KR100806884B1 - Liquid crystal display - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것으로, 안정적인 셀 갭을 확보하기 위하여, 합착하고 있는 두 기판 중 하나의 기판에 부착되는 스페이서를 형성하되, 스페이서가 부착된 기판과 합착하고 있는 다른 하나의 기판의 평평한 부분에 이 스페이서를 위치하도록 형성한다. 본 발명에 따른 액정 표시 장치는, 다수개의 게이트선과 다수개의 데이터선이 교차하여 다수개의 화소 영역이 정의되어 있고, 화소 영역 각각에 형성되는 다수개의 박막 트랜지스터 및 박막 트랜지스터 각각에 연결되어 있는 다수개의 화소 전극을 포함하는 하부 기판; 하부 기판에 합착되어 있고, 화소 영역에 대응하는 다수개의 색 필터, 색 필터 위에 형성된 공통 전극을 포함하는 상부 기판; 하부 기판 및 상부 기판 중 적어도 하나의 기판에 부착되는 스페이서를 포함하되, 스페이서가 부착된 기판이 합착하고 있는 나머지 다른 하나의 기판의 평평한 부분에 스페이서가 위치하도록 형성된다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, in order to secure a stable cell gap, forming a spacer to be attached to one of two substrates bonded together, and flattening the other substrate bonded to the substrate to which the spacer is attached. The spacer is formed to be located at the portion. In the liquid crystal display according to the present invention, a plurality of pixel regions are defined by crossing a plurality of gate lines and a plurality of data lines, and a plurality of pixels connected to each of a plurality of thin film transistors and thin film transistors formed in each pixel region. A lower substrate including an electrode; An upper substrate bonded to the lower substrate and including a plurality of color filters corresponding to the pixel regions and a common electrode formed on the color filters; And a spacer attached to at least one of the lower substrate and the upper substrate, wherein the spacer is formed on a flat portion of the other substrate to which the substrate to which the spacer is attached is bonded.

액정 표시 장치, 반사 전극, 스페이서, 셀 갭 Liquid Crystal Display, Reflective Electrode, Spacer, Cell Gap

Description

액정 표시 장치 {LIQUID CRYSTAL DISPLAY}Liquid crystal display {LIQUID CRYSTAL DISPLAY}

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치의 배치도이고, 1 is a layout view of a liquid crystal display according to a first exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 절단선 II-II’에 따른 액정 표시 장치의 단면도이고, FIG. 2 is a cross-sectional view of the liquid crystal display according to the cutting line II-II ′ of FIG. 1.

도 3a는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치를 제조하기 위한 첫 번째 제조 단계에서의 기판의 배치도이고,3A is a layout view of a substrate in a first manufacturing step for manufacturing a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention;

도 3b는 도 3a의 IIIb-IIIb’에 따른 기판의 단면도이고, 3B is a cross sectional view of the substrate according to IIIb-IIIb ′ of FIG. 3A;

도 4a는 도 3a의 다음 제조 단계에서의 기판의 배치도이고,4A is a layout view of a substrate in the next manufacturing step of FIG. 3A,

도 4b는 도 4a의 IVb-IVb’에 따른 기판의 단면도이고, 4B is a cross sectional view of the substrate according to IVb-IVb ′ of FIG. 4A;

도 5a는 도 4a의 다음 제조 단계에서의 기판의 배치도이고,FIG. 5A is a layout view of a substrate in a subsequent manufacturing step of FIG. 4A,

도 5b는 도 5a의 Vb-Vb’에 따른 기판의 단면도이고, FIG. 5B is a cross-sectional view of the substrate along Vb-Vb ′ of FIG. 5A;

도 6a는 도 5a의 다음 제조 단계에서의 기판의 배치도이고,FIG. 6A is a layout view of a substrate in a subsequent manufacturing step of FIG. 5A;

도 6b는 도 6a의 VIb-VIb’에 따른 기판의 단면도이고, 6B is a cross sectional view of the substrate according to VIb-VIb ′ of FIG. 6A;

도 7은 도 6b의 다음 제조 단계에서의 기판의 단면도이고, FIG. 7 is a cross-sectional view of the substrate at a subsequent stage of manufacture of FIG. 6B;

도 8a는 도 7의 다음 제조 단계에서의 기판의 배치도이고,FIG. 8A is a layout view of a substrate in a subsequent manufacturing step of FIG. 7;

도 8b는 도 8a의 VIIIb-VIIIb’에 따른 기판의 단면도이고, FIG. 8B is a cross sectional view of the substrate according to VIIIb-VIIIb ′ of FIG. 8A;

도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 장치에 채용되는 박막 트랜지스터 기판의 단면도이고, 9 is a cross-sectional view of a thin film transistor substrate employed in a liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention;                 

도 10은 본 발명의 제3 실시예에 따른 액정 표시 장치에 채용되는 박막 트랜지스터 기판의 단면도이다. 10 is a cross-sectional view of a thin film transistor substrate employed in a liquid crystal display according to a third exemplary embodiment of the present invention.

본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a liquid crystal display device.

통상적인 액정 표시 장치는 서로 마주하는 두 기판 및 두 기판 사이에 주입되어 있는 액정층으로 구성되어 있다. 두 기판 중의 하나인 하부 기판에는 게이트 전극이 형성되어 있고, 게이트 전극을 덮는 게이트 절연막이 형성되어 있다. 게이트 전극에 대응하는 게이트 절연막의 상부에는 반도체층이 형성되어 있으며, 반도체층의 상부에는 게이트 전극을 중심으로 마주하는 소스/드레인 전극이 각각 형성되어 있다. 소스 및 드레인 전극과 반도체층 사이에는 저항 접촉층이 각각 형성되어 있으며, 드레인 전극 상부에 개구부를 가지는 보호막이 형성되어 있다. Conventional liquid crystal display devices are composed of two substrates facing each other and a liquid crystal layer injected between the two substrates. A gate electrode is formed on the lower substrate, which is one of the two substrates, and a gate insulating film covering the gate electrode is formed. A semiconductor layer is formed on the gate insulating film corresponding to the gate electrode, and source / drain electrodes facing the gate electrode are formed on the semiconductor layer. An ohmic contact layer is formed between the source and drain electrodes and the semiconductor layer, and a protective film having an opening is formed on the drain electrode.

특히, 반사형 액정 표시 장치에서는 보호막의 상부에 개구부를 통하여 드레인 전극과 연결되되, 광 반사 특성이 있는 반사 전극이 형성되어 있는데, 반사 전극은 반사율을 높이기 위하여 그의 표면이 요철 형상으로 굴곡지게 형성되는 것이 유리하다. In particular, the reflective liquid crystal display device is connected to the drain electrode through an opening in the upper portion of the passivation layer, and a reflective electrode having light reflection characteristics is formed. The reflective electrode is formed such that its surface is curved in an uneven shape to increase the reflectance. It is advantageous.

한편, 하부 기판의 반사 전극에 대응하는 상부 기판에는 적색, 녹색, 청색의 색 필터가 형성되어 있으며, 이들 색 필터 사이에는 블랙 매트릭스가 형성되어 있으며, 색 필터 및 블랙 매트릭스 위에는 공통 전극이 전면에 걸쳐 형성되어 있다. Meanwhile, red, green, and blue color filters are formed on the upper substrate corresponding to the reflective electrode of the lower substrate, and a black matrix is formed between the color filters, and a common electrode is disposed on the front surface of the color filter and the black matrix. Formed.                         

일반적으로 상부 기판은 색 필터 기판이라고 하며, 하부 기판은 게이트 전극, 소스/드레인 전극 및 반도체층으로 이루어진 박막 트랜지스터가 형성되어 있어서 박막 트랜지스터 기판이라고 한다.In general, the upper substrate is referred to as a color filter substrate, and the lower substrate is referred to as a thin film transistor substrate because a thin film transistor including a gate electrode, a source / drain electrode, and a semiconductor layer is formed.

반사형 액정 표시 장치에서는, 상부 기판의 상부에서 입사하는 빛은 액정층을 통과하고 하부 기판의 반사 전극에 의해 반사되어 다시 액정층 및 상부 기판을 통과하여 상을 보여준다. In the reflective liquid crystal display, light incident on the upper substrate passes through the liquid crystal layer, is reflected by the reflective electrode of the lower substrate, and passes through the liquid crystal layer and the upper substrate to display an image.

이러한 반사형 액정 표시 장치에서는, 상부 기판 혹은 하부 기판에 스페이서를 분사하여 기판 위에 위치시키고, 다른 하나의 기판을 눌러서 부착하는 방식으로 두 기판을 합착하게 되는데, 이로써, 스페이서가 두 기판의 갭을 유지하게 된다. 그러나, 반사 전극 표면의 요철 구조에 의해 두 기판 사이에 위치하는 스페이서는 안정성이 확보되지 않아 안정적인 셀 갭을 유지할 수 없는 어려움이 있다. In such a reflective liquid crystal display, a spacer is sprayed onto an upper substrate or a lower substrate to be placed on a substrate, and the two substrates are bonded by pressing and attaching another substrate, whereby the spacers maintain a gap between the two substrates. Done. However, due to the uneven structure of the reflective electrode surface, the spacer positioned between the two substrates does not secure stability, which makes it difficult to maintain a stable cell gap.

본 발명의 과제는 안정적인 셀 갭을 확보할 수 있는 액정 표시 장치를 제공하고자 한다. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device that can ensure a stable cell gap.

이러한 과제를 달성하기 위한 본 발명에서는 합착하고 있는 두 기판 중 하나의 기판에 부착되는 스페이서를 형성하되, 스페이서가 부착된 기판과 합착하고 있는 다른 하나의 기판의 평평한 부분에 이 스페이서를 위치하도록 형성한다.In the present invention for achieving the above object is formed a spacer which is attached to one of the two substrates to be bonded, but is formed so as to place the spacer on a flat portion of the other substrate bonded to the substrate to which the spacer is attached .

상세하게, 본 발명에 따른 액정 표시 장치는, 다수개의 게이트선과 다수개의 데이터선이 교차하여 다수개의 화소 영역이 정의되어 있고, 화소 영역 각각에 형성 되는 다수개의 박막 트랜지스터 및 박막 트랜지스터 각각에 연결되어 있는 다수개의 화소 전극을 포함하는 하부 기판; 화소 영역에 대응하는 다수개의 색 필터 및 상기 색 필터 위에 형성된 공통 전극을 포함하는 상부 기판; 하부 기판 및 상부 기판 중 하나의 기판에 부착되되, 나머지 다른 하나의 기판의 평평한 부분에 위치하는 스페이서를 포함하다. In detail, in the liquid crystal display according to the present invention, a plurality of pixel regions are defined by crossing a plurality of gate lines and a plurality of data lines, and connected to each of a plurality of thin film transistors and thin film transistors formed in each pixel region. A lower substrate including a plurality of pixel electrodes; An upper substrate including a plurality of color filters corresponding to the pixel region and a common electrode formed on the color filters; And a spacer attached to one of the lower substrate and the upper substrate, the spacer being positioned on a flat portion of the other substrate.

여기서, 하부 기판은, 절연 기판 위에 형성되는 게이트선 및 게이트 전극을 포함하는 게이트 배선; 게이트선을 덮는 게이트 절연막; 게이트 전극 상부의 게이트 절연막 위에 형성되는 반도체 패턴; 게이트 절연막 위에 게이트선에 교차하도로 형성되는 데이터선; 데이터선에 연장되어 반도체 패턴에 전기적으로 연결되는 소스 전극, 소스 전극에 대응하여 반도체 패턴에 전기적으로 연결되는 드레인 전극을 포함하는 데이터 배선; 드레인 전극을 제외한 데이터 배선 및 반도체 패턴을 덮는 보호막; 화소 영역에 위치하고, 상부가 요철 형상으로 패터닝되어 있는 유기 절연막 패턴; 드레인 전극에 연결되어 화소 영역에 형성되어 있고, 유기 절연막 패턴의 요철 형상에 의해 표면이 요철 형상을 가지는 반사 전극을 포함할 수 있다. Here, the lower substrate may include a gate wiring including a gate line and a gate electrode formed on the insulating substrate; A gate insulating film covering the gate line; A semiconductor pattern formed on the gate insulating layer over the gate electrode; A data line formed on the gate insulating film to cross the gate line; A data line including a source electrode extending to the data line and electrically connected to the semiconductor pattern, and a drain electrode corresponding to the source electrode and electrically connected to the semiconductor pattern; A protective film covering the data line and the semiconductor pattern except for the drain electrode; An organic insulating layer pattern positioned in the pixel region and having an upper portion patterned in an uneven shape; The reflective electrode may include a reflective electrode connected to the drain electrode and formed in the pixel area and having a concave-convex shape on the surface of the organic insulating layer pattern.

이 때, 스페이서는 상기 상부 기판의 공통 전극 위에 형성되고, 색 필터의 하부에는 화소 영역을 드러내되, 스페이서를 가리는 블랙 매트릭스가 색 필터의 하부에 형성될 수 있다.In this case, a spacer may be formed on the common electrode of the upper substrate, and a pixel matrix may be exposed under the color filter, and a black matrix covering the spacer may be formed under the color filter.

또한, 스페이서가 합착되는 부분의 주변에는 유기 절연막 패턴이 제거되어 평평한 상면을 가지는 것이 바람직하며, 스페이서는 하부 기판의 보호막 위에 별도 의 감광성 유기 절연 물질로 형성될 수 있다. In addition, the organic insulating pattern may be removed around the portion where the spacer is bonded to have a flat upper surface, and the spacer may be formed of a separate photosensitive organic insulating material on the passivation layer of the lower substrate.

