KR100716851B1 - Method of making glass structures for flat panel display - Google Patents

Abstract

플라즈마가 어드레스된 액정 디스플레이와 같은 평면 패널 디스플레이에 사용하기 위한 글라스 기판과 절연 글라스층 사이에 샌드위치된 리브 구조 조립체가 많은 방법에 의해 제조된다. 하나의 방법은 열가소성 글라스 프릿 함유 페이스트를 리브 구조로 주조하는 단계와, 상기 리브 구조를 드럼상의 얇은 투명 열가소성 절연 글라스 프릿 함유 조성물층에 전달하는 단계 및 상기 얇은 투명 절연 글라스층 함유 조성물층과 함께 상기 리브 구조를 위에 이미 금속성 전극을 가진 글라스 기판에 전달하는 단계를 포함한다. A rib structure assembly sandwiched between a glass substrate and an insulating glass layer for use in a flat panel display, such as a plasma addressed liquid crystal display, is manufactured by many methods. One method comprises casting a thermoplastic glass frit containing paste into a rib structure, transferring the rib structure to a thin transparent thermoplastic insulating glass frit containing composition layer on a drum and the thin transparent insulating glass layer containing composition layer together Transferring the rib structure to a glass substrate already having a metallic electrode thereon.

리브, 액정, 디스플레이 패널, 플라즈마. 전극.Rib, liquid crystal, display panel, plasma. electrode.

Description

평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법{METHOD OF MAKING GLASS STRUCTURES FOR FLAT PANEL DISPLAY}Glass structure manufacturing method for flat panel display {METHOD OF MAKING GLASS STRUCTURES FOR FLAT PANEL DISPLAY}

도 1은 종래의 플라즈마가 어드레스된 액정(PALC) 디스플레이의 단면도이고,1 is a cross-sectional view of a conventional plasma addressed liquid crystal (PALC) display,

도 2a 내지 도 2k는 PALC 디스플레이를 제조하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 제조 단계를 도시한 도면이며, 2A to 2K illustrate manufacturing steps according to an embodiment of the present invention for manufacturing a PALC display.

도 3a 내지 도 3b는 본 발명의 실시예에 따라 금속 코어를 제공하고 브릿지 구조를 첨가하는 단계를 도시한 도면이고, 3A-3B illustrate the steps of providing a metal core and adding a bridge structure in accordance with an embodiment of the invention,

도 4a는 본 발명의 실시예에 따른 방법을 구현하기 위한 예시적 구조를 도시한 도면이다 .4A illustrates an exemplary structure for implementing a method according to an embodiment of the present invention.

본 출원은 "디스플레이 패널용 불투명 리브 구조 제조방법"(대리인 참조-P14063)으로 1998년 12월 21일자로 출원된 유럽특허 출원번호 제 98403244.1호 및 1999년 1월 25일자로 출원된 미합중국 출원번호 제 60/117,158호; 및 1997년 3월 18일자로 출원된 미합중국 출원번호 제 08/820,206호와 관련된 기술에 관한 것으로, 이는 참고로 본 명세서에 반영되었다.This application is directed to European Patent Application No. 98403244.1, filed Dec. 21, 1998, and US Application No. No. 1, filed Jan. 25, 1999, entitled "Method of Manufacturing Opaque Rib Structure for Display Panel" (Representative Reference-P14063). 60 / 117,158; And US Patent No. 08 / 820,206, filed March 18, 1997, which is incorporated herein by reference.

본 발명은 평면 패널 디스플레이 분야에 관한 것으로, 특히 플라즈마가 어드레스된 액정(PALC) 디스플레이 제조방법에 관한 것이다. TECHNICAL FIELD The present invention relates to the field of flat panel displays, and more particularly, to a method of manufacturing a plasma addressed liquid crystal display.

평면 패널 디스플레이, 예를 들어 액정 디스플레이가 알려져 있다. 최근, 액정 디스플레이(LCD)를 어드레스하기 위한 플라즈마 채널의 사용이 알려졌다. 예를 들어, 모두 본 명세서에 참고로 반영된 미합중국 특허 제 4,896,149호, 제 5,036,317호, 제 5,077,553호, 제 5,272,472호 및 제 5,313,223호는 각각 전술한 구조에 관한 것이다. 이러한 형식의 디스플레이 기술은 고선계수(high-line-count) 디스플레이에 적합한 활성 어드레싱 매트릭스를 제공하며, 공지된 박막 트랜지스터(TFT) 활성 매트릭스 기술을 경쟁적으로 대체할 수 있다. Flat panel displays, for example liquid crystal displays, are known. Recently, the use of plasma channels to address liquid crystal displays (LCDs) has been known. For example, US Pat. Nos. 4,896,149, 5,036,317, 5,077,553, 5,272,472, and 5,313,223, all of which are incorporated herein by reference, relate to the foregoing structures. This type of display technology provides an active addressing matrix suitable for high-line-count displays and can competitively replace known thin film transistor (TFT) active matrix technologies.

또한, 본 명세서에서 상기 플라즈마 채널 패널은 플라즈마가 어드레스된 액정(PALC) 디스플레이로 칭한다. 이러한 형식의 플라즈마 디스플레이 패널은 일반적으로 서로에게서 분리되어 그 사이에 방전 공간을 형성하는 2개의 평행 기판으로 이루어지며, 상기 공간은 헬륨, 네온 및 제논의 혼합물과 같은 방전 가스로 채워진다. 각 기판의 내향면은 이격된 평행 전극 패턴을 지지하되, 하나의 기판상의 전극은 예를 들어, 다른 기판상의 전극 방향에 수직인 방향을 향하게 된다. 상기 기판 표면을 지지하는 전극은 통상적으로 절연층으로 덮히고, 적색, 녹색 및 청색 형광체가 2개의 기판중 하나 위의 절연층의 내표면상의 불연속 구역에 분리되어 위치된다. 상기 절연층은 요구되는 균일도와 형식에 따라 일반적으로 500 내지 600℃사이에서 가열된 납이 깔린 글라스 프릿(frits)이다. 디스플레이된 화상은 하나의 기판 전극과 다른 기판의 전극 사이에 적당한 전압을 가함으로써 상기 가스에 국부적으 로 유도되는 플라즈마 방전에 의해 생성된다. 상기 가스 방전에 의해 국부적으로 방출되는 자외선광은 이웃한 형광체의 발광을 유도하게 된다. The plasma channel panel is also referred to herein as a plasma addressed liquid crystal (PALC) display. Plasma display panels of this type generally consist of two parallel substrates which are separated from each other and form a discharge space therebetween, which is filled with a discharge gas such as a mixture of helium, neon and xenon. Inward faces of each substrate support spaced parallel electrode patterns, with the electrodes on one substrate being oriented perpendicular to, for example, the direction of the electrodes on the other substrate. Electrodes supporting the substrate surface are typically covered with an insulating layer, and red, green and blue phosphors are located separately in discrete areas on the inner surface of the insulating layer on one of the two substrates. The insulating layer is leaded glass frits heated generally between 500 and 600 ° C. depending on the required uniformity and type. The displayed image is produced by a plasma discharge locally induced in the gas by applying an appropriate voltage between one substrate electrode and another electrode of the other substrate. Ultraviolet light locally emitted by the gas discharge induces light emission from neighboring phosphors.

