KR100771283B1 - Plugging Method of via hole in PCB - Google Patents
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Abstract
본 발명은 인쇄회로기판의 비아홀 충진 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 동박적층판에 비아홀을 가공한 후에 비아홀을 충진하고 스쿼즈로 평탄화한 후에 연마를 수행하도록 하여 충진재의 미연마를 방지할 수 있도록 하는 인쇄회로기판의 비아홀 충진 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of filling via holes in a printed circuit board, and more particularly, to process via holes in a copper-clad laminate and to fill the via holes and to flatten them with squeezes to prevent grinding of the fillers. The present invention relates to a via hole filling method of a printed circuit board.
또한, 본 발명은, 동박 적층판에 복수의 비아홀을 가공하고 도금층을 형성하는 제 1단계; 상기 동박적층판의 복수의 비아홀에 페이스트를 충진하고 충진된 페이스트의 복수의 돌출 부위의 단차를 제거하는 제 2 단계; 및 상기 동박적층판을 연마한 후에 회로패턴을 형성하는 제 3 단계를 포함하여 이루어진 인쇄회로기판의 비아홀 충진 방법이 제공된다.In addition, the present invention, the first step of processing a plurality of via holes in the copper foil laminated plate and forming a plating layer; A second step of filling paste into a plurality of via holes of the copper-clad laminate and removing steps of a plurality of protruding portions of the filled paste; And a third step of forming a circuit pattern after polishing the copper-clad laminate, thereby providing a method of filling a via hole in a printed circuit board.
비아홀, 충진, 연마, 인쇄회로기판 Via Hole, Filling, Polishing, Printed Circuit Boards
Description
도 1a 내지 도 1i는 종래 기술에 따른 인쇄회로기판의 비아홀 충진 방법의 공정도.1A to 1I are process diagrams of a via hole filling method of a conventional printed circuit board.
도 2는 종래 기술에 따른 인쇄회로기판의 비아홀 충진 방법을 이용하는 경우에 충진재의 돌출 부위의 단차로 인한 미연마를 설명하기 위한 도면.Figure 2 is a view for explaining the non-polishing due to the step of the projecting portion of the filler when using the via hole filling method of the conventional printed circuit board.
도 3a 내지 도 3m은 본 발명의 일실시예에 따른 인쇄회로기판의 비아홀 충진 방법의 공정도.3a to 3m is a process diagram of a via hole filling method of a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명.<Description of the symbols for the main parts of the drawings.
301 : 동박 적층판 302 : 비아홀301: copper foil laminated plate 302: via hole
303 : 동도금층 304 : 페이스트303: copper plating layer 304: paste
305 : 드라이필름 309 : 브러쉬305: dry film 309: brush
310 : 스쿼즈 320 : 제판310: Squads 320: Engraving
330 : 지그 350 : 잉크330: jig 350: ink
본 발명은 인쇄회로기판의 비아홀 충진 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 동박적층판에 비아홀을 가공한 후에 비아홀을 충진하고 스쿼즈로 평탄화한 후에 연마를 수행하도록 하여 충진재의 미연마를 방지할 수 있도록 하는 인쇄회로기판의 비아홀 충진 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of filling via holes in a printed circuit board, and more particularly, to process via holes in a copper-clad laminate and to fill the via holes and to flatten them with squeezes to prevent grinding of the fillers. The present invention relates to a via hole filling method of a printed circuit board.
최근 들어, 전자기기의 진보와 더불어 인쇄회로기판의 고밀도화 또는 다층화가 진행됨에 따라 이에 대응하기 위하여 새로운 다층 인쇄회로기판 제조법으로서 빌드업 공법이 도입되었다. In recent years, build-up methods have been introduced as a new multilayer printed circuit board manufacturing method in order to cope with the advancement of electronic devices with increasing density or multilayering of printed circuit boards.
상기 빌드업 방법으로는 층간 접속법으로서 도금을 통한 비아 홀 내벽의 도전화가 행해지고 있다. 그리고, 통상 비아 홀 내부에 절연수지 또는 도전성 페이스트를 충전하고 평탄화가 수행되고 있지만, 이 경우 평탄화에는 한계가 있다.As said buildup method, the via-hole inner wall through electroplating is performed as an interlayer connection method. In addition, although the insulating resin or the conductive paste is usually filled in the via hole and planarization is performed, the planarization is limited in this case.
도 1a 내지 도 1i는 종래 기술에 따른 인쇄회로기판의 비아홀 충진 방법의 공정도이다.1A to 1I are process diagrams of a via hole filling method of a printed circuit board according to the prior art.
도면을 참조하면, 종래 기술에 따른 인쇄회로기판의 비아홀 충진 방법은, 도 1a를 참조하면 기계적인 드릴링 작업에 의해 동박적층판(101)에 비아홀(102)을 가공한다Referring to the drawings, in the method of filling a via hole of a printed circuit board according to the related art, referring to FIG. 1A, a
동박적층판(101)은 위에서 설명한 바와 같이 수지등의 기초재료에 구리를 입힌 얇은 적층판을 말한다.As described above, the copper
그리고, 도 1b를 참조하면, 비아홀(102)이 형성된 동박적층판(101)에 1회 이상의 도금을 실시하여 비아홀(102)의 내주면과 기판 상하면에 제 1 도체층(103)을 형성한다. 이후에 전처리를 수행하여 표면에 조도를 형성하며 브러쉬를 사용하여 조도가 비아홀(102)의 내부에만 위치하도록 한다.Referring to FIG. 1B, the
다음에, 도 1c 및 도 1d를 참조하면, 도금된 비아홀(102) 내부에 지그(JIG)를 사용하여 절연재(104)를 충진하고(plugging)하고, 일정 온도에서 일정 시간동안 상기 절연재(104)를 경화시킨다. 도 1e를 참조하면, 상기 경화된 절연재(104)를 연마하여 비아홀(104a)을 형성한다.Next, referring to FIGS. 1C and 1D, the
다음에, 도 1f를 참조하면, 비아홀(104a) 및 제 1도체층(103) 위에 드라이 필름(105)을 적층(laminating)하고, 도 1g를 참조하면 도포된 필름(105)에 이미지를 형성하고 노광 및 현상에 의해 상기 제 1도체층(103)을 노출시킨다. Next, referring to FIG. 1F, a
이러한 과정은 통상적으로 화상형성공정으로 불리는데 배선패턴을 형성하기 위해서 배선패턴을 제1 도체층(103)으로 옮기는 과정이다. This process is commonly referred to as an image forming process, in which a wiring pattern is transferred to the
드라이 필름은 위에서 설명한 바와 같이 통상적으로 D/F로 표기되며, 필름 형태로 된 감광재와 신축성을 부여하기 위한 Mylar 필름 및 Cover 필름으로 이루어져 있다.As described above, the dry film is generally referred to as D / F, and consists of a photosensitive material in the form of a film and a Mylar film and a cover film for imparting elasticity.
다음에, 도 1h를 참조하면, 노출된 제 1도체층(103)을 에칭하여 원하는 형태의 제1 도체패턴(103a)을 형성하며, 도 1i를 참조하면 드라이 필름(105)을 도체패턴으로부터 박리시킨다.Next, referring to FIG. 1H, the exposed
한편, 도 1e의 절연재(104)의 연마시에 다수의 비아홀에 충진된 각각의 절연 재의 돌출 정도가 서로 상이하며 그 결과 브러쉬를 사용하여 표면의 연마시에 미연마가 발생되거나 과연마가 발생된다.On the other hand, when the
즉, 도 2에 도시된 바와 같이 브러쉬(110)을 사용하여 충진재(104a~104d)를 연마를 하게 되면 충진재(104a~104d)의 단차의 차이에 의해 압력을 균일하게 가하게 될 때 연마 정도가 상이하게 되어 미연마 또는 과연마가 발생된다.That is, as shown in FIG. 2, when the
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 본 발명은, 비아홀에 충진재의 충진후에 스쿼지를 사용하여 평탄화를 수행함으로써 충진재의 미연마를 방지할 수 있도록 하는 인쇄회로기판의 비아홀 충진 방법에 관한 것이다.The present invention has been made in order to solve the above problems, relates to a method for filling the via hole of the printed circuit board to prevent the unpolishing of the filler by performing a flattening using a squeegee after the filling of the filler in the via hole.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 동박 적층판에 복수의 비아홀을 가공하고 도금층을 형성하는 제 1단계; 상기 동박적층판의 복수의 비아홀에 페이스트를 충진하고 충진된 페이스트의 복수의 돌출 부위의 단차를 제거하는 제 2 단계; 및 상기 동박적층판을 연마한 후에 회로패턴을 형성하는 제 3 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object, the first step of processing a plurality of via holes in the copper foil laminate and forming a plating layer; A second step of filling paste into a plurality of via holes of the copper-clad laminate and removing steps of a plurality of protruding portions of the filled paste; And a third step of forming a circuit pattern after polishing the copper-clad laminate.