그러면 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명을 상세히 설명한다. The present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치에서의 하부 기판의 배치 구조에 스페이서의 위치를 표시한 것이고, 도 2는 도 1에 보인 하부 기판을 절단선 Ⅱ-Ⅱ’을 따라 나타낸 단면 구조와 이에 대응하는 상부 기판의 단면 구조를 함께 나타낸 것이다. FIG. 1 illustrates the position of a spacer in an arrangement structure of a lower substrate in a liquid crystal display according to a first exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 illustrates the lower substrate shown in FIG. 1 along a cutting line II-II ′. The cross-sectional structure and the cross-sectional structure of the corresponding upper substrate are shown together.

우선, “하부 기판”은 박막 트랜지스터 기판으로서, 제1 절연 기판(10) 위에 가로 방향으로 길게 뻗어 있어 있으며, 일부분이 게이트 전극(26)으로 정의되어 있는 게이트선(22) 및 게이트선(22)의 일단에 형성되어 게이트선(22)에 주사 신호를 전달하는 게이트 패드(24)를 포함하는 게이트 배선이 형성되어 있다. First, the “lower substrate” is a thin film transistor substrate, which extends in the horizontal direction on the first insulating substrate 10 and has a portion defined by the gate electrode 26 and the gate line 22 and the gate line 22. A gate wiring including a gate pad 24 formed at one end of the gate to transfer a scan signal to the gate line 22 is formed.

게이트 배선(22, 24, 26)은 대면적 액정 표시 장치에 적용하기 위하여, 저저항 금속 물질로 형성되는 것이 유리하다. 또한, 게이트 배선(22, 24, 26)은 단일층 구조로 형성되거나, 이중층 이상의 구조로 형성될 수 있는데, 단일층 구조로 형성되는 경우에는 크롬 또는 크롬 합금, 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금, 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 또는, 은 또는 은 합금이 사용되며, 이중층 구조로 형성되는 경우에는 두 층 중 적어도 한 층은 저저항 금속 물질로 형성하는 것이 바람직하다.The gate wirings 22, 24, and 26 are advantageously formed of a low resistance metal material in order to be applied to a large area liquid crystal display device. In addition, the gate wirings 22, 24, and 26 may be formed in a single layer structure, or may be formed in a double layer structure or more. In the case of the single layer structure, the chromium or chromium alloy, molybdenum or molybdenum alloy, aluminum or aluminum alloy may be formed. Silver or a silver alloy is used, and when formed in a double layer structure, at least one of the two layers is preferably formed of a low resistance metal material.

절연 기판(10) 위에는 질화 규소 등으로 이루어진 게이트 절연막(30)이 게이트 배선(22, 24, 26)을 덮고 있다. On the insulating substrate 10, a gate insulating film 30 made of silicon nitride or the like covers the gate wirings 22, 24, and 26.

게이트 절연막(30) 위에는 게이트 전극(24)에 중첩되는 비정질 규소 등의 반도체 물질로 이루어진 반도체 패턴(42)이 형성되어 있으며, 반도체 패턴(42) 위에 는 불순물이 도핑되어 있는 비정질 규소 등의 반도체 물질로 이루어진 저항성 접촉층(ohmic contact layer)(55, 56)이 형성되어 있다.A semiconductor pattern 42 made of a semiconductor material such as amorphous silicon overlapping the gate electrode 24 is formed on the gate insulating layer 30, and a semiconductor material such as amorphous silicon doped with impurities on the semiconductor pattern 42. Ohmic contact layers 55 and 56 are formed.

게이트 절연막(30) 위에는 화상 신호를 전달하되, 가로 방향으로 뻗어 게이트선(22)에 교차하여 표시 영역에 다수개의 화소 영역을 정의하는 데이터선(62), 데이터선(62)에 연장되어 하나의 저항성 접촉층(55)에 접촉되어 있는 소스 전극(65), 소스 전극(65)에 대응하여 다른 하나의 저항성 접촉층(56)에 접촉되어 있는 드레인 전극(66) 및 데이터선(62)의 일단에 형성되어 데이터선(62)에 영상 신호를 전달하는 데이터 패드(64)를 포함하는 데이터 배선 형성되어 있다. An image signal is transmitted on the gate insulating layer 30, but extends in the horizontal direction to intersect the gate line 22 to extend the data line 62 and the data line 62 to define a plurality of pixel regions in the display area. One end of the source electrode 65 in contact with the ohmic contact layer 55, the drain electrode 66 and the data line 62 in contact with the other ohmic contact layer 56 corresponding to the source electrode 65. The data line is formed to include a data pad 64 formed on the data pad 64 to transmit an image signal to the data line 62.

데이터 배선(62, 64, 65, 66)은 대면적 액정 표시 장치에 적용하기 위하여, 저저항 금속 물질로 형성되는 것이 유리하다. 또한, 데이터 배선(62, 64, 65, 66)도 게이트 배선(22, 24, 26)과 동일하게 단일층 구조로 형성되거나, 이중층 이상의 구조로 형성될 수 있는데, 단일층 구조로 형성되는 경우에는 크롬 또는 크롬 합금, 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금, 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 또는, 은 또는 은 합금이 사용되며, 이중층 구조로 형성되는 경우에는 두 층 중 적어도 한 층은 저저항 금속 물질로 형성하는 것이 바람직하다.The data lines 62, 64, 65, and 66 are advantageously formed of a low resistance metal material in order to be applied to a large area liquid crystal display. In addition, the data lines 62, 64, 65, and 66 may also be formed in a single layer structure or in a double layer structure or the same as the gate lines 22, 24, and 26. Chromium or chromium alloys, molybdenum or molybdenum alloys, aluminum or aluminum alloys, or silver or silver alloys are used, and when formed in a double layer structure, at least one of the two layers is preferably formed of a low resistance metal material.

데이터 배선(62, 64, 65, 66) 위에는 질화 규소 등으로 이루어진 보호막(70)이 형성되어 있다. 보호막(70)에는 드레인 전극(66)을 드러내는 제1 접촉 구멍(72), 데이터 패드(64)를 드러내는 제2 접촉 구멍(74) 및 게이트 패드(24)를 드러내는 제3 접촉 구멍(76)이 형성되어 있다. On the data lines 62, 64, 65, 66, a protective film 70 made of silicon nitride or the like is formed. The protective layer 70 includes a first contact hole 72 exposing the drain electrode 66, a second contact hole 74 exposing the data pad 64, and a third contact hole 76 exposing the gate pad 24. Formed.

