KR100773089B1 - 감마선에 감응하는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물 및 그를 포함하는 잉크 조성물 - Google Patents
감마선에 감응하는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물 및 그를 포함하는 잉크 조성물 Download PDFInfo
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 16
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 3
- -1 phthalocyanine compound Chemical class 0.000 claims abstract description 46
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 claims abstract description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 8
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 claims 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 abstract description 4
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 abstract description 3
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 17
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000001157 Fourier transform infrared spectrum Methods 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical class NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 1-methylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC=CC2=C1 QPUYECUOLPXSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSOYJNRFGMJBAV-UHFFFAOYSA-N N.[Mo+4] Chemical compound N.[Mo+4] VSOYJNRFGMJBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 1-chloronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(Cl)=CC=CC2=C1 JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- 229910052695 Americium Inorganic materials 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000914 Dysprosium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000000921 Gadolinium Chemical class 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052781 Neptunium Inorganic materials 0.000 description 1
- BMPYETKQLHJVDE-UHFFFAOYSA-N O.O.O.O.O.O.[Gd] Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Gd] BMPYETKQLHJVDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052767 actinium Inorganic materials 0.000 description 1
- QQINRWTZWGJFDB-UHFFFAOYSA-N actinium atom Chemical compound [Ac] QQINRWTZWGJFDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXQXZNRPTYVCNG-UHFFFAOYSA-N americium atom Chemical compound [Am] LXQXZNRPTYVCNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 229940113088 dimethylacetamide Drugs 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- OAJVDTNJHZCKJP-UHFFFAOYSA-N dysprosium hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Dy] OAJVDTNJHZCKJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 210000003205 muscle Anatomy 0.000 description 1
- LFNLGNPSGWYGGD-UHFFFAOYSA-N neptunium atom Chemical compound [Np] LFNLGNPSGWYGGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N uranium Chemical compound [U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U] DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
- C07D487/22—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains four or more hetero rings
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F19/00—Metal compounds according to more than one of main groups C07F1/00 - C07F17/00
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F17/00—Metallocenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B47/00—Porphines; Azaporphines
- C09B47/04—Phthalocyanines abbreviation: Pc
- C09B47/045—Special non-pigmentary uses, e.g. catalyst, photosensitisers of phthalocyanine dyes or pigments
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B47/00—Porphines; Azaporphines
- C09B47/04—Phthalocyanines abbreviation: Pc
- C09B47/06—Preparation from carboxylic acids or derivatives thereof, e.g. anhydrides, amides, mononitriles, phthalimide, o-cyanobenzamide
- C09B47/063—Preparation from carboxylic acids or derivatives thereof, e.g. anhydrides, amides, mononitriles, phthalimide, o-cyanobenzamide having oxygen or sulfur atom(s) linked directly to the skeleton
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
- C09D11/03—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder
- C09D11/037—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder characterised by the pigment
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/30—Inkjet printing inks
- C09D11/32—Inkjet printing inks characterised by colouring agents
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Abstract
본 발명은 뉴트론(Neutron)의 감마선에 대하여 감응속도가 빨라 위변조 방지용으로 유용하게 사용될 수 있는 하기 화학식 1로 표현되는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물과, 그를 포함하는 잉크 조성물에 관한 것이다.
<화학식 1>
상기 화학식 1에서 M1과 M2는 각각 금속, 금속 산화물 또는 금속 할라이드에서 선택된 것으로서 서로 같거나 다른 것일 수 있으며, R은 수소원자, 할로겐원자, 수산기, 아미노기, 히드록시술포닐기, 아미노술포닐기, 알킬기, 탄소수 1~20의 치환기를 갖는 알킬기이고, n은 0∼3의 정수이다.
Description
본 발명은 뉴트론(Neutron)의 감마선에 대하여 감응속도가 빨라 위변조 방지용으로 유용하게 사용될 수 있는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물과, 그를 포함하는 잉크 조성물에 관한 것이다.
주지된 바와 같이 캐쉬 카드나 크레디트 카드 등의 각종 카드, 패스포트나 보험증서, 차량 운전 면허증 등의 각종 증명서, 수표나 유가 증권, 지폐, 브랜드 제품, 제조 이력 등의 정보가 부여되는 공업 제품 재료, 생산지나 생산 시기 등의 정보가 부여되는 식품 라벨 등은 위조 변조 가능성의 여지를 가지고 있다.
