KR100785595B1 - Mask to record holographic data, manufacturing method thereof and holographic data recording method - Google Patents

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Abstract

본 발명은 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 및 그 제조방법 그리고 홀로그래픽 데이터 기록방법에 관한 것으로, 본 발명에 다른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크는 일측면으로 제 1광이 입사되고, 타측면으로 제 2광이 입사되는 투명기판, 투명기판의 일측면에 소정 패턴이 형성되며 광을 흡수하여 진행을 차단하는 광 차단막이 형성된 것으로, 이러한 본 발명에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 및 그 제조방법 그리고 홀로그래픽 데이터 기록방법은 기준광이 기판을 통과하여 마스크의 소정 패턴에서 일부가 반사될 때 반사된 기준광이 다시 기판으로 입사되어 기판에 원하지 않는 간섭무늬가 발생하는 것을 방지하여 홀로그래픽 데이터 저장매체에서의 동적범위(dynamic range)를 최대한 안정적으로 확보할 수 있도록 하여 데이터 기록효율을 보다 향상시킬 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to a mask for recording holographic data, a method for manufacturing the same, and a method for recording holographic data. According to another aspect of the present invention, a mask for recording holographic data includes a first light incident on one side and a second light on the other side. The incident transparent substrate, a predetermined pattern is formed on one side of the transparent substrate to form a light blocking film for absorbing light to block the progress, the holographic data recording mask according to the present invention and the manufacturing method and holographic data In the recording method, when the reference light passes through the substrate and a part of the predetermined pattern of the mask is reflected, the reflected reference light is incident on the substrate again to prevent unwanted interference fringes from occurring on the substrate. Data recording efficiency can be secured by ensuring stable dynamic range. There is to improve effectiveness.

Description

홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 및 그 제조방법, 홀로그래픽 데이터 기록방법{Mask to record holographic data, manufacturing method thereof and holographic data recording method}Mask for holographic data recording and manufacturing method thereof, holographic data recording method {Mask to record holographic data, manufacturing method etc. and holographic data recording method}

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a mask for recording holographic data according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크의 제조방법을 도시한 순서도이다.2 is a flowchart showing a method of manufacturing a mask for recording holographic data according to an embodiment of the present invention.

도 3a, b, c, d, e, f, g 는 본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 자장용 마스크의 제조방법을 순차적으로 도시한 공정도이다.3A, b, c, d, e, f and g are process diagrams sequentially illustrating a method of manufacturing a holographic data magnetic field mask according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크를 이용한 데이터 기록방법에 대한 순서도이다.4 is a flowchart illustrating a data recording method using a mask for recording holographic data according to an embodiment of the present invention.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

100...기판100 ... substrate

200...차단막200 ... Block

230...패턴230 ... pattern

300...저장매체 300 ... storage media

본 발명은 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 및 그 제조방법 그리고 홀로그래픽 데이터 기록방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 홀로그래픽 데이터를 저장매체에 기록하기 위하여 사용되는 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 및 그 제조방법 그리고 홀로그래픽 데이터 기록방법에 관한 것이다.The present invention relates to a mask for recording holographic data, a method for manufacturing the same, and a method for recording holographic data, and more particularly, to a mask for recording holographic data used for recording holographic data on a storage medium, and a method for manufacturing the same. A holographic data recording method.

근래에 널리 사용되는 데이터 기록장치는 다양한 것이 있다. 대표적인 데이터 기록장치로는 반도체 메모리, CD, HD-DVD, 블루레이 등이 있다. 그리고 더욱 진화한 데이터 기록장치로 홀로그래픽 데이터 기록장치가 있다.There are various data recording apparatuses which are widely used in recent years. Typical data recording apparatuses include semiconductor memory, CD, HD-DVD, and Blu-ray. A more advanced data recorder is the holographic data recorder.

DVD(digital versatile disc)는 현재 계속해서 진화하고 있지만, 50GB(giga byte) 수준에서 기록용량의 한계에 이를 것으로 예상된다. 그러나 홀로그래픽 데이터 기록장치는 1TB(terabyte) 까지 가능할 것으로 판단되며 집적도 또한 DVD에 비하여 10배 정도 높을 것으로 예상되고 있다.Digital versatile discs (DVDs) are still evolving, but they are expected to reach the limit of recording capacity at 50 gigabytes (giga byte). However, holographic data recording devices are expected to be capable of 1TB (terabyte), and the degree of integration is expected to be about 10 times higher than that of DVD.

홀로그래픽 데이터 기록장치의 데이터 기록방식은 기존의 일반적인 기록방식과 상이하다. 홀로그래픽 데이터 기록장치는 데이터를 기록하기 위해 특정 좌표별로 밝기정보를 한 점(Bit)씩 일일이 기록하는 DVD의 방식과 달리 평면의 전체 정보를 푸리에(Fourier) 변환 방식 등을 이용하여 한 점에 간섭무늬(interference fringe)로 기록하는 페이지 지향적인 메모리(Page-Oriented Memory)방식을 사용한다. 또한 홀로그래픽 데이터 기록기술은 페이지 단위로 데이터를 기록하고, 입출력 방식도 병렬방식을 사용하는 기술로 전송속도에 있어서 현재의 DVD보다 150배 빠른 속도를 지원할 수 있다.The data recording method of the holographic data recording apparatus is different from the conventional general recording method. The holographic data recording device interferes with one point by using Fourier transform method for the entire information of the plane unlike the DVD method that records brightness information one by one for each specific coordinate to record data. Page-Oriented Memory is used to record the interference fringe. In addition, the holographic data recording technology records data in units of pages, and the input / output method also uses a parallel method and can support a speed 150 times faster than a current DVD in transmission speed.