보호막(70) 위에는 상부가 요철 형상을 가지는 유기 절연막 패턴(90)이 형성 되어 있다. 요철 형상의 표면을 가지는 유기 절연막 패턴(90)은 이후에 형성되는 반사 전극(82)의 표면을 요철 형상으로 굴곡지게 만들기 위에 형성되는데, 게이트 패드(24) 및 데이터 패드(64)가 있는 주변부가 아닌 다수개의 화소 영역이 배열되어 있는 표시 영역에 형성된다. 이 때, 유기 절연막 패턴(90) 중 후술되는 스페이서(100)가 위치하는 부분은 스페이서(100)의 안정적인 위치 확보를 위하여 평평하게 형성되는 것이 바람직하다. On the passivation layer 70, an organic insulating layer pattern 90 having an irregular shape on the upper portion is formed. An organic insulating pattern 90 having a concave-convex surface is formed on the surface of the reflective electrode 82 to be bent to form a concave-convex shape. The periphery of the gate pad 24 and the data pad 64 is formed. Rather, it is formed in the display area in which a plurality of pixel areas are arranged. In this case, the portion of the organic insulating layer pattern 90 where the spacer 100 to be described later is located is preferably formed flat to ensure a stable position of the spacer 100.

보호막(70) 위에는 알루미늄과 같이 반사율이 좋은 금속 물질로 이루어진 반사 전극(82)이 제1 접촉 구멍(72)을 통하여 드레인 전극(66)에 연결되어 있다. 반사 전극(82)은 그 하부에 있는 유기 절연막 패턴(90)의 요철 형상에 따라 요철 형상의 표면을 가지게 되므로, 그 표면 특성상 반사율을 더욱 높이고 있다. 또한, 보호막(70) 위에는 데이터 및 게이트 패드(64, 24)를 각각 덮고 있는 보조 데이터 패드 및 보조 게이트 패드(84, 86)가 형성되어 있다. 보조 데이터 패드 및 보조 게이트 패드(84, 86)는 제2 및 제3 접촉 구멍(74, 76)을 통하여 데이터 패드 및 게이트 패드(64, 24)에 각각 연결되어 있다. On the passivation layer 70, a reflective electrode 82 made of a metal material having good reflectivity such as aluminum is connected to the drain electrode 66 through the first contact hole 72. Since the reflective electrode 82 has a concave-convex surface according to the concave-convex shape of the organic insulating film pattern 90 below, the reflecting electrode 82 further increases the reflectance due to its surface characteristics. Further, the auxiliary data pads and the auxiliary gate pads 84 and 86 covering the data and the gate pads 64 and 24 are formed on the passivation layer 70, respectively. The auxiliary data pad and the auxiliary gate pads 84 and 86 are connected to the data pads and the gate pads 64 and 24 through the second and third contact holes 74 and 76, respectively.

이러한 "하부 기판"에 대응하는 "상부 기판"은 색 필터 기판으로서, 제2 절연 기판(200) 위에 하부 기판의 화소 영역을 제외한 영역에 중첩되어 있는 즉, 화소 영역을 드러내는 블랙 매트릭스(210)가 형성되어 있고, 블랙 매트릭스(210) 위에는 하부 기판의 화소 영역에 대응하여 청색, 녹색, 적색 중 하나의 색을 가지는 색 필터(220)가 형성되어 있다. 그리고, 블랙 매트릭스(210)와 색 필터(220)를 유기 절연 물질로 이루어진 오버 코트막(230)이 평평하게 덮고 있다. 오버 코트막(230) 위에는 기판 전면에 걸쳐 ITO 또는, IZO 등의 투명 도전 물질로 이루어진 공통 전극(240)이 형성되어 있다.The "upper substrate" corresponding to the "lower substrate" is a color filter substrate, and the black matrix 210 overlapping the region except the pixel region of the lower substrate, that is, the pixel region, is exposed on the second insulating substrate 200. The color filter 220 having one of blue, green, and red colors is formed on the black matrix 210 to correspond to the pixel area of the lower substrate. In addition, the overcoat layer 230 made of the organic insulating material covers the black matrix 210 and the color filter 220 flatly. The common electrode 240 made of a transparent conductive material such as ITO or IZO is formed over the entire surface of the overcoat layer 230.

공통 전극(240) 위에는 "상부 기판"과 "하부 기판"의 사이의 간격을 유지하기 위한 갭을 설정해주는 스페이서(100)가 형성되어 있다. 스페이서(100)는 상부 기판과 하부 기판 사이의 간격을 안정적으로 유지하기 위하여 하부 기판의 평평한 부분에 부착되어 있는 것이 바람직하다. A spacer 100 is formed on the common electrode 240 to set a gap for maintaining a gap between the “upper substrate” and the “lower substrate”. The spacer 100 is preferably attached to a flat portion of the lower substrate in order to stably maintain the gap between the upper substrate and the lower substrate.

한 편, 스페이서(100)는 패널의 개구율 감소를 지양하기 위하여, 블랙 매트릭스의 내부 영역과 중첩되어 블랙 매트릭스에 의하여 가려지는 위치에 형성되는 것이 바람직하다. 스페이서가 있는 부분은 액정의 오배열이 일어나서 빛 샘 등이 발생할 수 있기 때문에, 이와 같이 스페이서가 있는 주변부를 블랙 매트릭스로 가려주는 것이 유리하다. 이와 같이, 블랙 매트릭스(BM)의 폭보다 작게 형성하는 것이 좋다.On the other hand, the spacer 100 is preferably formed at a position overlapped with the inner region of the black matrix and covered by the black matrix, in order to avoid a decrease in the aperture ratio of the panel. Since the misalignment of the liquid crystal may occur in the portion having the spacer, and light leakage may occur, it is advantageous to cover the peripheral portion having the spacer with the black matrix. Thus, it is good to form smaller than the width | variety of the black matrix BM.

또한, 스페이서(100)는 서로 이웃하는 두 반사 전극(82) 사이의 부분 즉, 기판의 평평한 부분에 위치하도록 형성되는 것이 유리하다. 즉, 스페이서(100)는 도 1에 보인 바와 같이, 게이트선(22)과 데이터선(62)의 교차부에 위치할 수 있지만, 두 반사 전극(82)의 사이에 있는 데이터선(62)을 따라 위치할 수 있다. 이 때, 스페이서(100)와 접촉되는 하부 기판 부분은 그 상면이 평평하게 되도록 하는 것이 유리하다. 예를 들어, 스페이서(100)가 반사 전극(82)의 내부 영역의 일부와 중첩하여 위치할 경우에는 스페이서(100)가 위치하는 기판 부분을 평평하게 만드는 것이 유리하다. 즉, 스페이서(100)와 접촉하는 유기 절연막 패턴(90) 부분은 요철 패턴이 형성되어 있지 않도록 하는 것이 바람직한데, 유기 절연막 패턴(90) 중 스페이서(100)와 접촉하는 부분이 제거되어 있어서 평평하게 되어 있는 것이 좋다. In addition, the spacer 100 may be formed to be positioned at a portion between two adjacent reflective electrodes 82, that is, a flat portion of the substrate. That is, the spacer 100 may be located at the intersection of the gate line 22 and the data line 62, as shown in FIG. 1, but the data line 62 between the two reflective electrodes 82 may be disposed. Can be located accordingly. At this time, it is advantageous that the lower substrate portion in contact with the spacer 100 so that its upper surface is flat. For example, when the spacer 100 is positioned to overlap a part of the inner region of the reflective electrode 82, it is advantageous to flatten the portion of the substrate where the spacer 100 is located. That is, it is preferable that the uneven pattern is not formed in the portion of the organic insulating layer pattern 90 that is in contact with the spacer 100. The portion of the organic insulating layer pattern 90 that is in contact with the spacer 100 is removed and is flat. It is good to be.