이러한 물품의 위조 또는 변조를 막기 위하여 통상적으로 자성을 띤 표식, 전자파를 흡수ㅇ반사하는 표식, 혹은 가시광에 의해 형광을 발하는 표식을 붙이고, 상기 표식이 붙어있지 않은 위조품 혹은 다른 표식이 붙어 있는 위조품으로부터 정품을 선별하도록 하는 것이 행해지고 있다. 예를 들어 소정의 파장 영역의 전자파를 조사하고, 그 전자파의 조사에 따라 상기 정보 제시 물질로부터 방사되는 형광을 검출하여 그 형광의 검출 결과에 따라서 물품의 위조나 변조를 판별하는 것이다.
최근에는 화상을 인식하고 감지하기 위한 광원으로서 사람의 시각으로는 인식이 불가능한 적외선 영역의 파장(700∼1600㎚)을 갖는 반도체 레이저가 개발되어 상기 파장범위의 적외선의 흡수 및 반사를 기기적으로 측정할 수 있게됨으로써 자동화 분류 또는 식별요소로 이용되고 있다.
이러한 변조 판별을 신속하게 하기 위해서는 감마선에 감응하는 물질을 사용하여 짧은 시간에 감응하여 실시간으로 감지가 가능한 물질을 사용하여야 한다. 그러나, 현재까지 알려진 위변조 방지 표식에 사용되는 화합물은 고 에너지에 감응하는 물질이 알려져 있지 않기 때문에 저 에너지를 흡수하여 감응하는 방사성 원소나 화합물들을 여러 가지 혼합사용하고 있다. 그에 따라 감마선에 대하여 감응하는 속도가 느릴 뿐만 아니라 흡수량이 적어 신속한 위변조의 판별이 곤란하다는 단점을 가진다.
이에 본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해소하기 위한 것으로서 뉴트론의 감마선에 대하여 감응속도가 빨라 물품의 위변조를 신속하게 판별할 수 있는 고 에너지에 감응하는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물을 제공하는데 그 목적이 있다.
아울러 본 발명은 상기 감마선에 감응하는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물을 포함하는 잉크 조성물을 제공하는데 다른 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 하기 화학식 1로 표현되는 것을 특징으로 하는 감마선에 감응하는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물을 제공한다.
상기 화학식 1에서 M1과 M2는 각각 금속, 금속 산화물 또는 금속 할라이드에서 선택된 것으로서 서로 같거나 다른 것일 수 있으며, R은 수소원자, 할로겐원자, 수산기, 아미노기, 히드록시술포닐기, 아미노술포닐기, 탄소수 1~20의 치환기를 갖는 알킬기이고, n은 0∼3의 정수이다.
아울러 본 발명은 상기 감마선에 감응하는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물을 포함함을 특징으로 하는 잉크 조성물을 제공한다.
이하 본 발명을 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 감마선에 감응하는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물은 전술한 화학식 1의 구조를 갖는다. 이러한 구조를 갖는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물은 감마선에 감응한다. 특히 현재까지 알려진 화합물에서는 감응하지 않는 뉴트론의 감마선에 대하여 감응하는 특성을 발휘한다. 그에 따라 화학식 1의 구조를 갖는 화합물은 감마선에 감응속도가 빨라 물품의 위변조를 신속하게 판별할 수 있어 위변조 방지용으로 유용하게 사용될 수 있다. 이러한 감마선에 대한 감응특성은 뉴트론의 감마선를 조사하면 쉽게 확인이 가능하다.
전술한 화학식 1에서 M1과 M2에 적용될 수 있는 금속은 각각 리튬, 베릴륨, 나트륨, 마그네슘, 알루미늄, 칼륨, 칼슘, 스칸듐, 티타늄, 바나듐, 크롬, 망간, 철, 코발트, 니켈, 구리, 아연, 갈륨, 게르마늄, 이트륨, 지르코늄, 니오븀, 몰리브데늄, 테크네듐, 루테늄, 로듐, 팔라듐, 은, 카드뮴, 인듐, 주석, 안티몬, 바륨, 란타늄, 세슘, 프리세오디뮴, 사마륨, 유로퓸, 가돌리늄, 테르븀, 디스프로슘, 홀뮴, 에르븀, 툴륨, 이테르븀, 루테늄, 하프늄, 탄탈륨, 텅스텐, 레늄, 오스뮴, 이리듐, 백금, 금, 수은, 탈륨, 납, 비스무트, 악티뮴, 토륨, 프로트악티늄, 우라늄, 넵투늄, 아메리슘에서 선택된 것을 사용할 수 있다.
