KR100813738B1 - 내스크래치성과 광학특성이 우수한 광확산판 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
구 분 | 실시예 | ||||||||||||
1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 | 10 | 11 | |||
SHEET 구조 (층 비) | 단층 | 다층 (0.5/9/0.5) | 다층 (0.5/9/0.5) | 다층 (0.5/9/0.5) | 다층 (0.5/9/0.5) | 다층 (0.5/9/0.5) | 다층 (0.5/9/0.5) | 다층 (0.5/9/0.5) | 단층 | 다층 (0.5/9/0.5) | |||
브렌드비 | Co-PET | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | |
PC | 50 | 66 | 504 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | ||
입자 (입경μm/ 투입량wt%) | 코어층 | 실리콘 | 2.0/0.99 1.5/0.05 | 2.0/0.99 1.5/0.05 | 2.0/0.99 1.5/0.05 | 2.0/0.99 1.5/0.05 | 2.0/0.99 1.5/0.05 | 2.0/0.99 1.5/0.05 | 2.0/0.99 1.5/0.05 | 2.0/0.99 1.5/0.05 | 2.0/0.99 1.5/0.05 | 2.0/0.99 1.5/0.05 | 2.0/0.99 1.5/0.05 |
PMMA | 8/0.02 | 8/0.02 | 8/0.02 | 8/0.021 | 8/0.02 | 8/0.02 | 8/0.02 | 8/0.02 | 8/0.02 | 8/0.02 | 8/0.02 | ||
스킨층 | 1α-Al | - | 0.01/5.0 | 0.01/5.0 | 0.0001/2.0 | 10/2.0 | 1.0/2.0 | 0.01/5.0 | 0.01/5.0 | - | 0.01/5.0 | 0.01/5.0 | |
2ca | - | - | 0.3/1.5 | 0.3/18 | 0.3/0.5 | - | 0.3/1.5 | 0.3/1.5 | - | - | - | ||
3si | - | - | - | - | - | 0.3/0.5 | - | - | - | - | - | ||
유기왁스 (투입량wt%) | 스킨층 | 4amide | 0.8 | - | - | - | - | ||||||
5mont | - | - | - | - | - | - | - | 0.5 | - | 0.5 | - | ||
매트가공(mesh) | - | - | - | - | - | - | - | - | 100 | 60 | 100 | ||
연필경도 | 2B | H | 1H~2H | 3H | 2H | 2H | 2H | 2H | 1H | 1H~2H | 1H~2H | ||
중심선 평균조도(μm) | 1.02 | 2.94 | 3.15 | 4.71 | 4.12 | 4.24 | 2.96 | 2.96 | 3.71 | 4.25 | 3.86 | ||
후도(mm) | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | ||
내열성(℃) | 115 | 114 | 116 | 114 | 115 | 114 | 115 | 116 | 115 | 115 | 114 | ||
흡습성(%) | 0.15 | 0.14 | 0.15 | 0.15 | 0.14 | 0.15 | 0.16 | 0.16 | 0.15 | 0.15 | 0.14 | ||
광학특성 | 6휘도(cd/m2) | 7,200 | 7,170 | 6,980 | 6,150 | 6,610 | 6,990 | 7,100 | 7,150 | 7,170 | 7,150 | 7,160 | |
TT | 48.5 | 49.5 | 48.5 | 47.5 | 45.5 | 48.5 | 47.8 | 48.5 | 48.3 | 48.2 | 48.8 | ||
Haze | 94.5 | 94.2 | 94.2 | 94.2 | 94.2 | 94.2 | 94.3 | 94.4 | 94.1 | 94.5 | 94.4 | ||
광확산성 | Clarity | 2.5 | 2.4 | 2.3 | 2.3 | 2.3 | 2.4 | 2.5 | 2.4 | 2.6 | 2.2 | 2.4 | |
형태 안정성 | 상 | 상 | 상 | 상 | 상 | 상 | 상 | 상 | 상 | 상 | 상 | ||
비고 | 1α-Al: 알파-알루미나 2ca: 탄산칼슘 3si |
Claims (24)
- 적어도 하나의 폴리카보네이트 수지를 5 내지 65 중량% 및 적어도 하나의 코폴리에스터를 35 내지 95 중량% 포함하는 블렌드 조성물 및 이들 수지의 공중합 조성물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 조성물로 형성되는 투명 수지층을 포함하고, 확산제가 투입되지 않은 상태에서,(1) 1.0 mm 두께 기준으로 90% 이상의 투광도,(2) 1.0 mm 두께 기준으로 1.5% 미만의 헤이즈(haze),(3) 105 내지 130℃의 유리전이 온도, 및(4) 0.09-0.30wt%의 흡수성을 가지며,상기 투명 수지층은 내부에 모스(Mohs)경도가 3이상이며, 평균입경 0.005 ㎛ 내지 5 ㎛의 무기계 구형입자를 0.1중량%에서 5중량%의 양으로 포함하는 광 확산판.
- 제 1 항에 있어서, 상기 투명 수지층은 내부에 광확산 입자, 자외선(UV) 흡수제 및 대전방지제를 포함하는 광확산판.
- 제 2 항에 있어서, 상기 블렌드 조성물은 총 블렌드 조성물의 중량 기준으로, 적어도 하나의 폴리카보네이트 수지를 15 내지 40 중량% 및 적어도 하나의 코폴리에스터를 60 내지 85 중량% 포함하는 광확산판.
- 제 2 항에 있어서, 상기 코폴리에스터는 디카르복실산 총 몰%를 100 몰%로 할 때, 테레프탈산, 나프탈렌디카르복실 산, 시클로헥산디카르복실 산 또는 이의 혼합물로 구성되는 군으로부터 선택된 산 성분 65 내지 85 몰%, 이소프탈 산 15 내지 35 몰%, 및 4-40 탄소수를 포함하는 다른 디카르복실산 0 내지 20 몰%를 포함하는 산 성분, 및, 글리콜 단위의 총 몰%를 100 몰%로 기준할 때, 1,4-시클로헥산디메탄올 80 내지 100 몰%와 탄소수 3-13의 다른 글리콜 유니트 0 내지 20 몰%를 포함하는 글리콜 성분을 포함하는 광확산판.
- 제 2 항에 있어서, 상기 광확산 입자는 수지층 총중량에 대하여 0.1 내지 5.0 wt% 포함되며, 단독 또는 크기가 다른, 적어도 두 종류의 입자로 구성되는 광확산판.
- 제 5 항에 있어서, 광확산 입자는 직경이 20 내지 30 미크론의 범위의 입자 및 1 내지 15 미크론 범위의 입자를 포함하는 광확산판.
- 제 2 항에 있어서, 상기 광확산 입자는 소재와의 굴절율차가 0.1-0.2정도인 구형입자로 구성되는 광확산판.
- 제 2 항에 있어서, 상기 광확산 입자는 메틸폴리실록산, 메틸실리콘, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트, 노말부틸메틸메타크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 히드록시에틸메타크릴레이트, 히드록시프로필메타크릴레이트, 히드록시에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 메타롤아크릴아미드, 글리시딜메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 노말부틸아크릴레이트 및 2-에틸헥실아크릴레이트에서 선택된 단량체의 단독중합체, 공중합체 또는 삼원공중합체, 폴리에틸렌, 폴리스티렌, 폴리프로필렌, 아크릴과 올레핀계의 공중합체로 만든 비드를 소재에 사용한 광확산판.
- 제 1 항에 있어서, 상기 무기계 구형입자는 α-알루미나 입자, 탄산칼슘, 또는 실리카 입자인 광확산판.
- 다층 구조의 광확산판에 있어서, 적어도 하나의 폴리카보네이트 수지를 5 내지 65 중량% 및 적어도 하나의 코폴리에스터를 35 내지 95 중량% 포함하는 블렌드 조성물 및 이 들 수지의 공중합 조성물로 구성되는 군으로부터 선택되는 조성물로 형성되며, 광확산제 부재 상태에서,(1) 1.0 mm 두께 기준으로 90% 이상의 투광도(2) 1.0 mm 두께 기준으로 1.5% 미만의 헤이즈(haze)(3) 105 내지 130℃의 유리전이 온도 및(4) 0.09-0.30 wt%의 흡수성을 가지는 투명 수지층을 포함하고, 상기 투명 수지층은 내부에 모스(Mohs)경도가 3이상이며, 평균입경 0.005 ㎛ 내지 5 ㎛의 무기계 구형입자를 0.1중량%에서 5중량%의 양으로 포함하는 광확산판.
- 제 10 항에 있어서, 상기 다층 구조는 임의의 층에 광확산 입자, 자외선 차단성 및 정전방지 기능성을 부여하는 첨가제를 포함하고 있는 광확산판.
- 제 11 항에 있어서, 상기 투명 수지층의 적어도 일면에 스킨층이 형성되어 있는 광확산판.
- 제 12 항에 있어서, 상기 투명 수지층의 일 표면 또는 양 표면이 매트가공처리가 된 광확산판.
- 제 10 항에 있어서, 상기 무기계 구형입자는 α-알루미나 입자, 탄산칼슘 또는 실리카 입자인 광확산판.
- 제 10 항에 있어서, 상기 투명 수지층은 유기활제를 0.01중량% 내지 5중량%포함하는 광확산판
- 제 15 항에 있어서, 상기 유기활제는 수산기가 3개 이상인 다가알콜유와 탄소수 12개 이상인 지방족탄화수소 생성물인 광확산판
- 제 13 항에 있어서, 상기 투명 수지층 표면에 처리되어진 매트면은 중심선평 균조도가 1.0 ㎛ 내지 10.0 ㎛인 광확산판.
- 제 12 항에 있어서, 상기 스킨층은 폴리에스터, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리스티렌과 폴리메틸메타크릴레이트의 혼합물, 또는 폴리에스터와 폴리카보네이트의 블렌드 조성물로 제조되는 광확산판.
- 제 10 항에 있어서, 상기 블렌드 조성물은 총 블렌드 조성물의 중량 기준으로, 적어도 하나의 폴리카보네이트 수지를 15 내지 40 중량% 및 적어도 하나의 코폴리에스터를 60 내지 85 중량% 포함하는 광확산판.
- 제 11 항에 있어서, 상기 코폴리에스터는 디카르복실산 총 몰%를 100 몰%로 할 때, 테레프탈산, 나프탈렌디카르복실 산, 시클로헥산디카르복실 산 또는 이의 혼합물로 구성되는 군으로부터 선택된 산 성분 65 내지 85 몰%, 이소프탈 산 15 내지 35 몰%, 및 4-40 탄소 수를 포함하는 다른 디카르복실산 0 내지 20 몰%를 포함하는 산 성분, 및, 글리콜 단위의 총 몰%를 100 몰%로 기준할 때, 1,4-시클로헥산디메탄올 80 내지 100 몰%와 탄소수 3-13의 다른 글리콜 유니트 0 내지 20 몰%를 포함하는 글리콜 성분을 포함하는 광확산판.
- 제 11 항에 있어서, 상기 광확산 입자는 투명수지층에 포함되고 투명 수지층과의 굴절율차가 0.1-0.2정도인 구형입자로 구성되는 광확산판.
- 제 11 항에 있어서, 광확산 입자는 투명 수지층에 수지층 총중량에 대하여 0.1 내지 5.0wt% 포함되며, 직경이 20 내지 30 미크론의 범위 및 1 내지 15 미크론 범위에 속하는 두 가지 입자로 구성되는 광확산판.
- 제 11 항에 있어서, 상기 광확산 입자는 메틸폴리실록산, 메틸실리콘, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트, 노말부틸메틸메타크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 히드록시에틸메타크릴레이트, 히드록시프로필메타크릴레이트, 히드록시에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 메타롤아크릴아미드, 글리시딜메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 노말부틸아크릴레이트 및 2-에틸헥실아크릴레이트에서 선택된 단량체의 단독중합체, 공중합체 또는 삼원공중합체, 폴리에틸렌, 폴리스티렌, 폴리프로필렌, 아크릴과 올레핀계의 공중합체로 만든 비드를 소재에 사용한 광확산판.
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