KR100720437B1 - Cleaning Device - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 56
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 description 2
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
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- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
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Abstract
본 발명은 롤 브러시를 회전과 동시에 진동시킴으로써 롤 브러시 포결의 치우침을 방지하여 세정력을 증대시키는 세정 장치에 관한 것으로서, 특히 기판을 세정하는 세정 장치에 있어서, 상기 기판을 이송시키는 복수의 반송 롤러; 상기 기판 상에 세정수를 분사하는 샤워; 상기 기판의 전면에 설치되어 회전함과 동시에 진동하여 상기 기판의 전면을 세정하는 복수의 제 1 롤 브러시; 상기 복수의 제 1 롤 브러시 각각에 대응되도록 상기 기판의 배면에 설치되어 회전함과 동시에 진동하여 상기 기판의 배면을 세정하는 복수의 제 2 롤 브러시; 상기 제 1 롤 브러시와 상기 제 2 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 서로 다른 방향으로 회전축에 평행하게 진동시키기 위한 구동모터를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning apparatus that increases cleaning power by preventing roll brush trapping by vibrating a roll brush simultaneously with rotation, and particularly, a cleaning apparatus for cleaning a substrate, comprising: a plurality of conveying rollers for conveying the substrate; A shower spraying washing water on the substrate; A plurality of first roll brushes installed on the front surface of the substrate and rotating and vibrating to clean the front surface of the substrate; A plurality of second roll brushes installed on a rear surface of the substrate so as to correspond to each of the plurality of first roll brushes, and rotating and simultaneously vibrating to clean the rear surface of the substrate; And a drive motor for rotating the first roll brush and the second roll brush and simultaneously vibrating parallel to the rotation axis in different directions.
롤 브러시, 세정력, 진동 Roll brush, cleaning power, vibration
Description
도 1은 종래 기술에 의한 세정 장치를 상부에서 바라본 도면.1 is a view from above of a cleaning apparatus according to the prior art;
도 2는 종래 기술에 의한 세정 장치의 측면도.2 is a side view of a cleaning apparatus according to the prior art.
도 3은 종래 기술에 의한 세정 장치의 문제점을 설명하기 위한 롤 브러시의 부분 정면도,3 is a partial front view of a roll brush for explaining the problem of the cleaning apparatus according to the prior art,
도 4는 본 발명에 의한 세정 장치를 상부에서 바라본 도면.Figure 4 is a view from above of the cleaning apparatus according to the present invention.
도 5는 본 발명에 의한 세정 장치의 측면도.5 is a side view of the cleaning apparatus according to the present invention.
*도면의 주요 부분에 대한 부호설명* Explanation of symbols on the main parts of the drawings
11 : 기판 12 : 롤 브러시11: substrate 12: roll brush
14 : 반송롤러 14: conveying roller
본 발명은 세정 장치에 관한 것으로, 특히 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 진동(Oscillation)시키면서 기판의 표면 오염을 제거하는 세정 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래 기술에 따른 세정 장치를 설명하면 다음 과 같다.Hereinafter, a cleaning apparatus according to the prior art will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 종래 기술에 의한 세정 장치를 상부에서 바라본 도면이고, 도 2는 종래 기술에 의한 세정 장치의 측면도이다.1 is a view of a conventional cleaning apparatus from above, and FIG. 2 is a side view of the conventional cleaning apparatus.
그리고, 도 3은 종래 기술에 의한 세정 장치의 문제점을 설명하기 위한 롤 브러시의 부분 정면도이다,And FIG. 3 is a partial front view of the roll brush for demonstrating the problem of the washing | cleaning apparatus by a prior art,
도 1 및 도 2를 참고하여 종래 기술에 의한 세정 장치를 살펴보면, 세정할 기판(1)의 상,하측에 적어도 하나 이상 설치된 롤 브러시(2)와, 상기 롤 브러시(2)에 연결되어 상기 롤 브러시를 회전하도록 구동시키는 구동모터(미도시)와, 상기 기판(1) 상,하부 측에 각각 위치하여 상기 기판(1)을 향해 세정수를 분사시키는 파이프 샤워(미도시)와, 상기 기판(1)을 로딩부(Loader)에서 언로딩부(Unloader)까지 정지시키지 않고 계속 이동시켜 주는 반송롤러(4)로 구성된다.Referring to FIGS. 1 and 2, a cleaning apparatus according to the related art is described. At least one
이 때, 상기 세정 장치에 의해 세정되는 기판은 액정표시소자의 기판, 반도체 기판 등 다양하게 응용 가능하다.In this case, the substrate cleaned by the cleaning apparatus may be variously applied to a substrate of a liquid crystal display device, a semiconductor substrate, and the like.