이와 같이, 본 발명에 의한 스페이서(100)는 상부 기판에 부착되도록 형성되기 때문에 종래의 스페이서의 유동성으로 인한 갭 불안정성에 대한 문제를 해결할 수 있다. 스페이서(100)는 공통 전극(240) 위에 감광성 유기 물질로 형성될 수 있으며, 그의 크기는 하부 기판에 대응되는 위치를 고려하여 다양하게 설정될 수 있다. As such, since the spacer 100 according to the present invention is formed to be attached to the upper substrate, it may solve the problem of gap instability due to the fluidity of the conventional spacer. The spacer 100 may be formed of a photosensitive organic material on the common electrode 240, and its size may be variously set in consideration of a position corresponding to the lower substrate.

그러면, 이러한 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 도 3a 및 도 7b와 앞서의 도 1 및 도 2를 참조하여 상세하게 설명한다. Next, a method of manufacturing the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 3A and 7B and FIGS. 1 and 2.

우선, 액정 표시 장치의 하부 기판의 제조 방법에 대하여 설명하면 다음과 같다. First, the manufacturing method of the lower board | substrate of a liquid crystal display device is demonstrated as follows.

도 3a 및 도 3b에 도시한 바와 같이, 제1 절연 기판(10) 위에 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 크롬 또는 크롬 합금, 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금 등과 같은 저저항 금속의 도전 물질을 증착하고 사진 식각 공정으로 패터닝하여 게이트 전극(26)을 가지는 게이트선(22) 및 게이트 패드(24)를 포함하는 게이트 배선을 형성한다. 3A and 3B, a conductive material of a low resistance metal such as aluminum or an aluminum alloy, chromium or chromium alloy, molybdenum or molybdenum alloy, or the like is deposited on the first insulating substrate 10 and patterned by a photolithography process. A gate wiring including a gate line 22 having a gate electrode 26 and a gate pad 24 is formed.

다음, 도 4a 및 도 4b에 도시한 바와 같이, 게이트 배선(22, 24, 26)이 형성된 결과의 기판 위에 질화 규소 등으로 이루어진 게이트 절연막(30)을 형성한다. Next, as shown in Figs. 4A and 4B, a gate insulating film 30 made of silicon nitride or the like is formed on the resulting substrate on which the gate wirings 22, 24, and 26 are formed.

이어, 게이트 절연막(30) 위에 비정질 규소 등으로 이루어진 반도체막과 불순물이 도핑된 비정질 규소 등으로 이루어진 불순물이 도핑된 반도체막을 순차적으 로 증착한 후, 두 반도체막을 사진 식각 공정에 의하여 함께 패터닝하여 섬 모양의 저항성 접촉 패턴(52) 및 반도체 패턴(42)을 형성한다. Subsequently, a semiconductor film made of amorphous silicon or the like and a semiconductor film doped with an impurity doped with impurities are sequentially deposited on the gate insulating film 30, and then the two semiconductor films are patterned together by a photolithography process. The ohmic contact pattern 52 and the semiconductor pattern 42 are formed.

다음, 도 5a 및 도 5b에 도시한 바와 같이, 섬 모양의 저항성 접촉 패턴(52) 및 반도체 패턴(42)이 형성된 결과의 기판 위에 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 크롬 또는 크롬 합금, 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금 등과 같은 저저항 금속의 도전 물질을 증착하고 사진 식각 공정으로 패터닝하여 데이터선(62), 소스 전극(65), 드레인 전극(66) 및 데이터 패드(64)를 포함하는 데이터 배선을 형성한다.Next, as shown in FIGS. 5A and 5B, an aluminum or aluminum alloy, chromium or chromium alloy, molybdenum or molybdenum alloy, or the like is formed on the resulting substrate on which the island-shaped resistive contact pattern 52 and the semiconductor pattern 42 are formed. A conductive material of a low resistance metal is deposited and patterned by a photolithography process to form a data line including a data line 62, a source electrode 65, a drain electrode 66, and a data pad 64.

이어, 소스 전극(65) 및 드레인 전극(66)을 마스크로 하여 그 하단에 위치하는 저항성 접촉층 패턴을 식각하여, 소스 전극(65)에 접촉하는 저항성 접촉층(55)과 드레인 전극(65)에 접촉하는 저항성 접촉층(56)으로 분리한다. Subsequently, the ohmic contact layer pattern positioned at the lower end of the source electrode 65 and the drain electrode 66 as a mask is etched to contact the source electrode 65 with the ohmic contact layer 55 and the drain electrode 65. It is separated by an ohmic contact layer 56 which contacts.

다음, 도 6a 및 도 6b에 도시한 바와 같이, 데이터 배선(62, 64, 65, 66)이 형성된 결과의 기판 위에 질화 규소 등으로 이루어진 보호막(70)을 형성한다. 6A and 6B, a protective film 70 made of silicon nitride or the like is formed on the resulting substrate on which the data lines 62, 64, 65, and 66 are formed.

이어, 보호막(70) 및 게이트 절연막(30)을 사진 식각 공정으로 함께 패터닝하여 드레인 전극(66)을 드러내는 제1 접촉 구멍(72), 데이터 패드(64)를 드러내는 제2 접촉 구멍(74) 및 게이트 패드(24)를 드러내는 제3 접촉 구멍(76)을 각각 형성한다. Subsequently, the passivation layer 70 and the gate insulating layer 30 are patterned together by a photolithography process to form a first contact hole 72 exposing the drain electrode 66, a second contact hole 74 exposing the data pad 64, and Each of the third contact holes 76 exposing the gate pad 24 is formed.