PALC 디스플레이는 평행 채널 내부에 제한된, 예를 들어 헬륨과 같은 상대적으로 저압(예를 들어, 10 내지 100 Torr)가스의 매우 비선형적인 전자 운동에 의존한다. PALC 디스플레이(100)의 부분 단면이 도 1에 도시되어 있다. 한쌍의 평행 전극(101A; 아노드)(101C; 케소드)이 예를 들어, 채널의 하부를 형성하는 후단 글라스 판(101G)상의 각 채널(102)에 위치되고, 예를 들어 약 50㎛ 두께의 글라스 마이크로 시트인 매우 얇은 절연 시트(103)가 상기 채널(102)의 상부를 형성한다. 상기 마이크로 시트(103) 상부의 액정층(104)이 디스플레이(100)의 광학적 활성부이다. 상기 플라즈마 채널(102)에 수직하며 예를 들어, 인듐-틴 옥사이드(ITO)로 제조된 투과성 전도 전극이 구비되고, 예를 들어, 약 1.1㎜의 비활성 글라스 판인 커버 시트(105)가 상기 액정(104) 상부에 놓인다. 또한, 다른 종래의 액정 디스플레이에서 발견되는 것과 유사한 종래의 편광자(106), 유색 필터(107) 및 백 라이트(108)가 도시된 바와 같이 사용될 수 있다. PALC displays rely on very nonlinear electron motion of relatively low pressure (eg, 10 to 100 Torr) gases, such as, for example, helium inside the parallel channel. A partial cross section of a PALC display 100 is shown in FIG. 1. A pair of parallel electrodes 101A (anode) 101C (cathode) is located in each channel 102 on the trailing glass plate 101G, for example, which forms the bottom of the channel, for example about 50 μm thick. A very thin insulating sheet 103, which is a glass microsheet of, forms the top of the channel 102. The liquid crystal layer 104 on the micro sheet 103 is an optically active portion of the display 100. The cover sheet 105, which is perpendicular to the plasma channel 102 and is made of, for example, indium-tin oxide (ITO), is, for example, an inert glass plate of about 1.1 mm, is the liquid crystal ( 104) It is placed on top. In addition, conventional polarizers 106, colored filters 107, and backlight 108 similar to those found in other conventional liquid crystal displays can be used as shown.

상기 투과성 전극에 전압이 인가될 때, 접지면이 없기 때문에 전압은 상기 액정, 마이크로 시트, 플라즈마 채널 및 상기 투과성 전극과 가상 접지가 되는 모든 것 사이에 삽입된 다른 절연체 사이로 분배된다. 실질적으로, 이는 플라즈마 채널에 플라즈마가 존재하지 않았다면, 상기 액정에서의 전압 강하는 미약할 것이고, 상기 투과성 전극과 플라즈마 채널가 교차하여 형성된 화소는 스위치하지 않을 것이다. 그러나, 먼저 상기 가스를 이온화하기 충분한 전압차가 플라즈마 채널의 전 극쌍 사이에 인가된다면, 상기 플라즈마 채널에는 플라즈마가 형성되어 전도성이 되며, 접지면을 구성하게 된다. 그 결과, 상기 채널상의 화소때문에, 전압은 액정과 마이크로 시트 사이에서만 분배될 것이다. 이는 액정에 상당량의 전압을 제공하여 화소가 스위치되도록 한다. 상기 채널에 플라즈마를 가열시킴으로써 채널상의 행(row)이 선택되도록 한다. 상기 전극쌍사이에 양호하게 한정된 한계 전압이 도달할 때까지 채널 내부의 가스는 비전도성이기 때문에, 상기 행은 선택되지 않는다면 열(column) 전압으로부터 매우 잘 격리된다. 이러한 높은 비선형성은 콘트라스트 손실없이 많은 수의 행이 어드레스되도록 한다. When a voltage is applied to the transmissive electrode, because there is no ground plane, the voltage is distributed between the liquid crystal, the micro sheet, the plasma channel and another insulator inserted between the transmissive electrode and everything that is virtual ground. In practice, this would be a slight voltage drop in the liquid crystal if no plasma was present in the plasma channel, and the pixels formed by the intersection of the transparent electrode and the plasma channel would not switch. However, if a voltage difference sufficient to ionize the gas is first applied between the pair of poles of the plasma channel, plasma is formed in the plasma channel to become conductive and constitute a ground plane. As a result, because of the pixels on the channel, the voltage will only be distributed between the liquid crystal and the micro sheet. This provides a considerable amount of voltage to the liquid crystal so that the pixels are switched. Heating the plasma in the channel causes the row on the channel to be selected. Since the gas inside the channel is non-conductive until a well defined limit voltage between the electrode pairs is reached, the row is very well isolated from the column voltage if not selected. This high nonlinearity allows a large number of rows to be addressed without contrast loss.

이웃한 영역간의 발광 혼선을 피하고 디스플레이에서의 콘트라스트를 개선하기 위하여, 불투명 차단 리브(110)가 상기 기판중 적어도 하나(통상적으로 후단의 기판)에 위치되어 전기적으로 절연된 방전 셀을 형성한다. 상기 차단 리브 구조는 패널 해상도에 따라 통상적으로 예를 들어 200㎛ 내지 400㎛ 피치의 주기를 갖는다. 이들 리브는 예를 들어 약 30 내지 100㎛의 폭과 100 내지 200㎛의 두께(즉, 높이)를 갖는다. In order to avoid emission crosstalk between neighboring regions and to improve contrast in the display, an opaque blocking rib 110 is placed on at least one of the substrates (typically the rear substrate) to form an electrically insulated discharge cell. The blocking rib structure typically has a period of, for example, 200 μm to 400 μm pitch, depending on the panel resolution. These ribs have, for example, a width of about 30-100 μm and a thickness (ie, height) of 100-200 μm.

선택적으로, 각 변이 약 200 내지 400㎛인 정사각형 셀을 갖는 폐쇄형 셀 형태가 채용되었다. 이러한 정사각형 셀을 형성하는 "리브"는 약 30㎛ 내지 70㎛의 폭과 약 30 내지 약 200㎛의 높이를 갖는다. 이러한 형식의 플라즈마 패널이 예를 들어, 일본특허 출원번호 제 J04255638호 및 제 J04075232호 뿐만 아니라, 미합중국 특허 제 4,853,590호에 기재되어 있다. 전술한 평행 차단 리브 네트워크는 독립적으로 어드레스될 수 있는 화소의 열의 범위를 정한다. 상기 전극의 2개의 수직 네트워크는 선택된 화소에서 가스의 이온화를 허용하게 된다. 상기 이온화된 가스에 의해 방출되는 자외선은 디스플레이될 이미지의 형태에 따라 상기 화소와 관련된 형광체 구역을 활성화시키게 된다.Optionally, a closed cell form with square cells each side of about 200 to 400 μm was employed. The “ribs” that form such square cells have a width of about 30 μm to 70 μm and a height of about 30 μm to about 200 μm. Plasma panels of this type are described, for example, in Japanese Patent Application Nos. J04255638 and J04075232, as well as in US Pat. No. 4,853,590. The aforementioned parallel blocking rib network delimits a column of pixels that can be addressed independently. Two vertical networks of the electrodes allow ionization of the gas at the selected pixel. The ultraviolet light emitted by the ionized gas activates the phosphor region associated with the pixel, depending on the shape of the image to be displayed.