이제, 도 3a 이하의 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Now, with reference to the drawings of Figure 3a will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.
도 3a 내지 도 3i는 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 비아홀 충진 방법의 공 정도이다.3A to 3I show a ball hole filling method for a printed circuit board according to the present invention.
도면을 참조하면, 본 발명에 따른 인쇄회로기판의 비아홀 충진 방법은, 도 2a를 참조하면 절연층의 양측에 동박이 입혀진 동박적층판(301)을 준비한다.Referring to the drawings, in the via hole filling method of the printed circuit board according to the present invention, referring to FIG. 2A, a copper foil laminated
동박 적층판이라 함은 일반적으로 인쇄회로기판의 제조되는 원판으로서 절연층에 얇게 구리를 입힌 얇은 적층판을 말한다.Copper foil laminate refers to a thin laminate that is generally coated with a thin layer of copper as an original plate of a printed circuit board.
동박 적층판의 종류에는 그 용도에 따라, 유리/에폭시 동박적층판, 내열수지 동박적층판, 종이/페놀 동박적층판, 고주파용 동박적층판, 플렉시블 동박적층판(폴리이미드 필름) 및 복합 동박적층판 등 여러 가지가 있으나, 양면 PCB 및 다층 PCB 제작에는 주로 유리/에폭시 동박 적층판이 사용된다.There are various kinds of copper foil laminates such as glass / epoxy copper clad laminate, heat resistant resin copper clad laminate, paper / phenol copper clad laminate, high frequency copper clad laminate, flexible copper clad laminate (polyimide film) and composite copper clad laminate. Glass / epoxy copper clad laminates are mainly used for double-sided and multi-layer PCB fabrication.
도 3b에서, 동박적층판(301)에 드릴링 가공에 의해 층간 접속을 위한 비아홀(302)을 형성한다. 이 비아홀(302)은 기계적 드릴링을 사용할 수도 있고, YAG 레이저나 CO2 레이저를 사용할 수도 있다.In FIG. 3B, via
도3c에서, 무전해 동도금(303a) 및 전해 동도금(303b)을 행한다. 이때, 무전해 동도금(303a)을 먼저 행하고 그 다음 전해 동도금(303b)을 행한다. In Fig. 3C,
전해 동도금(303b)에 앞서 무전해 동도금(303a)을 실시하는 이유는 절연층 위에서는 전기가 필요한 전해 동도금(303b)을 실시할 수 없기 때문이다. The reason why
즉, 전해 동도금(303b)에 필요한 도전성 막을 형성시켜주기 위해서 그 전처리로서 얇게 무전해 동도금(303a)을 한다. 무전해 동도금(303a)은 처리가 어렵고 경제적이지 못한 단점이 있기 때문에, 회로 패턴의 도전성 부분은 전해동도금(303b)으로 형성하는 것이 바람직하다.In other words, in order to form the conductive film required for the
이후에, 도 3d에 도시된 바와 같이 전처리를 하여 표면에 조도를 부여하며, 조도가 형성된 부분을 비아홀(302)의 내부로 한정하기 위하여 도 3e에 도시된 바와 같이 브러쉬(309)로 연마를 한다.Thereafter, as shown in FIG. 3D, pretreatment gives roughness to the surface, and polishing is performed with the
그리고 나서, 도 3f에 도시된 바와 같이 비아홀(302)의 내벽에 형성된 무전해 및 전해 동도금층(303)을 보호하기 위해 페이스트(304)를 충진한다. Then, the
페이스트는 절연성의 잉크재질을 사용하는 것이 일반적이나, 인쇄회로기판의 사용 목적에 따라 도전성 페이스트도 사용될 수 있다. 도전성 페이스트는 주성분이 Cu, Ag, Au, Sn, Pb 등의 금속을 단독 또는 합금 형식으로 유기 접착제와 함께 혼합한 것이다. Although the paste generally uses an insulating ink material, a conductive paste may also be used depending on the purpose of the printed circuit board. The conductive paste is obtained by mixing a metal such as Cu, Ag, Au, Sn, Pb as a main component alone or in an alloy form with an organic adhesive.
이때, 도 3f에 도시된 바와 같이 스크린 인쇄법으로 페이스트(304)를 도포 하는데 있어서는 스퀴즈(310), 제판(320), 지그(330)가 필요하며, 제판(320)과 지그(330)는 홀(302)을 충진하기 위하여 기판(301)의 홀(302)에 맞게 제작된다. In this case, as shown in FIG. 3F, the
도 3g에 도시된 스크린 인쇄법에 의하면 페이스트(304)를 기판(301)에 인쇄하는 과정은 잉크(350)를 제판(320)위에 올려놓고 지그(330)위에 기판(301)을 안착시킨 후 스퀴즈(310)에 압력을 가하여 압뒤로 움직이며 인쇄를 진행하다.According to the screen printing method shown in FIG. 3G, the process of printing the
이후에, 도 3g에 도시된 바와 같이, 스쿼즈(310)을 사용하여 페이스트(304)를 평탄하게 해준다. Thereafter, as shown in FIG. 3G,
이렇게 스쿼즈(310)을 사용하여 페이스트(304)의 돌출부위를 평탄하게 해주면 페이스트(304)의 돌출부위의 단차를 최소화할 있게 되며 그에 따라 이후의 연마 작업에 있어서 미연마에 위한 불량을 방지할 수 있다.By using the
다음에, 도 3h에 도시된 바와 같이 브러쉬(309)를 사용하여 페이스트(304)의 돌출 부위를 연마하여 도 3i 처럼 평탄화하게 되며, 이때 스쿼즈(310)을 사용하여 페이스트(304)의 돌출부위의 단차를 최소화하였기 때문에 미연마 문제를 발생되지 않으며 과연마 또한 발생되지 않는다.Next, as shown in FIG. 3H, the protruding portion of the
다음에, 도 3j를 참조하면, 비아홀(304) 및 동도금층(303) 위에 드라이 필름(305)을 적층(laminating)하고, 도 3k를 참조하면 도포된 필름(305)에 이미지를 형성하고 노광 및 현상에 의해 상기 동도금층(303)을 노출시킨다. Next, referring to FIG. 3J, the
이러한 과정은 통상적으로 화상형성공정으로 불리는데 배선패턴을 형성하기 위해서 배선패턴을 동도금층(303)으로 옮기는 과정이다. This process is commonly referred to as an image forming process, in which a wiring pattern is transferred to a
드라이 필름은 위에서 설명한 바와 같이 통상적으로 D/F로 표기되며, 필름 형태로 된 감광재와 신축성을 부여하기 위한 Mylar 필름 및 Cover 필름으로 이루어져 있다.As described above, the dry film is generally referred to as D / F, and consists of a photosensitive material in the form of a film and a Mylar film and a cover film for imparting elasticity.
다음에, 도 3l를 참조하면, 노출된 동도금층(303)을 에칭하여 원하는 형태의 회로패턴을 형성하며, 도 3m를 참조하면 드라이 필름(305)을 도체패턴으로부터 박리시킨다.Next, referring to FIG. 3L, the exposed
이상 본 발명을 실시예를 통해 설명하였으나, 본 발명의 범위가 상기 실시예로 한정되는 것이 아니며 본 발명의 범위 내에서 다양한 변형이 가능하다. 본 발명의 범위는 이하의 특허청구범위의 해석에 의해서만 한정된다.Although the present invention has been described above by way of examples, the scope of the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications are possible within the scope of the present invention. It is intended that the scope of the invention only be limited by the following claims.
상기와 같은 본 발명에 따르면, 페이스트를 스쿼즈를 사용하여 돌출 부위의 단차를 제거하여 브러쉬에 의한 미연마를 방지할 수 있도록 하는 효과가 있다.According to the present invention as described above, there is an effect to prevent the polishing by the brush by removing the step of the protruding portion using the squeeze paste.
또한, 본 발명에 따르면, 페이스트를 스쿼즈를 사용하여 돌출부위의 단차를 제거하여 브러쉬를 사용하여 연마시에 과연마를 방지할 수 있도록 하는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, there is an effect of preventing over-polishing during polishing by using a brush by removing the step difference of the protruding portion by using a squeeze paste.
또한, 본 발명에 따르면, 종래 미연마 발생시에 재투입에 따른 시간을 절약할 수 있어 공정 시간 단축의 효과가 있다.In addition, according to the present invention, it is possible to save the time due to re-entry when conventional non-polishing occurs, there is an effect of shortening the process time.
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