바람직하게는 상기 화학식 1의 화합물에서 M1과 M2는 각각 사마륨, 유로퓸, 루비듐, 세슘, 가돌리늄, 디스프로슘에서 선택되는 금속 또는 그 산화물인 것이 좋다.
더욱 바람직하게는 상기 화학식 1의 화합물에서 M1과 M2가 각각 디스프로슘이고, R이 수소인 하기 화학식 2로 표현되는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물이거나, 또는 M1, M2가 각각 가돌리늄이고, R이 수소인 하기 화학식 3으로 표현되는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물이 좋다.
상기 화학식 2에서 n은 0~3의 정수이다.
상기 화학식 3에서 n은 0~3의 정수이다.
보다 바람직하게는 상기 화학식 1에서 M1이 세슘이고 M2가 루비듐이며, R이 수소인 하기 화학식 4로 표현되는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물이 좋다.
상기 화학식 4에서 n은 0~3의 정수이다.
전술한 본 발명에 따른 화학식 1의 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물은 공지된 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물의 제조방법에 따라 용이하게 제조할 수 있다. 보다 구체적으로는 하기 화학식 5의 구조를 갖는 무수프탈산과, 우레아, M1 및 M2에 해당되는 금속염 또는 금속염화물, 고비점의 용매, 반응개시제를 상온에서 혼합하여 온도를 230~250℃로 가열 환류시키면서 6~8시간 반응을 시킨 후 70~100℃의 온도를 유지하면서 여과를 실시한 후 65~70℃에서 묽은 산용액과 알칼리 용액으로 각각 수세하여 미반응 물질을 제거한 케이크를 얻는다. 이렇게 얻어진 케이크를 5중량% 에틸렌글리콜 수용액에 5~10w/w%가 되도록 분산시킨 후 80~120℃를 유지하면서 2시간 열처리하고 여과한 다음, 이를 아세톤과 디메틸 아세트 아마이드에 각각 재분산시키고 45~175℃에서 속실렛 장치를 이용하여 정제한 후 건조하면 용이하게 얻을 수 있다.
상기 화학식 5에서 R은 수소원자, 할로겐원자, 수산기, 아미노기, 히드록시술포닐기, 아미노술포닐기, 탄소수 1∼20의 치환기를 갖는 알킬기이다.
이때, 화학식 5로 표현되는 무수프탈산은 수분이 혼합되면 반응력이 떨어지므로 사용시 건조 및 수분의 유입이 되지 않도록 보관의 주의를 하며, 우레아는 일반적인 제품으로 사용이 가능하고, 반응용제로는 극성이 낮고 고비점의 용제로서 α-메틸나프탈렌, α-클로로나프탈렌, 디크로로벤젠, 디엠에프, n-알킬벤젠 또는 에틸렌글리콜에서 선택된 것을 사용하면 된다.
이렇게 제조되는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물은 750~950nm의 근적외선 영역의 파장을 높은 흡수능으로 흡수하는 특성을 나타내면서도 특히 뉴트론의 감마선에 대하여 빠른 감응속도를 나타낸다. 그에 따라 본 발명에 따른 폴리가교형 프탈로시아닌 화합물은 위조방지용 재료에서 감마선 감응제로 유용하게 사용될 수 있다. 특히 잉크나 도료에 유용하게 사용될 수 있다.
이에 본 발명에서는 상기 화학식 1의 구조를 갖는 감마선에 감응하는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물을 포함하는 잉크 조성물을 제공한다.
본 발명에 따른 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물은 총 잉크조성물 100중량부에 대하여 0.01~5중량부 함유되면 충분한 효과를 발휘할 수 있으며, 특히 뉴트론의 감마선에 대하여 빠른 감응속도를 나타내므로 도용방지, 복사방지, 위·변조방지용 문서에 유용하게 사용될 수 있다. 이때, 잉크조성물은 통상의 염료형 잉크젯 잉크용이거나 통상의 안료형 잉크젯 잉크용이거나 통상의 스크린프린팅용 잉크용일 수 있으며, 이외에도 다양한 잉크에 적용될 수 있다.
이하 본 발명을 하기 실시예를 통하여 상세하게 설명하기로 하나, 이는 본 발명의 이해를 돕기 위하여 제시된 것으로서, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1> 폴리 가교 디스프로슘 프탈로시아닌의 합성
무수프탈산 148중량부, 우레아 425중량부, 디스프로슘염 6수화물 150중량부, 무수 디스프로슘염 30중량부, 몰리브덴암모늄염 1.8중량부, 알킬벤젠 1500중량부를 혼합하여 충분히 교반한 후 200℃까지 4시간에 걸쳐 온도를 올린 후 3시간 동안 반응시켰다. 반응 중에 질소가스를 300㎖/min의 속도로 흘려보냈다. 이후 10% 염산용액과 10% 수산화나트륨 알칼리 용액 500중량부로 각각 여과한 후 수차례 물로 세척하였다. 80℃ 건조기에서 완전히 항량이 될 때 까지 건조한 후 상기 건조물을 에틸렌 글리콜 10중량% 수용액에 10w/w%로 분산시킨 후 1시간동안 80℃에서 처리한 후 여과하고, 100℃ 물 500㎖로 2회 수세한 다음 80℃에서 24시간 건조하였다. 이를 아세톤 300중량부를 넣고 속실렛 장치를 이용하여 정제한 후 건조하고 이를 다시 디메틸포름아미드 300중량부에 넣고 속실렛 장치를 이용하여 정제한 후 건조하였다.
이렇게 얻어진 화합물의 적외선 흡수 파장과 반사율을 각각 도 1a와 도 1b에 나타내었으며, 이와 함께 13NMR 및 FT-IR 스펙트럼을 각각 도 2a와 도 2b에 나타내었다. 또한, UV-Visible spectrophotometer로 측정한 흡광도 데이터를 표 1에 나타내었으며, 이와 함께 원소분석결과를 표 2에 나타내었다.
그 결과 얻어진 화합물은 하기 화학식 6의 구조를 가지는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물임을 확인할 수 있었다.
<실시예 2> 폴리 가교 가돌리늄 프탈로시아닌의 합성
무수프탈산 148중량부, 우레아 425중량부, 가돌리늄염 6수화물 148중량부, 무수 가돌리늄염 20중량부, 몰리브덴암모늄염 1.8중량부, 알킬벤젠 1500중량부를 혼합하여 충분히 교반한 후 200℃까지 4시간에 걸쳐 온도를 올린 후 3시간 동안 반응시켰다. 반응 중에 질소가스를 300㎖/min의 속도로 흘려보냈다. 이후 10% 염산용액과 10% 수산화나트륨 알칼리 용액 500중량부로 각각 여과한 후 수차례 물로 세척하였다. 80℃건조기에서 완전히 항량이 될 때 까지 건조한 후 상기 건조물을 에틸렌 글리콜 10중량% 수용액에 10w/w%로 분산시킨 후 1시간동안 80℃에서 처리한 후 여과하고, 100℃ 물 500㎖로 2회 수세한 다음 80℃에서 24시간 건조하였다. 이를 아세톤 300중량부를 넣고 속실렛 장치를 이용하여 정제한 후 건조하고 이를 다시 디메칠포름아마이드 300중량부에 넣고 속실렛 장치를 이용하여 정제한 후 건조하였다.
이렇게 건조하여 얻어진 화합물의 적외선 흡수 파장 및 반사율을 각각 도 3a와 도 3b에 나타내었다. 또한, UV-Visible spectrophotometer로 측정한 흡광도 데이터를 표 1에 나타내었으며, 이와 함께 원소분석결과를 표 2에 나타내었다.
그 결과 얻어진 화합물은 하기 화학식 7의 구조를 가지는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물임을 확인할 수 있었다.
<비교예 1>
하기 화학식 8의 구조를 갖는 마그네슘 프탈로시아닌 화합물의 적외선 흡수 파장과 반사율을 각각 도 4a와 도 4b에 나타내었으며, 이와 함께 13NMR 및 FT-IR 스펙트럼을 각각 도 5a와 도 5b에 나타내었다. 또한, UV-Visible spectrophotometer로 측정한 흡광도 데이터를 표 1에 나타내었다.
| 구분 | 중심금속(M1,M2) | 최대흡광도 |
| 실시예 1 | Dy, Dy | 892 |
| 실시예 2 | Gd, Gd | 884 |
| 비교예 1 | Mg | 676 |
| 구분 | 분자량 | N | C | H | O | 금속 |
| 실시예 1 | 4190.0 | 55.09 | 1.9 | 16.02 | 3.8 | 23.19 |
| 실시예 2 | 4158.3 | 55.5 | 1.88 | 16.14 | 3.88 | 22.6 |
상기 표 1 및 표 2를 포함하여 도 1 내지 3은 본 발명에 따라 제조된 실시예 1 및 2의 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물의 구조를 확인할 수 있도록 도와 주는 데이터이다. 특히, 상기 표 1에서 확인할 수 있는 바와 같이 본 발명에 따른 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물은 최대흡광도가 약 890㎚로 종래 단분자 형태인 비교예 1의 마그네슘 프탈로시아닌 화합물에 비하여 높은 흡수능으로 근적외선 파장을 흡수함을 알 수 있다.