한편, 홀로그래픽 데이터 기록장치는 기준광과 신호광을 조사하여 데이터를 기록한다. 현재까지 개발되고 있는 홀로그래픽 데이터 기록장치들 중에는 기존의 CD, DVD와 같이 디스크 형태로 개발된 것이 있다. 일본의 옵트웨어(optware)사에서 개발하여 공개한 홀로그래픽 데이터 기록장치는 CD나 DVD와 지름이 동일한 12cm 직경의 디스크 형태로 되어 있다.On the other hand, the holographic data recording apparatus irradiates the reference light and the signal light to record data. Some of the holographic data recording devices that have been developed so far have been developed in the form of discs, such as CDs and DVDs. The holographic data recorder, developed and released by Japan's optware company, is in the form of a 12 cm diameter disc with the same diameter as a CD or DVD.

이러한 디스크 형태의 홀로그래픽 데이터 기록장치는 WORM(Write Once Read Many) 방식이나, RW(read/write memory)이 주로 개발되어 왔다. 근래에는 보다 빠른 복재기술을 이용한 ROM(read only memory) 방식의 홀로그래픽 데이터 기록장치에 대한 기술이 공개되고 있다. ROM 방식의 홀로그래픽 데이터 기록장치는 디스크의 대량 복재에 효과적이다. Such disk-type holographic data recording apparatus has been mainly developed by write once read many (WORM) method, but read / write memory (RW) has been mainly developed. Recently, a technology for a holographic data recording device using a read only memory (ROM) method using a faster copying technology has been disclosed. The ROM type holographic data recording apparatus is effective for mass duplication of discs.

이러한 홀로그래픽 데이터 기록장치에 대한 선행한 기술로 한국공개특허 "10-2005-0100168, 홀로그래픽 정보 기록 및 재생장치 및 홀로그래픽 정보기록 방법"이 있다. 상기 공개특허는 홀로그래픽 데이터 저장매체의 대량 복재를 위하여 데이터 패턴인 소정 패턴이 패터닝(patterning) 된 마스크(mask)를 사용하여 한번에 2차원 데이터를 디스크 전체에 입사하여 기록한다. 그리고 기준광은 디스크의 하부에 위치한 코니컬 미러(conical mirror)를 사용하여 기준광을 다양한 각도로 다중화 시킨다. 이때 사용되는 디스크는 투명한 재질이다. 그리고 데이터의 기록은 마스크를 통과한 신호광과 기판으로 입사되는 기준광에 의하여 이루어진다.As a prior art for such a holographic data recording apparatus, there is a Korean Patent Application Publication No. 10-2005-0100168, Holographic Information Recording and Reproducing Device and Holographic Information Recording Method. The patent discloses two-dimensional data incident on the entire disc at one time by using a mask patterned with a predetermined pattern, which is a data pattern, for mass reproduction of the holographic data storage medium. The reference light multiplexes the reference light at various angles using a conical mirror located at the bottom of the disk. The disk used is a transparent material. The data is recorded by the signal light passing through the mask and the reference light incident on the substrate.

그런데 기준광은 기판을 통과하여 마스크의 차단막(Blocking layer)에서 일부가 반사된다. 그리고 반사된 기준광은 다시 기판으로 입사되고, 동시에 마스크를 통과한 신호광 또한 기판에 입사된다. 이에 따라 기판에는 원하지 않는 간섭무늬가 발생하여 디스크의 동적범위(DR: dynamic range)를 잠식하게 되는 문제점이 발생한다.However, the reference light passes through the substrate and a portion of the reference light is reflected by the blocking layer of the mask. The reflected reference light is incident on the substrate again, and at the same time, the signal light passing through the mask is also incident on the substrate. As a result, unwanted interference fringes may be generated on the substrate, thereby causing the dynamic range (DR) of the disk to be eroded.

본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 광이 입사되었을 때 광이 마스크의 차단막으로부터 반사되는 것을 방지하도록 한 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 및 그 제조방법 그리고 홀로그래픽 데이터 기록방법을 제공하기 위한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a mask for manufacturing holographic data and a method for manufacturing the holographic data and a method for preventing the light from being reflected from the blocking film of the mask when light is incident. It is to provide.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크는 일측면과 타측면으로 각각 다른 광이 입사되는 투명기판; 상기 투명기판의 일측면에 소정 패턴이 패터닝되어 형성되며 상기 소정 패턴 외의 영역으로 진행한 상기 광을 흡수하여 진행을 차단하는 광 차단막을 구비한다.Mask for holographic data recording according to the present invention for achieving the above object is a transparent substrate to which different light is incident on one side and the other side; A light blocking film is formed on one side of the transparent substrate and is patterned to absorb the light that has traveled to a region other than the predetermined pattern to block the progress of the light.

상기 광 차단막은 2mm - 10mm 의 두께로 형성되며, 광색성 물질(photochromic material)을 포함할 수 있다.The light blocking layer is formed to a thickness of 2mm-10mm, and may include a photochromic material.

상기 광 차단막은 금속층과, 상기 금속층 상에 형성되며 상기 투명기판을 통과한 상기 광을 흡수하는 광색성 물질(photochromic material)을 가진 광 흡수층을 포함할 수 있다.The light blocking layer may include a light absorbing layer having a metal layer and a photochromic material formed on the metal layer and absorbing the light passing through the transparent substrate.

상기 광색성 물질은 염화은(AgCl; silver chloride)일 수 있고, 상기 광 차단막은 구리를 포함할 수 있다.The photochromic material may be silver chloride (AgCl), and the light blocking layer may include copper.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 제조방법은 투명기판의 일면에 광을 흡수하여 진행을 차단하는 광 차단막을 형성하는 단계, 상기 광 차단막 상에 소정 패턴의 노광을 위한 감광마스크를 형성하는 단계, 상기 광 차단막에 상기 소정 패턴을 형성하는 단계, 상기 감광마스크를 제거하는 단계를 구비한다.In accordance with another aspect of the present invention, there is provided a mask manufacturing method for recording holographic data, the method including: forming a light blocking film that absorbs light on one surface of a transparent substrate to block its progress, and exposes a predetermined pattern on the light blocking film. Forming a photoresist mask, forming the predetermined pattern on the light blocking film, and removing the photomask.

상기 광 차단막은 금속층과, 상기 금속층 상에 형성되며 상기 투명기판을 통과한 상기 광을 흡수하는 광 흡수층을 포함할 수 있다.The light blocking layer may include a metal layer and a light absorbing layer formed on the metal layer and absorbing the light passing through the transparent substrate.

상기 광 흡수층은 광색성 물질(photochromic material)로 형성되고, 상기 금속층과 상기 광 흡수층은 증착 형성될 수 있고, 상기 광색성 물질은 염화은(AgCl; silver chloride) 을 포함할 수 있다. The light absorbing layer may be formed of a photochromic material, the metal layer and the light absorbing layer may be deposited, and the photochromic material may include silver chloride (AgCl).

상기 광 흡수층은 규소계 물질과, 염화은이 함유된 타겟을 사용한 스퍼터링으로 형성될 수 있다. The light absorbing layer may be formed by sputtering using a silicon-based material and a target containing silver chloride.

상기 광 차단막에 상기 소정 패턴을 형성하는 단계는 건식 식각으로 이루어질 수 있다.The forming of the predetermined pattern on the light blocking layer may be performed by dry etching.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 홀로그래픽 데이터 기록방법은 홀로그래픽 데이터 저장매체의 일측에 소정 패턴이 형성된 마스크를 위치시키는 단계, 상기 마스크 측으로 제 1광을 입사하여 상기 소정 패턴을 통과한 상기 제 1광이 상기 홀로그래픽 데이터 저장매체에 입사되도록 하는 단계, 상기 홀로그래픽 데이터 저장매체의 타측에 상기 홀로그래픽 데이터 저장매체로 입사되어 상기 제 1광과의 간섭으로 상기 소정 패턴의 간섭무늬가 상기 홀로그래픽 데이터 저장매체에 형성되도록 하고, 상기 홀로그래픽 데이터 저장매체를 통과한 상기 제 2광이 상기 마스크에 흡수되도록 하는 단계를 구비한다.In the holographic data recording method according to the present invention for achieving the above object is a step of positioning a mask having a predetermined pattern formed on one side of the holographic data storage medium, the first light is incident to the mask side passing through the predetermined pattern The first light is incident on the holographic data storage medium, and the interference pattern of the predetermined pattern is incident on the other side of the holographic data storage medium to enter into the holographic data storage medium and interferes with the first light. And being formed on the holographic data storage medium and allowing the second light passing through the holographic data storage medium to be absorbed by the mask.

상기 마스크는 상기 제 1광을 흡수하는 광색성 물질(photochromic material)을 포함할 수 있고, 상기 광색성 물질은 염화은(AgCl; silver chloride) 일 수 있다.The mask may include a photochromic material that absorbs the first light, and the photochromic material may be silver chloride (AgCl).

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 다른 홀로그래픽 데이터 기록방법은 홀로그래픽 데이터 저장매체의 일측에 소정 패턴이 형성된 마스크를 위치시키는 단계, 상기 마스크 측으로 제 1광을 입사하여 상기 패턴을 통과한 상기 제 1광이 상기 홀로그래픽 데이터 저장매체에 입사되도록 하는 단계, 상기 홀로그래픽 데이터 저장매체의 타측에 상기 홀로그래픽 데이터 저장매체로 입사되어 상기 제 1광과의 간섭으로 상기 소정 패턴의 간섭무늬가 상기 홀로그래픽 데이터 저장매체에 형성되도록 하고, 상기 홀로그래픽 데이터 저장매체를 통과한 상기 제 2광이 상기 마스크에 흡수되도록 하는 단계를 구비한다.In accordance with another aspect of the present invention, there is provided a method of recording a holographic data in which a mask having a predetermined pattern is formed on one side of a holographic data storage medium, and the first light incident to the mask passes through the pattern. Allowing the first light to be incident on the holographic data storage medium, and entering the holographic data storage medium on the other side of the holographic data storage medium so that the interference pattern of the predetermined pattern is caused by the interference with the first light. And being formed on the holographic data storage medium and allowing the second light passing through the holographic data storage medium to be absorbed by the mask.

상기 마스크는 상기 제 1광을 흡수하는 광색성 물질(photochromic material)을 포함할 수 있다. 상기 광색성 물질은 염화은(AgCl; silver chloride)일 수 있다.The mask may include a photochromic material that absorbs the first light. The photochromic material may be silver chloride (AgCl).

이하에서는 전술한 바와 같이 구성된 본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 및 그 제조방법 그리고 이를 이용한 홀로그래픽 데이터 기록방법에 대하여 설명한다. 그리고 이하의 실시예의 설명에서 각각의 구성요소의 명칭은 당업계에서 다른 명칭으로 호칭 수 있다. 그러나 이들의 기능적 유사성 및 동일성이 있다면 변형된 실시예를 채용하더라도 균등한 구성으로 불 수 있다. 또한 각각의 구성요소에 부가된 부호는 설명의 편의를 위하여 기재된다. 그러나 이들 부호가 기재된 도면상의 도시 내용이 각각의 구성요소를 도면내의 범위로 한정하지는 않는다. 마찬가지로 도면상의 구성을 일부 변형한 실시예가 채용되더라도 기능적 유사성 및 동일성이 있다면 균등한 구성으로 볼 수 있다.Hereinafter, a holographic data recording mask according to an embodiment of the present invention configured as described above, a manufacturing method thereof, and a holographic data recording method using the same will be described. And the names of each component in the description of the following embodiments may be called other names in the art. However, if the functional similarity and identity thereof, even if the modified embodiment can be adopted may be equivalent configuration. In addition, the symbols added to each component is described for convenience of description. However, the contents shown in the drawings in which these symbols are described do not limit each component to the ranges in the drawings. Similarly, even if an embodiment in which the configuration on the drawings is partially modified is employed, it can be regarded as an equivalent configuration if there is functional similarity and identity.

본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크는 홀로그래픽 데이터가 기록되는 저장매체를 대량으로 복제하기 위하여 사용할 수 있다. 즉 하나의 마스크를 사용하여 2차원적 평면 데이터를 기록하고, 다시 다른 마스크로 교체한 후 기준광의 입사각도를 바꾸어 다른 위치에 2차원적 평면 데이터 전체를 기록할 수 있다. 이하의 실시예에서는 이때 사용되는 마스크 그리고 마스크 제조방법 및 홀로그래픽 데이터 기록방법에 대한 실시예들을 순차적으로 설명한다.The mask for recording holographic data according to an embodiment of the present invention can be used for mass copying of a storage medium on which holographic data is recorded. That is, the two-dimensional plane data can be recorded using one mask, and then replaced with another mask, and then the entire two-dimensional plane data can be recorded at different positions by changing the incident angle of the reference light. In the following embodiments, embodiments of the mask and mask manufacturing method and holographic data recording method used at this time will be described in sequence.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크를 도시한 단면도이다. 본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크는 도 1에 도시된 바와 같이 투명기판(100)을 구비한다. 투명기판(100)은 석영(quartz)으로 제작될 수 있다. 투명기판(100)의 표면에는 노광시 광의 투영을 위한 패턴(230)이 패터닝 된 광 차단막(beam blocking film; 200)이 형성된다. 광 차단막(200)이 형 성되는 투명기판(100)의 표면은 홀로그래픽 데이터 기록시에 데이터 저장매체(300)를 향하는 면이다.1 is a cross-sectional view showing a mask for recording holographic data according to an embodiment of the present invention. The mask for recording holographic data according to the embodiment of the present invention includes a transparent substrate 100 as shown in FIG. The transparent substrate 100 may be made of quartz. On the surface of the transparent substrate 100, a beam blocking film 200 patterned with a pattern 230 for projecting light upon exposure is formed. The surface of the transparent substrate 100 on which the light blocking film 200 is formed is a surface facing the data storage medium 300 at the time of holographic data recording.

광 차단막(200)은 광을 흡수하여 진행을 차단한다. 이 광 차단막(200)은 전체가 광 흡수체인 광색성 물질(photochromic material)로 형성될 수 있다. 광 차단막(200)이 단일 광색성 물질로 형성될 경우에는 광 흡수효율이 높을수록 바람직하다. 그리고 광색성 물질의 두께는 2mm - 10mm 일 수 있다. The light blocking film 200 absorbs light to block its progress. The light blocking film 200 may be formed of a photochromic material, which is a light absorber as a whole. When the light blocking film 200 is formed of a single photochromic material, the higher the light absorption efficiency, the better. And the thickness of the photochromic material may be 2mm-10mm.

광 차단막(200)은 두 개의 서로 다른 층으로 될 수 있다. 두 층으로 된 광 차단막(200)은 금속층(metal layer ; 210), 금속층(210) 상에 형성되며 투명기판(100)을 통과한 광을 흡수하는 광 흡수층(beam absorption layer; 220)으로 구성될 수 있다. 이 경우 금속층(210)은 크롬계 물질(Chromic material)로 형성될 수 있고, 광 흡수층(220)은 규소계 기판(silicide substrate)에 광색성 물질(photochromic material)이 첨가되어 구성 될 수 있다. 그리고 광 흡수층(220)의 두께는 광색성 물질만으로 광 차단막(200)이 형성되었을 경우보다 얇을 수 있다.The light blocking film 200 may be formed of two different layers. The two-layer light blocking film 200 may be formed of a metal layer 210 and a light absorption layer 220 formed on the metal layer 210 and absorbing light passing through the transparent substrate 100. Can be. In this case, the metal layer 210 may be formed of a chromium material, and the light absorbing layer 220 may be formed by adding a photochromic material to a silicon substrate. In addition, the thickness of the light absorbing layer 220 may be thinner than when the light blocking layer 200 is formed of only a photochromic material.

광색성 물질은 염화은(AgCl; silver chloride)일 수 있고, 그 외의 광 흡수체를 사용할 수 있다. 염화은의 가역적인 반응(reversible reaction)이 이루어지므로 반복 재사용이 가능하다. 염화은의 가역반응은 아래의 화학식 1과 화학식 2와 같다.The photochromic material may be silver chloride (AgCl) and other light absorbers may be used. Reversible reaction of silver chloride takes place, allowing for repeated reuse. The reversible reaction of silver chloride is shown in the following formula (1) and (2).

Figure 112005075155079-pat00001
Figure 112005075155079-pat00001

Figure 112005075155079-pat00002
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화학식 1은 정반응을 나타내고, 화학식 2는 역반응을 나타낸다. 정반응은 역반응에 비하여 반응속도가 더 빠르다. 정반응이 일어나면 은이온은 빛을 흡수하여 암화현상(darken state)을 일으킨다. 한 예로써 광 흡수층(220)에 0.01%의 은을 첨가한 경우 2mm 두께의 시편(specimen)에서 광을 대략 80%까지 흡수한다.Formula 1 represents the forward reaction, and Formula 2 represents the reverse reaction. The forward reaction is faster than the reverse reaction. When positive reactions occur, silver ions absorb light and cause darken states. As an example, when 0.01% of silver is added to the light absorbing layer 220, the light absorbs up to approximately 80% in a 2 mm-thick specimen.

광 흡수층(220)의 두께와 은의 함유 농도는 다양하게 적용될 수 있다. 광 흡수층(220)의 두께는 람베르트 법칙(lamvert's law, 수학식 1)과 비어-람베르트 법칙(Beer-Lambert's law, 수학식 2)에 의하여 구해질 수 있다.The thickness of the light absorbing layer 220 and the concentration of silver may be variously applied. The thickness of the light absorbing layer 220 may be determined by Lambert's law (Equation 1) and Beer-Lambert's law (Equation 2).

Figure 112005075155079-pat00003
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수학식 1에서 T는 투과율, I는 투과광의 세기(intensity), Io는 입사광의 세기, β는 광이 통과하는 길이당 흡수계수(absorption coefficient)를 나타내고, χ는 광이 통과하는 거리를 나타낸다.In Equation 1, T denotes transmittance, I denotes intensity of transmitted light, Io denotes intensity of incident light, β denotes an absorption coefficient per length through which light passes, and χ denotes a distance through which light passes.

Figure 112005075155079-pat00004
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그리고 수학식 2에서 c는 흡수단의 농도를 나타내고, ε는 소멸계수(단위농도당 흡수량)를 나타낸다. 즉 은의 첨가 농도에 따라 광 흡수층(220)의 두께는 조절이 가능하다. 따라서 광 흡수층(220)은 수 mm 두께의 박막으로 제조가 가능함을 알 수 있다. 즉 0.1%의 은을 첨가하는 경우 필요한 광 흡수층(220)의 두께는 0.2mm 정도가 될 수 있다. 그리고 소량의 구리를 첨가하면 반응을 더욱 촉진시킬 수 있다.In Equation 2, c represents the concentration of the absorption stage, ε represents the extinction coefficient (absorption amount per unit concentration). That is, the thickness of the light absorbing layer 220 can be adjusted according to the addition concentration of silver. Therefore, it can be seen that the light absorbing layer 220 can be manufactured as a thin film having a thickness of several mm. That is, when 0.1% of silver is added, the thickness of the light absorbing layer 220 required may be about 0.2 mm. And the addition of a small amount of copper can further promote the reaction.

이하에서는 전술한 바와 같이 구성된 본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크의 제조방법에 대한 실시예를 설명하기로 한다.Hereinafter, an embodiment of a manufacturing method of a mask for recording holographic data according to an embodiment of the present invention configured as described above will be described.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크의 제조방법을 도시한 순서도이고, 도 3a, b, c, d, e, f, g 는 본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 자장용 마스크의 제조방법을 순차적으로 도시한 공정도이다. 이하의 설명에서는 도 2를 참고하고, 도 3의 공정도에 따라 설명하기로 한다.2 is a flowchart illustrating a manufacturing method of a mask for recording holographic data according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 3A, b, c, d, e, f, and g are holographic data according to an embodiment of the present invention. It is a process chart which shows the manufacturing method of a magnetic mask sequentially. In the following description, reference will be made to FIG. 2 and will be described according to the process diagram of FIG. 3.

도 3a에 도시된 바와 같이 석영으로 된 투명기판(100)을 준비한다. 투명기판(100)은 세정공정(cleaning process)을 거쳐서 세정된다. 세정 전에 CMP(chemical mechanical polishing)와 같은 폴리싱 공정(polishing process)을 거쳐서 표면 연마를 수행한 후 세정이 이루어질 수 있다.As shown in FIG. 3A, a transparent substrate 100 made of quartz is prepared. The transparent substrate 100 is cleaned through a cleaning process. The cleaning may be performed after performing surface polishing through a polishing process such as chemical mechanical polishing (CMP) before cleaning.

도 3b에 도시된 바와 같이 세정된 투명기판(100) 상에 광 차단막(200)이 형성된다. 광 차단막(200)은 단일층인 경우에는 광분해성 물질을 첨가한 크롬 타겟을 사용할 수 있다. 두 층인 경우에는 먼저 크롬과 같은 광 차단용 금속층(210)을 증착하고, 금속층(210) 상에 광 흡수층(220)을 형성한다(S100). 도 3b는 두 층으로 형성한 것을 도시한 도면이다.As shown in FIG. 3B, the light blocking layer 200 is formed on the cleaned transparent substrate 100. In the case of a single layer, the light blocking layer 200 may use a chromium target added with a photodegradable material. In the case of two layers, first, a light blocking metal layer 210 such as chromium is deposited, and a light absorbing layer 220 is formed on the metal layer 210 (S100). 3B is a view showing two layers formed.

단일층의 형성은 광의 차단이 가능한 불투과성 재질에 광 흡수성 물질을 첨가하여 형성할 수 있다. 그리고 두 층으로 형성하는 경우에는 광 차단을 위하여 먼저 금속층(210)의 증착을 수행한다. 금속층(210)의 증착은 이미 언급한 바와 같이 크롬 타겟을 이용한 스퍼터링(sputtering) 또는 화학기상증착(CVD: Chemical Vapor Deposition) 등의 방법으로 진행할 수 있다. The single layer may be formed by adding a light absorbing material to an impermeable material capable of blocking light. In the case of forming two layers, first, the metal layer 210 is deposited to block light. As described above, the deposition of the metal layer 210 may be performed by a method such as sputtering using a chromium target or chemical vapor deposition (CVD).

광 흡수층(220)은 스퍼터링으로 실시할 수 있다. 이때 광 흡수층(220)의 형성을 위한 스퍼터링 타겟은 규소계(silicide)를 사용하며, 규소계 타겟 내부에 은이 소정 농도로 함유된다. 은은 타겟에 0.1% 이상 1% 내외로 포함될 수 있고, 염소가 함께 함유될 수 있다. 또는 은과 염소의 화합물인 염화은이 화합상태로 함유될 수 있다. 또는 염소를 스퍼터링 공정 챔버 내부에 반응가스로 공급할 수 있다.The light absorbing layer 220 can be performed by sputtering. At this time, the sputtering target for forming the light absorbing layer 220 uses a silicon-based (silicide), the silver is contained in a predetermined concentration inside the silicon-based target. Silver may be included in the target of about 0.1% or more and about 1%, and may contain chlorine together. Alternatively, silver chloride, a compound of silver and chlorine, may be contained in a compound state. Alternatively, chlorine may be supplied as a reaction gas into the sputtering process chamber.

도 3c에 도시된 바와 같이 차단막(200)이 형성되면 차단막(200) 상에 프라이머(primer; 미도시)를 도포할 수 있다. 그리고 프라이머 상으로 포토리소그라피(photolithography) 공정이 수행되어 포토레지스트(400)가 도포된다. 포토레지스트(400)는 스핀코터(spin coater)를 사용할 수 있다(S110). When the blocking film 200 is formed as illustrated in FIG. 3C, a primer (not shown) may be applied onto the blocking film 200. Then, a photolithography process is performed on the primer to apply the photoresist 400. The photoresist 400 may use a spin coater (S110).

포토리소그라피 공정에서 포토레지스트(400)가 도포되면 도 3d에 도시된 바와 같이 포토레지스트(400)에 소정 형상의 포토레지스트 패턴(410)을 노광장치(exposure apparatus)를 이용하여 노광한다. 이때 패턴 노광을 위하여 별도의 노광 마스크(M: Exposure mask)가 사용될 수 있다.When the photoresist 400 is applied in the photolithography process, as shown in FIG. 3D, the photoresist pattern 410 having a predetermined shape is exposed to the photoresist 400 using an exposure apparatus. In this case, a separate exposure mask (M) may be used for pattern exposure.

이후 도 3e에 도시된 바와 같이 현상공정(development)을 수행함으로써 포토 레지스트 마스크(400)가 완성된다. Thereafter, as shown in FIG. 3E, the photoresist mask 400 is completed by performing a development process.

도 3f에 도시된 바와 같이 포토레지스트 마스크(400)가 완성되면 식각공정을 거쳐 차단막(200)에 대한 패턴 식각이 이루어진다. 패턴 식각은 이온 밀러(Ion Miller) 또는 반응이온식각(RIE: Reactive ion etch), 자기장 보강 반응이온식각(MIRIE: magnetically enhanced RIE) 등의 방법으로 수행할 수 있다. 식각은 금속층(210)과 광 흡수층(220)을 함께 식각하거나 또는 별도로 식각할 수 있다(S120). As shown in FIG. 3F, when the photoresist mask 400 is completed, pattern etching is performed on the blocking layer 200 through an etching process. The pattern etching may be performed by a method such as ion miller or reactive ion etching (RIE), magnetically enhanced RIE (MIRIE), or the like. Etching may be performed by etching the metal layer 210 and the light absorbing layer 220 together or separately (S120).

금속층(210)과 광 흡수층(220)이 함께 식각하는 경우는 이온 충돌 식각(ion bombardment etching) 또는 스퍼터링 식각(sputtering etching) 등과 같은 물리적인 강제 식각으로 진행할 수 있고, 별도로 진행할 경우에는 금속층(210)과 광 흡수층(220)을 모두 반응성 이온 식각(reactive ion etch)으로 진행할 수 있고, 또는 금속층(210)을 반응성 이온 식각으로 진행하고, 광 흡수층(220)을 물리적 강제 식각 또는 반응성 이온 식각 중에서 선택하여 진행할 수 있다. 이러한 공정은 공정효율에 따라 선택적으로 채택될 수 있다.When the metal layer 210 and the light absorbing layer 220 are etched together, the metal layer 210 and the light absorbing layer 220 may be subjected to physical forced etching such as ion bombardment etching or sputtering etching. And the light absorbing layer 220 may both proceed with reactive ion etching, or the metal layer 210 may proceed with reactive ion etching, and the light absorbing layer 220 may be selected from physical forced etching or reactive ion etching. You can proceed. This process can be selectively adopted depending on the process efficiency.

다음으로 도 3g에 도시된 바와 같이 패턴(230)에 대한 식각이 완성되면 포토레지스트 마스크(400)를 제거한다(S130). 포토레지스트 마스크(400)의 제거는 포토레지스트 스트리퍼(PR striper), 옥시겐 플라즈마(oxygen plasma) 등을 이용하여 제거할 수 있다. 그리고 마지막으로 세정공정을 수행함으로써 본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크의 제조가 완료된다.Next, as shown in FIG. 3G, when the etching of the pattern 230 is completed, the photoresist mask 400 is removed (S130). The photoresist mask 400 may be removed using a photoresist stripper, an oxygen plasma, or the like. Finally, the cleaning process is completed to manufacture the mask for recording holographic data according to the embodiment of the present invention.

이하에서는 전술한 바와 같은 본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크를 이용한 데이터 기록방법에 대하여 설명한다. 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크를 이용한 데이터 기록방법에 대한 순서도이다. 이하의 설명에서는 도 1의 도시된 구성요소를 참조하여 이할 수 있을 것이다. Hereinafter, a data recording method using a holographic data recording mask according to an embodiment of the present invention as described above will be described. 4 is a flowchart illustrating a data recording method using a mask for recording holographic data according to an embodiment of the present invention. The following description may be made with reference to the illustrated components of FIG. 1.

본 발명의 실시예에서의 홀로그래픽 데이터 기록방법은 홀로그래픽 데이터 저장매체(300)의 대량 복재를 위하여 사용될 수 있다. 즉 소정 패턴인 데이터 패턴(230)이 형성된 마스크를 사용하여 한번에 2차원 데이터를 저장매체(300)에 입사하여 기록하도록 한다.The holographic data recording method in the embodiment of the present invention can be used for mass reproduction of the holographic data storage medium 300. That is, two-dimensional data is incident on the storage medium 300 at one time by using a mask on which the data pattern 230, which is a predetermined pattern, is formed.