상기 PALC 디스플레이는 플라즈마를 액정으로부터 분리하기 위해 사용되는 얇은 마이크로 시트에 좌우된다. 상기 마이크로 시트는 가능한 높은 절연상수로 가능한 얇아서(예를 들어 1.5 내지 2 mils), 이를 통과하는 전압강하를 최소화하여야 한다. 현재의 디스플레이 제조자는 예를 들어 Schott사가 제조한 30 내지 50㎛ 두께의 D-263 마이크로 시트와 같은 단일, 모놀리틱 마이크로 시트를 사용한다. 그러나, 이들 대형 글라스 시트는, 크고 얇은 마이크로 시트의 유용성이 제조될 수 있는 PALC 디스플레이의 크기에 잠재적 한계가 되기 때문에 제조가 어렵다. The PALC display depends on a thin micro sheet used to separate the plasma from the liquid crystal. The microsheets should be as thin as possible (eg 1.5 to 2 mils) with the highest dielectric constant possible, to minimize the voltage drop across them. Current display manufacturers use single, monolithic microsheets, such as, for example, 30-50 μm thick D-263 microsheets manufactured by Schott. However, these large glass sheets are difficult to manufacture because the utility of large and thin microsheets is a potential limitation on the size of PALC displays that can be produced.

과거에 상기 차단 리브는 통상적으로 실크 스크린, 또는 프릿의 침지층을 샌드브라스팅함으로써 제조되었다. 따라서, 상기 차단 리브 사이의 채널은 글라스 기판으로 에칭하거나, 스크린 인쇄와 같은 적층 공정으로 기판상에 글라스 벽체를 세워 제조하였다. 그러나, 채널 에칭은 통상적으로 채널의 하부를 둥글게 만든 반면, 벽체를 형성하기 위해 물질을 세우는 것은 수직하지 않은 측벽을 만들게 된다. 이 모든 조건은 패널의 광투과성에 악영향을 준다. 또한, 일반적으로 높은 종횡비를 가진 리브 구조의 제조는 상기 글라스 마이크로 시트의 평활도를 일치시키기 위한 리브 상부 연마공정을 포함하는 많은 제조단계를 필요로 한다. In the past the barrier ribs were typically produced by sandblasting the immersion layer of a silk screen, or frit. Thus, the channels between the blocking ribs were etched into a glass substrate, or a glass wall was formed on the substrate by a lamination process such as screen printing. However, channel etching typically rounds the bottom of the channel, while erecting material to form a wall results in non-vertical sidewalls. All these conditions adversely affect the light transmission of the panel. Also, the production of rib structures with high aspect ratios generally requires a number of manufacturing steps, including a rib top polishing process to match the smoothness of the glass microsheets.

따라서, 전술한 문제점을 해결하고 공지된 PALC 디스플레이 제조공정의 한계를 극복하는 방법이 요구된다. Therefore, there is a need for a method that solves the above problems and overcomes the limitations of known PALC display manufacturing processes.

본 발명은 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 전술한 문제점을 해결하여 개선된 구조와 낮은 제조 비용을 실현하는 방법을 제공한다. The present invention provides a method of manufacturing a glass structure for a flat panel display. The present invention also provides a method for solving the above-mentioned problems to realize an improved structure and a lower manufacturing cost.

관련 미합중국 출원번호 제 08/820,206호에는 차단 리브 형성을 위한 마이크로 주조 공정이 기재되어 있다. 본 발명의 공정에 따라, 상기 마이크로 주조 기술을 PALC 구조의 제조에 통합시킴으로써, 전술한 많은 문제점을 극복하고 상기 구조의 제조를 위한 단순화된 공정을 제공한다. Related United States Application No. 08 / 820,206 describes a micro casting process for forming barrier ribs. In accordance with the process of the present invention, by incorporating the micro casting technique into the fabrication of PALC structures, it overcomes many of the problems described above and provides a simplified process for the fabrication of such structures.

본 발명의 특징에 따라, 플라즈마가 어드레스된 액정 디스플레이에 사용하기 위한 유리 기판사이의 리브 구조 조립체 제조방법은: (a) 공동을 가진 몰드를 제공하는 단계; (b) 리브 구조를 형성하기 위하여 상기 몰드 공동에 글라스 페이스트를 제공하는 단계; (c) 콜렉터 드럼상에 얇은 투과 글라스층을 형성하는 단계; (d) 상기 몰드로부터 콜렉터 드럼상의 얇은 투과 글라스층에 리브 구조를 전달하는 단계; 및 (e) 상기 콜렉터 드럼으로부터 글라스 기판으로 리브 구조와 얇은 투과 글라스층을 전달하는 단계를 포함한다. According to a feature of the invention, a method of manufacturing a rib structure assembly between glass substrates for use in a plasma addressed liquid crystal display comprises: (a) providing a mold having a cavity; (b) providing a glass paste in the mold cavity to form a rib structure; (c) forming a thin transparent glass layer on the collector drum; (d) transferring the rib structure from the mold to a thin transparent glass layer on the collector drum; And (e) transferring the rib structure and the thin transparent glass layer from the collector drum to the glass substrate.

본 발명의 특징에 따라, 상기 몰드는 실리콘과 같은 양호한 릴리스(release) 특성을 나타내는 물질로 제조된 연질 음각 몰드이다. 본 발명의 다른 특징에 따라, 상기 몰드는 실리콘과 같은 양호한 릴리스 특성을 나타내는 물질로 제조된 두꺼운 관통 시트이다. 본 발명의 또 다른 특징에 따라, 상기 글라스 페이스트는 경화성, 응고성 또는 가소성(이하, 통합하여 "가소성"이라 칭함) 유기 바인더를 가진 글라 스 프릿이다. According to a feature of the invention, the mold is a soft intaglio mold made of a material exhibiting good release properties such as silicone. According to another feature of the invention, the mold is a thick through sheet made of a material exhibiting good release properties such as silicone. According to another feature of the invention, the glass paste is a glass frit with a curable, solidifying or plastic (hereinafter collectively referred to as "plastic") organic binder.

본 발명의 다른 특징에 따라, 상기 글라스 기판은 사진 석판술, 스크린 인쇄술, 마이크로 주조술 또는 다른 종래의 방법으로 형성된 금속성 전극을 갖는다. 본 발명의 다른 특징에 따라, 상기 얇은 투과 글라스층은 가열후의 두께가 약 50㎛ 또는 그 이하인 글라스층이다. 본 발명의 다른 특징은 접촉과 냉각으로 상기 몰드로부터 콜렉터 드럼상의 얇은 투과 글라스층으로 리브 구조를 전달하는 단계를 포함한다. According to another feature of the invention, the glass substrate has a metallic electrode formed by photolithography, screen printing, micro casting or other conventional methods. According to another feature of the invention, the thin transparent glass layer is a glass layer having a thickness of about 50 μm or less after heating. Another feature of the invention includes transferring the rib structure from the mold to the thin transparent glass layer on the collector drum by contact and cooling.

본 발명의 다른 특징에 따라, 플라즈마가 어드레스된 액정 디스플레이 구조 제조방법은: (a) 글라스 기판을 제공하는 단계; (b) 공동을 가진 제 1 몰드를 제공하는 단계; (c) 전극 구조를 형성하기 위하여 상기 몰드 공동에 금속성 페이스트를 제공하는 단계; (d) 상기 글라스 기판에 전극 구조를 전달하는 단계; (e) 공동을 가진 제 2 몰드를 제공하는 단계; (f) 리브 구조를 형성하기 위하여 상기 제 2 몰드 공동에 글라스 페이스트를 제공하는 단계; (g) 콜렉터 드럼상에 얇은 투과 글라스층을 형성하는 단계; (h) 상기 제 2 몰드로부터 콜렉터 드럼상의 얇은 투과 글라스층에 리브 구조를 전달하는 단계; 및 (i) 상기 콜렉터 드럼으로부터 전극을 포함한 글라스 기판 표면에 상기 리브 구조와 얇은 투과 글라스층을 전달하는 단계를 포함한다. According to another feature of the invention, a method of manufacturing a plasma addressed liquid crystal display structure comprises the steps of: (a) providing a glass substrate; (b) providing a first mold having a cavity; (c) providing a metallic paste in the mold cavity to form an electrode structure; (d) transferring an electrode structure to the glass substrate; (e) providing a second mold having a cavity; (f) providing a glass paste in the second mold cavity to form a rib structure; (g) forming a thin transparent glass layer on the collector drum; (h) transferring the rib structure from the second mold to a thin transparent glass layer on the collector drum; And (i) transferring the rib structure and a thin transparent glass layer from the collector drum to a glass substrate surface including an electrode.

이하, 본 발명을 첨부도면에 도시된 실시예를 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the embodiments shown in the accompanying drawings.

하기된 실시예는 단지 예시를 위한 것이며 발명의 개념을 임의의 특정 외형에 한정하는 것으로 이해되지 않아야 한다. The examples below are for illustrative purposes only and should not be understood as limiting the inventive concept to any particular appearance.

전술한 바와 같이, 도 1은 플라즈마가 어드레스된 액정(PALC) 디스플레이의 단면을 나타낸다. As described above, FIG. 1 shows a cross section of a plasma addressed liquid crystal (PALC) display.

한쌍의 평행 전극(101A; 아노드)(101C; 케소드)이 예를 들어, 채널의 하부를 형성하는 후단 글라스 판(101G)상의 각 채널(102)에 위치되고, 예를 들어 약 50㎛ 두께의 글라스 마이크로 시트인 매우 얇은 절연 시트(103)가 상기 채널(102)의 상부를 형성한다. 상기 마이크로 시트(103) 상부의 액정층(104)이 디스플레이(100)의 광학적 활성부이다. 상기 플라즈마 채널(102)에 수직하며 예를 들어, 인듐-틴 옥사이드(ITO)로 제조된 투과성 전도 전극이 구비되고, 예를 들어, 약 1.1㎜의 비활성 글라스 판인 커버 시트(105)가 상기 액정(104) 상부에 놓인다. 또한, 다른 종래의 액정 디스플레이에서 발견되는 것과 유사한 종래의 편광자(106), 유색 필터(107) 및 백 라이트(108)가 도시된 바와 같이 사용될 수 있다. 불투명 리브(110)가 상기 채널(102)을 분할한다. A pair of parallel electrodes 101A (anode) 101C (cathode) is located in each channel 102 on the trailing glass plate 101G, for example, which forms the bottom of the channel, for example about 50 μm thick. A very thin insulating sheet 103, which is a glass microsheet of, forms the top of the channel 102. The liquid crystal layer 104 on the micro sheet 103 is an optically active portion of the display 100. The cover sheet 105, which is perpendicular to the plasma channel 102 and is made of, for example, indium-tin oxide (ITO), is, for example, an inert glass plate of about 1.1 mm, is the liquid crystal ( 104) It is placed on top. In addition, conventional polarizers 106, colored filters 107, and backlight 108 similar to those found in other conventional liquid crystal displays can be used as shown. An opaque rib 110 divides the channel 102.

도 2a 내지 도 2k는 본 발명의 실시예에 따른 방법의 단계를 나타내며, 특히 연속 제조공정을 통한 완전한 PALC 구조 제조방법을 나타낸다. 상기 완전한 PALC 구조는 글라스 기판(201)상의 광학 절연 차단층(202)을 포함할 수 있다. 2A-2K show the steps of the method according to an embodiment of the present invention, in particular the method for producing a complete PALC structure through a continuous manufacturing process. The complete PALC structure may include an optical insulation blocking layer 202 on the glass substrate 201.

본 실시예에서, 상기 글라스 기판(201)상에 광학 글라스 프릿 절연 차단층(202)을 구비하거나 구비하지 않은 플라즈마 채널 구조의 형성이 연속공정으로 이루어질 수 있다. 본 실시예에 있어서, 사용된 물질은 예를 들어, 가소성 유기 매질에 분산된 금속 분말(예를 들어, 열가소성 왁스 매질에 분산된 은 분말)로 제조된 전극 물질; 예를 들어, 가소성 유기 매질(예를 들어, 열가소성 왁스 매질)에 분산된 글라스 분말로 제조된 투명한 절연 글라스 프릿 물질; 및 예를 들어, 가소성 유기 매질(예를 들어, 열가소성 왁스 매질)에 분산된 글라스 분말로 제조되고 불투명 안료를 포함하여 불투명하게 제조될 수 있는 리브 물질을 포함할 수 있다. 유용한 가소성 매질은 마이크로 주조가 가능하고 가열에 의해 용이하게 제거되며, 열가소성 및 열경화성 물질을 모두 포함하여야 한다. 그러나, 열가소성 물질이 일반적으로 바람직하다. In this embodiment, the plasma channel structure with or without the optical glass frit insulation blocking layer 202 may be formed on the glass substrate 201 in a continuous process. In this embodiment, the materials used include, for example, electrode materials made of metal powder (eg, silver powder dispersed in thermoplastic wax medium) dispersed in a plastic organic medium; Transparent insulating glass frit materials, for example, made of glass powder dispersed in a plastic organic medium (eg, thermoplastic wax medium); And, for example, a rib material made of glass powder dispersed in a plastic organic medium (eg, a thermoplastic wax medium) and capable of being made opaque, including an opaque pigment. Useful plastic media are microcastable and easily removed by heating and should include both thermoplastic and thermoset materials. However, thermoplastics are generally preferred.

도 2a를 참조하면, 단계 1에서, 사용된 글라스 기판(201)의 특성에 따라, 광학 절연 글라스 페이스트(202)가 글라스 기판(201)상에 칠해질 수 있다. 바람직하게, 상기 글라스 페이스트는 열가소성 바인더 물질을 포함하고, 글라스 기판에 칠해지기 이전에 가열로 연화될 수 있다. 절연층(202)이 포함됨으로써 단계 3의 실리콘 몰드로부터 글라스 기판으로의 전극 전달이 용이해질 수 있으나, 반듯이 필요한 것은 아니다. 또한, 절연층(202)의 조성에 따라, 이는 상기 전극 물질로부터 글라스 기판으로의 금속 산화물이 확산되는 것을 피하기 위한 차단층으로 사용될 수도 있으며, 잠재적으로 장기간의 디스플레이 사용후 회로를 단락시킬 수 있다. Referring to FIG. 2A, in step 1, an optically insulating glass paste 202 may be painted on the glass substrate 201, depending on the characteristics of the glass substrate 201 used. Preferably, the glass paste comprises a thermoplastic binder material and may be softened by heating prior to being applied to the glass substrate. The inclusion of the insulating layer 202 may facilitate electrode transfer from the silicon mold of step 3 to the glass substrate, but is not required. In addition, depending on the composition of the insulating layer 202, it may be used as a blocking layer to avoid diffusion of metal oxide from the electrode material into the glass substrate, potentially shorting the circuit after a long period of display use.

도 2b에 도시된 단계 2는 음각 몰드(204)에 은 전극 페이스트(203)가 칠해지는 것을 나타낸다. 상기 은 페이스트(203)는 몰드(204)의 공동 또는 홈의 배열에 의해 결정된 위치에 전극을 형성하게 된다. 바람직하게, 상기 은 페이스트는 열가소성 바인더를 포함하고, 몰드에 제공되기 이전에 가열로 연화될 수 있다. 바람직 하게, 상기 몰드는 예를 들어, 실리콘과 같이 적당한 릴리스 특성을 나타내는 연성물질로 제조된다. Step 2 shown in FIG. 2B shows that the silver electrode paste 203 is painted on the intaglio mold 204. The silver paste 203 forms electrodes at positions determined by the arrangement of the cavities or grooves of the mold 204. Preferably, the silver paste comprises a thermoplastic binder and may be softened by heating before being provided to the mold. Preferably, the mold is made of a soft material that exhibits suitable release properties, for example silicon.

도 2c에 도시된 단계 3은 글라스 기판(201)에 대하여 내부의 공동에 포함된 은 페이스트 전극(203)을 가진 몰드(204)를 전달롤(205)로 압착함으로써 상기 전극(203)이 글라스 기판(201)에 접촉되며 상기 글라스 기판(201)과 몰드를 냉각하여 부착되도록, 차단 절연층(202)이 구비되거나 구비되지 않은 글라스 기판(201)에 은 페이스트 전극(203)을 전달하는 단계를 나타낸다. 그 이후, 도 2d에 도시된 단계 4에서, 상기 몰드(204)는 차단 절연층(202)이 구비되거나 구비되지 않은 글라스 기판(201)의 소정위치에 적층된 전극(203)을 남겨두고, 예를 들어 실온에서 분리 제거된다. Step 3 shown in FIG. 2C is performed by pressing the mold 204 having the silver paste electrode 203 included in the cavity with respect to the glass substrate 201 by a transfer roll 205. A step of transferring the silver paste electrode 203 to the glass substrate 201 with or without the blocking insulating layer 202 is in contact with the 201 to cool and attach the glass substrate 201 and the mold. . Thereafter, in step 4 shown in FIG. 2D, the mold 204 leaves the electrode 203 stacked at a predetermined position of the glass substrate 201 with or without the blocking insulating layer 202, and yes. It is separated off at room temperature.

전술한 단계 1 내지 단계 4는 본 발명의 사상과 범주를 벗어나지 않고 당업자가 이해할 수 있는, 사진 석판술, 스크린 인쇄 또는 전술한 미합중국 특허 출원번호 제 08/820,206호에 기재된 음각 콜렉터 드럼 또는 음각 몰드를 이용한 마이크로 주조공정에 기초한 적당한 공정을 포함하여, 피복되거나 피복되지 않은 글라스 기판에 전극을 인쇄하는 임의의 방법으로 대체될 수 있다. Steps 1-4 described above may be performed by photolithography, screen printing or intaglio collector drums or intaglio molds as described above in US Pat. It can be replaced by any method of printing an electrode on a coated or uncoated glass substrate, including a suitable process based on the micro casting process used.

도 2e 및 도 2f에 도시된 단계 5는 제 1 리브 형성 단계를 나타내며, 이는 도시된 실시예중 하나로 구현될 수 있다. 도 2e는 리브 구조로 사용될 수 있는 절연 글라스 페이스트(207)가 몰드(206) 즉, 연질 음각 몰드에 칠해지는 제 1 선택예를 나타내며, 상기 페이스트는 1999년 1월 25일자로 출원된 "디스플레이 패널용 불투명 리브 구조"(대리인 명부. P14063)에 따라 불투명하게 제조될 수 있다. 도 2f 는 두꺼운 스크린 인쇄술로 평면 강성 기판(209)상에 위치된 몰드(208)을 이용한 제 2 선택예를 나타낸다. 도 2f의 제 2 선택예에서, 리브 페이스트(207)는 몰드(208)의 슬롯을 통하여 상기 강성 기판(209)상에 "인쇄"된다. 양 선택예에서, 상기 몰드는 본 발명의 사상과 범주를 벗어나지 않고 당업자가 알 수 있는 공지된 방법으로 패턴화될 수 있고 조건에 적합한 릴리스 특성을 갖는 모든 물질로 형성될 수 있다. 바람직하게, 상기 몰드는 실리콘으로 형성된다. Step 5 shown in FIGS. 2E and 2F represents the first rib forming step, which may be implemented in one of the illustrated embodiments. FIG. 2E shows a first alternative example where an insulating glass paste 207, which may be used as a rib structure, is painted onto a mold 206, i.e., a soft engraved mold, which is a display panel filed on January 25, 1999. FIG. Opaque rib structure ”(Agent List. P14063). 2F shows a second alternative using a mold 208 located on a planar rigid substrate 209 with thick screen printing. In the second alternative of FIG. 2F, rib paste 207 is “printed” onto the rigid substrate 209 through the slot of the mold 208. In both choices, the mold may be patterned in any known manner known to those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the present invention and may be formed of any material having a release property suitable for the conditions. Preferably, the mold is formed of silicon.

따라서, 도 2e에 도시된 단계 5의 제 1 선택예에서, 상기 연질 음각 몰드(206)는 바람직하게는 실리콘으로 제조되며, 상기 글라스 페이스트(207)는 불투명 안료가 포함된 프릿 조성물을 이용하여 바람직하게는 불투명하게 제조된다. 상기 글라스 페이스트 물질이 실온보다 약간 높은 온도, 예를 들면 50℃ 내지 100℃에서 상기 몰드에 칠해질 수 있도록, 예를 들어 상기 페이스트(207)는 글라스 프릿, 불투명 안료 및 열가소성 바인더로 제조될 수 있다. Thus, in the first alternative of step 5 shown in FIG. 2E, the soft intaglio mold 206 is preferably made of silicon, and the glass paste 207 is preferably made using a frit composition containing an opaque pigment. Is made opaque. For example, the paste 207 can be made of glass frit, an opaque pigment and a thermoplastic binder so that the glass paste material can be applied to the mold at a temperature slightly above room temperature, for example 50 ° C. to 100 ° C. .

몰드(208)를 통한 강성 기판(209)상으로의 두꺼운 스크린 인쇄 공정을 나타낸 도 2f에 도시된 단계 5의 제 2 선택예에서, 바람직하게, 본 방법은 리브 구조에 해당하는 슬롯과 함께 두꺼운 실리콘 몰드를 이용한 스크린 인쇄법으로 실시된다. 도 2e의 음각 선택예보다 유리한 본 방법의 잇점은 리브 구조가 두꺼운 실리콘 몰드(208)의 슬롯을 통해 매우 강하고 평평한 기판(209)상에 충진될 수 있다는 점이다. 이는 리브 풋(foot)의 평활도가 완벽해지도록 보장하고, 이로서 칠한 이후에 연질 음각법에서 발생할 수 있는 초승달 형태(nagative meniscus shapes)를 방지할 수 있으며, 글라스 기판(201)에 더 나은 다음 전달을 실현할 수 있다. 또한, 도 2f 의 제 2 선택예는 예를 들어 50 내지 300 마이크론으로 상대적으로 두꺼운 리브 구조를 디스플레이 패널(100)의 후단 글라스 판(101G)에 직접 적층하길 원할 때 용이하게 사용될 수 있다. In the second option of step 5 shown in FIG. 2F showing the thick screen printing process onto the rigid substrate 209 through the mold 208, preferably, the method is a thick silicon with slots corresponding to the rib structure. It is carried out by screen printing using a mold. An advantage of the present method over the intaglio selection of FIG. 2E is that the rib structure can be filled on a very strong and flat substrate 209 through slots in the thick silicon mold 208. This ensures that the rib foot's smoothness is perfect, thereby preventing any nagative meniscus shapes that may occur in soft engraving after painting and for better next delivery to the glass substrate 201. It can be realized. In addition, the second alternative of FIG. 2F can be readily used when, for example, 50 to 300 microns, a relatively thick rib structure is desired to be directly stacked on the rear glass plate 101G of the display panel 100.

도 2g에 도시된 단계 6은 약 15 마이크론에서 약 50 마이크론까지 통상의 두께를 가진 얇은 투명 절연 글라스 페이스트층(211)으로 전달 드럼(210)을 코팅하는 단계를 포함한다. 바람직하게, 상기 전달 드럼은 코팅층을 손상시키지 않고 제거되도록 하는 적당한 릴리스 특성을 나타내는 물질로 제조되며, 적당한 릴리스 용제 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Mylar) 필름과 같은 물질로 코팅된다. 또한, 바람직하게 상기 글라스 페이스트는 열가소성 바인더 물질을 함유하고, 바람직하게 상기 전달 롤은 코팅을 용이하게 하고 상기 리브가 몰드로부터 분리되어 접촉시 롤에 부착되기 충분한 끈적끈적한 상태로 상기 코팅을 유지하기 위하여 약 40℃에서 약 150℃까지의 온도로 가열된다. Step 6 shown in FIG. 2G includes coating the transfer drum 210 with a thin transparent insulating glass paste layer 211 having a typical thickness from about 15 microns to about 50 microns. Preferably, the transfer drum is made of a material that exhibits the proper release properties to be removed without damaging the coating layer and is coated with a material such as a suitable release solvent or polyethylene terephthalate (Mylar) film. Also preferably, the glass paste contains a thermoplastic binder material, and preferably the transfer roll is about to maintain the coating in a sticky state that facilitates coating and the ribs are detached from the mold and sufficient to adhere to the roll upon contact. Heated to a temperature from 40 ° C. to about 150 ° C.

도 2h, 도 2i 및 도 2j에 도시된 단계 7은 상기 몰드 공동내부에 수용된 차단 리브가 드럼 코팅에 접촉하여 냉각시 부착되도록, 몰드의 표면상에 코팅된 전달 드럼을 회전시켜 상기 리브 구조(207)를 몰드(206 또는 208)로부터 코팅된 전달 드럼(210)에 전달하는 단계에 관한 것이다. 물론, 상기 리브 구조(207)는 약 400℃에서 약 600℃의 온도까지 가열하여 미리 응고될 수 있다. 도 2h는 단계 7로서 도 2e의 몰드 변형예 다음에 이어지며, 도 2i는 단계 7로서 도 2f의 몰드 변형예 다음에 이어진다. 도 2j는 코팅된 전달 드럼(210)과 드럼으로 전달되는 리브 구조(207)를 나타낸다. 상기 얇은 절연 글라스 층(211) 피막은 리브 구조의 상부에 접촉하게 된 다. Steps 7H, 2I and 2J show the rib structure 207 by rotating the coated transfer drum on the surface of the mold such that the blocking ribs received within the mold cavity are attached upon cooling by contacting the drum coating. To a delivery drum 210 coated from a mold 206 or 208. Of course, the rib structure 207 may be pre-solidified by heating to a temperature of about 400 ℃ to about 600 ℃. FIG. 2H follows the mold variant of FIG. 2E as step 7, and FIG. 2I follows the mold variant of FIG. 2F as step 7. 2J shows the coated delivery drum 210 and the rib structure 207 delivered to the drum. The thin insulating glass layer 211 film is in contact with the top of the rib structure.

도 2k에 도시된 단계 8에서, 얇은 절연층(211)과 함께 리브 구조(207)는 (전달 드럼(210)으로부터)차단층(202)이 구비되거나 구비되지 않은 글라스 기판(201)에 전달된다. 상기 글라스 기판(201)은 전술한 단계에서 이미 전극(203)과 차단층(202)이 선택적으로 포함되어 있을 수 있다. In step 8 shown in FIG. 2K, the rib structure 207 along with the thin insulating layer 211 is transferred to the glass substrate 201 with or without the blocking layer 202 (from the transfer drum 210). . The glass substrate 201 may optionally include an electrode 203 and a blocking layer 202 already in the above-described steps.

상기 글라스 기판(201)상으로의 전달을 돕기 위하여, 특히 전극(203)이 리브 구조(207)와 정렬된 형태에 있어서, 리브(207)의 용이한 전달을 위하여 에틸 셀룰로오스층(미도시)와 같은 얇은 중합체층이 전극(203)과 글라스(201)의 상부에 놓일 수 있다. 상기 중합체층은 끈적끈적한 점착성 표면을 제공하여 부착력을 증가시킴으로써 기판으로의 차단 리브 결합을 용이하게 한다. 그 다음, 상기 글라스 프릿을 용해시키기 위해 전체 구조를 가열하는 과정에서 상기 중합체층은 제거된다. In order to facilitate delivery onto the glass substrate 201, in particular in the form where the electrode 203 is aligned with the rib structure 207, an ethyl cellulose layer (not shown) may be used for easy delivery of the rib 207. The same thin polymer layer may overlie electrode 203 and glass 201. The polymer layer facilitates blocking rib bonding to the substrate by providing a tacky tacky surface to increase adhesion. The polymer layer is then removed in the course of heating the entire structure to dissolve the glass frit.

전술한 제조공정의 잇점은 종래의 스크린 인쇄와 사진 석판공정으로 높은 종횡비를 갖는 리브 구조를 제조하는데 필요한 다단계를 거치지 않기 때문에 비용면에서 유리하며, 본 공정에서는 더이상 필요하지 않은 불확실한 마이크로 시트를 대체하는 얇은 절연 글라스층을 포함하여 상기 리브 구조를 한번의 공정으로 전극이 구비된 후단 리브에 전달하기 때문에 비용면에서 유리하다. 따라서, 본 공정은 대형 글라스 마이크로 시트가 필요하지 않고, 이 절연 분할체의 두께를 감소시킬 수 있으며, 이는 PALC 디스플레이 패널의 성능을 향상시키게 된다. 또한, 상기 리브 상부와 얇은 절연 글라스층사이에 접촉이 훌륭하게 이루어지는 것은 상기 전달공정에서 이루어지기 때문이다. 결론적으로, 통상 글라스의 평활도를 일치시키기 위하 여 PALC 구조 제조에 사용되는 리브의 상부 연마는 더이상 필요하지 않다. The advantages of the above-described manufacturing process are advantageous in terms of cost because they do not go through the multi-steps required to produce high aspect ratio rib structures in conventional screen printing and photolithography processes, and in this process it is possible to replace uncertain microsheets that are no longer needed. It is advantageous in terms of cost because the rib structure, including a thin insulating glass layer, is transferred to the rear rib provided with the electrode in one process. Thus, the present process does not require a large glass microsheet, and can reduce the thickness of this insulating partition, which improves the performance of the PALC display panel. In addition, excellent contact between the rib top and the thin insulating glass layer is achieved in the transfer process. In conclusion, in order to match the smoothness of the glass, it is no longer necessary to polish the top of the ribs used to manufacture the PALC structure.

상기 각각의 마이크로 주조술은 차단 리브를 제조하고 이들을 드럼상의 절연 글라스 피막에 전달하기 위해 사용될 수 있으나, 상기 리브사이의 절연 글라스층상에 차단 리브 물질로 이루어진 잔여막이 적층되는 것을 방지하기는 어렵다. 그러나, 본 발명의 실시예에서, 이러한 문제점은 전술한 바와 같이 두꺼운 스크린을 통해 차단 리브를 글라스 기판에 직접 인쇄한 다음, 상기 리브의 상부에 얇은 절연 글라스층을 적층함으로써 해소될 수 있다. Each of the micro castings can be used to produce blocking ribs and transfer them to the insulating glass film on the drum, but it is difficult to prevent the remaining film of blocking rib material from being laminated on the insulating glass layer between the ribs. However, in the embodiment of the present invention, this problem can be solved by printing the blocking ribs directly on the glass substrate through the thick screen as described above, and then laminating a thin insulating glass layer on top of the ribs.

본 방법에서, 슬롯이 패터닝된 두꺼운 스크린이 실리콘과 같이 적당한 릴리스 특성을 나타내는 물질로 이루어진 필름으로부터 형성될 수 있다. 상기 필름은 글라스 기판상에 적층되고, 바람직하게는 약 40℃에서 약 150℃까지의 온도로 가열된다. 그 다음, 상기 차단 리브용 글라스 프릿 함유 페이스트가 상기 스크린의 슬롯을 통하여 글라스 기판에 칠해진다. 냉각 후, 상기 패턴화된 스크린은 글라스 기판상에 적층된 차단 리브 구조를 남기고 제거된다. 상기 두꺼운 스크린(301)의 강성을 증가시켜 최종 리브 구조의 크기를 양호하게 조절하기 위하여, 도 3a 및 도 3b에 도시된 바와 같이 예를 들어 금속으로 제조된 강성 코어 구조(302)가 상기 패턴화된 스크린(301)에 삽입될 수 있다. 예를 들어, 디스플레이 장치에 긴 슬롯이 요구되는 경우, 슬롯의 간격을 유지하기 위하여, 상기 칠 공정중에 글라스 프릿 함유 페이스트가 슬롯으로 흐르는 것을 방해하지 않는 얇은 브릿지(303)가 첨가될 수 있다. 도 3b는 본 발명의 실시예에 따른 브릿지 구조(303)를 도시한 도면이다. In the present method, a thick screen with slotted patterns can be formed from a film made of a material that exhibits suitable release properties, such as silicon. The film is laminated on a glass substrate and is preferably heated to a temperature from about 40 ° C to about 150 ° C. The glass frit containing paste for the blocking ribs is then applied to the glass substrate through the slots of the screen. After cooling, the patterned screen is removed leaving a blocking rib structure stacked on the glass substrate. In order to increase the rigidity of the thick screen 301 to better control the size of the final rib structure, a rigid core structure 302, for example made of metal, is patterned as shown in FIGS. 3A and 3B. Can be inserted into the screen 301. For example, if a long slot is required in the display device, a thin bridge 303 may be added in order to maintain the spacing of the slots, which does not prevent the glass frit-containing paste from flowing into the slot during the filling process. 3B illustrates a bridge structure 303 in accordance with an embodiment of the present invention.

이하, 다른 실시예가 기재되며, 이 실시예는 절연 글라스층을 글라스 기판으로부터 돌출된 리브 구조에 적층하여 플라즈마 채널의 생성을 완료하게 된다. 본 실시예에 기술된 방법은 연속 제조 공정에서 본 실시예의 사용에 대한 기본 가능성을 증명하는 반면, PALC 제조에서 대형 글라스 마이크로 시트에 대한 필요성을 억제한다. Hereinafter, another embodiment is described, in which the insulating glass layer is laminated on the rib structure protruding from the glass substrate to complete the generation of the plasma channel. The method described in this example demonstrates the basic potential for use of this example in a continuous manufacturing process, while suppressing the need for large glass microsheets in PALC manufacture.

본 방법에 따라, 상기 절연 글라스층을 적층하기 이전에 리브를 경화/강화하기 위해 돌출 리브가 구비된 글라스 기판이 먼저 처리된다. 이는 글라스 프릿을 용해하고 유기 바인더를 제거하기 위해 상기 기판을 약 400℃에서 약 600℃까지의 온도에서 가열함으로써 이루어진다. 그러나, 상기 리브를 형성하기 위해 사용된 페이스트가 UV 가소성 매질을 함유한 경우, UV 처리를 이용한 경화법이 리브의 변형없이 상기 절연 글라스층이 전달되도록 리브를 구조적으로 적당히 보존하는데 충분하다. 그 후, 절연 글라스 프릿 함유 페이스트층이 플라즈마 채널을 밀봉하기 위해 리브의 상부에 적층된다. 상기 절연 프릿을 포함한 층이 적당한 릴리스 기판으로부터 전달되어 상기 리브상에 적층될 수 있다. 예를 들어, 상기 글라스 프릿을 포함한 물질이 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Mylar)와 같은 필름상에 약 15 마이크론에서 약 50 마이크론까지 원하는 두께로 코팅될 수 있으며, 상기 코팅은 상기 릴리스 기판으로부터 접촉에 의해 리브의 상부에 전달된다. 바람직하게, 상기 글라스 프릿 함유 페이스트는 열가소성 바인더를 함유하며, 상기 릴리스 기판에 용이하게 도포되고 접촉시 리브의 상부에 접착되도록 가열에 의해 연화된다. 상기 릴리스 기판은 냉각후 제거될 수 있다. According to the method, the glass substrate with protruding ribs is first processed to cure / reinforce the ribs before laminating the insulating glass layer. This is done by heating the substrate at a temperature from about 400 ° C. to about 600 ° C. to dissolve the glass frit and remove the organic binder. However, if the paste used to form the ribs contains a UV plastic medium, curing using UV treatment is sufficient to structurally adequately preserve the ribs so that the insulating glass layer is transferred without deformation of the ribs. Thereafter, an insulating glass frit containing paste layer is deposited on top of the ribs to seal the plasma channel. A layer comprising the insulating frit may be transferred from a suitable release substrate and deposited on the ribs. For example, the material comprising the glass frit may be coated with a desired thickness from about 15 microns to about 50 microns on a film such as polyethylene terephthalate (Mylar), wherein the coating is applied to the ribs by contact from the release substrate. Delivered to the top. Preferably, the glass frit containing paste contains a thermoplastic binder and is softened by heating to facilitate application to the release substrate and adhere to the top of the ribs upon contact. The release substrate can be removed after cooling.