<실시예 3 내지 8>
하기 표 3과 같이 스크린 프린트용 잉크에 적용되는 잉크조성물을 제조하였다. 상기 잉크조성물은 증류수와, 안료, 수지, 침투제, 안정제, 첨가제, 분산제, 감마선 감응형 근적외선 흡수제(고근흡), 용제를 혼합한 후 삼본밀을 이용하여 분산시켜 제조하였다. 이때, 안료로는 Green (CI.No.36 )을 사용하였고, 수지는 알키드 바니쉬수지를 사용하였으며, 침투제로는 왁스, 안정제로는 비이온계면활성제, 첨가제로는 탈크, 분산제로는(BYK Chemie:BYK 910), 감마선 감응제로 실시예 1에서 얻어진 화합물, 용제로는 씨클로 헥산을 사용하였다.
제조된 스크린 프린트용 잉크를 사용하여 스크린 인쇄한 다음 고 에너지 발생기와 감지기를 이용하여 스크린 인쇄한 인쇄물인 시료에 감마선를 조사한 다음 감지기로 고 에너지에 의한 감응여부를 확인하고 그 결과를 하기 표 3에 나타내었다.
| 구분 | 안 료(g) | 수 지(g) | 침투제(g) | 안정제(g) | 첨가제(g) | 분산제(g) | 감마선감응제(g) | 용제(g) | 감응감도 |
| 실시예 3 | 5 | 35 | 5 | 10 | 25 | 3 | 0.005 | 16.995 | - |
| 실시예 4 | 5 | 35 | 5 | 10 | 25 | 3 | 0.01 | 16.99 | + |
| 실시예 5 | 5 | 35 | 5 | 10 | 25 | 3 | 0.1 | 16.9 | + |
| 실시예 6 | 5 | 35 | 5 | 10 | 25 | 3 | 0.5 | 16.5 | ++ |
| 실시예 7 | 5 | 35 | 5 | 10 | 25 | 3 | 2 | 15 | ++ |
| 실시예 8 | 5 | 35 | 5 | 10 | 25 | 3 | 5 | 12 | +++ |
| 실시예 9 | 5 | 35 | 5 | 10 | 25 | 3 | 6 | 11 | +++ |
상기 표 3에서 확인할 수 있는 바와 같이 본 발명에 따라 제조된 폴리가교형 프탈로시아닌 화합물을 포함하는 잉크 조성물의 경우 바람직한 범위내에서 폴리가교형 프탈로시아닌 화합물을 첨가한 실시예 4 내지 8에 감마선를 조사한 결과 우수한 감응 감도를 보임을 알 수 있다. 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물의 첨가량이 과량인 실시예 9의 경우 더 이상 개선된 감응감도를 얻을 수 없었다.
상기에서 설명한 바와 같이 본 발명은 뉴트론의 감마선에 대하여 감응속도가 빨라 물품의 위변조를 신속하게 판별할 수 있어 위변조 방지용으로 유용하게 사용될 수 있는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물 및 그를 포함하는 위변조 방지용 잉크 조성물을 제공하는 유용한 효과가 있다.
도 1a와 도 1b는 실시예 1에서 제조한 폴리 가교 디스프로슘 프탈로시아닌 화합물의 적외선 흡수 파장 및 반사율을 나타낸 그래프.
도 2a와 도 2b는 실시예 1에서 제조한 폴리 가교 디스프로슘 프칼로시아닌 화합물의 13NMR 및 FT-IR 스펙트럼을 나타낸 그래프.
도 3a와 도 3b는 실시예 2에서 제조한 폴리 가교 가돌리늄 프탈로시아닌 화합물의 적외선 흡수 파장 및 반사율을 나타낸 그래프.
도 4a와 도 4b는 비교예 1의 마그네슘 프탈로시아닌 화합물의 적외선 흡수 파장 및 반사율을 나타낸 그래프.