상기와 같이 구성된 세정 장치는 상기 기판(1)이 이동하는 방향과 반대 방향 또는 같은 방향으로 상기 롤 브러시(2)를 회전시켜 그 상호 회전력에 의해 세정이 이루어지도록 한다.The cleaning apparatus configured as described above rotates the
또한, 상기 파이프 샤워에서는 상기 롤 브러시(2)의 오염을 제거하고, 제거된 오염 입자의 비산을 방지하고, 상기 기판(1) 상에 남아있는 유기오염을 제거하고 또한, 기판과 롤 브러시와의 계면 마찰을 줄일 수 있도록 하기 위해 초순수를 분사한다. In addition, the pipe shower removes the contamination of the
이때, 상기 기판(1)의 표면에 존재하는 오염의 제거정도는 상기 롤 브러시(2)의 회전력, 상기 기판(1)과 롤 브러시(2)의 밀착력, 상기 기판(1)의 이동속도, 상기 롤 브러시(2)의 포결상태 등에 의해서 결정된다.In this case, the degree of removal of contamination present on the surface of the
특히, 상기 롤 브러시(2)의 포결상태는 회전에 의해 시간이 지남에 따라 변하게 되는데, 기판과 접촉되는 롤 브러시(2)의 표면의 포털(3)이 도 3에 도시된 바와 같이 한쪽 방향으로 치우치게 되어 오염 제거 능력이 떨어진다.In particular, the trapping state of the
즉, 상기와 같은 종래의 세정 장치는 다음과 같은 문제점이 있다.That is, the conventional cleaning apparatus as described above has the following problems.
기존의 세정 장치는 롤 브러시의 회전만으로 기판을 세정하는데, 시간이 경과함에 따라 기판과의 마찰에 의해 롤 브러시의 포결이 한 쪽 방향으로 치우치게 되어 계속적으로 그 상태를 유지한다.The conventional cleaning apparatus cleans the substrate only by the rotation of the roll brush. As time passes, trapping of the roll brush is biased in one direction due to friction with the substrate, thereby maintaining the state continuously.
따라서, 포결이 치우친 부위의 입자 제거력이 떨어지게 되어 기판의 전표면에 대한 균일한 세정이 불가능하게 된다.Therefore, the particle removal force at the portion where the swelling is biased is reduced, making it impossible to uniformly clean the entire surface of the substrate.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 기판 세정시 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 회전축 방향으로 진동시켜 줌으로써 롤 브러시 포결의 치우침을 방지하여 세정력을 증대시키는 세정 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, to provide a cleaning device to increase the cleaning power by preventing the roll brush trapping by vibrating in the direction of the rotation axis while rotating the roll brush when cleaning the substrate. There is this.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 세정 장치는 기판을 세정하는 세정 장치에 있어서, 상기 기판을 이송시키는 복수의 반송 롤러; 상기 기판 상에 세정수를 분사하는 샤워; 상기 기판의 전면에 설치되어 회전함과 동시에 진동하여 상기 기판의 전면을 세정하는 복수의 제 1 롤 브러시; 상기 복수의 제 1 롤 브러시 각각에 대응되도록 상기 기판의 배면에 설치되어 회전함과 동시에 진동하여 상기 기판의 배면을 세정하는 복수의 제 2 롤 브러시; 상기 제 1 롤 브러시와 상기 제 2 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 서로 다른 방향으로 회전축에 평행하게 진동시키기 위한 구동모터를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.In the cleaning apparatus of the present invention for achieving the above object, a cleaning apparatus for cleaning a substrate, comprising: a plurality of conveying rollers for transporting the substrate; A shower spraying washing water on the substrate; A plurality of first roll brushes installed on the front surface of the substrate and rotating and vibrating to clean the front surface of the substrate; A plurality of second roll brushes installed on a rear surface of the substrate so as to correspond to each of the plurality of first roll brushes, and rotating and simultaneously vibrating to clean the rear surface of the substrate; And a drive motor for rotating the first roll brush and the second roll brush and simultaneously vibrating parallel to the rotation axis in different directions.
즉, 기판 세정시 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 회전축에 평행하게 진동시켜줌으로써 롤 브러시 포결의 치우침을 방지하고 또한, 세정 방향을 종축 및 횡축으로 동시에 행하여 세정력을 증대시킨다.In other words, by rotating the roll brush at the time of cleaning the substrate and vibrating in parallel with the rotation axis, the roll brush trapping is prevented from being biased, and the cleaning direction is simultaneously performed on the vertical axis and the horizontal axis to increase the cleaning power.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 세정 장치를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the cleaning apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 4는 본 발명에 의한 세정 장치를 상부에서 바라본 도면이고, 도 5는 본 발명에 의한 세정 장치의 측면도이다.4 is a view of the cleaning apparatus according to the present invention seen from above, and FIG. 5 is a side view of the cleaning apparatus according to the present invention.
도 4 및 도 5를 참고하여 본 발명에 의한 세정 장치를 살펴보면, 세정할 기판(11)의 상,하측에 적어도 하나 이상 설치된 롤 브러시(12)와, 상기 롤 브러시(12)에 연결되어 상기 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 회전축에 평행하게 진동되도록 롤 브러시를 구동시켜 주는 구동모터(미도시)와, 상기 기판(1) 상,하부 측에 각각 위치하여 상기 기판(11)을 향해 세정수를 분사시켜 주는 파이프 샤워(미도시)와, 상기 기판(11)을 로딩부(Loader)에서 언로딩부(Unloader)까지 정지시키지 않고 계속 이동시키는 반송롤러(14)로 구성된다.Looking at the cleaning apparatus according to the present invention with reference to Figures 4 and 5, at least one
이 때, 세정 장치에 의해 세정되는 상기 기판(11)은 액정표시소자의 유리기판, 반도체 기판 등 그 종류를 불문한다.At this time, the
그리고, 상기 기판(11)의 상면과 롤 브러시(roll brush)(12)는 서로 밀착되도록 설치되어 상기 롤 브러시가 회전 및 진동할 때, 상기 기판(11) 상의 오염이 제거되도록 한다.In addition, the upper surface of the
상기와 같이 구성된 세정 장치는 상기 기판(11)의 이동 방향과 반대방향 또는 같은방향으로 상기 롤 브러시(12)를 회전시킴과 동시에 회전축에 평행하도록 롤 브러시를 진동시켜 기판이 이중으로 세정되도록 한다.The cleaning apparatus configured as described above rotates the
이와 같이 진동시킬 때, 서로 대응되는 상,하측의 롤 브러시가 같은 방향으로 진동되어도 되고 서로 다른 방향으로 진동되어도 된다.When vibrating in this manner, the upper and lower roll brushes corresponding to each other may vibrate in the same direction or may vibrate in different directions.
이로써, 세정 장치의 세정력이 증대된다.This increases the cleaning power of the cleaning device.
또한, 회전과 동시에 롤 브러시를 진동시켜 줌으로써 롤 브러시의 포결이 한 쪽 방향으로 치우치는 것도 방지된다.In addition, by vibrating the roll brush at the same time as the rotation, trapping of the roll brush is prevented from biasing in one direction.
따라서, 롤 브러시 자체의 오염 입자 제거 능력이 향상되고 수명이 길어진다. Therefore, the dirt removal ability of the roll brush itself is improved and its life is long.
상기 파이프 샤워에서는 상기 롤 브러시(12)의 오염을 제거하고, 제거된 오염 입자의 비산을 방지하고, 상기 기판(11) 상에 남아있는 유기오염을 제거할 수 있도록 하기 위해 초순수를 분사한다. In the pipe shower, ultrapure water is sprayed to remove the contamination of the
상기와 같은 본 발명의 세정 장치는 다음과 같은 효과가 있다.The cleaning device of the present invention as described above has the following effects.
첫재, 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 회전축에 평행하게 진동시켜줌으로써 롤 브러시 포결의 치우침이 방지되어 오염 제거 능력이 향상되고 기판 전면에 대한 균일한 세정이 가능하게 되어 세정 불량이 감소한다.First, by rotating the roll brush and simultaneously vibrating parallel to the axis of rotation, the roll brush trapping is prevented, so that the decontamination ability is improved and uniform cleaning of the entire surface of the substrate is possible, thereby reducing the cleaning failure.
둘째, 롤 브러시의 장기 사용이 가능하게 된다. Second, long-term use of the roll brush is possible.
셋째, 기판 세정시 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 진동시켜 이중으로 세정하므로 세정력이 현저히 증대된다. Third, the cleaning power is remarkably increased because the roll brush is rotated at the same time as the substrate cleaning, and the vibration is simultaneously cleaned.
따라서, 세정력이 증대됨과 동시에 생산성이 향상된다.Therefore, the washing power is increased and the productivity is improved.
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020000083063A KR100720437B1 (en) | 2000-12-27 | 2000-12-27 | Cleaning Device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020000083063A KR100720437B1 (en) | 2000-12-27 | 2000-12-27 | Cleaning Device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20020053427A KR20020053427A (en) | 2002-07-05 |
KR100720437B1 true KR100720437B1 (en) | 2007-05-22 |
Family
ID=27686802
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020000083063A KR100720437B1 (en) | 2000-12-27 | 2000-12-27 | Cleaning Device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100720437B1 (en) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
AMND | Amendment | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
AMND | Amendment | ||
B701 | Decision to grant | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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