데이터 기록방법은 도 4에 도시된 바와 같이 홀로그래픽 데이터 저장매체(300)의 일측에 데이터 패턴(230)이 형성된 마스크를 위치시킨다. 이 마스크는 홀로그래픽 데이터 저장매체(300)의 복재시스템 내부에서 설정된 방법에 따라 설정된 위치에 위치하도록 한다. 마스크는 별도의 로딩 장치에 의하여 자동으로 로딩할 수 있다.In the data recording method, as shown in FIG. 4, a mask on which the data pattern 230 is formed is located at one side of the holographic data storage medium 300. The mask is positioned at a set position according to a method set in the reproduction system of the holographic data storage medium 300. The mask may be automatically loaded by a separate loading device.

마스크가 설치되고, 복재의 대상인 저장매체(300)가 위치하면 마스크 측으로 제 1광(b1; 신호광)을 입사하여 마스크의 패턴(230)을 통과한 제 1광(b1)이 홀로그래픽 데이터 저장매체(300)에 입사되도록 한다(S420). 이때 광은 레이저 광을 사용하고, 광 분리기를 사용하여 각각 제 1광(b1)과 제 2광(b2; 기준광)으로 분리시켜 사용한다. 그리고 각각의 광의 안내를 위한 광학계를 별도로 구비한다.When the mask is installed and the storage medium 300, which is the object of the reproduction, is positioned, the first light b1 that enters the mask side and passes the pattern 230 of the mask is the holographic data storage medium. It is made to enter the 300 (S420). In this case, the light is used as laser light, and is separated into a first light b1 and a second light b2 (reference light) using a light separator. And an optical system for guiding each light is provided separately.

그리고 홀로그래픽 데이터 저장매체(300)의 타측으로는 전술한 제 2광(b2)을 안내하여 홀로그래픽 데이터 저장매체(300)로 경사지게 입사시킨다. 이에 따라 제 1광(b1)과 제 2광(b2)의 간섭으로 간섭무늬가 홀로그래픽 데이터 저장매체(300)에 형성된다. 이때 제 2광(b1)의 각도 다중화를 위하여 코니컬 미러(conical mirror)가 사용될 수 있다. The second light b2 is guided to the holographic data storage medium 300 at an inclined side to the other side of the holographic data storage medium 300. Accordingly, an interference fringe is formed on the holographic data storage medium 300 due to interference between the first light b1 and the second light b2. In this case, a conical mirror may be used for angular multiplexing of the second light b1.

한편, 홀로그래픽 데이터 저장매체(300)를 통과한 제 2광(b2)은 마스크에 형성된 광 흡수층(220)에서 흡수된다. 이에 따라 홀로그래픽 데이터 저장매체(300)로 반사되는 제 2광(b2)에 의하여 원하는 않는 영역에 대한 불필요한 간섭무늬의 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다. 즉 홀로그래픽 데이터 저장매체(300)의 동작영역 손실이 방지된다.Meanwhile, the second light b2 passing through the holographic data storage medium 300 is absorbed by the light absorbing layer 220 formed in the mask. Accordingly, it is possible to prevent the occurrence of unnecessary interference fringes on an undesired area by the second light b2 reflected by the holographic data storage medium 300. That is, the loss of the operating area of the holographic data storage medium 300 is prevented.

전술한 바와 같은 본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 및 그 제조방법 그리고 홀로그래픽 데이터 기록방법에서 다른 부가적인 기능을 가진 구성요소가 추가되거나. 또는 다른 구성요소로 교체하여 실시할 수 있을 것이고, 마스크의 제조공정에서 공정의 일부를 추가(예를 든다면 페리클(pericle)의 설치 등)하여 적용할 수 있을 것이다. 그러나 변형된 다른 실시예가 본 발명의 필수구성요소를 포함하고, 또한 본 발명의 실시예에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크를 이용하는 것이라면 모두 본 발명의 기술적 범주에 포함된다고 보아야 한다. The mask for the holographic data recording according to the embodiment of the present invention as described above, a method for manufacturing the same, and a component having other additional functions in the holographic data recording method are added. Alternatively, it may be replaced by another component, and may be applied by adding a part of the process (for example, installing a particle) in the manufacturing process of the mask. However, other modified embodiments include the essential components of the present invention, and should also be regarded as being included in the technical scope of the present invention as long as they use the mask for recording holographic data according to the embodiment of the present invention.

전술한 바와 같은 본 발명에 따른 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 및 그 제조방법 그리고 홀로그래픽 데이터 기록방법은 기준광이 기판을 통과하여 마스크의 광 차단막에서 일부가 반사될 때 반사된 기준광이 다시 기판으로 입사되어 기판 에 원하지 않는 간섭무늬가 발생하는 것을 방지하여 홀로그래픽 데이터 저장매체에서의 동적범위(dynamic range)를 최대한 안정적으로 확보할 수 있도록 하여 데이터 기록효율을 보다 향상시킬 수 있는 효과가 있다.In the holographic data recording mask according to the present invention, a manufacturing method thereof, and a holographic data recording method according to the present invention, when the reference light passes through the substrate and a portion of the mask is reflected from the light blocking film of the mask, the reflected reference light is incident to the substrate again. By preventing unwanted interference fringes on the substrate, the dynamic range in the holographic data storage medium can be secured as stably as possible, thereby improving the data recording efficiency.

Claims (14)

일측면과 타측면으로 각각 다른 광이 입사되는 투명기판;A transparent substrate having different light incident on one side and the other side; 상기 투명기판의 일측면에 소정 패턴이 패터닝되어 형성되며 상기 소정 패턴 외의 영역으로 진행한 상기 광을 흡수하여 진행을 차단하는 광 차단막이 형성된 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크.And a light blocking film formed on one side of the transparent substrate by patterning and blocking a process by absorbing the light that has traveled outside the predetermined pattern. 제 1항에 있어서, 상기 광 차단막은 2mm - 10mm 의 두께로 형성되며, 광색성 물질(photochromic material)을 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크.The mask for recording holographic data according to claim 1, wherein the light blocking film has a thickness of 2mm-10mm and comprises a photochromic material. 제 1항에 있어서, 상기 광 차단막은 금속층과, 상기 금속층 상에 형성되며 상기 투명기판을 통과한 상기 광을 흡수하는 광색성 물질(photochromic material)을 가진 광 흡수층을 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크.The holographic film of claim 1, wherein the light blocking layer comprises a light absorbing layer having a metal layer and a photochromic material formed on the metal layer and absorbing the light passing through the transparent substrate. Mask for recording data. 제 2항 또는 제 3항에 있어서, 상기 광색성 물질은 염화은(AgCl; silver chloride) 인 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크.The mask for recording holographic data according to claim 2 or 3, wherein the photochromic material is silver chloride (AgCl). 제 4항에 있어서, 상기 광 차단막은 구리를 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크. The mask for recording holographic data according to claim 4, wherein the light blocking film comprises copper. 투명기판의 일면에 광을 흡수하여 진행을 차단하는 광 차단막을 형성하는 단계;Forming a light blocking film on one surface of the transparent substrate to absorb light and block its progress; 상기 광 차단막 상에 소정 패턴의 포토레지스트 마스크를 형성하는 단계;Forming a photoresist mask of a predetermined pattern on the light blocking film; 상기 광 차단막에 상기 소정 패턴을 패터닝하는 단계;Patterning the predetermined pattern on the light blocking film; 상기 포토레지스트 마스크를 제거하는 단계로 된 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 제조방법.Removing the photoresist mask; and manufacturing a mask for recording holographic data. 제 6항에 있어서, 상기 광 차단막은 금속층과, 상기 금속층 상에 형성되며 상기 투명기판을 통과한 상기 광을 흡수하는 광 흡수층을 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 제조방법. The method of manufacturing a mask for recording holographic data according to claim 6, wherein the light blocking film comprises a metal layer and a light absorbing layer formed on the metal layer and absorbing the light passing through the transparent substrate. 제 7항에 있어서, 상기 광 흡수층은 광색성 물질(photochromic material)로 형성되고, 상기 금속층과 상기 광 흡수층은 증착 형성된 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 제조방법.8. The method of claim 7, wherein the light absorbing layer is formed of a photochromic material, and the metal layer and the light absorbing layer are deposited. 제 8항에 있어서, 상기 광색성 물질은 염화은(AgCl; silver chloride) 을 포함하는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 제조방법.10. The method of claim 8, wherein the photochromic material comprises silver chloride (AgCl). 제 8항에 있어서, 상기 광 흡수층은 규소계 물질과, 염화은이 함유된 타겟을 사용한 스퍼터링으로 형성한 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 제조방법.10. The method of claim 8, wherein the light absorbing layer is formed by sputtering using a silicon-based material and a target containing silver chloride. 제 6항에 있어서, 상기 광 차단막에 상기 소정 패턴을 형성하는 단계는 식각으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 데이터 기록용 마스크 제조방법.7. The method of claim 6, wherein the forming of the predetermined pattern on the light blocking film is performed by etching. 홀로그래픽 데이터 저장매체의 일측에 소정 패턴이 형성된 마스크를 위치시키는 단계;Positioning a mask having a predetermined pattern on one side of the holographic data storage medium; 상기 마스크 측으로 제 1광을 입사하여 상기 소정 패턴을 통과한 상기 제 1광이 상기 홀로그래픽 데이터 저장매체에 입사되도록 하는 단계;Injecting the first light toward the mask so that the first light passing through the predetermined pattern is incident on the holographic data storage medium; 상기 홀로그래픽 데이터 저장매체의 타측에 상기 홀로그래픽 데이터 저장매체로 입사되어 상기 제 1광과의 간섭으로 상기 소정 패턴의 간섭무늬가 상기 홀로그래픽 데이터 저장매체에 형성되도록 하고, 상기 홀로그래픽 데이터 저장매체를 통과한 상기 제 2광이 상기 마스크에 흡수되도록 하는 단계로 된 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 데이터 기록방법.The interference pattern of the predetermined pattern is formed on the holographic data storage medium by being incident to the holographic data storage medium on the other side of the holographic data storage medium and interfering with the first light. And absorbing the second light passing through the mask. 제 12항에 있어서, 상기 마스크는 상기 제 1광을 흡수하는 광색성 물질(photochromic material)을 포함하는 것을 홀로그래픽 데이터 기록방법.13. The method of claim 12, wherein the mask comprises a photochromic material that absorbs the first light. 제 13항에 있어서, 상기 광색성 물질은 염화은(AgCl; silver chloride) 인 것을 특징으로 하는 홀로그래픽 데이터 기록방법.14. The method of claim 13, wherein the photochromic material is silver chloride (AgCl).
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS6420752A (en) * 1987-07-16 1989-01-24 Fujitsu Ltd Frame synchronizing circuit
KR20050082630A (en) * 2004-02-19 2005-08-24 삼성전자주식회사 Data read/write device for holographic worm memory and method thereof
KR20050100168A (en) * 2004-04-13 2005-10-18 삼성전자주식회사 A holographic data recording/reproducing apparatus, and a holographic data recording method

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6420752A (en) * 1987-07-16 1989-01-24 Fujitsu Ltd Frame synchronizing circuit
KR20050082630A (en) * 2004-02-19 2005-08-24 삼성전자주식회사 Data read/write device for holographic worm memory and method thereof
KR20050100168A (en) * 2004-04-13 2005-10-18 삼성전자주식회사 A holographic data recording/reproducing apparatus, and a holographic data recording method

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