도 5a와 도 5b는 비교예 1의 마그네슘 프탈로시아닌 화합물의 13NMR 및 FT-IR 스펙트럼을 나타낸 그래프.
Claims (10)
- 하기 화학식 1로 표현되는 것을 특징으로 하는 감마선에 감응하는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물.<화학식 1>상기 화학식 1에서 M1과 M2는 각각 사마륨, 유로퓸, 루비듐, 세슘, 가돌리늄, 디스프로슘에서 선택되는 금속 또는 그 산화물이며, R은 수소원자, 할로겐원자, 수산기, 아미노기, 히드록시술포닐기, 아미노술포닐기, 알킬기, 탄소수 1~20의 치환기를 갖는 알킬기이고, n은 0∼3의 정수이다.
- 삭제
- 청구항 1에 있어서,상기 화학식 1의 화합물에서 M1과 M2가 각각 디스프로슘이고, R이 수소인 하기 화학식 2로 표현되는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물임을 특징으로 하는 감마선에 감응하는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물.<화학식 2>상기 화학식 2에서 n은 0~3의 정수이다.
- 청구항 1에 있어서,상기 화학식 1의 화합물에서 M1과 M2가 각각 가돌리늄이고, R이 수소인 하기 화학식 3으로 표현되는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물임을 특징으로 하는 감마선에 감응하는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물.<화학식 3>상기 화학식 3에서 n은 0~3의 정수이다.
- 청구항 1에 있어서,상기 화학식 1에서 M1이 세슘이고 M2가 루비듐이며, R이 수소인 하기 화학식 4로 표현되는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물임을 특징으로 하는 감마선에 감응하는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물.<화학식 4>상기 화학식 4에서 n은 0~3의 정수이다.
- 감마선 감응제를 포함하는 잉크조성물에 있어서,상기 감마선 감응제가 청구항 1 내지 5항 중 어느 한 항의 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물인 것을 특징으로 하는 잉크 조성물.
- 청구항 6에 있어서,상기 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물은 총 잉크조성물 100중량부에 대하여 0.01~5중량부 함유됨을 특징으로 하는 잉크 조성물.
- 청구항 7에 있어서,상기 잉크조성물은 염료형 잉크젯 잉크용임을 특징으로 하는 잉크 조성물.
- 청구항 7에 있어서,상기 잉크조성물은 안료형 잉크젯 잉크용임을 특징으로 하는 잉크 조성물.
- 청구항 7에 있어서,상기 잉크조성물은 스크린 프린팅 잉크용임을 특징으로 하는 잉크 조성물.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020070042163A KR100773089B1 (ko) | 2007-04-30 | 2007-04-30 | 감마선에 감응하는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물 및 그를 포함하는 잉크 조성물 |
| US12/112,418 US7981208B2 (en) | 2007-04-30 | 2008-04-30 | Gamma ray-sensitive phthalocyanine compound of poly cross-linking type and ink composition comprising the same |
| JP2008118477A JP4949318B2 (ja) | 2007-04-30 | 2008-04-30 | ガンマ線に感応するポリ架橋型フタロシアニン化合物及びこれを含むインク組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020070042163A KR100773089B1 (ko) | 2007-04-30 | 2007-04-30 | 감마선에 감응하는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물 및 그를 포함하는 잉크 조성물 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR100773089B1 true KR100773089B1 (ko) | 2007-11-05 |
Family
ID=39060732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020070042163A KR100773089B1 (ko) | 2007-04-30 | 2007-04-30 | 감마선에 감응하는 폴리 가교형 프탈로시아닌 화합물 및 그를 포함하는 잉크 조성물 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7981208B2 (ko) |
| JP (1) | JP4949318B2 (ko) |
| KR (1) | KR100773089B1 (ko) |
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2007
- 2007-04-30 KR KR1020070042163A patent/KR100773089B1/ko active IP Right Grant
-
2008
- 2008-04-30 US US12/112,418 patent/US7981208B2/en active Active
- 2008-04-30 JP JP2008118477A patent/JP4949318B2/ja active Active
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| Publication number | Publication date |
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| US20090326207A1 (en) | 2009-12-31 |
| JP4949318B2 (ja) | 2012-06-06 |
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Legal Events
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| A302 | Request for accelerated examination | ||
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| FPAY | Annual fee payment |
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|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131001 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141006 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151026 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
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|
| FPAY | Annual fee payment |
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|
| FPAY | Annual fee payment |
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|
| FPAY | Annual fee payment |
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