KR100817125B1 - A color filter substrate of a liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정표시소자의 컬러필터기판에 관한 것으로, 본 발명은 복수의 공통전극을 포함하는데, 상기 공통전극의 형성시 진공챔버의 벽면에 붙어 있던 덩어리들이 기판에 적층되어 공통전극에 핀홀이 형성되는 경우에도 다른 공통전극이 그 역할을 대신하기 때문에 공통전극에 단선이 발생하는 것을 방지하며, 고진공, 고온의 공정에서 컬러필터층으로부터 방출되는 입자들이 복수의 공통전극 중 하나의 공통전극에 의해 차단되기 때문에 다른 공통전극은 항상 순수한 상태를 유지할 수 있게 된다.The present invention relates to a color filter substrate of a liquid crystal display device, and the present invention includes a plurality of common electrodes. In the formation of the common electrode, agglomerates attached to the wall of the vacuum chamber are stacked on a substrate to form pinholes in the common electrode. In this case, the other common electrode replaces its role and thus prevents disconnection of the common electrode. Particles emitted from the color filter layer in the high vacuum and high temperature processes are blocked by one common electrode of the plurality of common electrodes. As a result, other common electrodes can always be kept pure.

액정표시소자, 컬러필터기판, 공통전극, 핀홀, 컬러포토레지스트LCD, color filter substrate, common electrode, pinhole, color photoresist

Description

액정표시소자의 컬러필터기판{A COLOR FILTER SUBSTRATE OF A LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}Color filter substrate for liquid crystal display device {A COLOR FILTER SUBSTRATE OF A LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}

도 1은 종래의 액정표시소자의 구조를 나타내는 단면도.1 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional liquid crystal display device.

도 2(a)는 종래 컬러필터기판에서 컬러포토레지스트의 승화물이 공통전극에 침투하는 현상을 나타내는 도면.Figure 2 (a) is a view showing a phenomenon that the sublimation of the color photoresist penetrates the common electrode in the conventional color filter substrate.

도 2(b)는 종래 컬러필터기판에서 적층입자에 의해 공통전극에 핀홀이 발생하는 현상을 나타내는 도면.Figure 2 (b) is a view showing a phenomenon in which a pinhole is generated in the common electrode by the laminated particles in the conventional color filter substrate.

도 3은 본 발명에 따른 액정표시소자의 컬러필터기판 구조를 나타내는 확대단면도.Figure 3 is an enlarged cross-sectional view showing a color filter substrate structure of a liquid crystal display device according to the present invention.

도 4(a)는 본 발명에 따른 컬러필터기판에서 핀홀이 발생했을 때의 현상을 나타내는 도면.Figure 4 (a) is a view showing a phenomenon when a pinhole occurs in the color filter substrate according to the present invention.

도 4(b)는 본 발명에 따른 컬러필터기판에서 컬러포토레지스트 승화물이 인접하는 공통전극에 의해 블로킹되는 현상을 나타내는 도면.Figure 4 (b) is a view showing a phenomenon that the color photoresist sublimation is blocked by the adjacent common electrode in the color filter substrate according to the present invention.

** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 **** Description of symbols for the main parts of the drawing **

130 : 유리기판 132 : 블랙매트릭스130: glass substrate 132: black matrix

134 : 컬러필터층 136,137 : 공통전극134: color filter layer 136, 137: common electrode

139 : 핀홀139: pinhole

본 발명은 액정표시소자에 관한 것으로, 특히 컬러필터층이 형성되는 컬러필터기판상에 복수의 층으로 이루어진 공통전극을 형성하여 컬러필터층으로부터 발생하는 승화물에 의한 막질의 저하와 공통전극의 형성시 발생하는 핀홀에 의한 공통전극의 단선을 방지할 수 있는 액정표시소자의 컬러필터기판에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device. In particular, a common electrode composed of a plurality of layers is formed on a color filter substrate on which a color filter layer is formed. The present invention relates to a color filter substrate of a liquid crystal display device capable of preventing disconnection of a common electrode by a pinhole.

근래, 핸드폰(mobile phone), PDA, 노트북컴퓨터와 같은 각종 휴대용 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 경박단소용의 평판표시장치(Flat Panel Display device)에 대한 요구가 점차 증대되고 있다. 이러한 평판표시장치로는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), FED(Field Emission Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등이 활발히 연구되고 있지만, 양산화 기술, 구동수단의 용이성, 고화질의 구현이라는 이유로 인해 현재에는 액정표시소자(LCD)가 각광을 받고 있다.Recently, with the development of various portable electronic devices such as mobile phones, PDAs, and notebook computers, there is an increasing demand for flat panel display devices for light and thin applications. Such flat panel displays are being actively researched, such as LCD (Liquid Crystal Display), PDP (Plasma Display Panel), FED (Field Emission Display), VFD (Vacuum Fluorescent Display), but mass production technology, ease of driving means, Liquid crystal display devices (LCDs) are in the spotlight for reasons of implementation.

액정표시소자는 투과형 표시장치이다. 따라서, 액정패널(panel)의 후면에는 백라이트(back light)가 장착되며, 이 백라이트로부터 발광되는 광이 액정층을 통과하면서 표시장치에 화상이 구현된다. 또한, 액정표시소자는 광의 편광성질을 이용한 표시장치이다. 전계에 의해 액정분자가 동작하게 되고 이 액정분자와 동일한 방향의 편광성분의 광만이 액정패널을 투과하게 된다. 액정표시소자는 액정분자를 구동하는 방식에 따라 몇가지 방식으로 나누어질 수 있지만, 현재에는 반응속도가 빠르고 잔상이 적다는 점에서 주로 박막트랜지스터(Thin Film Transistor) LCD가 주로 사용되고 있다.The liquid crystal display device is a transmissive display device. Therefore, a back light is mounted on the rear surface of the liquid crystal panel, and the light emitted from the backlight passes through the liquid crystal layer to implement an image on the display device. In addition, the liquid crystal display device is a display device using light polarization properties. The liquid crystal molecules are operated by the electric field, and only the light of the polarization component in the same direction as the liquid crystal molecules is allowed to pass through the liquid crystal panel. The liquid crystal display may be divided into several methods depending on the method of driving the liquid crystal molecules, but nowadays, thin film transistor LCDs are mainly used in view of fast reaction speed and low afterimage.

이러한 관점에서, 종래기술에 따른 액정표시소자 구조에 대해 도 1을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래의 일반적인 TFT LCD의 구조를 나타내는 단면도이다.
도 1에 도시된 바와같이, 종래기술에 따른 일반적인 TFT LCD의 구조는 액정표시소자의 한 셀(liquid crystal cell)만을 나타내는 것으로, TFT LCD는 이러한 액정셀(1)이 다수개 모여 형성된다. 도면에 도시된 바와 같이, 액정셀(1)은 박막트랜지스터(Thin Film Transistor)가 형성된 박막트랜지스터기판과 컬러필터층이 형성된 컬러필터기판으로 이루어지며, 그 사이에 액정을 주입하여 액정층(40)이 형성됨으로써 완성된다.In this regard, the liquid crystal display device according to the related art will be described with reference to FIG.
1 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional general TFT LCD.
As shown in Fig. 1, the structure of a conventional TFT LCD according to the prior art shows only one cell of a liquid crystal display element, and a TFT LCD is formed by collecting a plurality of such liquid crystal cells 1. As shown in the figure, the liquid crystal cell 1 is composed of a thin film transistor substrate on which a thin film transistor is formed and a color filter substrate on which a color filter layer is formed, and liquid crystal is injected between the liquid crystal layer 40. It is completed by forming.

박막트랜지스터기판은 투명한 유리기판(10) 위에 형성된 게이트전극(13)과, 게이트전극(13)이 형성된 기판(10) 전체에 걸쳐 적층된 게이트절연층(11)과, 상기 게이트절연층(11) 위에 형성된 반도체층(15)과, 상기 반도체층(15) 위에 형성된 소스/드레인전극(17) 및 게이트절연층(11) 위에 상기 소스/드레인전극(17)과 동시에 형성되는 데이터라인(18)과, 액정셀(1)의 화상표시영역에 형성되어 상기 소스/드레인전극(17)과 접속되는 화소전극(20)과, 기판(10) 전체에 걸쳐 형성된 보호층(22)으로 구성된다.The thin film transistor substrate includes a gate electrode 13 formed on the transparent glass substrate 10, a gate insulating layer 11 stacked over the entire substrate 10 on which the gate electrode 13 is formed, and the gate insulating layer 11. The semiconductor layer 15 formed thereon, and the data line 18 formed on the source / drain electrode 17 and the gate insulating layer 11 formed on the semiconductor layer 15 simultaneously with the source / drain electrode 17. And a pixel electrode 20 formed in the image display area of the liquid crystal cell 1 and connected to the source / drain electrode 17 and a protective layer 22 formed over the entire substrate 10.

또한, 컬러필터기판은 투명한 유리기판(30) 위에 형성되어 액정셀(1)의 비표시영역(TFT 형성영역, 게이트라인영역, 데이터라인영역)으로 광이 투과되는 것을 방지하는 블랙매트릭스(32)와, 액정셀(1)의 화상표시영역에 형성되어 실제 컬러를 구현하는 컬러필터층(34)과, 상기 기판(30) 전체에 걸쳐 형성되어 액정셀(1)에 신호가 인가됨에 따라 화소전극(20)과의 사이에 전압이 인가되어 액정분자를 동작시 키는 공통전극(36)으로 구성된다.In addition, the color filter substrate is formed on the transparent glass substrate 30 to prevent the light matrix from transmitting to the non-display area (TFT forming area, gate line area, data line area) of the liquid crystal cell 1. And a color filter layer 34 formed in the image display area of the liquid crystal cell 1 to realize actual color, and a signal applied to the liquid crystal cell 1 formed over the entire substrate 30 to provide a pixel electrode ( A voltage is applied between the electrode 20 and the common electrode 36 to operate the liquid crystal molecules.

도면에는 도시하지 않았지만, 상기 TFT기판과 컬러필터기판에는 각각 액정분자를 배향하기 위한 배향막이 도포되어 있으며, 그 외부에는 백라이트(도면표시하지 않음)로부터 발광되어 액정층(40)을 투과하는 광을 편광하기 위한 편광판이 각각 부착된다.Although not shown in the drawing, the TFT substrate and the color filter substrate are each coated with an alignment film for aligning the liquid crystal molecules, and outside thereof, light emitted from a backlight (not shown) is transmitted through the liquid crystal layer 40. Polarizing plates for polarizing are attached, respectively.

상기와 같이 구성된 TFT기판과 컬러필터기판은 스페이서(spacer;42)에 의해 셀갭(cell gap)이 일정하게 유지된 상태에서 실링(sealing)된 후 액정이 주입되어 액정패널이 완성된다.The TFT substrate and the color filter substrate configured as described above are sealed in a state where the cell gap is kept constant by the spacer 42, and then liquid crystal is injected to complete the liquid crystal panel.

도면에 도시된 바와 같이, 컬러필터층(34)은 블랙매트릭스(32)와 일부 겹치도록 형성되며, ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명한 금속으로 이루어진 공통전극(36)은 상기 컬러필터층(34)과 블랙매트릭스(32) 위에 형성되어 있다.As shown in the drawing, the color filter layer 34 is formed to partially overlap the black matrix 32, and the common electrode 36 made of a transparent metal such as indium tin oxide (ITO) is formed of the color filter layer 34. It is formed on the black matrix 32.

도면에는 도시하지 않았지만, 컬러필터층(34)은 통상적으로 R,G,B의 색소를 갖는 화소가 배열되어 있다. 컬러필터층(34)은 여러 가지 방법에 의해 제작될 수 있다. 예를 들면, 염색법, 인쇄법, 전착법, 안료분산법은 이러한 컬러필터층(34)을 제작하기 위해 사용되는 방법들이다. 종래의 STN방식의 LCD에서는 주로 염색법, 인쇄법 또는 전착법에 의해 컬러필터층(34)을 제작했지만, 정교성이 뛰어나고 재현성이 좋으며 대면적 액정패널에 적용 가능하다는 점에서 근래의 TFT LCD에서는 주로 안료분산법을 사용한다.Although not shown in the figure, the color filter layer 34 typically includes pixels having R, G, and B pigments. The color filter layer 34 may be manufactured by various methods. For example, the dyeing method, printing method, electrodeposition method, and pigment dispersion method are methods used to produce such a color filter layer 34. In the conventional STN type LCD, the color filter layer 34 is mainly manufactured by dyeing, printing, or electrodeposition, but pigment dispersion is mainly used in recent TFT LCDs because it has excellent precision, good reproducibility, and can be applied to large area liquid crystal panels. Use the law.

안료분산법은 감광성의 컬러 포토레지스트(color photoresist)를 도포한 후 광조사에 의해 패터닝함으로써 컬러필터층을 제작한다. 그런데, 컬러 포토레지스트 는 안료가 분산된 감광성수지로 이루어지기 때문에, 다음과 같은 문제가 발생할 수 있다. 즉, 컬러 포토레지스트에는 광개시제(photoinitiator)를 포함하고 있으며 안료가 분산되어 있기 때문에, 컬러필터층 형성시 광개시제 입자와 안료입자가 상기 컬러필터층으로부터 방출될 수 있다. 컬러필터층(34)으로부터 방출된 입자는 공통전극(36)의 내부 또는 표면으로 침투하는데, 이러한 입자들의 침투에 의해 공통전극의 저항값이 상승되고 액정표시소자의 화면상에는 얼룩이 발생하게 된다.Pigment dispersion method produces a color filter layer by apply | coating a photosensitive color photoresist and patterning by light irradiation. However, since the color photoresist is made of a photosensitive resin in which pigments are dispersed, the following problems may occur. That is, since the color photoresist includes a photoinitiator and pigments are dispersed, photoinitiator particles and pigment particles may be emitted from the color filter layer when the color filter layer is formed. Particles emitted from the color filter layer 34 penetrate into the inside or the surface of the common electrode 36. As the particles penetrate, the resistance value of the common electrode is increased and stains are generated on the screen of the liquid crystal display.

컬러포토레지스트로부터의 광개시제 입자와 안료입자의 방출현상은 특히 공통전극(36) 형성시 자주 발생한다.
도 2(a)는 종래 컬러필터기판에서 컬러포토레지스트의 승화물이 공통전극에 침투하는 현상을 나타내는 도면이다.
도 2(b)는 종래 컬러필터기판에서 적층입자에 의해 공통전극에 핀홀이 발생하는 현상을 나타내는 도면이다.
도 2(a)에 도시된 바와 같이, 블랙매트릭스(32)와 컬러필터층(34) 위에 화소전극(36)을 형성하기 위해서는 약 10-6 Torr 이하의 고진공하에서 ITO를 스퍼터링방법(sputtering process)이나 증착방법(evaporation process)에 의해 적층한 후 약 200℃ 이상의 온도에서 어닐링(annealing)해야만 하는데, 이러한 고진공과 고온에 의해 컬러 포토레지스트로부터 승화물이 발생하며 이 발생된 승화물(안료입자나 광개시제 입자)이 ITO에 침투하여 공통전극의 막질을 저하시키는 것이다. 이러한 공통전극의 막질저하라는 문제를 해결하기 위해, 종래에는 컬러필터층(34) 위에 보호층(overcoat layer)을 형성한 후 공통전극을 적층하여 공통전극으로 승화물이 침투하는 것을 방지하고는 있지만, 이 방법에서는 보호층이라는 새로운 층이 첨가되기 때문에, 제조비용이 증가할 뿐만 아니라 공정 역시 복잡해지는 문제가 있었다.Emission of photoinitiator particles and pigment particles from color photoresist occurs frequently, particularly when the common electrode 36 is formed.
FIG. 2 (a) is a diagram illustrating a phenomenon in which a sublimation of color photoresist penetrates a common electrode in a conventional color filter substrate.
FIG. 2B is a view illustrating a phenomenon in which a pinhole is generated in a common electrode by laminated particles in a conventional color filter substrate.
As shown in FIG. 2 (a), in order to form the pixel electrode 36 on the black matrix 32 and the color filter layer 34, the ITO sputtering process is performed under a high vacuum of about 10 -6 Torr or less. After lamination by an evaporation process, annealing should be annealed at a temperature of about 200 ° C. or higher. Subsequently, a sublimation is generated from the color photoresist due to the high vacuum and high temperature, and the sublimation (pigment particles or photoinitiator particles) is generated. ) Penetrates into ITO and degrades the film quality of the common electrode. In order to solve the problem of poor film quality of the common electrode, conventionally, after forming a protective layer (overcoat layer) on the color filter layer 34 to prevent the penetration of the sublimation into the common electrode by stacking the common electrode, In this method, since a new layer called a protective layer is added, not only the manufacturing cost increases but also the process is complicated.

또한, 컬러필터층의 공통전극 형성시 또 다른 문제가 발생할 수도 있다. 스터링공정시 타겟(target)으로부터 방출되는 ITO분자는 기판(컬러필터기판상에서는 컬러필터층과 블랙매트릭스)상에 그레인(grain)을 형성하며, 이러한 그레인들이 모여 균일한 층이 형성된다.
한편, 진공하에서의 스퍼터링공정에서는 상기 타겟에서 방출된 입자들이 진공챔버의 벽면에 달라붙게 되는데, 이 입자들은 진공챔버 벽면에서 대직경의 덩어리를 형성하게 된다. 스퍼터링공정을 진행함에 따라 이 진공챔버 벽면에 붙어 있던 덩어리(입자)들이 떨어져서 컬러필터기판상에 적층되는데, 이러한 대직경의 덩어리들은 공통전극(36) 상에 도 2(b)에서와 같이 핀홀(pinhole;39)을 형성하게 된다. 따라서, 공통전극(36)에는 ITO가 없는 부분, 즉 단선이 발생하게 되며, 결국 액정표시소자의 수율을 저하시키게 된다.In addition, another problem may occur when forming the common electrode of the color filter layer. ITO molecules emitted from the target during the stirling process form grains on a substrate (a color filter layer and a black matrix on a color filter substrate), and these grains gather to form a uniform layer.
On the other hand, in the sputtering process under vacuum, the particles released from the target adhere to the wall of the vacuum chamber, which forms a large diameter lump on the wall of the vacuum chamber. As the sputtering process proceeds, agglomerates (particles) adhering to the wall of the vacuum chamber are separated and stacked on the color filter substrate. The large-diameter agglomerates are formed on the common electrode 36 as shown in FIG. pinhole; 39). Therefore, a portion without ITO, that is, disconnection occurs in the common electrode 36, resulting in a decrease in yield of the liquid crystal display.

이에 본 발명은 상기 종래기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 본 발명은 컬러필터기판에 형성되는 공통전극을 복수의 층으로 형성하여 공통전극 형성시 컬러필터층으로부터 방출하는 입자를 하나의 공통전극으로 블로킹함으로써 다른 하나의 공통전극을 항상 순수한 상태로 유지할 수 있는 액정표시소자의 컬러필터기판을 제공함에 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems of the prior art, the present invention forms a common electrode formed on the color filter substrate in a plurality of layers to form a common electrode particles from the color filter layer when forming a common electrode It is an object of the present invention to provide a color filter substrate of a liquid crystal display device capable of keeping another common electrode always in a pure state by blocking with an electrode.

본 발명의 다른 목적은 복수의 공통전극을 형성함으로써 공통전극의 형성시 진공챔버 벽면에 붙어 있던 덩어리들에 의한 핀홀에 기인하는 전체 공통전극의 단선을 방지할 수 있는 액정표시소자의 컬러필터기판을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to form a plurality of common electrodes to prevent the color filter substrate of the liquid crystal display device which can prevent the disconnection of the entire common electrode due to the pinholes caused by the agglomerates attached to the wall of the vacuum chamber when forming the common electrode. To provide.

본 발명의 또 다른 목적은 상기 컬러필터기판으로 구성된 액정표시소자를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device composed of the color filter substrate.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에서는 컬러필터기판의 블랙매트릭스 와 컬러필터층 위에 서로 다른 별개의 공정하에서 적어도 2중의 공통전극을 형성한다. 별개의 공정에 의해 각각의 공통전극은 서로 다른 성질을 보유하게 되며, 따라서 공통전극 형성시 진공챔버 벽면에 붙어 있던 덩어리(직경이 큰 입자)가 복수의 공통전극에 달라붙어 핀홀이 형성되는 경우에도 단지 하나의 공통전극에만(모든 공통전극에 형성되는 경우에도 그 위치가 다른 곳에) 형성되기 때문에 전체 공통전극에 단선이 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다.In order to achieve the above object, in the present invention, at least a double common electrode is formed on the black matrix of the color filter substrate and the color filter layer under different processes. Each common electrode has a different property by a separate process. Therefore, even when a mass (particles with large diameters) attached to a wall of a vacuum chamber is attached to a plurality of common electrodes when a common electrode is formed, pinholes are formed. Since only one common electrode is formed (where the position is different even when formed in all common electrodes), disconnection can be prevented from occurring in the entire common electrode.

또한, 공통전극 형성시 고진공 및 고온에 의해 컬러포토레지스트로부터 입자들이 방출되는 경우에도 복수의 공통전극중 하나의 공통전극에만 상기 입자들이 침투하기 때문에 다른 공통전극은 항상 순수한 상태를 유지할 수 있게 된다.In addition, even when particles are emitted from the color photoresist due to high vacuum and high temperature when forming the common electrode, the particles penetrate only one common electrode of the plurality of common electrodes, so that the other common electrode can always be kept pure.

각각의 공통전극 두께는 전체 두께가 약 1,500∼2,500Å를 유지한다면, 어떠한 두께로도 가능하다.Each common electrode thickness can be any thickness as long as the total thickness is maintained at about 1,500 to 2,500 Å.

본 발명에서는 컬러필터기판의 공통전극을 2중의 층으로 형성한다. 각각의 공통전극은 서로 다른 조건의 공정하에서 진행된 단일층으로서, 동일한 공정하에서 2중의 공통전극에 결함이 발생하는 것을 방지한다. 공통전극의 적층시 진공챔버 벽면의 입자에 의해 한층의 공통전극에 핀홀이 발생하는 경우에도 다른 층의 공통전극에는 핀홀이 발생하지 않게 된다. 따라서, 한층의 공통전극에 단선이 발생하는 경우에도 다른 층이 이를 대신 할 수 있게 된다.In the present invention, the common electrode of the color filter substrate is formed of a double layer. Each common electrode is a single layer which is processed under a process of different conditions, and prevents a defect from occurring in a double common electrode under the same process. When the common electrode is stacked, even when a pinhole is generated in one common electrode by particles on the wall of the vacuum chamber, the pinhole is not generated in the common electrode of another layer. Therefore, even when disconnection occurs in one common electrode, another layer can replace it.

또한, 본 발명에서는 안료분산법에 의해 컬러필터층을 제작한다. 공통전극 형성시 발생하는 컬러포토레지스트의 승화물은 2중의 공통전극중 컬러필터층과 인 접한 공통전극에 의해 블로킹되기 때문에 다른 층의 공통전극은 항상 깨끗한 막을 유지할 수 있게 된다.Moreover, in this invention, a color filter layer is produced by the pigment dispersion method. Since the sublimation of the color photoresist generated during the formation of the common electrode is blocked by the common electrode adjacent to the color filter layer among the double common electrodes, the common electrode of the other layer can always maintain a clean film.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 액정표시소자의 컬러필터기판에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a color filter substrate of a liquid crystal display device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 따른 액정표시소자의 컬러필터기판을 나타내는 도면이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 액정표시소자의 컬러필터기판은 유리와 같은 투명한 절연물질로 이루어진 기판(130)과, 상기 기판(130) 위에 형성되어 화상 비표시영역으로 광이 투과하는 것을 방지하는 블랙매트릭스(132)와, 기판(130) 상의 화상표시영역에 형성되어 실제 컬러를 구현하는 컬러필터층(134)과, 상기 블랙매트릭스(132) 및 컬러필터층(134) 위에 형성된 제1공통전극(136)과, 상기 제1공통전극(136) 위에 형성된 제2공통전극(137)으로 구성된다.3 is a view showing a color filter substrate of a liquid crystal display device according to the present invention. As shown in FIG. 3, the color filter substrate of the liquid crystal display according to the present invention includes a substrate 130 made of a transparent insulating material such as glass, and formed on the substrate 130 to transmit light to an image non-display area. A black matrix 132 for preventing a color, a color filter layer 134 formed in an image display area on the substrate 130 to implement actual colors, and a first formed on the black matrix 132 and the color filter layer 134. The common electrode 136 is formed of a second common electrode 137 formed on the first common electrode 136.

컬러필터층(134)은 안료가 분산된 감광성 수지로 이루어진 것으로서, 안료분산법에 의해 형성된다. 이를 간략하게 설명하면 다음과 같다. 우선, 안료가 분산된 감광성 수지를 기판(130) 전체에 걸쳐서 약 1.0∼2.5㎛의 두께로 도포한다. 이어서, 마스크를 사용하여 상기 감광성수지에 자외선과 같은 광을 조사한 후 현상액을 작용시켜 이를 현상함으로써 원하는 패턴의 컬러필터층(134)을 형성한다. 풀컬러(full color) 액정표시소자에서는 컬러필터층이 R,G,B의 3가지 색소로 이루어지기 때문에, 각각의 색소에 대응하는 컬러필터패턴을 형성하기 위해 상기 공정을 반복해야만 한다.The color filter layer 134 is made of a photosensitive resin in which pigments are dispersed, and is formed by a pigment dispersion method. This is briefly described as follows. First, the photosensitive resin in which the pigment was disperse | distributed is apply | coated to the thickness of about 1.0-2.5 micrometers over the board | substrate 130. FIG. Subsequently, the photosensitive resin is irradiated with light such as ultraviolet rays using a mask and then developed by applying a developer to form a color filter layer 134 having a desired pattern. In a full color liquid crystal display device, since the color filter layer is composed of three pigments of R, G, and B, the above process must be repeated to form a color filter pattern corresponding to each pigment.

제1공통전극(136) 및 제2공통전극(137)은 ITO와 같은 투명한 금속을 스퍼터 링이나 증착에 의해 적층함으로써 형성된다. 이때, 각각의 공통전극(136,137)은 연속공정이 아닌 서로 다른 별개의 공정하에서 진행된다. 예를 들면, 진공정도, 기판온도, 증착속도, 증착분위기 등을 달리 하여 제1공통전극(136)과 제2공통전극(137)을 형성하거나 다른 진공챔버내에서 증착을 진행함으로써, 상기 제1공통전극(136)과 제2공통전극(137)이 동일한 성질을 갖는 것을 방지한다.The first common electrode 136 and the second common electrode 137 are formed by stacking a transparent metal such as ITO by sputtering or vapor deposition. At this time, each of the common electrodes 136 and 137 is performed under a separate process rather than a continuous process. For example, the first common electrode 136 and the second common electrode 137 are formed by varying the degree of vacuum, the substrate temperature, the deposition rate, the deposition atmosphere, or the like, or the deposition is performed in another vacuum chamber. The common electrode 136 and the second common electrode 137 are prevented from having the same property.

제1공통전극(136)과 제2공통전극(137)이 동일한 성질을 갖는다는 것은 두 전극이 동일한 면저항, 균일도 및 응력 등과 같은 성질을 갖는다는 것을 의미하는 것뿐만 아니라 동일한 결함을 가질 수 있다는 것을 의미한다.
따라서, 하나의 공통전극에 결함이 발생하면, 다른 공통전극에도 동일한 결함이 발생되며, 결국 이러한 결함은 액정표시소자에는 치명적으로 된다. 본 발명에서는 상기 제1공통전극(136) 및 제2공통전극(137)중 하나의 공통전극에 불량이 발생하는 경우에도 다른 공통전극이 이를 대신할 수 있게 된다.The fact that the first common electrode 136 and the second common electrode 137 have the same property not only means that the two electrodes have the same property such as sheet resistance, uniformity and stress, but also that they may have the same defect. it means.
Therefore, when a defect occurs in one common electrode, the same defect occurs in the other common electrode, and this defect eventually becomes fatal to the liquid crystal display device. In the present invention, even when a failure occurs in one common electrode of the first common electrode 136 and the second common electrode 137, the other common electrode can be substituted for this.

이러한 공통전극 불량의 일예로서, 공통전극에 핀홀이 발생한 예가 도 4(a)에 도시되어 있다. 도면에 도시된 바와 같이, 핀홀(139)은 주로 스퍼터링이나 증착시에 진공챔버 벽면에 달라붙는 덩어리(입자)에 의해 발생한다. 이러한 덩어리들은 통상적으로 큰 직경(심지어 공통전극 두께 보다 큰)을 갖기 때문에, 공통전극의 적층시 상기 덩어리가 기판에 달라붙게 되면 공통전극 단선의 원인이 된다. 그러나, 본 발명에서는 서로 다른 공정하에서 2개의 공통전극(136,137)을 형성하기 때문에, 하나의 공통전극에 핀홀(139)이 발생하는 경우에도 다른 공통전극에는 핀홀(139)이 발생하지 않게 되어 핀홀에 의한 전체 공통전극의 단선이 방지될 수 있다. As an example of such a common electrode failure, an example in which a pinhole is generated in the common electrode is illustrated in FIG. 4A. As shown in the figure, the pinhole 139 is mainly generated by agglomerates (particles) that adhere to the wall of the vacuum chamber during sputtering or deposition. Since these agglomerates usually have a large diameter (even larger than the common electrode thickness), if the agglomerates stick to the substrate during the stacking of the common electrodes, it causes the common electrode disconnection. However, in the present invention, since two common electrodes 136 and 137 are formed under different processes, even when the pinhole 139 is generated in one common electrode, the pinhole 139 does not occur in the other common electrode. Disconnection of the entire common electrode can be prevented.                     

상기 핀홀(139)은 2개의 공통전극(136,137) 양쪽에 생길 수도 있다. 그러나, 상기 2개의 공통전극(136,137)이 별개의 공정하에서 형성되기 때문에, 동일한 장소에 핀홀(139)이 생길 확률은 매우 희박하게 된다. 따라서, 2개의 공통전극(136,137)에 핀홀(139)이 생기는 경우에도 각각의 핀홀 영역을 다른 공통전극이 대신하기 때문에, 전체 공통전극에 단선이 발생하지는 않는다.The pinhole 139 may be formed on both of the two common electrodes 136 and 137. However, since the two common electrodes 136 and 137 are formed under separate processes, the probability of the pinholes 139 being formed in the same place is very slim. Therefore, even when the pinholes 139 are formed in the two common electrodes 136 and 137, the different common electrodes replace the respective pinhole regions, so that disconnection does not occur in the entire common electrodes.

또한, 상기 2중의 공통전극(136,137)은 다른 결함에 의한 단선을 방지한다. 예를 들어, 공통전극의 막접착력이 저하되어 국부적으로 기판(혹은 다른 공통전극)으로부터 분리되는 경우 다른 공통전극이 이를 대신하기 때문에, 전체적인 공통전극에는 단선이 발생하지 않게 된다.In addition, the double common electrodes 136 and 137 prevent disconnection due to other defects. For example, when the film adhesion of the common electrode is lowered and is locally separated from the substrate (or another common electrode), the other common electrode replaces this, so that disconnection does not occur in the entire common electrode.

상기 공통전극(136,137)의 두께는 특별히 한정되지는 않는다. 2개의 공통전극(136,137)의 전체 두께는 약 1,500∼2,500Å으로서, 이 두께를 벗어나지 않는 한도내에서는 상기 공통전극(136,137)은 어떠한 두께라도 가능하다. 예를 들어, 제1공통전극(136)을 약 500Å의 두께로 형성하고 제2공통전극(137)은 약 1000Å의 두께로 형성하는 것도 본 발명의 훌륭한 예이며, 반대로 제1공통전극(136)을 약 1000Å의 두께로 형성하고 제2공통전극(137)을 약 500Å의 두께로 형성하는 것도 본 발명의 훌륭한 일예가 될 수 있을 것이다. 실질적으로, 상기 제1공통전극(136)과 제2공통전극(137)은 두 공통전극의 두께 합이 1,500∼2,500Å의 범위라면 어떠한 두께로도 형성할 수 있다.The thickness of the common electrodes 136 and 137 is not particularly limited. The total thickness of the two common electrodes 136 and 137 is about 1,500 to 2,500 Å, and the common electrodes 136 and 137 can have any thickness as long as the thickness is not exceeded. For example, forming the first common electrode 136 to a thickness of about 500 GPa and the second common electrode 137 to a thickness of about 1000 GPa is a good example of the present invention. In contrast, the first common electrode 136 is formed. To form a thickness of about 1000 kW and the second common electrode 137 to about 500 kW may be an excellent example of the present invention. Substantially, the first common electrode 136 and the second common electrode 137 may be formed to any thickness as long as the sum of the thicknesses of the two common electrodes is in the range of 1,500 to 2,500 Å.

상기 공통전극(136,137)은 적층된 후 약 200℃ 이상의 온도에서 어닐링되어 균일한 성질을 유지하게 된다. 이때, 상기 어닐링시 컬러 포토레지스트에서 방출하 는 승화물(안료입자 또는 광개시제 입자)은 도 4(b)에 도시된 바와 같이 주로 컬러필터층(134)과 인접한 제1공통전극(136)으로 침투한다. 즉, 상기 제1공통전극(136)이 제2공통전극(137)으로 침투하는 승화물을 차단하는 것이다. 그러므로, 상기 제2공통전극(137)은 불순물(승화물) 없이 순수한 상태를 유지하게 되며, 그 결과 항상 일정한 저항값을 유지하게 된다.The common electrodes 136 and 137 are stacked and then annealed at a temperature of about 200 ° C. or more to maintain uniform properties. At this time, the sublimation (pigment particles or photoinitiator particles) emitted from the color photoresist during the annealing mainly penetrates into the first common electrode 136 adjacent to the color filter layer 134 as shown in FIG. . That is, the first common electrode 136 blocks the sublimation penetrating into the second common electrode 137. Therefore, the second common electrode 137 maintains a pure state without impurities (sublimation), and as a result, always maintains a constant resistance value.

컬러필터기판에 형성되는 공통전극은 별개의 공정에 의해 3중 이상의 층으로 형성할 수도 있지만 공정의 간편함이나 적절한 막두께를 확보하기 위해서는 2중의 층으로 형성하는 바람직할 것이다. 이와 같이, 본 발명에서는 복수의 공통전극을 컬러필터기판상에 형성함으로써 종래에 발생할 수 있는 문제를 해결한다.The common electrode formed on the color filter substrate may be formed in three or more layers by separate processes, but it may be preferable to form in two layers in order to ensure the simplicity of the process or to secure an appropriate film thickness. As described above, the present invention solves a problem that may occur in the related art by forming a plurality of common electrodes on the color filter substrate.

상기와 같이 복수의 층으로 형성된 공통전극은 특정한 액정표시소자의 구조에만 적용할 수 있는 것은 아니다.
현재 제작되고 있는, 그리고 미래에 제작될 수 있는 모든 구조의 액정표시소자에도 본 발명은 훌륭하게 적용될 수 있을 것이다. 또한, 상기한 설명에서는 컬러필터층이 안료분산법에 의해 제작된 컬러 포토레지스트로 구성되었지만, 가능한 모든 재료의 컬러필터층에도 적용 가능할 것이다.
따라서, 본 발명은 어떤 특정한 액정표시소자에만 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기본적인 개념을 이용하여 본 발명이 속하는 기술분야에 종사하는 사람이 적용할 수 있는 모든 구조의 액정표시소자에 적용될 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 권리범위는 상기 설명한 실시예에 결정되는 것이 아니라 첨부한 특허청구범위에 의해 결정되어야만 할 것이다.As described above, the common electrode formed of a plurality of layers is not applicable only to the structure of a specific liquid crystal display device.
The present invention can be applied well to liquid crystal display devices of all structures that are being manufactured now and in the future. Further, in the above description, although the color filter layer is composed of color photoresist produced by the pigment dispersion method, it will be applicable to color filter layers of all possible materials.
Therefore, the present invention is not limited to any particular liquid crystal display device, and may be applied to a liquid crystal display device having any structure applicable to a person skilled in the art using the basic concept of the present invention. . Therefore, the scope of the present invention should be determined not by the above-described embodiments but by the appended claims.

상술한 바와 같이, 본 발명에서는 액정표시소자의 컬러필터기판상에 복수의 층으로 이루어진 공통전극을 형성한다. 따라서, 공통전극 형성시 컬러필터층으로부터 방출되는 승화물(입자들)이 컬러필터층과 인접한 공통전극에 의해 차단되어 다른 공통전극이 상기 승화물에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있게 된다.
따라서, 공통전극이 저항값이 증가하거나 액정표시소자에 얼룩이 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다. 또한, 서로 다른 공정조건으로 이루어진 별개의 공정에 의해 복수의 공통전극이 형성되기 때문에, 공통전극의 형성시 하나의 공통전극에 핀홀이 발생하는 경우에도 다른 공통전극이 이를 대신할 수 있게 되어 공통전극 전체에 단선이 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다.As described above, in the present invention, a common electrode composed of a plurality of layers is formed on the color filter substrate of the liquid crystal display device. Therefore, the sublimation (particles) emitted from the color filter layer when the common electrode is formed is blocked by the common electrode adjacent to the color filter layer, thereby preventing other common electrodes from being contaminated by the sublimation.
Therefore, the common electrode can prevent the resistance value from increasing or staining of the liquid crystal display device. In addition, since a plurality of common electrodes are formed by separate processes having different process conditions, even when a pinhole occurs in one common electrode when the common electrode is formed, another common electrode can replace the common electrode. It is possible to prevent disconnection in the whole.

Claims (11)

화상표시영역 및 비표시영역으로 구분된 기판;A substrate divided into an image display area and a non-display area; 상기 기판의 비표시영역에 형성된 블랙매트릭스;A black matrix formed in the non-display area of the substrate; 상기 기판의 화상표시영역에 형성된 컬러필터층; 및A color filter layer formed in the image display area of the substrate; And 상기 블랙매트릭스 및 컬러필터층 위에 형성된 복수층의 공통전극을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 컬러필터기판.And a plurality of common electrodes formed on the black matrix and the color filter layer. 제1항에 있어서, 상기 컬러필터층은 안료가 산포된 감광성 수지인 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 컬러필터기판.The color filter substrate of claim 1, wherein the color filter layer is a photosensitive resin in which pigment is dispersed. 제1항에 있어서, 상기 공통전극은,The method of claim 1, wherein the common electrode, 제1공통전극; 및A first common electrode; And 상기 제1공통전극 위에 형성된 제2공통전극으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 컬러필터기판.The color filter substrate of the liquid crystal display device, characterized in that the second common electrode formed on the first common electrode. 제3항에 있어서, 상기 제1공통전극 및 제2공통전극은 ITO(Indium Tin Oxide)로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 컬러필터기판.The color filter substrate of claim 3, wherein the first common electrode and the second common electrode are made of indium tin oxide (ITO). 제4항에 있어서, 상기 제1공통전극 및 제2공통전극의 전체 총두께는 1500∼2500Å인 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 컬러필터기판.5. The color filter substrate of claim 4, wherein the total thickness of the first common electrode and the second common electrode is 1500 to 2500 mW. 제3항에 있어서, 상기 제1공통전극 및 제2공통전극은 별개의 공정에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 컬러필터기판.The color filter substrate of claim 3, wherein the first common electrode and the second common electrode are formed by separate processes. 제6항에 있어서, 상기 제1공통전극 및 제2공통전극은 서로 다른 적층 조건에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 컬러필터기판.The color filter substrate of claim 6, wherein the first common electrode and the second common electrode are formed under different stacking conditions. 제6항에 있어서, 상기 제1공통전극 및 제2공통전극은 다른 진공챔버에서 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 컬러필터기판.The color filter substrate of claim 6, wherein the first common electrode and the second common electrode are formed in different vacuum chambers. 화상표시영역 및 비표시영역으로 구분된 기판;A substrate divided into an image display area and a non-display area; 상기 기판의 비표시영역에 형성된 블랙매트릭스;A black matrix formed in the non-display area of the substrate; 상기 화상표시영역에 형성된 컬러필터층;A color filter layer formed in the image display area; 상기 블랙매트릭스 및 컬러필터층 위에 형성된 제1공통전극; 및A first common electrode formed on the black matrix and the color filter layer; And 상기 제1공통전극 위에 형성되며 상기 제1공통전극과는 다른 막성질을 갖는 제2공통전극을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 컬러필터기판.And a second common electrode formed on the first common electrode and having a film property different from that of the first common electrode. 복수의 액정셀로 이루어지며, 각각의 액정셀내에 스위칭소자가 형성되고 상기 복수의 액정셀 전체에 걸쳐 화소전극이 형성된 스위칭소자기판;A switching element substrate comprising a plurality of liquid crystal cells, wherein a switching element is formed in each liquid crystal cell and a pixel electrode is formed over the plurality of liquid crystal cells; 상기 스위칭소자기판의 액정셀에 대응하는 영역의 화상표시영역 및 비표시영역에 각각 컬러필터층과 블랙매트릭스가 형성되며, 상기 복수의 액정셀 전체에 대응하는 영역에 걸쳐 복수의 공통전극이 형성된 컬러필터기판; 및The color filter layer and the black matrix are formed in the image display area and the non-display area of the area corresponding to the liquid crystal cell of the switching element substrate, respectively, and the color filter in which a plurality of common electrodes are formed over the area corresponding to the entire liquid crystal cell. Board; And 상기 스위칭소자기판 및 컬러필터기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성된 것을 특징으로하는 액정표시소자.And a liquid crystal layer formed between the switching element substrate and the color filter substrate. 제10항에 있어서, 상기 복수의 공통전극은,The method of claim 10, wherein the plurality of common electrodes, 제1공통전극; 및A first common electrode; And 상기 제1공통전극 위에 형성되며, 상기 제1공통전극과는 별개의 공정에 의해 형성된 제2공통전극으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자.And a second common electrode formed on the first common electrode and formed by a separate process from the first common electrode.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR920003351A (en) * 1990-07-13 1992-02-29 가다오까 마사다까 Pushbutton switch
JPH0713147A (en) * 1993-06-23 1995-01-17 Asahi Glass Co Ltd Color filter substrate and liquid crystal display element
KR970028703A (en) * 1995-11-16 1997-06-24 김광호 Color filter of liquid crystal display device and manufacturing method thereof
KR20000055254A (en) * 1999-02-04 2000-09-05 유현식 Photosensitive resin composition and color filter
KR20020059956A (en) * 2001-01-09 2002-07-16 윤종용 A substrate for a liquid crystal display and a manufacturing method of the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR920003351A (en) * 1990-07-13 1992-02-29 가다오까 마사다까 Pushbutton switch
JPH0713147A (en) * 1993-06-23 1995-01-17 Asahi Glass Co Ltd Color filter substrate and liquid crystal display element
KR970028703A (en) * 1995-11-16 1997-06-24 김광호 Color filter of liquid crystal display device and manufacturing method thereof
KR20000055254A (en) * 1999-02-04 2000-09-05 유현식 Photosensitive resin composition and color filter
KR20020059956A (en) * 2001-01-09 2002-07-16 윤종용 A substrate for a liquid crystal display and a manufacturing method of the same

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