다음, 도 7에 도시한 바와 같이, 보호막(70)이 형성된 결과의 기판 위에 감광성 유기 절연막을 도포한 후, 사진 식각 공정에 의하여 유기 절연막을 패터닝하여 드레인 전극(66)을 드러내는 제1 접촉 구멍(72), 게이트 패드(24) 및 데이터 패드(64) 부분을 드러내되, 상부가 요철 형상으로 패터닝되는 유기 절연막 패턴(90) 을 형성한다. 이러한 유기 절연막 패턴(90)을 형성하기 위하여, 유기 절연막에 두 번의 노광 공정을 연속 진행하는데, 한 번의 노광 공정을 통하여 제1 접촉 구멍(72), 게이트 패드(24) 및 데이터 패드(64) 부분을 선택적으로 노광하고, 다른 한 번의 노광 공정을 통하여 유기 절연막의 상부가 요철 형상으로 패터닝되게 하는 통상의 엠보싱(embossing) 노광을 유기 절연막 전체에 진행한다. 이후, 상술한 바와 같이 연속적으로 두 번의 노광 공정을 진행한 유기 절연막을 현상하면, 도 7에 보인 바와 같은 유기 절연막 패턴(90)을 형성할 수 있다. Next, as shown in FIG. 7, after the photosensitive organic insulating film is coated on the resultant substrate on which the protective film 70 is formed, the first contact hole exposing the drain electrode 66 by patterning the organic insulating film by a photolithography process ( 72, the gate pad 24 and the data pad 64 portions are exposed to form an organic insulating layer pattern 90 whose upper portion is patterned into an uneven shape. In order to form the organic insulating layer pattern 90, two exposure processes are continuously performed on the organic insulating layer, and the first contact hole 72, the gate pad 24, and the data pad 64 are formed through one exposure process. Is selectively exposed to light, and another embossing exposure is performed on the entire organic insulating film to cause the upper portion of the organic insulating film to be patterned into an uneven shape through another exposure process. Thereafter, when the organic insulating film, which has been subjected to two exposure processes in succession as described above, is developed, the organic insulating film pattern 90 as shown in FIG. 7 may be formed.

이 때, 이후에 형성되는 스페이서(100)와 접촉되는 부분의 유기 절연막 패턴(90) 부분(A)은 스페이서(100)의 안정적인 위치 확보를 위하여 표면을 평탄하게 되도록 형성하는 것이 바람직하다. 즉, 이 부분(A)을 넓게 정하여 밖으로 돌출되도록 하거나, 안으로 들어가게 하는 방식으로 요철 형상을 형성한다.At this time, the portion A of the organic insulating layer pattern 90 in contact with the spacer 100 to be formed later is preferably formed to have a flat surface to ensure a stable position of the spacer 100. In other words, the concave-convex shape is formed in such a manner that the portion A is made wide and protrudes outwards or enters inwardly.

다음, 도 8a 및 도 8b에 도시한 바와 같이, 유기 절연막 패턴(90)이 형성된 기판 위에 반사율이 우수한 금속 물질 예를 들어, 알루미늄층을 증착한 후, 사진 식각 공정에 의하여 패터닝하여 제1 접촉 구멍(72)을 통하여 드레인 전극(66)에 연결되는 반사 전극(82), 제2 접촉 구멍(74)을 통하여 데이터 패드(64)에 연결되는 보조 데이터 패드(84) 및 제3 접촉 구멍(76)을 통하여 게이트 패드(24)에 연결되는 보조 게이트 패드(86)를 형성한다. 이 때, 반사 전극(82)은 그 하부에 형성된 유기 절연막 패턴(90)의 요철 형상에 의해, 그의 표면이 요철 형상을 가지게 되므로 그 표면 특성상 반사율이 더욱 높아진다. Next, as shown in FIGS. 8A and 8B, a metal material having an excellent reflectance, for example, an aluminum layer is deposited on the substrate on which the organic insulating layer pattern 90 is formed, and then patterned by a photolithography process to form a first contact hole. Reflective electrode 82 connected to drain electrode 66 via 72, auxiliary data pad 84 and third contact hole 76 connected to data pad 64 via second contact hole 74. An auxiliary gate pad 86 connected to the gate pad 24 is formed through the gate pad 24. At this time, the reflective electrode 82 has a concave-convex shape due to the concave-convex shape of the organic insulating film pattern 90 formed at the lower portion thereof, so that the reflectance is further increased due to its surface characteristics.

이렇게 하여 액정 표시 장치의 하부 기판을 제조한다. In this way, a lower substrate of the liquid crystal display device is manufactured.                     

다음, 다시, 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 하부 기판에 대응되는 상부 기판을 통상의 제조 방법에 의하여 제조한다.Next, as shown in FIGS. 1 and 2, the upper substrate corresponding to the lower substrate is manufactured by a conventional manufacturing method.

제2 절연 기판(200) 위에 블랙 매트릭스(210)를 형성하고, 색 필터(220)를 형성하고, 오버 코트막(230)을 형성하고, 공통 전극(240)을 형성한다. The black matrix 210 is formed on the second insulating substrate 200, the color filter 220 is formed, the overcoat layer 230 is formed, and the common electrode 240 is formed.

이어, 공통 전극(240)이 형성된 결과의 기판 위에 감광성 유기 물질을 도포한 후, 사진 식각 공정을 통하여 패터닝하여 스페이서(100)를 형성한다. 이 때, 스페이서(100)는 하부 기판에 안정적으로 접촉할 수 있도록 하부 기판에서의 평평한 부분 예를 들어, 서로 이웃하는 두 반사 전극(82)의 사이에 해당하는 부분에 위치하도록 형성한다. 예를 들어, 하부 기판의 데이터선(62) 혹은 게이트선(22)에 대응되는 부분에 스페이서(100)가 위치하도록 형성할 수 있다.Subsequently, the photosensitive organic material is coated on the resultant substrate on which the common electrode 240 is formed, and then patterned through a photolithography process to form a spacer 100. In this case, the spacer 100 is formed to be positioned on a flat portion of the lower substrate, for example, between the two reflective electrodes 82 adjacent to each other so as to stably contact the lower substrate. For example, the spacer 100 may be formed at a portion corresponding to the data line 62 or the gate line 22 of the lower substrate.

이와 같이, 스페이서(100)와 접촉되는 하부 기판 부분은 그 상면이 평평하게 되도록 하는 것이 유리하다. 또 다른 예로써, 스페이서(100)가 반사 전극(82)의 내부 영역의 일부와 중첩하여 위치할 경우에는 이 부분을 평평하게 만드는 것이 바람직하다. 이를 위하여, 유기 절연막 패턴(90)을 형성하기 위하여 두 번의 연속 노광 중, 제1 접촉 구멍(72), 게이트 패드(24) 및 데이터 패드(64) 부분을 선택적으로 노광하는 작업(도 7참조) 중에 스페이서(100)가 접착하는 부분의 주변에 위치하는 유기 절연막 패턴(90) 부분을 함께 노광하여, 후속 현상 과정에서 이 부분도 함께 제거한다. As such, it is advantageous for the lower substrate portion in contact with the spacer 100 to have its top surface flat. As another example, when the spacer 100 overlaps with a part of the inner region of the reflective electrode 82, it is preferable to make this part flat. For this purpose, selectively exposing portions of the first contact hole 72, the gate pad 24, and the data pad 64 during two consecutive exposures to form the organic insulating layer pattern 90 (see FIG. 7). The portion of the organic insulating layer pattern 90 positioned around the portion to which the spacer 100 adheres is exposed together, and this portion is also removed in the subsequent development process.

이렇게 하여 액정 표시 장치의 상부 기판을 제조한다.In this way, the upper substrate of the liquid crystal display device is manufactured.

이어, 상부 기판과 하부 기판을 합착한 후, 두 기판의 사이에 액정을 주입하 면, 도 2에 보인 바와 같은 구조를 가지는 액정 표시 장치를 제조할 수 있다. Subsequently, after the upper substrate and the lower substrate are bonded together, a liquid crystal is injected between the two substrates, a liquid crystal display having a structure as shown in FIG. 2 may be manufactured.

상술한 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치에서는, 스페이서가 상부 기판에 부착된 구조를 보이고 있으나, 다른 실시예로서, 도 9에 도시한 바와 같이, 스페이서가 하부 기판에 부착되는 구조를 제시할 수 있다. 이 경우, 상부 기판에는 스페이서를 형성할 필요가 없다. In the liquid crystal display according to the first exemplary embodiment of the present invention described above, the spacer is attached to the upper substrate. However, as shown in FIG. 9, the spacer is attached to the lower substrate. Can present In this case, it is not necessary to form a spacer in the upper substrate.

도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 장치에서의 하부 기판만을 도시한 것이다. 9 illustrates only the lower substrate of the liquid crystal display according to the second exemplary embodiment of the present invention.

이 실시예에 따른 액정 표시 장치에서의 하부 기판은 스페이서(100)가 있다는 것을 제외하고는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치에서의 하부 기판과 동일하다. The lower substrate in the liquid crystal display according to this embodiment is the same as the lower substrate in the liquid crystal display according to the first embodiment of the present invention except that there is a spacer 100.

이러한 액정 표시 장치의 하부 기판을 제조하기 위하여, 도 8b에 도시한 바와 같은 유기 절연막 패턴(90)이 형성된 기판 위에 감광성 유기막을 도포한 다음, 스페이서(100)를 정의하는 마스크를 이용하여 감광성 유기막을 선택적으로 노광한 후, 현상하여 스페이서(100)를 형성한다. 이 때, 스페이서(100)는 스페이서의 안정적인 위치 확보를 위하여, 유기 절연막 패턴(90)에서의 평평한 부분(A)에 형성하는 것이 바람직하다. In order to manufacture the lower substrate of the liquid crystal display, a photosensitive organic layer is coated on the substrate on which the organic insulating layer pattern 90 is formed, as shown in FIG. 8B, and then the photosensitive organic layer is formed using a mask defining the spacer 100. After exposure selectively, it develops to form the spacer 100. In this case, the spacer 100 may be formed in the flat portion A of the organic insulating layer pattern 90 in order to secure a stable position of the spacer.

상술한 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 장치에서는, 별도의 감광성 유기막을 사용하여 스페이서를 형성한 구조가 제시되어 있으나, 다른 실시예로서, 도 10에 도시한 바와 같이, 유기 절연막 패턴(90) 형성용 유기 절연 물질로 형성된 스페이서(90)가 있는 구조를 제안할 수 있다. 이 경우, 상부 기판에 스페이서를 형성할 필요가 없다. In the above-described liquid crystal display according to the second embodiment of the present invention, a structure in which a spacer is formed using a separate photosensitive organic film is shown. As another embodiment, as shown in FIG. 10, the organic insulating layer pattern ( 90) A structure having a spacer 90 formed of an organic insulating material for forming may be proposed. In this case, it is not necessary to form a spacer on the upper substrate.

도 10은 본 발명의 제3 실시예에 따른 액정 표시 장치에서의 하부 기판만을 도시한 것이다. FIG. 10 illustrates only the lower substrate of the liquid crystal display according to the third exemplary embodiment of the present invention.

이 실시예에 따른 액정 표시 장치에서의 하부 기판은 보호막(80) 위에 유기 절연막 패턴(90) 형성용 유기 절연 물질로 이루어진 스페이서(92)가 있다는 것을 제외하고는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치에서의 하부 기판과 동일하다. The lower substrate of the liquid crystal display according to the present exemplary embodiment of the present invention has a spacer 92 formed of an organic insulating material for forming the organic insulating layer pattern 90 on the passivation layer 80. It is the same as the lower substrate in the liquid crystal display device.

이러한 액정 표시 장치의 하부 기판을 제조하기 위하여, 도 6b에 도시한 바와 같은 보호막(70) 및 제1 내지 제3 접촉 구멍(72, 74, 76)이 형성된 기판 위에 감광성 유기막을 1.5∼2.0㎛정도의 두께로 두껍게 도포한 후, 상술한 바와 같은 두 번의 연속 노광 공정을 감광성 유기막에 진행한 후, 현상하여 도 10에 도시한 바와 같은 스페이서(92)가 있는 유기 절연막 패턴(90)을 형성한다. 즉, 한 번의 노광 공정을 통하여 제1 접촉 구멍(72), 게이트 패드(24) 및 데이터 패드(64) 부분을 노광하고, 다른 한 번의 노광 공정을 통하여 유기 절연막의 상부가 요철 형상으로 패터닝되게 하는 엠보싱(embossing) 노광을 유기 절연막 전체에 진행한다. 이 때, 요철 형상으로 패터닝되는 유기 절연막 부분은 상부에서 7000∼8000Å의 두께 범위내에서 설정할 수 있다. 이후, 상술한 바와 같이 연속적으로 두 번의 노광 공정을 진행한 유기 절연막을 현상하면, 도 10에 보인 바와 같은 유기 절연막 패턴(90)을 형성할 수 있다. 이 때, 유기 절연막 패턴(90)에서 기판의 제일 높은 부분 즉, 게이트선(22)과 데이터선(62)이 교차하는 부분에 위치하는 돌출 부분이 상부 기판과 접촉되는 스페이서(92)가 된다. In order to manufacture the lower substrate of the liquid crystal display, a photosensitive organic film is formed on the substrate on which the protective film 70 and the first to third contact holes 72, 74, and 76 are formed as shown in FIG. 6B. After the coating was thickly applied, the film was subjected to two successive exposure steps as described above to the photosensitive organic film, and then developed to form an organic insulating film pattern 90 having a spacer 92 as shown in FIG. . That is, the portions of the first contact hole 72, the gate pad 24, and the data pad 64 are exposed through one exposure process, and the upper portion of the organic insulating layer is patterned into an uneven shape through another exposure process. Embossing exposure is carried out over the entire organic insulating film. At this time, the organic insulating film part patterned to the uneven | corrugated shape can be set in the thickness range of 7000-8000 kPa from the upper part. Thereafter, when the organic insulating film, which has been subjected to two exposure processes in succession as described above, is developed, the organic insulating film pattern 90 as shown in FIG. 10 may be formed. At this time, the protruding portion located at the highest portion of the substrate, that is, at the intersection of the gate line 22 and the data line 62, becomes the spacer 92 contacting the upper substrate.

이어, 스페이서(92) 및 유기 절연막 패턴(90)이 형성된 결과의 기판 위에 반사율이 우수한 도전 물질 예를 들어, 알루미늄층을 증착한 후, 사진 식각 공정으로 패터닝하여, 반사 전극(82), 보조 데이터 패드(84) 및 보조 게이트 패드(86)를 형성한다. Subsequently, a conductive material having an excellent reflectance, for example, an aluminum layer is deposited on the resulting substrate on which the spacer 92 and the organic insulating layer pattern 90 are formed, and then patterned by a photolithography process to form the reflective electrode 82 and auxiliary data. Pad 84 and auxiliary gate pad 86 are formed.

상술한 본 발명의 실시예들은 화소 전극으로서 반사 전극을 이용한 반사형 액정 표시 장치에 대한 것이지만, 화소 전극으로서 투명 전극을 이용한 투과형 액정 표시 장치에 대해서도 동일한 원리로 본 발명을 적용할 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 액정 표시 장치에서는, 합착하고 있는 두 기판 중 하나의 기판에 부착되는 스페이서를 형성하되, 스페이서가 부착된 기판과 합착하고 있는 다른 하나의 기판의 평평한 부분에 이 스페이서를 위치하도록 형성함으로써, 스페이서가 안정적으로 위치하도록 한다. Although the above-described embodiments of the present invention relate to a reflective liquid crystal display device using a reflective electrode as a pixel electrode, the present invention can be applied to the transmissive liquid crystal display device using a transparent electrode as a pixel electrode. That is, in the liquid crystal display according to the present invention, a spacer is attached to one of the two substrates to be bonded, but the spacer is positioned on a flat portion of the other substrate to which the spacer is attached. By forming, the spacer can be stably positioned.

본 발명에 따른 액정 표시 장치에서는, 두 기판 사이의 갭을 유지하는 스페이서가 두 기판 중 적어도 하나의 기판 특히, 기판의 평평한 부분에 위치하도록 형성되어 있어서, 스페이서의 위치 안정성을 확보할 수 있고 안정적인 셀 갭을 유지할 수 있다.

In the liquid crystal display device according to the present invention, a spacer for maintaining a gap between two substrates is formed so as to be located on at least one of the two substrates, in particular, a flat portion of the substrate, to ensure the positional stability of the spacer and stable cell The gap can be maintained.

Claims (5)

다수개의 게이트선과 다수개의 데이터선이 교차하여 다수개의 화소 영역이 정의되어 있고, 상기 화소 영역 각각에 형성되는 다수개의 박막 트랜지스터, 상기 화소 영역에 위치하고 상부가 요철 형상으로 패터닝되어 있는 유기 절연막 및 상기 박막 트랜지스터 각각에 연결되어 있는 다수개의 화소 전극을 포함하는 하부 기판; A plurality of pixel regions are defined by intersecting a plurality of gate lines and a plurality of data lines, a plurality of thin film transistors formed in each of the pixel regions, an organic insulating layer positioned in the pixel region and patterned in an uneven shape, and the thin film. A lower substrate including a plurality of pixel electrodes connected to each transistor; 상기 화소 영역에 대응하는 다수개의 색 필터 및 상기 색 필터 위에 형성된 공통 전극을 포함하는 상부 기판; An upper substrate including a plurality of color filters corresponding to the pixel region and a common electrode formed on the color filter; 상기 하부 기판 및 상기 상부 기판 중 하나의 기판에 부착되되, 나머지 다른 하나의 기판의 평평한 부분에 위치하는 스페이서A spacer attached to one of the lower substrate and the upper substrate, the spacer being positioned on a flat portion of the other substrate 를 포함하며,Including; 상기 유기 절연막은 스페이서가 위치할 부분에서 평평한 상면을 갖는 액정 표시 장치.And the organic insulating layer has a flat upper surface at a portion where a spacer is to be positioned. 제1항에서, In claim 1, 상기 하부 기판은, The lower substrate, 절연 기판 위에 형성되는 상기 게이트선 및 게이트 전극을 포함하는 게이트 배선; A gate wiring including the gate line and the gate electrode formed on an insulating substrate; 상기 게이트선을 덮는 게이트 절연막; A gate insulating film covering the gate line; 상기 게이트 전극 상부의 상기 게이트 절연막 위에 형성되는 반도체 패턴; A semiconductor pattern formed on the gate insulating layer on the gate electrode; 상기 게이트 절연막 위에 상기 게이트선에 교차하도록 형성되는 데이터선;A data line formed on the gate insulating layer to intersect the gate line; 상기 데이터선에 연장되어 상기 반도체 패턴에 전기적으로 연결되는 소스 전극, 상기 소스 전극에 대응하여 상기 반도체 패턴에 전기적으로 연결되는 드레인 전극을 포함하는 데이터 배선; A data line extending from the data line and including a source electrode electrically connected to the semiconductor pattern, and a drain electrode electrically connected to the semiconductor pattern corresponding to the source electrode; 상기 드레인 전극을 제외한 상기 데이터 배선 및 상기 반도체 패턴을 덮는 보호막; A passivation layer covering the data line and the semiconductor pattern except for the drain electrode; 상기 드레인 전극에 연결되어 상기 화소 영역에 형성되어 있고, 상기 유기 절연막 패턴의 요철 형상에 의해 표면이 요철 형상을 가지는 반사 전극을 포함하는 액정 표시 장치. And a reflective electrode connected to the drain electrode and formed in the pixel area, the reflective electrode having a concave-convex shape by a concave-convex shape of the organic insulating layer pattern. 제1항에서, In claim 1, 상기 스페이서는 상기 상부 기판의 공통 전극 위에 형성되고, The spacer is formed on the common electrode of the upper substrate, 상기 색 필터의 하부에는 상기 화소 영역을 드러내되, 상기 스페이서를 가리는 블랙 매트릭스가 상기 색 필터의 하부에 형성되는 액정 표시 장치.And a black matrix that exposes the pixel area under the color filter and covers the spacers, and is formed under the color filter. 삭제delete 제2항에서, In claim 2, 상기 스페이서는 상기 하부 기판의 보호막 위에 별도의 감광성 유기 절연 물질로 형성되는 액정 표시 장치. The spacer is formed of a separate photosensitive organic insulating material on the passivation layer of the lower substrate.
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