KR100753859B1 - Method and apparatus for cleaning needle of probe card using laser beam - Google Patents
Method and apparatus for cleaning needle of probe card using laser beam Download PDFInfo
- Publication number
- KR100753859B1 KR100753859B1 KR1020060039914A KR20060039914A KR100753859B1 KR 100753859 B1 KR100753859 B1 KR 100753859B1 KR 1020060039914 A KR1020060039914 A KR 1020060039914A KR 20060039914 A KR20060039914 A KR 20060039914A KR 100753859 B1 KR100753859 B1 KR 100753859B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- laser beam
- probe card
- needle
- scanning
- laser
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/30—Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
- H01L22/34—Circuits for electrically characterising or monitoring manufacturing processes, e. g. whole test die, wafers filled with test structures, on-board-devices incorporated on each die, process control monitors or pad structures thereof, devices in scribe line
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/0035—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like
- B08B7/0042—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like by laser
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
Abstract
Description
도 1은 반도체 웨이퍼 소자의 특성 검사에서 프로브카드 니들에 이물이 묻는 과정을 보여주는 도면. 1 is a view illustrating a process in which foreign matter is placed on a probe card needle in a property test of a semiconductor wafer device.
도 2는 본 발명에 따른 바람직한 실시예의 프로브카드 니들 세정방법을 설명하기 위해 개략적으로 도시한 도면.Figure 2 is a schematic diagram illustrating a probe card needle cleaning method of a preferred embodiment according to the present invention.
도 3은 본 발명에 적용되는 프로브카드를 개략적으로 도시한 평면도.Figure 3 is a plan view schematically showing a probe card applied to the present invention.
도 4는 본 발명에 따른 바람직한 실시예의 프로브카드 니들 세정방법을 설명하기 위해 개략적으로 도시한 도면.Figure 4 is a schematic diagram illustrating a probe card needle cleaning method of a preferred embodiment according to the present invention.
도 5는 본 발명에 따른 바람직한 실시예의 프로브카드 니들 세정장치를 개략적으로 도시한 도면.Figure 5 schematically shows a probe card needle cleaning apparatus of a preferred embodiment according to the present invention.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>
1 프로브카드 11 니들1
2 레이저빔 21 레이저빔 주사영역2 Laser Beam 21 Laser Beam Scanning Area
3 레이저 발생부 4 레이저빔 주사부3
5 흡입장치 6 제어부5
41 렌즈군 42 다면경41
본 발명은 프로브카드 니들의 세정 분야에 관한 것으로, 특히 반도체 웨이퍼의 전기적 특성을 검사하는 프로브카드 니들을 레이저빔을 이용하여 세정하는 방법 및 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
웨이퍼의 단일 소자인 칩은 하나의 완성된 반도체 패키지로 구동되기까지는 많은 공정을 거쳐야한다. 그 공정을 크게 나누면 웨이퍼 생산과 전공정(FAB:Fabrication), 조립(Assembly) 등으로 나누어진다. 특히 전공정에서 웨이퍼 상에 복수개의 반도체 소자가 형성되며, 복수개의 반도체 소자인 칩은 전기적 특성검사(Electrical Die Sorting : EDS)를 거친다. 이런 전기적 특성검사는 각각의 반도체 소자의 양, 불량을 선별한다. 이는 미리 불량인 반도체의 수리하거나 전공정에서의 문제점을 조기에 수정하여, 마지막 작업인 패키지 검사에서 검출되는 불량을 줄여서 원가를 절감하고자 하는 것이다.A chip, a single device on a wafer, must go through many processes before being driven into one complete semiconductor package. The process is divided into two categories: wafer production, fabrication (FAB), and assembly. In particular, a plurality of semiconductor devices are formed on a wafer in a previous process, and the chips, which are a plurality of semiconductor devices, are subjected to electrical die sorting (EDS). This electrical property test screens the quantity and defect of each semiconductor device. This is to reduce costs by repairing defective semiconductors in advance or correcting problems in the entire process at an early stage, thereby reducing defects detected in package inspection, which is the final operation.
전기적 특성 검사 장치는 테스터(tester)와 프로브 설비(probe system)를 포함하며, 이 프로브 설비에 웨이퍼 상의 반도체 소자의 전극 패드와 기계적으로 접촉되는 프로브 카드가 설치된다. 프로브 카드는 매우 가는 프로브 니들(Probe needle)을 인쇄회로 기판에 고정시켜 놓은 것으로서, 도 1의 (a)~(c)에 나타낸 바 와 같이, 검사를 위해 니들이 웨이퍼의 반도체 소자(7)의 전극 패드에 접촉하면서 웨이퍼 패드를 이물, 즉 주로 알루미늄(Al)이 미량으로 프로브 카드 니들에 묻어 나오는 문제가 발생한다. 이로인해 니들 팁 끝단에 묻은 이물은 다음 테스트 대상의 웨이퍼 패드에 옮겨지거나 칩의 전기적 특성의 오차를 발생할 수 있다. 프로브 니들 팁에 붙은 이물질로 인해 정상 칩도 불량으로 나타날 수 있다. 따라서, 이러한 프로브카드 니들을 정기적으로 세정하여야 한다.The electrical property inspection apparatus includes a tester and a probe system, in which a probe card is provided which is in mechanical contact with electrode pads of semiconductor elements on the wafer. The probe card is a very thin probe needle (Probe needle) fixed to the printed circuit board, as shown in Figs. The foreign matter, that is, mainly aluminum (Al) is buried in the probe card needle while the pad is in contact with the pad. As a result, foreign material on the tip of the needle tip may be transferred to the wafer pad of the next test target or may cause errors in the chip's electrical characteristics. Foreign material on the probe needle tip may cause the normal chip to fail. Therefore, these probe card needles should be cleaned regularly.
기존의 프로브카드 니들의 세정 방법은 세라믹을 이용하여 떨어내는 기계적/화학적인 세정 방법이 널리 이용되었다. 또한, 종래기술로서 2005년 7월 7일자로 공개된 공개특허공보 10-2005-71117호와 같이 공기 및 브러쉬를 이용하여 떨어내는 세정 방법이 있다. 그러나 위와 같은 기존의 방법들은 공히 기계적인 접촉에 의해 이물을 떨어내는 방식으로서 니들 팁부위의 마모나 니들의 정렬도 불량과 같은 손상을 빈번히 일으킨다.Conventional probe card needle cleaning method has been widely used to remove the mechanical / chemical cleaning method using a ceramic. In addition, as a prior art, there is a cleaning method using air and a brush, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 10-2005-71117 published on July 7, 2005. However, the conventional methods, such as the foreign material to remove the foreign body by mechanical contact, causing frequent damage such as abrasion of the needle tip portion or misalignment of the needle.
본 발명은 이러한 종래의 프로브 카드 세정 방법에 따른 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 니들의 손상없이 프로브카드 니들에 묻어 있는 이물을 효과적으로 제거하는, 프로브카드 니들의 세정방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the problem according to the conventional probe card cleaning method, it is an object of the present invention to provide a cleaning method of the probe card needle, which effectively removes foreign matter on the probe card needle without damaging the needle. .
본 발명의 다른 목적은 위와 같은 개선된 방법을 구현하는 프로브카드 니들의 세정 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a cleaning device for a probe card needle implementing the above improved method.
본 발명의 프로브카드 니들 세정방법은: 레이저빔을 주사(走査, scanning)하여 프로카드 니들에 부착된 이물을 연소시켜서 제거하는 것을 특징으로 한다.The probe card needle cleaning method of the present invention is characterized in that: by scanning a laser beam, foreign substances attached to the pro card needle are burned and removed.
이러한 기계적 접촉이 배제된 구성에 의해, 니들의 손상이 거의 발생하지 않는 안정적인 세정이 구현된다.By the configuration in which such mechanical contact is excluded, stable cleaning with little damage to the needle is realized.
바람직하게는 연소에 의해 생성되는 연소가스를 흡입장치로 흡입한다.Preferably, the combustion gas produced by the combustion is sucked into the suction device.
이에 의해 니들을 포함한 프로브카드의 재오염을 방지하고 공정라인의 청결도를 유지할 수 있다.This prevents recontamination of the probe card including the needle and maintains the cleanliness of the process line.
바람직하게 레이저빔의 주사는 니들의 배열방향을 따라 각 니들에 이루어지되, 각 니들의 끝단부 100um 이내에 조사(照射)되도록 하여 주사하여 신속한 작업 진행을 도모한다.Preferably, the scanning of the laser beam is made to each needle in the direction of the arrangement of the needle, and is scanned to be irradiated within 100 um of the end of each needle, so as to promptly progress the work.
또한, 이물은 주로 알루미늄을 포함하는 금속물이다.In addition, the foreign material is a metal material mainly containing aluminum.
또한 바람직하게 레이저빔의 주사는, 프로브카드를 스테이지에 안착시켜서 고정하고 레이저빔 방향의 변경에 의해 주사되도록 한다.Also preferably scanning of the laser beam is secured by mounting the probe card on the stage and scanning by changing the laser beam direction.
이와 같이 구성은 스캔모터와 같은 서보기구의 채용으로 구현될 수 있으며, 모션 스테이지에 비해 매우 빠르게 신속하게 작업이 진행될 수 있다.In this way, the configuration can be implemented by employing a servo mechanism such as a scan motor, and the work can be performed very quickly and quickly compared to the motion stage.
구체적으로 세정 방법은: 프로브카드를 스테이지에 안착시키는 과정; 프로브카드의 각 니들팁 부위에 연속적으로 조사되도록 레이저빔을 주사하여 니들에 묻은 이물을 연소시키는, 레이저빔 주사과정; 및 흡입장치로 연소가스를 흡입하는 과정을 포함하고, 레이저빔의 주사과정은 프로브카드를 스테이지에 안착시켜서 고정하 고 레이저빔 방향의 변경에 의해 주사되는 것을 특징으로 한다.Specifically, the cleaning method includes: mounting a probe card on a stage; A laser beam scanning process of burning a foreign material on the needle by scanning the laser beam to continuously irradiate each needle tip portion of the probe card; And a process of sucking the combustion gas into the suction device, wherein the scanning process of the laser beam is fixed by mounting the probe card on the stage and scanning by changing the laser beam direction.
본 발명의 프로브카드 니들에 레이저빔을 주사하여 이물을 연소시키는 세정 장치는: 레이저 발생부; 레이저 발생부로부터 입사되는 레이저빔을 소정방향으로 주사하도록 서보제어가 가능한 레이저빔 주사부; 및 레이저 발생부 및 상기 주사부를 제어하는 제어부를 포함한다.The cleaning apparatus for burning a foreign material by scanning a laser beam on the probe card needle of the present invention comprises: a laser generating unit; A laser beam scanning unit capable of servo control to scan the laser beam incident from the laser generating unit in a predetermined direction; And a controller configured to control a laser generator and the scan unit.
또한, 바람직하게는 연소가스를 흡입하는 흡입장치를 더 포함한다.In addition, preferably further comprises a suction device for sucking the combustion gas.
또한 바람직하게 레이저빔 주사부는: 조절가능한 하나 이상의 렌즈군; 조절가능한 하나 이상의 반사경; 및 렌즈군 및/또는 반사경을 조절하는 하나 이상의 서보구동기를 포함하는 것을 특징으로 한다.Also preferably the laser beam scanning unit comprises: at least one adjustable lens group; One or more adjustable reflectors; And at least one servo driver for adjusting the lens group and / or the reflector.
이하, 첨부된 도 2 내지 도 5를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying Figures 2 to 5 will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명에 따른 바람직한 실시예의 프로브카드 니들 세정방법을 설명하기 위해 개략적으로 도시한 도면이다. 도 3은 본 발명에 적용되는 프로브카드를 개략적으로 도시한 평면도이다. 도 4는 본 발명에 따른 바람직한 실시예의 프로브카드 니들 세정방법을 설명하기 위해 개략적으로 도시한 도면이다. 도 5는 본 발명에 따른 바람직한 실시예의 프로브카드 니들 세정장치를 개략적으로 도시한 도면이다.2 is a view schematically illustrating a probe card needle cleaning method according to a preferred embodiment of the present invention. Figure 3 is a plan view schematically showing a probe card applied to the present invention. 4 is a view schematically illustrating a probe card needle cleaning method according to a preferred embodiment of the present invention. 5 is a view schematically showing a probe card needle cleaning apparatus of a preferred embodiment according to the present invention.
본 발명의 프로브카드 니들 세정방법은 레이저빔을 주사하여 프로카드 니들에 부착된 이물, 특히 알루미늄과 같은 금속성 이물을 태워서 없애는 것이다.The probe card needle cleaning method of the present invention is to burn off the foreign material attached to the procard needle, in particular, the metallic foreign material such as aluminum by scanning a laser beam.
이를 위해, 도 2에서와 같이, 먼저 프로브카드(1)를 세정장치의 스테이지(미도시)에 안착시킨다.To this end, as shown in FIG. 2, the
이어, 프로브카드(1)의 각 니들(11) 팁부위에 레이저빔(2)이 연속적으로 조사되도록 주사한다. 이해의 편의를 위해, 도 2는 본 발명의 프로브카드 세정장치의 일부를 나타내었다.Subsequently, the
프로브카드(1)의 니들(11)은 일반적으로 텅스텐 재질이며, 니들(11)의 팁부위에 묻어있는 알루미늄과 같은 이물은 레이저빔(2)에 의해 연소된다.The
레이저는 예를 들어, Nd:YAG 고체 레이저로서, 출력대는 10 내지 20W 이며, 주파수(레이저 펄스 반복율)은 5 내지 50kHz 의 범위에서 설정될 수 있다. 또한, 레이저의 파장은 대략 1064nm이며, 빔의 스폿사이즈(spot size)는 60 내지 120um 범위에서 가변할 수 있다. 니들(11)의 끝 단면이 보통 20um 정도이므로 작업 시간을 최소화하기 위해 빔 사이즈와 출력이 상호 연동해서 가변될 수 있다. 따라서, 바람직한 레이저빔(2)의 조사는 니들(11)의 끝단부에서 바람직하게는 100um 이내, 더 바람직하게는 50um 이내에서 이루어지도록 하여 빠른 주사 진행을 도모하도록 한다. 그 결과, 도 3과 도 4에서 알 수 있는 바와 같이, 대략적으로 점선(21)으로 표시한 부분을 레이저빔 주사영역으로 설정될 수 있다.The laser is, for example, an Nd: YAG solid state laser, the output band is 10 to 20 W, and the frequency (laser pulse repetition rate) can be set in the range of 5 to 50 kHz. In addition, the wavelength of the laser is approximately 1064 nm, and the spot size of the beam may vary in the range of 60 to 120 um. Since the end cross section of the
레이저빔(2)의 주사는 프로브카드(1)를 스테이지(미도시)에 안착시켜서 고정하고 스캔모터(미도시)와 같은 서보기구를 이용한 주사부(4)에 의해 레이저빔 방향의 변경에 따른 주사를 하는 것이 빠른 공정 진행을 획득할 수 있다. 서보기구에 의한 레이저빔 주사는 모션 스테이지에 비해 훨씬 빠르게 주사가 이루어지기 때문 이다. 이 부분에 대해서는 본 발명은 프로브카드 세정장치에 관한 도 5의 설명에서 다시 설명한다.The scanning of the
이물의 연소가 진행될 때, 흡입장치(5)로 연소가스를 흡입하는 과정을 병행한다. 니들(11)에 묻어있던 이물이 레이저빔(2)에 의해 연소되어 미세 입자의 연소가스가 좌우에 설치되어 있는 흡입장치를 통해 모두 제거됨으로써, 니들(11)을 재오염시키는 것을 방지함과 동시에 주변 다른 공정에 영향을 주는 것을 방지할 수 있다. 공정이 진행되는 곳은 통상 클린룸이므로 공정 중에 발생할 수 있는 먼지는 외부로 유출되어서는 안되기 때문이다. 레이저로 인해 태워진 이물은 거의 무게를 무시할 정도의 연기와 같으므로 통상의 흡입력을 갖는 흡입장치로 쉽게 제거할 수 있다. 더 바람직하게는 흡입장치에 의한 공기의 흐름을 니들(11)에 있어서 레이저에 노출되는 반대 방향에서 시작하여 상층부로 흡입되도록 하는 것이 좋다. 프로브카드 니들(11) 영역이 작게는 20 x 30 mm부터 크게는 120 x 120mm 이므로 프로브 카드(1)의 모델별로 흡입장치를 다양하게 변경하여 적용시킬 수 있다.When the foreign material is burned, the process of sucking the combustion gas with the
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 세정장치는, 도 2 및 도 5를 참조하여, 레이저 발생부(3)와 레이저 발생부로부터 입사되는 레이저빔(2)을 소정방향으로 주사하도록 서보제어가 가능한 레이저빔 주사부(4)와 레이저 발생부(3) 및 레이저빔 주사부(4)를 제어하는 제어부(6)를 포함한다.In the cleaning apparatus according to the preferred embodiment of the present invention, with reference to FIGS. 2 and 5, a laser capable of servo control to scan the
레이저빔 주사부(4)는 바람직하게 조절가능한 하나 이상의 렌즈군(41)을 포함한다. 또한, 도시하지는 않았지만 일반적인 레이저 주사장치와 마찬가지로 레이저 발생부(3)로부터 발생된 레이저를 집광하는 집광렌즈군이 포함될 수 있다. 또한 조절가능한 하나 이상의 반사경, 예를 들어 다면경(42)을 포함한다. 이 다면경은 제어부(6)의 제어신호에 따라 서보구동부(미도시)의 일부요소인 서보모터(미도시)에 의해 제어 구동된다. 기본적으로 다면경(42)이 회전 될 때 입사된 레이저빔(2)은 여러 방향으로 반사되며, 이때, 렌즈군(41) 또한 공지의 서보구동부의 다른 요소(미도시)에 의해 제어 구동되어 레이저빔이 제어된 방향으로 주사될 수 있다. 예를 들어 프로브카드(1)의 모델 형태에 따라 횡방향 또는 종방향으로 주사되거나 미리 원하는 주사 패턴으로 주사할 수 있다. 마찬가지로 렌즈군(41)의 서보구동도 제어부(6)의 제어신호에 따라 제어된다. 다면경의 서보구동에 의한 레이저빔의 주사 방식은 이미 널리 이용되는 공지의 방식이므로 자세한 설명은 생략한다.The laser
또한, 이미 설명한 바 있고, 도 2에서는 나타낸 흡입장치는 도 5에서는 생략되었지만, 본 발명의 프로브카드 니들 세정장치는 흡입장치(5)를 포함한다. 흡입장치(5) 역시도 제어부(6)에 제어신호에 따라 가동 여부가 제어될 수 있다.In addition, although the suction device shown in FIG. 2 has already been described and omitted in FIG. 5, the probe card needle cleaning device of the present invention includes the
본 발명의 프로브카드 니들 세정방법 및 장치는 기존의 기계 화학적 세정 방식에 비해 마모 손실이나 정렬도 훼손과 같은 니들의 손상이 거의 발생하지 장점이 있으며, 신속하고 효과적인 세정작업이 이루어질 수 있다.Probe card needle cleaning method and apparatus of the present invention has the advantage that almost no damage to the needle, such as abrasion loss or alignment is damaged compared to the conventional mechanical chemical cleaning method, it can be performed quickly and effectively cleaning.
Claims (9)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060039914A KR100753859B1 (en) | 2006-05-03 | 2006-05-03 | Method and apparatus for cleaning needle of probe card using laser beam |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060039914A KR100753859B1 (en) | 2006-05-03 | 2006-05-03 | Method and apparatus for cleaning needle of probe card using laser beam |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100753859B1 true KR100753859B1 (en) | 2007-08-31 |
Family
ID=38615897
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060039914A KR100753859B1 (en) | 2006-05-03 | 2006-05-03 | Method and apparatus for cleaning needle of probe card using laser beam |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100753859B1 (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9322849B2 (en) | 2012-02-06 | 2016-04-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Methods and systems for cleaning needles of a probe card |
KR102119189B1 (en) * | 2019-01-25 | 2020-06-08 | 주식회사 쎄믹스 | Wafer prober |
KR20200080443A (en) * | 2018-12-26 | 2020-07-07 | 주식회사 쎄믹스 | Wafer prober being capable of sliding a head plate |
CN115415251A (en) * | 2022-09-15 | 2022-12-02 | 武汉理工大学 | Laser cleaning system and method for voice coil motor rotating mirror |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010019489A (en) * | 1999-08-27 | 2001-03-15 | 윤종용 | Probing device having cleaner |
KR20020018285A (en) * | 2000-09-01 | 2002-03-08 | 박종섭 | Wafer prober with cleaning function |
KR20050071117A (en) * | 2003-12-31 | 2005-07-07 | 동부아남반도체 주식회사 | System for cleaning probe card needle |
-
2006
- 2006-05-03 KR KR1020060039914A patent/KR100753859B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010019489A (en) * | 1999-08-27 | 2001-03-15 | 윤종용 | Probing device having cleaner |
KR20020018285A (en) * | 2000-09-01 | 2002-03-08 | 박종섭 | Wafer prober with cleaning function |
KR20050071117A (en) * | 2003-12-31 | 2005-07-07 | 동부아남반도체 주식회사 | System for cleaning probe card needle |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9322849B2 (en) | 2012-02-06 | 2016-04-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Methods and systems for cleaning needles of a probe card |
KR20200080443A (en) * | 2018-12-26 | 2020-07-07 | 주식회사 쎄믹스 | Wafer prober being capable of sliding a head plate |
KR102172933B1 (en) | 2018-12-26 | 2020-11-03 | 주식회사 쎄믹스 | Wafer prober being capable of sliding a head plate |
KR102119189B1 (en) * | 2019-01-25 | 2020-06-08 | 주식회사 쎄믹스 | Wafer prober |
CN115415251A (en) * | 2022-09-15 | 2022-12-02 | 武汉理工大学 | Laser cleaning system and method for voice coil motor rotating mirror |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1249526C (en) | Lithographic apparatus, apparatus cleaning method, device manufacturing method and device manufactured thereby | |
KR102285101B1 (en) | Inspection method, inspection apparatus, laser machining apparatus and expansion apparatus of workpiece | |
KR102345187B1 (en) | Wafer processing method | |
KR100797787B1 (en) | Dry cleaning system using a laser | |
KR100742279B1 (en) | Apparatus and method for manufacturing semiconductor device | |
KR100897356B1 (en) | Method and apparatus of cleaning a substrate | |
US6827816B1 (en) | In situ module for particle removal from solid-state surfaces | |
KR20060055457A (en) | Dicing apparatus | |
KR100753859B1 (en) | Method and apparatus for cleaning needle of probe card using laser beam | |
JPWO2019221285A1 (en) | Work separation device and work separation method | |
JP7012824B2 (en) | Polymer Resin Molded Compound-based substrate cutting method and its system | |
US20220023975A1 (en) | Unsealing method of semiconductor device package and unsealing device of semiconductor device package | |
JPH09248692A (en) | Laser marking device | |
KR20100070159A (en) | Th1e fabricating meth1od of wafer | |
JP3660741B2 (en) | Method for manufacturing electronic circuit device | |
JP2007245235A (en) | Laser machining apparatus and laser machining method | |
KR100389133B1 (en) | Exposure apparatus for manufacturing semiconductor device and method for operating its | |
JP7037425B2 (en) | How to detect the focal position of the laser beam | |
JP2009152289A (en) | Laser dicing apparatus and dicing method | |
KR102312237B1 (en) | Pulse laser beam spot shape detection method | |
JP2004531734A (en) | Inspection system and method for transparent mask substrate | |
JPH10216664A (en) | Laser cleaning device | |
JP4292389B2 (en) | Foreign matter removal method and foreign matter removal device | |
KR20170053113A (en) | Wafer processing method | |
JP2001300450A (en) | Method and apparatus for cleaning for reticule, and method for producing reticule |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
G170 | Publication of correction | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120824 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130826 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140822 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150824 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |