를 측정하고, 상기 측정된 퓨즈 박스 탑 영역에서의 Z축 포커스 위치를 저장하는 단계와;상기 저장된 기준 정보를 이용하여 후속 랏에 대한 패턴 사이즈를 측정하는 단계와;상기 후속 랏에 대해 측정된 패턴 사이즈가 양품인지를 판단하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 오버레이 계측설비를 이용한 패턴의 임계치수 측정방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 측정된 패턴 사이즈가 양품이 아닌 경우에는,재 스캔을 실시한 후, 포커스 리 트레인(re-train)을 실시하는 단계와;측정된 마크의 Z축 포커스 위치를 저장하고, 이를 호스트 컴퓨터로 전송하여 상기 측정된 값을 명세화(specification)하는 단계를 더 포함함을 특징으로 하는 오버레이 계측설비를 이용한 패턴의 임계치수 측정방법.
- 제 2항에 있어서, 상기 웨이퍼 내에 형성되어 있는 패턴의 Z축에 대한 스캔 범위는 20㎛로 지정함을 특징으로 하는 오버레이 계측설비를 이용한 패턴의 임계치수 측정방법.
- 제 3항에 있어서, 상기 패턴은 퓨즈 박스임을 특징으로 하는 오버레이 계측설비를 이용한 패턴의 임계치수 측정방법.
- 제 4항에 있어서, 상기 패시베이션막은 감광성 폴리이미드막 또는 비감광성 폴리이미드막중의 어느 하나로 형성함을 특징으로 하는 오버레이 계측설비를 이용 한 패턴의 임계치수 측정방법.
- 오버레이 계측설비를 이용한 패턴의 임계치수 측정방법에 있어서:웨이퍼 내에 형성되어 있는 소정 패턴의 두께 정보를 입력하여, 상기 오버레이 계측설비의 Z축에 대한 스캔 범위를 결정하는 단계와;오버레이 계측설비의 스텝 피치를 입력한 뒤, 상기 패턴에 대한 레티클내 X, Y 좌표를 입력하는 단계와;상기 오버레이 계측설비에 상기 패턴의 사이즈를 입력한 뒤, 웨이퍼 내에 형성되어 있는 다수개의 패턴중 사이즈를 측정하고자 하는 패턴의 위치를 입력하는 단계와;상기 패턴 상부에 형성되어 있는 절연막에 대한 두께 정보를 입력하는 단계와;상기 패턴의 사이즈를 측정한 뒤, 양품 조건을 입력하는 단계와;상기 패턴의 탑 영역 사이즈를 측정하고, 상기 측정된 퓨즈 박스 탑 영역에서의 Z축 포커스 위치를 저장하는 단계와;상기 저장된 기준 정보를 이용하여 후속 랏에 대한 패턴 사이즈를 측정하는 단계와;상기 후속 랏에 대해 측정된 패턴 사이즈가 양품인지를 판단하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 오버레이 계측설비를 이용한 패턴의 임계치수 측정방법.
- 제 6항에 있어서, 상기 측정된 패턴 사이즈가 양품이 아닌 경우에는,재 스캔을 실시한 후, 포커스 리 트레인(re-train)을 실시하는 단계와;측정된 마크의 Z축 포커스 위치를 저장하고, 이를 호스트 컴퓨터로 전송하여 상기 측정된 값을 명세화(specification)하는 단계를 더 포함함을 특징으로 하는 오버레이 계측설비를 이용한 패턴의 임계치수 측정방법.
- 제 7항에 있어서, 상기 웨이퍼 내에 형성되어 있는 패턴의 Z축에 대한 스캔 범위는 20㎛로 지정함을 특징으로 하는 오버레이 계측설비를 이용한 패턴의 임계치수 측정방법.
- 제 8항에 있어서, 상기 패턴은 퓨즈 박스임을 특징으로 하는 오버레이 계측설비를 이용한 패턴의 임계치수 측정방법.
- 제 9항에 있어서, 상기 절연막은 감광성 폴리이미드막 또는 비감광성 폴리이미드막중의 어느 하나로 형성함을 특징으로 하는 오버레이 계측설비를 이용한 패턴의 임계치수 측정방법.
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