KR100761391B1 - 노광 장치의 플레어 노이즈 제거방법 - Google Patents

노광 장치의 플레어 노이즈 제거방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100761391B1
KR100761391B1 KR1020010038857A KR20010038857A KR100761391B1 KR 100761391 B1 KR100761391 B1 KR 100761391B1 KR 1020010038857 A KR1020010038857 A KR 1020010038857A KR 20010038857 A KR20010038857 A KR 20010038857A KR 100761391 B1 KR100761391 B1 KR 100761391B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
projection
lens
flare noise
exposure apparatus
lenses
Prior art date
Application number
KR1020010038857A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20030002116A (ko
Inventor
임동규
Original Assignee
주식회사 하이닉스반도체
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 하이닉스반도체 filed Critical 주식회사 하이닉스반도체
Priority to KR1020010038857A priority Critical patent/KR100761391B1/ko
Publication of KR20030002116A publication Critical patent/KR20030002116A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100761391B1 publication Critical patent/KR100761391B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • G03F7/70941—Stray fields and charges, e.g. stray light, scattered light, flare, transmission loss
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70591—Testing optical components
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/7085—Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명은 렌즈 표면의 ARC가 파괴되더라도 플레어 노이즈를 효과적으로 제거할 수 있는 노광장치의 플레어 노이즈 제거방법을 제공한다.
본 발명에 따른 노광장치는, 순차적으로 배열된 제 1 및 제 2 집광렌즈와 제 2 집광렌즈 하부에 배치된 레티클로 이루어진 조명부와, 순차적으로 배열된 제 1 내지 제 3 투영렌즈와 제 3 투영렌즈 하부에 배치된 웨이퍼로 이루어진 투영부를 구비하고, 조명부, 투영부, 또는 조명부와 투영부 사이에, 소정의 개구를 갖는 노드 스크린을 배치하고, 상기 제1집광렌즈 및 제3투영렌즈에 인접한 위치에 자동세정시스템을 장착하여 플레어노이즈를 제거한다.
조명부, 투영부, 집광렌즈, 투영렌즈, 레티클, 노드 스크린

Description

노광 장치의 플레어 노이즈 제거방법{METHOD OF REMOVING FLARE NOISE FOR EXPOSURE APPARATUS}
도 1은 종래의 노광장치를 나타낸 도면.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 노광장치의 플레어 노이즈 제거방법을 설명하기 위한 도면.
※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10, 12, 30, 32 : 집광렌즈 16, 18, 36, 38, 42 : 투영렌즈
14, 34 : 레티클 20, 44 : 웨이퍼
40 : 노드 스크린 I : 조명부
P : 투영부 L : 광
N : 플레어 노이즈
본 발명은 노광장치의 플레어 노이즈 제거방법에 관한 것으로, 특히 렌즈 표 면의 ARC가 파괴되더라도 플레어 노이즈를 효과적으로 제거할 수 있는 노광장치의 플레어 노이즈 제거방법에 관한 것이다.
일반적으로, 플레어 노이즈(flare noise)는 노광장치 고유의 렌즈 결함이나 불완전한 렌즈들로 인한 입사광의 산란(scattering)에 의해 발생하며, 또는 마스크에서의 산란 등으로 인하여 마스크 패턴을 통과한 광과는 무관하게 렌즈를 떠돌다가 웨이퍼에 입사되는 광노이즈(light noise)를 말하며, 이러한 플레어 노이즈는 노광장치 내의 투영부 보다는 조명부에서 더 많이 발생한다.
이러한 플레어 노이즈를 방지하기 위하여, 종래에는 노광장치의 렌즈 표면에 반사방지코팅(ARC; anti-reflective coating)을 정교하게 하여 광의 산란 및 반사를 방지하였다.
도 1은 종래의 노광장치를 나타낸 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 노광장치는 크게 조명부(illumination part; I)와 투영부(projection part; P)로 구분되어 있다. 조명부(I)에는 집광렌즈(10, 12)와 레티클(14)이 구비되어 있고, 투영부(P)에는 투영렌즈(16, 18)와 웨이퍼(20)가 구비되어, 광원(미도시)으로부터 입사되는 광(L)이 집광렌즈(10, 12)를 통하여 집광된 후, 웨이퍼(20)의 표면에 광학적으로 결합된 위치에 배치된 레티클(14)에 조명되고, 레티클(14)의 마스크 패턴(미도시)이 투영렌즈(16, 18)을 통하여 웨이퍼(20) 상에 투영되어 전사된다.
그러나, 상술한 종래의 노광장치에서는 플레어 노이즈를 방지하기 위하여 조명부(I) 및 투영부(P)의 렌즈들(10, 12, 16, 18)의 표면에 ARC를 정교하게 하더라도, 노광시 ARC가 파괴되는 경우가 발생하여 플레어 노이즈(N)가 발생하게 된다.
또한, 조명부(I) 및 투영부(P)의 렌즈(10, 18)는 외부와 인접하게 배치되어 외부에 노출되므로, 렌즈(10, 18) 표면이 오염되기 쉽고, 이러한 오염 등에 의해서도 플레어 노이즈가 발생하게 된다.
이러한 플레어 노이즈는 전체적인 광의 세기(intensity)를 높이거나 불균일한 광분포를 초래하여, 에어리얼 이미지(aerial image)의 콘트라스트(contrast)를 저하시키고, 마스크 오픈 영역이 과도한 영역에서는 과노광 현상을 유발하여, 결과적으로 임계치수(CD; critical dimension)의 균일도 및 공정마진의 저하를 야기시킨다.
따라서, 본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 렌즈 표면의 ARC 가 파괴되더라도 플레어 노이즈를 효과적으로 제거할 수 있는 노광장치의 플레어 노이즈 제거방법을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 렌즈 표면에 발생하는 오염 등을 방지하여 플레어 노이즈를 효과적으로 제거할 수 있는 노광장치의 플레어 노이즈 제거방법을 제공하는 것이다.
상기 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 순차적으로 배열된 제 1 및 제 2 집광렌즈와 상기 제 2 집광렌즈 하부에 배치된 레티클로 이루어진 조명부와, 순차적으로 배열된 제 1 내지 제 3 투영렌즈와 상기 제 3 투영렌즈 하부에 배치된 웨이퍼로 이루어진 투영부를 구비하는 노광장치의 플레어 노이즈 제거방법으로서, 상기 조명부, 상기 투영부 또는 상기 조명부와 상기 투영부 사이에 소정의 개구를 갖는 노드 스크린을 배치하고, 상기 제1집광렌즈 및 제3투영렌즈에 인접한 위치에 자동세정시스템을 장착하여 플레어노이즈를 제거하는 노광장치의 플레어 노이즈 제거방법을 제공한다.
삭제
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 노광장치의 플레어 노이즈 제거방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 노광장치는 종래(도 1 참조)와 마찬가지로 크게 조명부(I)와 투영부(P)로 구분되고, 조명부(I)에는 순차적으로 배열된 제 1 및 제 2 집광렌즈(30, 32)와, 제 2 집광렌즈(32) 하부에 배치된 레티클(34)이 구비되어 있다. 그러나, 투영부(P)에는 종래와는 달리 순차적으로 배열된 제 1 내지 제 3 투영렌즈(36, 38, 42)와 제 3 투영렌즈(42) 하부에 배치된 웨이퍼(44) 뿐만 아니라, 웨이퍼(44)와 인접한 제 3 및 제 2 투영렌즈(38, 42) 사이에 소정의 개구(aperture)를 갖는 노드 스크린(nodal screen; 40)이 배치되어 있다. 여기서, 노드 스크린(40)은 반사에 의해 발생되는 플레어 노이즈를 차단하게 된다.
이에 따라, 광원(미도시)으로부터 입사되는 광(L)이 제 1 및 제 2 집광렌즈(30, 32)를 통하여 집광된 후, 웨이퍼(44)의 표면에 광학적으로 결합된 위치에 배치된 레티클(34)에 조명된다. 또한, 레티클(34)의 마스크 패턴(미도시)이 제 1 및 제 2 투영렌즈(36, 38)에 투영된 후, 예컨대 렌즈 표면의 ARC 등이 파괴된 불완전한 렌즈들에 의해 야기된 플레어 노이즈(N)가 노드 스크린(40)에 의해 제거된 후, 제 3 투영렌즈(42)를 통하여 웨이퍼(44) 상에 투영되어 전사된다.
상기 실시예에서는 플레어 노이즈를 차단하기 위한 노드 스크린(40)을 투영부(P)의 웨이퍼(44)와 인접한 제 3 및 제 2 투영렌즈(42, 38) 사이에 배치하였지만, 조명부(I)의 레티클(34)과 제 2 집광렌즈(32) 사이에 배치하거나, 레티클(34)과 투영부(P)의 제 1 투영렌즈(36) 사이에 배치하여도 플레어 노이즈를 효과적으로 제거할 수 있다.
또한, 도시되지는 않았지만, 노드 스크린(40)을 조명부(I)의 제 2 집광렌즈(32) 내부 또는 투영부(P)의 제 3 투영렌즈(42) 내부에 장착함으로써 플레어 노이즈를 제거할 수도 있다.
또한, 도시되지는 않았지만, 외부와의 노출에 의해 쉽게 오염되는 조명부(I) 및 투영부(P)의 제 1 집광렌즈(30) 및 제 3 투영렌즈(42)와 같은 외부노출부분과 인접한 위치에 자동세정시스템을 장착하여, 조명부(I) 및 투영부(P)의 외부노출부분을 세정함으로써 렌즈(30, 42) 표면의 오염을 완전히 제거한다. 이에 따라, 오염 등에 의해 야기되는 플레어 노이즈를 효과적으로 제거할 수 있다.
상술한 본 발명에 의하면, 조명부 또는 투영부의 소정 위치에 노드 스크린을 배치함으로써 렌즈 표면 상의 ARC 막의 파괴로 인해 야기되는 플레어 노이즈를 제거할 수 있고, 조명부 및 투영부의 외부노출부분과 인접한 위치에 자동세정시스템을 장착함으로써 오염으로 인해 야기되는 플레어 노이즈를 효과적으로 제거할 수 있다.
이에 따라, 노광공정시 플레어 노이즈에 의해 야기되는 임계치수의 균일도 및 공정마진등의 저하를 방지할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 요지를 벗어나지 않는 범위내에서 다양하게 변형시켜 실시할 수 있다.

Claims (7)

  1. 순차적으로 배열된 제 1 및 제 2 집광렌즈와 상기 제 2 집광렌즈 하부에 배치된 레티클로 이루어진 조명부와, 순차적으로 배열된 제 1 내지 제 3 투영렌즈와 상기 제 3 투영렌즈 하부에 배치된 웨이퍼로 이루어진 투영부를 구비하는 노광장치의 플레어 노이즈 제거방법으로서,
    상기 조명부, 상기 투영부 또는 상기 조명부와 상기 투영부 사이에 소정의 개구를 갖는 노드 스크린을 배치하고,
    상기 제1집광렌즈 및 제3투영렌즈에 인접한 위치에 자동세정시스템을 장착하여 플레어노이즈를 제거하는 노광장치의 플레어 노이즈 제거방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 노드 스크린을 상기 조명부의 상기 레티클과 상기 제 2 집광렌즈 사이에 배치하는 것을 특징으로 하는 노광장치의 플레어 노이즈 제거방법.
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 노드 스크린을 상기 투영부의 제 3 및 제 2 투영렌즈 사이에 배치하는 것을 특징으로 하는 노광장치의 플레어 노이즈 제거방법.
  5. 삭제
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 노드 스크린을 상기 레티클과 상기 제 1 투영렌즈 사이에 배치하는 것을 특징으로 하는 노광장치의 플레어 노이즈 제거방법.
  7. 삭제
KR1020010038857A 2001-06-30 2001-06-30 노광 장치의 플레어 노이즈 제거방법 KR100761391B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010038857A KR100761391B1 (ko) 2001-06-30 2001-06-30 노광 장치의 플레어 노이즈 제거방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010038857A KR100761391B1 (ko) 2001-06-30 2001-06-30 노광 장치의 플레어 노이즈 제거방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20030002116A KR20030002116A (ko) 2003-01-08
KR100761391B1 true KR100761391B1 (ko) 2007-10-04

Family

ID=27712750

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020010038857A KR100761391B1 (ko) 2001-06-30 2001-06-30 노광 장치의 플레어 노이즈 제거방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100761391B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102263962A (zh) 2004-12-10 2011-11-30 韩国电子通信研究院 对多视图视频进行统一编码的装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06232030A (ja) * 1993-02-01 1994-08-19 Nikon Corp 露光方法及び露光装置
JPH06232031A (ja) * 1993-02-01 1994-08-19 Nikon Corp 露光装置
KR19980033184A (ko) * 1996-10-25 1998-07-25 미타라이 후지오 전자빔노광장치
KR19990082973A (ko) * 1998-04-06 1999-11-25 가네꼬 히사시 주사 노광용 포토 마스크 및 주사 노광 방법 및 주사 노광 장치
KR20000027620A (ko) * 1998-10-28 2000-05-15 김영환 노광장비에서의 플레어 노이지 감소용 슬리트
KR100281208B1 (ko) * 1993-02-01 2001-04-02 오노 시게오 주사형 노광 장치, 및 그 장치를 이용한 소자 제조 방법

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06232030A (ja) * 1993-02-01 1994-08-19 Nikon Corp 露光方法及び露光装置
JPH06232031A (ja) * 1993-02-01 1994-08-19 Nikon Corp 露光装置
KR100281208B1 (ko) * 1993-02-01 2001-04-02 오노 시게오 주사형 노광 장치, 및 그 장치를 이용한 소자 제조 방법
KR19980033184A (ko) * 1996-10-25 1998-07-25 미타라이 후지오 전자빔노광장치
KR19990082973A (ko) * 1998-04-06 1999-11-25 가네꼬 히사시 주사 노광용 포토 마스크 및 주사 노광 방법 및 주사 노광 장치
KR20000027620A (ko) * 1998-10-28 2000-05-15 김영환 노광장비에서의 플레어 노이지 감소용 슬리트

Also Published As

Publication number Publication date
KR20030002116A (ko) 2003-01-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100564094B1 (ko) 진공식 파편 제거 시스템
EP0725423B1 (en) A process for device fabrication using projection lithography and an apparatus therefor
KR100761391B1 (ko) 노광 장치의 플레어 노이즈 제거방법
US7074525B2 (en) Critical dimension control of printed features using non-printing fill patterns
JP2004349648A (ja) 半導体露光装置の自己洗浄方法と自己洗浄用透過板
KR100438663B1 (ko) 반도체장치의 플레어 노이즈 검출 방법
KR100727700B1 (ko) 반도체 제조용 노광장비의 조명 시스템
JP2503696B2 (ja) 投影露光装置
KR20000042473A (ko) 노광장비에서 노이즈 제거방법
KR960006358Y1 (ko) 스탭퍼 조명계내 집속렌즈부의 이물질 제거장치
KR200151379Y1 (ko) 반도체 스테퍼장비의 조명계
KR20070036237A (ko) 스테이지와 스테이지 세정 방법, 이를 갖는 노광 장치
KR100777588B1 (ko) 반도체 제조용 노광 장비의 조명 장치
KR100567519B1 (ko) 레티클 오염을 방지하는 펠리클 및 그 제조방법
KR0147426B1 (ko) 포토마스크 장치
KR20060122417A (ko) 파티클 제거 장치 및 이를 포함하는 반도체 기판 가공 설비
KR200183548Y1 (ko) 반도체 노광장비의 어퍼츄어 구조
KR20020021690A (ko) 노광 장치
KR100237742B1 (ko) 스텝퍼 리턱션 렌즈
KR100236712B1 (ko) 반도체 스테퍼설비의 조명계장치
US5837403A (en) Photomask for removing the notching phenomenon
KR20050066812A (ko) 반도체 노광장비의 노이즈 제거장치 및 제거방법
KR100646555B1 (ko) 반도체 노광 시스템
KR20010066466A (ko) 반도체 노광장비의 마스크 블레이드 자동설정장치
JPH04131854A (ja) 縮小投影露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
G170 Re-publication after modification of scope of protection [patent]
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20100825

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee