KR100738543B1 - 반도체용 고순도 일산화질소 정제장치와 이를 이용한정제방법 - Google Patents
반도체용 고순도 일산화질소 정제장치와 이를 이용한정제방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (4)
- 일산화질소의 불순물을 제거하여 고순도의 일산화질소를 정제하는 장치에 있어서,일산화질소(NO)에 포함된 수분과 이산화 탄소를 제거하도록 직렬로 다수개 연결되는 제습장치(10)와;상기 제습장치(10)를 통과한 일산화질소를 영하의 온도로 냉각시켜 불순물을 기체상태와 액체상태로 각각 분리하는 기화 및 액화장치(20)와;상기 기화 및 액화장치(20)에서 분리되어진 고순도 일산화질소를 저장하는 저장탱크(30)와;상기 기화 및 액화장치(20)에서 분리되어진 기체 불순물을 스크러버(50)로 배출하는 배출펌프(40)와;상기 기화 및 액화장치(20)에서 분리되어진 액체 불순물을 스크러버(50)로 배출하는 배출구와;상기 기체 및 액체 불순물을 정화시키는 스크러버(50);를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체용 고순도 일산화질소 정제장치.
- 제 1항에 있어서,상기 기화 및 액화장치(20)는 일산화질소에 포함된 불순물을 분리하는 분리통(21)과, 상기 분리통(21)의 외부를 감싸며 분리통(21)의 온도를 자동으로 조절하 는 가스가 주입되는 온도조절통(22)과, 상기 온도조절통(22)을 상하로 이동시키는 리프팅장치(23)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체용 고순도 일산화질소 정제장치.
- 일산화질소의 불순물을 제거하는 제거장치를 이용한 방법에 있어서,일산화질소가 저장된 통에서 공급되는 일산화질소를 다단으로 이루어진 제습장치(10)에 통과시켜 수분과 이산화탄소를 제거하는 제거단계와;(S10)상기 제습장치(10)를 통과한 일산화질소가 저장된 기화 및 액화장치(20)의 온도를 영하160℃로 유지시켜 비점이 높은 기체상태로 변환된 불순물을 배출펌프(40)를 통해 스크러버(50)로 배출시키는 제 1 배출단계와;(S20)상기 기화 및 액화장치(20)의 온도를 영하70℃이하로 유지시켜 일산화질소를 비점이상으로 온도를 상승시켜 기체상태로 변환하여 고순도 일산화질소를 저장탱크(30)로 배출시켜 일산화질소를 저장하는 일산화질소 저장단계와;(S30)상기 기화 및 액화장치(20)에서 고순도 일산화질소를 배출한 뒤 남는 액체상태인 불순물을 배출구를 통해 스크러버(50)로 배출하는 제 2 배출단계;(S40)를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체용 고순도 일산화질소 정제장치를 이용한 정제방법.
- 제 3항에 있어서,상기 제 2 배출단계(S40)에서 액체상태의 불순물을 배출할때 분리통(21) 내 부에 헬륨가스를 주입하여 설정된 압력상태를 형성하여 배출구를 통해 배출하는 것을 특징으로 하는 반도체용 고순도 일산화질소 정제장치를 이용한 정제방법.
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