KR100820362B1 - Apparatus for suppling chemical agent supply - Google Patents

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chemical
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김은수
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박용석
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주식회사 디엠에스
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Abstract

A chemical supply apparatus is provided to eliminate the necessity of an additional pumping apparatus by installing a chemical storage bath in the upper part of a nozzle. A discharge hole for discharging chemical to the surface of a substrate(G) is formed in a nozzle(1). A chemical supply part(3) supplies chemical to the nozzle, installed in the upper part of the nozzle and capable of transferring vertically. The quantity of the discharged chemical is adjusted by the height of the chemical supply part and the nozzle. The chemical supply part can include a chemical storage bath, a chemical guide pipe, a first valve and a height adjustment unit(7). The chemical storage bath supplies the chemical to the nozzle. The chemical guide pipe guides the chemical to the nozzle wherein one end of the chemical guide pipe is connected to the chemical storage bath and the other end of the chemical guide pipe is connected to the nozzle. The first valve selectively opens and closes the chemical guide pipe, installed on the chemical guide pipe. The height adjustment unit adjusts the height of the chemical storage bath, installed at one side of the chemical storage bath.

Description

약액 공급장치{APPARATUS FOR SUPPLING CHEMICAL AGENT SUPPLY} Chemical liquid supply device {APPARATUS FOR SUPPLING CHEMICAL AGENT SUPPLY}

도1 은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 코터의 약액 공급장치가 구비된 노즐의 구조를 설명하기 위한 도면이다.1 is a view for explaining the structure of a nozzle having a coater chemical liquid supply apparatus according to an embodiment of the present invention.

도2 는 도1 에 도시된 코터의 약액 공급장치의 구조를 개략적으로 보여주는 구조도이다.FIG. 2 is a structural diagram schematically showing the structure of the chemical liquid supply apparatus of the coater shown in FIG.

도3(a)는 약액의 토출을 제어하지 않은 경우 기판상에 도포된 약액의 두께를 도시하는 도면이고, 도3(b) 는 약액 저장조의 높이와 기판의 진행위치 간의 상관관계를 도시한 그래프이고, 도3(c) 는 약액의 토출량을 제어한 경우 약액의 두께를 도시하는 도면이다.Fig. 3 (a) is a diagram showing the thickness of the chemical liquid applied onto the substrate when the discharge of the chemical liquid is not controlled, and Fig. 3 (b) is a graph showing the correlation between the height of the chemical liquid reservoir and the advancing position of the substrate. 3 (c) is a diagram showing the thickness of the chemical liquid when the discharge amount of the chemical liquid is controlled.

[도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명][Description of Symbols for Main Parts of Drawing]

1: 노즐 3: 약액 공급부1: nozzle 3: chemical liquid supply part

5: 드레인부 7: 높이 조절수단 5: drain part 7: height adjusting means

13: 감지센서 15: 피스톤13: sensor 15: piston

17: 실린더 G: 기판17: cylinder G: substrate

본 발명은 약액 공급장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 그 구조를 개선함으로써 약액을 노즐에 용이하게 공급할 수 있는 약액 공급장치에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical liquid supply device, and more particularly, to a chemical liquid supply device that can easily supply a chemical liquid to a nozzle by improving its structure.

일반적으로 평판표시소자용 기판 제조 공정 중에서 기판 표면에 소정의 패턴을 만드는 작업 방법으로는 주로 포토리소그라피(photolithography) 방식이 널리 이용된다.In general, a photolithography method is widely used as a work method for making a predetermined pattern on the surface of a substrate in a substrate manufacturing process for a flat panel display device.

이 방식은 노광 및 현상, 에칭 작업을 진행하기 전에 기판 표면에 포토레지스트와 같은 감광성 약액(sensitive material;이하, 약액)을 일정한 두께로 도포하는 코팅 작업을 거친다.This method is subjected to a coating operation in which a photosensitive chemical liquid (hereinafter, chemical liquid) such as photoresist is applied to the substrate surface to a predetermined thickness before the exposure, development, and etching operations are performed.

이러한 코팅 작업에는 노즐이 이용되며, 이 노즐에는 슬릿방식의 노즐이 구비됨으로써 약액 공급장치로부터 공급된 약액을 기판상에 분사하게 된다.A nozzle is used for this coating operation, and the nozzle is provided with a slit-type nozzle to spray the chemical liquid supplied from the chemical liquid supply apparatus onto the substrate.

상기 약액 공급장치는 상기 노즐의 노즐에 연결되어 약액을 공급하는 약액 공급부와, 이 약액 공급부에 담겨진 약액을 펌핑하여 상기 노즐에 일정한 압력으로 공급하기 위한 펌프를 포함한다.The chemical liquid supply device includes a chemical liquid supply part connected to the nozzle of the nozzle to supply the chemical liquid, and a pump for pumping the chemical liquid contained in the chemical liquid supply part to supply the nozzle with a constant pressure.

그리고, 상기 약액 공급부와 펌프는 코팅 작업 영역에서 상기 노즐 본체의 측방으로 이격 배치되어 공급관들로 각각 연결되며, 이 공급관들은 상기 펌프의 펌핑 압력에 의해 상기 약액 공급부에서 약액을 흡입하여 상기 노즐로 공급될 수 있도록 연결된다.In addition, the chemical liquid supply unit and the pump are spaced apart to the side of the nozzle body in the coating work area and connected to the supply pipes, respectively, which supply the chemical liquid from the chemical liquid supply unit by the pumping pressure of the pump to supply to the nozzle To be connected.

그러나, 상기한 종래의 약액 공급장치는 다음과 같은 문제점이 있다.However, the conventional chemical liquid supply device has the following problems.

첫째, 펌프를 이용하여 약액을 펌핑하는 구조이나, 상기 펌프는 고가의 장비이고 그 구조가 복잡하므로 제조원가가 상승하고 및 제조공정이 오래 걸리는 문제 점이 있다.First, the structure of pumping the chemical liquid using a pump, the pump is expensive equipment and its structure is complicated, there is a problem that the manufacturing cost increases and the manufacturing process takes a long time.

둘째, 약액 공급부에 약액이 감소하는 경우, 수동으로 이를 확인하여 충전시켜야 하므로 작업효율이 저하되는 번거로움이 있다.Second, when the chemical solution is reduced in the chemical supply unit, there is a hassle that the work efficiency is reduced because it must be checked and filled manually.

셋째, 펌프에 의해 약액 공급부에 약액을 공급하는 경우, 펌프의 펌핑방향이 상향식이므로 약액의 상부(수면)에 포집된 거품이 먼저 노즐로 유입될 수 있어서 거품이 포함된 상태로 공급되어 품질이 저하될 수 있는 문제점이 있다.Third, in case of supplying the chemical liquid to the chemical liquid supply part by the pump, since the pumping direction of the pump is upward, the bubbles collected at the upper portion (water surface) of the chemical liquid may first flow into the nozzle, so that the foam is contained and the quality is deteriorated. There is a problem that can be.

넷째, 기판의 코팅작업시 저장된 약액의 수위가 점차로 감소함에 따라 분사되는 약액의 토출양도 감소함으로써 기판상에 도포되는 약액의 두께가 일정하지 않은 문제점이 있다.Fourth, there is a problem that the thickness of the chemical liquid applied on the substrate is not constant by decreasing the discharge amount of the chemical liquid injected as the level of the stored chemical liquid gradually decreases during the coating operation of the substrate.

본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 목적은 약액 공급부를 노즐의 상부에 배치하여 약액을 하향방식에 의하여 노즐로 공급함으로써 펌프를 대체할 수 있어서 제조원가를 절감할 수 있는 약액 공급장치를 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, an object according to a preferred embodiment of the present invention is to replace the pump by supplying the chemical liquid to the nozzle in a downward manner by arranging the chemical liquid supply portion on the top of the nozzle It is possible to provide a chemical liquid supply device that can reduce the manufacturing cost.

본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따른 목적은 약액을 하향방식으로 노즐로 공급함으로써 약액의 거품이 노즐로 유입되는 것을 최소화할 수 있는 약액공급장치를 제공하는데 있다.An object according to another preferred embodiment of the present invention is to provide a chemical liquid supply device that can minimize the flow of chemical liquid bubbles into the nozzle by supplying the chemical liquid to the nozzle in a downward manner.

본 발명의 바람직한 또 다른 실시예에 따른 목적은 약액 공급부의 약액 감소를 자동으로 감지하여 부족한 약액을 보충함으로써 약액을 일정 수위로 유지할 수 있는 약액 공급장치를 제공하는데 있다.An object according to another preferred embodiment of the present invention is to provide a chemical liquid supply device capable of automatically maintaining the chemical liquid at a constant level by replenishing the insufficient chemical liquid by automatically detecting the reduction of the chemical liquid supply portion.

본 발명의 바람직한 또 다른 실시예에 따른 목적은 기판의 코팅작업에 따라 약액 공급부의 높이를 가변시킴으로써 분사되는 약액의 토출양을 일정하게 유지시켜 기판상에 도포되는 약액의 두께를 일정하게 유지할 수 있는 약액 공급장치를 제공하는데 있다.An object according to another preferred embodiment of the present invention is to maintain a constant discharge amount of the chemical liquid injected by varying the height of the chemical liquid supply unit according to the coating operation of the substrate to maintain a constant thickness of the chemical liquid applied on the substrate To provide a chemical liquid supply device.

상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 실현하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예는 기판상에 약액을 토출하기 위해 토출구가 형성된 노즐; 상기 노즐의 상부에 상하 이동 가능하도록 구비되어 상기 노즐로 약액을 공급하는 약액 공급부를 포함하여 이루어지되, 상기 약액의 토출량 조절은 상기 약액 공급부와 상기 노즐과의 높이 조절을 통해 이루어지는 약액 공급장치를 제공한다.In order to realize the object of the present invention as described above, a preferred embodiment of the present invention comprises a nozzle formed with a discharge port for discharging a chemical liquid on the substrate; It is provided to be moved up and down on the nozzle and comprises a chemical liquid supply unit for supplying a chemical liquid to the nozzle, the discharge amount control of the chemical liquid is provided through the height control of the chemical liquid supply unit and the nozzle to provide a chemical liquid supply device do.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 코터의 약액 공급장치를 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the drug supply device of the coater according to a preferred embodiment of the present invention.

도1 과 도2 에 도시된 바와 같이, 본 발명이 제안하는 코터의 약액 공급장치(1)는 작업대(M) 일측에 배치된다. 이러한 작업대(M)는 이송 로울러와 같은 통상의 이송수단(M1)을 구비하여 기판(G)을 이송시키고, 이 과정에서 포토레지스트와 같은 감광성 약액(W)의 도포 작업을 진행할 수 있는 통상의 구조로 이루어진다.As shown in Figures 1 and 2, the chemical liquid supply device 1 of the coater proposed by the present invention is disposed on one side of the work table (M). Such a work table M is provided with a conventional transport means M1 such as a transport roller to transport the substrate G, and in this process, a conventional structure capable of applying a photosensitive chemical liquid W such as a photoresist. Is done.

따라서, 상기 코터의 약액 공급장치(1)는 이송수단(M1)에 의하여 이송된 기판(G)상에 약액(W)을 분사함으로써 도포작업을 진행할 수 있다.Therefore, the chemical liquid supply device 1 of the coater can proceed the coating operation by spraying the chemical liquid (W) on the substrate (G) transferred by the transfer means (M1).

이러한 코터의 약액 공급장치(1)는 지지대(F)와, 상기 지지대(F)상에 배치되며 기판(G)상에 약액(W)을 토출하는 노즐(Nozzle;2)과, 상기 노즐(2)의 상부에 구 비되어 노즐(2)에 약액(W)을 공급하는 약액 공급부(3)를 포함한다.The coater chemical liquid supply device 1 includes a support F, a nozzle 2 disposed on the support F to discharge the chemical liquid W onto the substrate G, and the nozzle 2. It is provided at the top of the) and comprises a chemical liquid supply unit (3) for supplying a chemical liquid (W) to the nozzle (2).

상기 노즐(2)의 저면에는 감광성 약액(W)을 토출하기 위하여 가늘고 길게 절개된 통상의 슬릿형 토출구(N)가 형성된다.The bottom surface of the nozzle 2 is formed with an ordinary slit-shaped discharge port N which is long and thinly cut to discharge the photosensitive chemical liquid W.

이때, 상기 토출구(N)는 기판(G)의 이송 구간을 가로 지르는 방향으로 배치됨으로써 기판(G)상에 약액(W)을 균일하게 도포할 수 있다.In this case, the discharge port N may be disposed in a direction crossing the transfer section of the substrate G to uniformly apply the chemical liquid W onto the substrate G.

그리고, 상기 노즐(2)은 약액 안내관(L1)을 통하여 약액 공급부(3)와 연결된다.The nozzle 2 is connected to the chemical liquid supply part 3 through the chemical liquid guide tube L1.

이러한 약액 공급부(3)는 그 내부에 일정한 용적의 공간이 형성됨으로써 약액(W)이 저장될 수 있다. 즉, 이러한 약액 공급부(3)는 약액(W)이 저장되는 약액 저장조(10)와, 일단은 상기 약액 저장조(10)에 연결되고 타단은 노즐(2)에 연결되어 약액 저장조(10)의 약액을 상기 노즐(2)로 안내하는 약액 안내관(L1)과, 상기 약액 안내관(L1) 상에 설치되어 상기 약액 안내관(L1)을 선택적으로 개폐하는 제1밸브(9)와, 상기 약액 저장조(10)의 일측에 구비되어 상기 약액 저장조(10)의 높이를 조절하기 위한 높이 조절수단(7)을 포함한다.The chemical liquid supply unit 3 may store the chemical liquid W by forming a predetermined volume of space therein. That is, the chemical liquid supply unit 3 is connected to the chemical liquid storage tank 10 in which the chemical liquid W is stored, and one end is connected to the chemical liquid storage tank 10, and the other end is connected to the nozzle 2, so that the chemical liquid of the chemical liquid storage tank 10 is provided. Chemical liquid guide tube (L1) for guiding the nozzle (2), the first valve (9) installed on the chemical liquid guide tube (L1) to selectively open and close the chemical liquid guide tube (L1), and the chemical liquid It is provided on one side of the reservoir (10) includes a height adjusting means (7) for adjusting the height of the chemical liquid reservoir (10).

그리고, 상기 약액 공급부(3)는 상기 약액 저장조(10)에 연결되어 약액(W)을 공급하는 약액 공급관(L2)과, 상기 약액 공급관(L2)상에 구비되어 약액(W)을 차단하거나 흐르게 하는 제2 밸브(11)를 추가로 포함한다.The chemical liquid supply unit 3 is connected to the chemical liquid storage tank 10 to provide a chemical liquid supply pipe L2 and a chemical liquid supply tube L2 to block or flow the chemical liquid W. It further comprises a second valve (11).

이러한 구조를 갖는 약액 공급부에 있어서, 상기 약액 저장조(10)는 상기 노즐(2)의 상부에 배치된 상태이므로, 약액 저장조(10)와 노즐(2)의 높이 차이에 따른 압력차에 의하여 약액(W)이 노즐(2)로 공급될 수 있다. In the chemical liquid supply unit having such a structure, since the chemical liquid storage tank 10 is disposed above the nozzle 2, the chemical liquid (the chemical liquid storage tank 10 and the nozzle 2 may be formed by a pressure difference depending on the height difference between the nozzles 2). W) can be supplied to the nozzle 2.

따라서, 약액 저장조(10)에 저장된 약액(W)은 이러한 압력차에 의하여 하부로 이동하여 노즐(2)로 공급될 수 있음으로 펌프 등의 펌핑장치가 필요치 않다.Therefore, the chemical liquid W stored in the chemical liquid storage tank 10 can be supplied to the nozzle 2 by moving downward by such a pressure difference, so that a pumping device such as a pump is not necessary.

이때, 상기 약액 저장조(10)가 노즐(2)의 상부에 배치되어 약액(W)을 하부로 공급하는 방식이므로 약액(W)중 거품은 상부, 즉 약액(W)의 수면에 존재하고, 하부의 약액(W)부터 하부로 공급되므로 거품(Bubble)이 노즐(2)에 공급되는 것을 최소화할 수 있다. In this case, since the chemical storage tank 10 is disposed above the nozzle 2 to supply the chemical liquid W downward, bubbles in the chemical liquid W are present at the upper surface, that is, the water surface of the chemical liquid W, and Since the chemical solution (W) is supplied from the bottom to the bubble (Bubble) can be minimized to supply to the nozzle (2).

그리고, 상기 약액 안내관(L1)상에는 제1 밸브(9) 및 흡입밸브(V)가 구비된다. Then, the first valve 9 and the suction valve (V) is provided on the chemical liquid guide pipe (L1).

제1 밸브(9)를 작동시킴으로써, 약액(W)은 상기 약액 공급부(3)로부터 약액 안내관(L1)을 통하여 노즐(2)로 공급될 수 있으며, 제1 밸브(9)에 의하여 약액(W)이 공급되거나 차단될 수 있다.By operating the first valve 9, the chemical liquid W can be supplied from the chemical liquid supply part 3 to the nozzle 2 through the chemical liquid guide tube L1, and the chemical liquid ( W) can be supplied or interrupted.

그리고, 상기 흡입밸브(V)는 약액 안내관(L1)을 통하여 노즐(2)로 공급되는 약액(W)을 역방향으로 배출시킨다. 즉, 약액(W)을 노즐(2)을 통해 분사하는 경우, 약액 안내관(L1)을 통하여 흐르는 약액(W)은 일정한 관성을 가지게 되므로, 약액 안내관(L1)에서 흘러내리던 약액(W)은 제1 밸브(9)를 닫더라도 끊기지 않고 계속 공급된다. In addition, the suction valve (V) discharges the chemical liquid (W) supplied to the nozzle (2) through the chemical liquid guide tube (L1) in the reverse direction. That is, when the chemical liquid W is injected through the nozzle 2, the chemical liquid W flowing through the chemical liquid guide tube L1 has a constant inertia, and thus the chemical liquid W flowing down from the chemical liquid guide tube L1. Even if the first valve 9 is closed, the supply is continued without interruption.

이러한 약액(W)의 양은 매우 적지만 코팅 공정에는 영향을 많이 끼치므로 약액 안내관(L1)을 흘러내리는 약액(W)을 차단할 필요가 있다. 따라서, 이러한 흡입밸브(V)에 의하여 약액 안내관(L1)을 닫은 후, 약액(W)이 흐르는 역방향으로 약액(W)을 흡입하여 배출시킴으로써 불필요한 약액(W)이 노즐(2)로 유입되는 것을 방 지할 수 있다.The amount of the chemical liquid (W) is very small, but because it affects the coating process much, it is necessary to block the chemical liquid (W) flowing down the chemical liquid guide tube (L1). Therefore, after closing the chemical liquid guide tube L1 by the suction valve V, the chemical liquid W is sucked in and discharged in the reverse direction in which the chemical liquid W flows so that unnecessary chemical liquid W flows into the nozzle 2. You can prevent that.

그리고, 상기 약액 저장조(10)에는 상기 약액 공급관(L2)이 연결되며, 이 약액 공급관(L2)은 외부의 약액 공급원(도시안됨)에 연결된다. 따라서, 약액 공급원(도시안됨)으로부터 약액 공급관(L2)을 통하여 약액이 약액 저장조(10)에 공급되어 저장될 수 있다. The chemical liquid storage tank 10 is connected to the chemical liquid supply pipe L2, and the chemical liquid supply pipe L2 is connected to an external chemical liquid supply source (not shown). Therefore, the chemical liquid may be supplied to and stored in the chemical liquid storage tank 10 through the chemical liquid supply pipe L2 from the chemical liquid supply source (not shown).

또한, 상기 약액 저장조(10)의 일측에는 압력계(A)가 구비됨으로써 저장된 약액(W)의 압력을 확인할 수 있다.In addition, one side of the chemical storage tank 10 is provided with a pressure gauge (A) it is possible to check the pressure of the stored chemical liquid (W).

한편, 상기 약액 저장조(10)의 일측에는 감지수단(13,14)이 구비되어 약액(W)의 수위를 감지하게 된다. 즉, 상기 감지수단(13,14)은 상기 약액 저장조(10)의 일측에 연결되는 약액 유입관(14)과, 이 약액 유입관(14)상에 구비되어 약액의 수위를 감지하는 감지센서(13)을 포함한다.On the other hand, one side of the chemical reservoir 10 is provided with sensing means (13, 14) to detect the level of the chemical (W). That is, the sensing means (13, 14) is a chemical liquid inlet tube 14 connected to one side of the chemical liquid storage tank 10, and a sensing sensor provided on the chemical liquid inlet tube 14 to detect the level of the chemical liquid ( 13).

상기 약액 유입관(14)는 그 양단이 약액 저장조(10)의 내부와 서로 통하는 상태이다. Both ends of the chemical liquid inlet pipe 14 communicate with the inside of the chemical liquid storage tank 10.

따라서, 약액 저장조(10)의 내부 수위의 승하강에 따라, 약액 유입관(14) 내부의 수위도 같이 승하강하게 된다.Therefore, as the level of the inner level of the chemical liquid storage tank 10 rises and falls, the level of the level of the chemical liquid inflow pipe 14 also increases.

그리고, 상기 감지센서(13)는 이러한 약액 유입관(14)상에 구비되며, 이 감지센서(13)는 바람직하게는 포토센서를 포함한다.And, the detection sensor 13 is provided on the chemical liquid inlet pipe 14, this detection sensor 13 preferably comprises a photosensor.

상기 감지센서(13)는 빛을 감지하여 반응하는데, 상기 약액 유입관(14)의 내부에 약액(W)이 채워질 경우 빛이 차단됨으로써 감지센서(13)가 오프(Off) 상태가 된다.The sensing sensor 13 detects and reacts with light. When the chemical liquid W is filled inside the chemical inflow pipe 14, the light is blocked, so that the sensing sensor 13 is in an off state.

반대로, 약액 유입관(14) 내부의 약액 수위가 내려가면, 빛의 양이 많아지게 됨으로써 감지센서(13)가 온(On) 상태가 된다.On the contrary, when the level of the chemical liquid in the chemical liquid inlet pipe 14 is lowered, the amount of light increases, so that the detection sensor 13 is turned on.

그리고, 이러한 감지센서(13)는 상기 제2 밸브(11)와 연결된다. 따라서, 상기 감지센서(13)가 약액 유입관(14) 내부의 약액수위를 감지하여 약액수위가 일정 범위 이하로 내려가면 제2 밸브(11)에 신호를 전송함으로써 제2 밸브(11)를 개방하여 약액(W)이 추가적으로 약액 저장조(10)에 공급될 수 있도록 한다.In addition, the sensing sensor 13 is connected to the second valve 11. Therefore, the detection sensor 13 detects the chemical liquid level inside the chemical liquid inlet pipe 14 and opens the second valve 11 by transmitting a signal to the second valve 11 when the chemical liquid level falls below a predetermined range. Chemical liquid (W) to be additionally supplied to the chemical storage tank (10).

결과적으로, 약액 저장조(10)에 저장된 약액(W)의 수위가 일정 이하로 내려가는 것을 방지함으로써 약액 저장조(10)의 수위를 일정하게 유지하여 노즐(2)의 토출 압력을 일정하게 유지할 수 있다.As a result, by preventing the water level of the chemical liquid W stored in the chemical liquid storage tank 10 from dropping below a certain level, the liquid level of the chemical liquid storage tank 10 can be kept constant so that the discharge pressure of the nozzle 2 can be kept constant.

한편, 상기 약액 저장조(10)는 상기한 높이 조절수단(7)에 의하여 그 높이를 적절하게 조절할 수 있다.On the other hand, the chemical storage tank 10 can be adjusted appropriately by the height adjustment means (7).

보다 상세하게 설명하면, 상기 높이 조절수단(7)은 실린더(17)와, 일단은 상기 실린더(17)의 내부에 구비되고, 타단은 상기 약액 저장조(10)에 연결됨으로써 승하강운동에 의하여 약액 저장조(10)의 높이를 조절하는 피스톤(15)을 포함한다. 이때, 상기 높이 조절수단(7)의 구동원은 유압 혹은 공압이 가능하다.In more detail, the height adjustment means 7 is provided with a cylinder 17, one end is provided in the cylinder 17, the other end is connected to the chemical storage tank 10 by the lifting and lowering motion It includes a piston 15 for adjusting the height of the reservoir (10). At this time, the driving source of the height adjusting means 7 may be hydraulic or pneumatic.

따라서, 상기 실린더(17)가 구동함으로써, 피스톤(15)이 상승하는 경우 약액 저장조(10)를 보다 높은 위치로 이동시킬 수 있고, 피스톤(15)이 하강하는 경우 약액 저장조(10)를 보다 낮은 위치로 이동시킬 수 있다.Therefore, by driving the cylinder 17, the chemical liquid reservoir 10 can be moved to a higher position when the piston 15 is raised, and lower the chemical liquid reservoir 10 when the piston 15 is lowered. Can be moved to a location.

그리고, 높이 조절수단(7)에 의하여 약액 저장조(10)의 높이를 조절하는 경우, 약액(W)의 수위가 변동됨으로써 노즐(2)에 공급되는 약액(W)에 작용하는 압력 도 변동된다.When the height of the chemical liquid storage tank 10 is adjusted by the height adjusting means 7, the water level of the chemical liquid W is changed so that the pressure acting on the chemical liquid W supplied to the nozzle 2 is also changed.

따라서, 약액 저장조(10)의 높이를 조절함으로써 노즐(2)의 토출량을 적절하게 조절하여 기판(G)에 도포되는 약액(W)의 두께를 일정하게 유지할 수 있다.Therefore, by adjusting the height of the chemical liquid storage tank 10, it is possible to appropriately adjust the discharge amount of the nozzle 2 to keep the thickness of the chemical liquid W applied to the substrate G constant.

이러한 약액의 토출과정을 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다. 먼저, 약액의 토출량을 제어하지 않은 경우가 도3(a) 에 도시된다. 도시된 바와 같이, 약액 공급조(10;도2)의 높이를 일정하게 유지한 상태로 약액(W)을 기판(G)상에 분사하는 경우에는 기판(G)에 도포되는 약액(W)의 두께가 처음부분(P1)과 끝부분(P2)이 중간부분보다 두껍게 형성된다.Referring to the process of discharging such a chemical in more detail as follows. First, the case where the discharge amount of the chemical liquid is not controlled is shown in Fig. 3A. As shown, when the chemical liquid W is sprayed onto the substrate G while the height of the chemical liquid supply tank 10 (FIG. 2) is kept constant, the chemical liquid W applied to the substrate G The thickness of the first portion (P1) and the end portion (P2) is formed thicker than the middle portion.

즉, 노즐(2)은 기판(G)과 약 100 마이크로(0.1mm) 간격을 두고 코팅공정을 진행하는 데, 처음에는 이 노즐(2)과 기판(G)의 사이 공간을 모두 약액으로 채워야한다. 그렇지 않은 경우, 코팅공정이 진행되면 약액(W)이 기판(G)상에 도포되지 않고 끊기는 부분이 발생한다. That is, the nozzle 2 is subjected to a coating process at a distance of about 100 micro (0.1 mm) from the substrate G. At first, the space between the nozzle 2 and the substrate G must be filled with a chemical liquid. . Otherwise, when the coating process proceeds, a portion where the chemical liquid W is not applied onto the substrate G is broken.

따라서, 처음 기판(G)의 정지시 많은 양의 약액(W)을 분사하여 빈 공간을 모두 채운 후 시작하게 되므로 기판(G)의 처음부분(P1)에는 약액(W)이 두껍게 도포된다.Therefore, when the substrate G is stopped for the first time, a large amount of the chemical liquid W is injected to fill the empty spaces, so that the chemical liquid W is thickly applied to the initial portion P1 of the substrate G.

또한, 기판(G)의 끝부분(P2)도 약액(W)이 두껍게 도포되는 데, 이는 상술한 바와 같은 이유이다. 즉, 코팅 공정 후, 제1 밸브(9)를 닫음으로써 노즐(2)을 통하여 분사되는 약액(W)을 차단하게 되는데, 이때, 약액 안내관(L1)을 통하여 흐르는 약액(W)은 일정한 관성을 가지게 되어 제1 밸브(9)를 닫더라도 약액은 끊기지 않고 계속 공급된다. 따라서, 추가로 공급된 약액(W)에 의하여 기판(G)의 끝부분(P2)이 두껍게 도포된다.In addition, the chemical solution W is also thickly applied to the end portion P2 of the substrate G, which is the reason described above. That is, after the coating process, the chemical liquid W injected through the nozzle 2 is blocked by closing the first valve 9, wherein the chemical liquid W flowing through the chemical liquid guide tube L1 has a constant inertia. Even if the first valve 9 is closed, the chemical liquid is continuously supplied without being interrupted. Therefore, the tip portion P2 of the substrate G is thickly applied by the additionally supplied chemical liquid W.

이와같이, 통상적으로는 기판(G)의 처음부분(P1)과 끝부분(P2)의 약액(W)이 두껍게 도포되므로, 이를 극복하고 전 구간에 걸쳐 균일하게 도포기 위하여 상술한 바와 같이 약약 저장조(10)의 높이를 적절하게 조절하게 된다.As such, since the chemical liquid W of the first portion P1 and the end portion P2 of the substrate G is generally applied in a thick manner, in order to overcome this problem and uniformly apply it over the entire period, the chemical storage tank ( 10) The height is adjusted appropriately.

이때, 기판(G)의 처음부분(P1)과 끝부분(P2)의 두께를 제어하는 경우에는 처음부분(P1)과 끝부분(P2)의 2회에 걸쳐 두께를 제어해야 하므로 제어과정이 복잡해진다. 따라서, 기판(G)의 중간부분의 두께를 제어하는 경우 한번에 제어가 가능하므로 보다 용이하게 제어할 수 있다.At this time, when controlling the thickness of the first portion (P1) and the end portion (P2) of the substrate (G), the control process is complicated because the thickness must be controlled twice between the first portion (P1) and the end portion (P2) Become. Therefore, when controlling the thickness of the middle portion of the substrate (G) can be controlled more easily because it can be controlled at once.

즉, 도3(b) 및 도3(C) 에 도시된 바와 같이, 약액 저장조(10;도2)의 높이를 기판(G)의 진행 위치에 따라 조절하여 약액을 분사할 수 있다.That is, as illustrated in FIGS. 3B and 3C, the height of the chemical storage tank 10 (FIG. 2) may be adjusted according to the traveling position of the substrate G to inject the chemical liquid.

보다 상세하게 설명하면, 기판(G)을 처음구간(S1)과, 중간구간(S2), 그리고 끝구간(S3)으로 구분한 경우, 중간구간(S2)에 대한 코팅공정을 진행할 때 약액 저장조(10)의 높이를 높이고, 처음구간(S1)과 끝구간(S3)에 대한 코팅공정에서는 약액 저장조(10)의 높이를 상대적으로 낮춘 상태에서 약액(W)을 분사하게 된다.In more detail, when the substrate G is divided into the first section S1, the middle section S2, and the end section S3, the chemical storage tank is formed when the coating process is performed on the middle section S2. 10) to increase the height, in the coating process for the first section (S1) and the end section (S3) is to spray the chemical solution (W) in a relatively lowered state of the chemical storage tank (10).

따라서, 상술한 바와 같이 처음구간(S1)과 끝구간(S3)이 두껍게 도포되는 원인을 극복하고, 기판(G) 전 구간에 걸쳐서 약액(W)을 균일한 두께(t)로 도포할 수 있다.Therefore, as described above, the cause of thickening of the first section S1 and the end section S3 can be overcome, and the chemical liquid W can be applied with a uniform thickness t over the entire section of the substrate G. .

상기에서는 높낮이 조절수단을 실린더 방식에 의하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니고 모터와, 이모터에 치합되는 스크류축으로 구성하고, 상기 스크류축이 약액 공급부에 연결됨으로써 모터 구동시 스크류축의 승하강에 의 하여 약액 공급부의 높이를 조절하는 방식도 가능하다.In the above, the height adjusting means has been described by a cylinder method, but the present invention is not limited thereto, and includes a motor and a screw shaft engaged with the emulator, and the screw shaft is connected to the chemical liquid supply unit, thereby increasing the screw shaft during driving. It is also possible to adjust the height of the chemical supply by falling.

다시, 도1 및 도2 를 참조하면, 상기 드레인부(5)는 상기 약액 저장조(10)의 일측에 연결되는 드레인관(Drain Pipe;L3)과, 상기 드레인관(L3)을 통하여 배출된 약액(W)을 저장하는 드레인조(20)와, 상기 드레인조(20)의 약액(W)을 외부로 배출하는 밴트라인(Vent Line;14)을 포함한다.Again, referring to FIGS. 1 and 2, the drain part 5 includes a drain pipe L3 connected to one side of the chemical storage tank 10, and a chemical liquid discharged through the drain pipe L3. A drain tank 20 for storing (W) and a vent line 14 for discharging the chemical liquid W of the drain tank 20 to the outside.

상기 드레인관(L3)의 일단은 상기 약액 저장조(10)에 연결되고, 타단은 상기 드레인조(20)에 연결된다. 따라서, 상기 약액 저장조(10)의 약액(W) 수위가 일정 범위 이상 상승하면, 상승된 약액(W)은 이 드레인관(L3)을 통하여 드레인조(20)로 배출된다.One end of the drain pipe (L3) is connected to the chemical liquid storage tank 10, the other end is connected to the drain tank (20). Therefore, when the level of the chemical liquid W in the chemical storage tank 10 rises by a predetermined range or more, the raised chemical liquid W is discharged to the drain tank 20 through the drain pipe L3.

반대로, 약액 저장조(10)의 수위가 일정 범위 이하로 내려가면 드레인관(L3)을 통한 약액(W)의 배출이 중지된다. On the contrary, when the water level of the chemical storage tank 10 falls below a predetermined range, the discharge of the chemical liquid W through the drain pipe L3 is stopped.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 코터의 약액 공급장치의 작동과정을 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in more detail the operation of the coater drug supply device according to a preferred embodiment of the present invention.

도1 과 도2 에 도시된 바와 같이, 본 발명이 제안하는 코터의 약액 공급장치(1)는 약액(W)을 기판(G)상에 도포하는 경우, 먼저, 이송수단(M1)에 의하여 기판(G)을 노즐 방향으로 이송시킨다. 그리고, 약액 안내관(L1)의 제1 밸브(9)를 개방시킴으로써 약액 공급부(3)의 약액(W)을 중력에 의하여 노즐(2)로 공급한다.As shown in Figs. 1 and 2, when the chemical liquid supply device 1 of the coater proposed by the present invention applies the chemical liquid W onto the substrate G, first, the substrate is transferred by the transfer means M1. (G) is transferred to the nozzle direction. Then, the chemical liquid W of the chemical liquid supply part 3 is supplied to the nozzle 2 by gravity by opening the first valve 9 of the chemical liquid guide tube L1.

이때, 상기 약액 저장조(10)에는 약액 공급관(L2)을 통하여 약액(W)이 공급되어 저장된 상태이다.At this time, the chemical liquid storage tank 10 is a state in which the chemical liquid (W) is supplied and stored through the chemical liquid supply pipe (L2).

따라서, 노즐(2)로 공급된 약액(W)은 슬릿형 토출구(N)를 통하여 기판(G)의 상면에 분사된다.Therefore, the chemical liquid W supplied to the nozzle 2 is injected onto the upper surface of the substrate G through the slit-shaped discharge port N. FIG.

이때, 상기 약액 저장조(10)는 높이 조절수단(7)에 의하여 그 높낮이가 적절하게 조절됨으로써 기판(G)상에 도포되는 약액(W)의 두께를 일정하게 유지할 수 있다.At this time, the chemical liquid storage tank 10 can be kept constant by the height of the chemical liquid (W) applied on the substrate (G) by the height is adjusted appropriately by the height adjusting means (7).

즉, 실린더(17)의 구동에 의하여 피스톤(15)이 승하강하는 경우 약액 저장조(10)의 위치를 상승 혹은 하강시킬 수 있다.That is, when the piston 15 moves up and down by driving the cylinder 17, the position of the chemical liquid storage tank 10 may be raised or lowered.

이와 같이, 높이 조절수단(7)에 의하여 약액 저장조(10)의 높이를 조절하는 경우, 약액(W)의 수위와 노즐(2)간의 높이가 변동됨으로써 노즐(2)에 공급되는 약액(W)에 작용하는 압력도 변동된다.As such, when the height of the chemical storage tank 10 is adjusted by the height adjusting means 7, the level of the chemical liquid W and the height between the nozzle 2 are varied so that the chemical liquid W supplied to the nozzle 2 is changed. The pressure acting on them also changes.

따라서, 노즐(2)의 높이를 조절함으로써 노즐(2)의 토출량을 적절하게 조절하여 기판(G)에 도포되는 약액(W)의 두께를 일정하게 유지할 수 있다.Therefore, by adjusting the height of the nozzle 2, the discharge amount of the nozzle 2 can be appropriately adjusted to keep the thickness of the chemical liquid W applied to the substrate G constant.

그리고, 기판(G)에 대한 코팅공정 후, 흡입밸브(V)를 작동시킴으로써 약액 안내관(L1)을 통하여 흐르는 약액(W)을 차단하여 미량의 약액(W)이 노즐(2)로 공급되는 것을 방지하게 된다.Then, after the coating process on the substrate (G), by operating the suction valve (V) to block the chemical liquid (W) flowing through the chemical guide tube (L1) is supplied with a small amount of the chemical liquid (W) to the nozzle (2) Will be prevented.

한편, 도포공정이 진행됨에 따라 상기 약액 공급부(3)의 내부에 저장된 약액량이 점차로 감소하게 된다. 따라서, 감지센서(13)는 이러한 약액(W)의 수위를 감지하여 약액 공급관(L2)상의 밸브(11)를 개방함으로써 약액 공급부(3)에 약액(W)을 공급하여 약액(W)이 일정한 수위를 유지할 수 있도록 한다.On the other hand, as the application process proceeds, the amount of the chemical liquid stored in the chemical liquid supply part 3 gradually decreases. Therefore, the sensor 13 detects the level of the chemical liquid W and opens the valve 11 on the chemical liquid supply pipe L2 to supply the chemical liquid W to the chemical liquid supply part 3 so that the chemical liquid W is constant. Keep the water level.

그리고, 약액 공급부(3)의 수위가 일정 수위 이상으로 상승하면, 드레인관(L3)에 의하여 초과한 약액(W)을 드레인조(5)로 배출하게 된다.And when the water level of the chemical | medical solution supply part 3 rises more than a predetermined level, the chemical liquid W exceeded by the drain pipe L3 will be discharged | emitted to the drain tank 5.

상기한 바와 같은 과정을 통하여 기판(G)에 대한 약액(W)의 도포과정이 효율적으로 진행될 수 있다.Through the process as described above, the application process of the chemical liquid (W) to the substrate (G) can be carried out efficiently.

아울러, 상기에서는 약액 공급장치를 코터에 적용하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니고 노광 및 현상, 에칭, 세정공정 등 다른 공정에도 적용가능하다.In addition, although the chemical liquid supply apparatus has been described above by applying to the coater, the present invention is not limited thereto, and may be applied to other processes such as exposure and development, etching, and cleaning processes.

이상 설명한 바와 같이 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 코터의 약액 공급장치는 다음과 같은 장점이 있다.As described above, the coater drug supply apparatus according to the preferred embodiment of the present invention has the following advantages.

첫째, 약액 저장조를 노즐의 상부에 배치함으로써 약액을 높이차에 의하여 노즐로 공급할 수 있음으로 별도의 펌핑장치가 필요하지 않아서 제조원가를 절감할 수 있는 장점이 있다.First, since the chemical liquid storage tank is disposed above the nozzle, the chemical liquid can be supplied to the nozzle by the height difference, so that a separate pumping device is not required, thereby reducing the manufacturing cost.

둘째, 약액 저장조를 노즐의 상부에 배치하여 약액을 하부로 공급하는 방식이므로 노즐로 공급되는 약액에 거품이 유입되는 것을 최소화하여 공정의 효율성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.Secondly, since the chemical liquid storage tank is disposed above the nozzle to supply the chemical liquid to the lower side, there is an advantage of minimizing the introduction of bubbles into the chemical liquid supplied to the nozzle to improve the efficiency of the process.

셋째, 약액 저장조의 약액이 감소하는 경우, 감지센서에 의하여 이를 감지하여 약액을 자동으로 충전시킴으로써 약액 충전작업을 용이하게 실시할 수 있는 장점이 있다.Third, when the chemical liquid of the chemical storage tank is reduced, there is an advantage that can easily perform the chemical liquid filling operation by detecting this by the detection sensor automatically filling the chemical liquid.

넷째, 기판의 코팅작업에 따라 약액 저장조의 높이를 가변시킴으로써 분사되는 약액의 토출양을 일정하게 유지시켜 기판상에 도포되는 약액의 두께를 일정하게 유지할 수 있는 장점이 있다.Fourth, by varying the height of the chemical storage tank according to the coating operation of the substrate has the advantage of maintaining a constant discharge amount of the injected chemical liquid to maintain a constant thickness of the chemical liquid applied on the substrate.

Claims (7)

기판상에 약액을 토출하기 위해 토출구가 형성된 노즐;A nozzle in which a discharge port is formed to discharge the chemical liquid on the substrate; 상기 노즐의 상부에 상하 이동 가능하도록 구비되어 상기 노즐로 약액을 공급하는 약액 공급부를 포함하여 이루어지되,It is provided to be moved up and down on the nozzle and comprises a chemical liquid supply unit for supplying the chemical liquid to the nozzle, 상기 약액의 토출량 조절은 상기 약액 공급부와 상기 노즐과의 높이 조절을 통해 이루어짐을 특징으로 하는 약액 공급장치.The chemical liquid supply apparatus, characterized in that the adjustment of the discharge amount of the chemical liquid is made by adjusting the height of the chemical liquid supply unit and the nozzle. 제1 항에 있어서, According to claim 1, 상기 약액 공급부는 The chemical liquid supply unit 상기 노즐로 약액을 공급하기 위한 약액 저장조와,A chemical liquid storage tank for supplying a chemical liquid to the nozzle, 일단은 상기 약액 저장조에 연결되고 타단은 노즐에 연결되어 약액 저장조의 약액을 상기 노즐로 안내하는 약액 안내관,One end is connected to the chemical storage tank and the other end is connected to the nozzle, the chemical guide tube for guiding the chemical in the chemical storage tank, 상기 약액 안내관 상에 설치되어 상기 약액 안내관을 선택적으로 개폐하는 제1밸브 그리고,A first valve installed on the chemical guide tube to selectively open and close the chemical guide tube, 상기 약액 저장조의 일측에 구비되어 상기 약액 저장조의 높이를 조절하기 위한 높이 조절수단을 포함하여 이루어진 약액 공급장치.Is provided on one side of the chemical storage tank chemical solution supply device comprising a height adjusting means for adjusting the height of the chemical storage tank. 제2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 약액 공급부는The chemical liquid supply unit 외부에 설치된 약액 공급원으로부터 약액 저장조로 약액을 안내하는 약액 공급관과,A chemical liquid supply pipe for guiding the chemical liquid from an external chemical liquid supply source to the chemical liquid storage tank, 상기 약액 공급관을 선택적으로 개폐시키기 위한 제2밸브를 더 포함하여 이루어진 약액 공급장치.The chemical liquid supply device further comprises a second valve for selectively opening and closing the chemical liquid supply pipe. 제2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 약액 공급부는The chemical liquid supply unit 상기 약액 저장조의 수위를 감지하는 감지수단을 더 포함하여 이루어지며,Further comprising a sensing means for detecting the level of the chemical storage tank, 상기 감지수단은 상기 약액 저장조와 양 끝단이 연통되도록 설치되어 상기 약액 저장조의 약액이 유입되는 약액 유입관과, 상기 약액 유입관의 일측에 설치되어 상기 약액 유입관으로 유입된 약액의 높이를 감지하는 감지센서를 포함하여 이루어진 약액 공급장치.The sensing means is installed to communicate with both ends of the chemical storage tank and the chemical liquid inlet tube is introduced into the chemical liquid in the chemical liquid storage tank, installed on one side of the chemical liquid inlet tube to detect the height of the chemical liquid introduced into the chemical liquid inlet tube Chemical liquid supply device comprising a detection sensor. 제2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 약액 공급부에는 약액 저장조로 공급된 약액이 일정 수위 이상인 경우 초과로 공급된 약액을 배출시키기 위한 드레인부를 더 포함하여 이루어진 약액 공급장치.The chemical liquid supply unit further comprises a drain portion for discharging the chemical liquid supplied in excess when the chemical liquid supplied to the chemical storage tank is above a predetermined level. 제5 항에 있어서, The method of claim 5, 상기 드레인부는 The drain portion 상기 약액 저장조의 일측에 연결되는 드레인관과.A drain pipe connected to one side of the chemical storage tank. 상기 드레인관과 연결되어 드레인관을 통해 배출된 약액을 저장하는 드레인조를 포함하여 이루어진 약액 공급장치.And a drain tank connected to the drain pipe to store the chemical liquid discharged through the drain pipe. 제2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 높이 조절수단은 The height adjusting means 상기 약액 공급부의 하단부에 설치된 실린더와,A cylinder installed at a lower end of the chemical liquid supply unit; 일단은 상기 실린더에 연결되고 타단은 상기 약액 저장조에 연결되어 상기 약액 저장조를 승하강시키는 피스톤을 포함하는 약액 공급장치.One end is connected to the cylinder and the other end is connected to the chemical liquid storage tank including a piston for lifting the chemical liquid storage tank.
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