도 4는 본 발명의 전술한 실시예에 따른 방법을 실시하기 위한 예시적 구성을 개략적으로 도시한 도면이다. 본 실시예에서, 연속 이동 벨트(409)는 전달 드럼(410)과 유동 롤러(411) 주위에서 가열 구역(406)을 통과하여 냉각 구역(408)으로 표면이 통과하게 되는 릴리스 기판으로 구성된다. 상기 릴리스 기판이 전달 드럼(410)을 지날 때 열가소성 글라스 프릿 페이스트(401)가 기판(409)에 칠해진다. 상기 글라스 프릿 페이스트는 다른 적당한 수단에 의해 칠해질 수 있으나, 바람직하게는 닥터 블레이드(doctor blade)(403)에 의해 원하는 두께의 층(402)으로 형성된다. 바람직하게, 상기 층(402)의 두께는 약 15에서 약 50 마이크론까지이다. 상기 벨트(409)가 전달 드럼(410)을 지날 때, 글라스 프릿을 함유한 물질의 층(402)은 그 아래에서 A방향으로 움직이는 글라스 기판(412)으로부터 외측으로 돌출된 차단 리브(405)의 상부에 접촉하게 된다. 상기 글라스 프릿층이 냉각 구역(408)을 통과할 때, 상기 프릿층은 차단 리브(404)의 상부에 경화되어 접착된다. 상기 벨트가 유동 롤러(411)를 지날 때, 상기 글라스 프릿을 함유한 층(402)은 벨트(409)의 릴리스 표면으로부터 분리되어 상기 리브 구조에 전달된다. 4 is a diagram schematically illustrating an exemplary configuration for implementing a method according to the above-described embodiment of the present invention. In this embodiment, the continuous moving belt 409 consists of a release substrate through which the surface passes through the heating zone 406 around the transfer drum 410 and the flow roller 411 to the cooling zone 408. Thermoplastic glass frit paste 401 is applied to the substrate 409 when the release substrate passes the transfer drum 410. The glass frit paste may be painted by other suitable means, but is preferably formed of a layer 402 of desired thickness by a doctor blade 403. Preferably, the thickness of layer 402 is from about 15 to about 50 microns. As the belt 409 passes through the transfer drum 410, the layer 402 of material containing the glass frit extends out of the blocking rib 405 protruding outward from the glass substrate 412 moving in the A direction below it. It comes in contact with the top. As the glass frit layer passes through the cooling zone 408, the frit layer cures and adheres to the top of the blocking rib 404. As the belt passes through the flow roller 411, the layer 402 containing the glass frit is separated from the release surface of the belt 409 and transferred to the rib structure.

본 발명의 실시예가 예시적인 물질과 함께 위에서 기재되었으나, 본 발명은 이에 한정되지 않는다. 다른 적당한 물질이 사용될 수 있다. 특히, 열가소성 매질 또는 가소성 열경화성 매질이 특정 실시예에 기재되었으나, 자외선 반응 물질과 같이 다른 형태의 강화성 또는 경화성 물질이 사용될 수 있다. While embodiments of the invention have been described above in conjunction with exemplary materials, the invention is not so limited. Other suitable materials can be used. In particular, although thermoplastic or plastic thermosetting media have been described in certain embodiments, other forms of reinforcing or curable materials may be used, such as UV reacting materials.

전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제 조방법은 높은 종횡비를 갖는 리브의 형태를 유지하기 위한 추가적인 강화 단계가 필요하지 않고, 저렴한 비용으로 개선된 구조를 갖는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조를 제작할 수 있다. As described above, the glass structure manufacturing method for a flat panel display according to the present invention does not require an additional reinforcing step for maintaining the shape of the rib having a high aspect ratio, and has a low cost and improved structure for a flat panel display. A glass structure can be manufactured.

Claims (29)

플라즈마가 어드레스된 액정 디스플레이에 사용하기 위해 절연 글라스층과 글라스 기판 사이에 샌드위치되는 리브 구조 조립체를 제조하기 위한 방법에 있어서, A method for manufacturing a rib structure assembly wherein a plasma is sandwiched between an insulating glass layer and a glass substrate for use in an addressed liquid crystal display, the method comprising: 상기 리브 구조를 형성하기 위해 몰드의 공동에 가소성 글라스 프릿 함유 페이스트를 유도하는 단계; Inducing a plastic glass frit containing paste in the cavity of the mold to form the rib structure; 콜렉터 드럼상에 절연 글라스 프릿 함유 조성물의 층을 형성하는 단계;Forming a layer of insulating glass frit containing composition on the collector drum; 상기 몰드로부터 상기 콜렉터 드럼상의 절연 글라스 프릿 함유층에 상기 리브 구조를 전달하는 단계; 및Transferring said rib structure from said mold to an insulating glass frit containing layer on said collector drum; And 상기 콜렉터 드럼으로부터 상기 글라스 기판에 상기 리브 구조와 절연 글라스 프릿 함유층을 전달하는 단계로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.And transferring the rib structure and the insulating glass frit-containing layer from the collector drum to the glass substrate. 제 1 항에 있어서, 상기 몰드는 연질 음각 몰드인 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.The method of claim 1, wherein the mold is a soft intaglio mold. 제 2 항에 있어서, 상기 몰드는 실리콘으로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.The method of claim 2, wherein the mold is made of silicon. 제 1 항에 있어서, 상기 몰드는 강성 기판상의 필름이며, 상기 필름은 원하는 차단 리브의 해당 위치에 슬롯이 형성된 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.The method of claim 1, wherein the mold is a film on a rigid substrate, and the film has a slot formed at a corresponding position of a desired blocking rib. 제 4 항에 있어서, 상기 필름은 실리콘으로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.The method of claim 4, wherein the film is made of silicon. 제 1 항에 있어서, 상기 글라스 프릿 함유 페이스트는 글라스 프릿과 열가소성 바인더로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.The method of claim 1, wherein the glass frit-containing paste comprises a glass frit and a thermoplastic binder. 제 6 항에 있어서, 상기 절연 글라스 프릿 함유 조성물은 절연 글라스 프릿과 열가소성 바인더로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.The method of claim 6, wherein the insulating glass frit-containing composition comprises an insulating glass frit and a thermoplastic binder. 제 7 항에 있어서, 상기 콜렉터 드럼상의 절연 글라스 프릿 함유층은 40℃에서 150℃까지의 온도로 가열되는 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.8. The method of manufacturing a glass structure for a flat panel display according to claim 7, wherein the insulating glass frit-containing layer on the collector drum is heated to a temperature from 40 deg. C to 150 deg. 제 8 항에 있어서, 상기 절연 글라스 프릿 함유층에 상기 리브 구조를 전달하는 단계는 상기 리브 구조가 절연 글라스층에 접촉되도록 상기 콜렉터 드럼상에서 가열된 절연 글라스층에 대해 상기 몰드를 압착하는 단계; 상기 차단 리브 구조와 접촉된 상태로 상기 절연 글라스 프릿 함유층을 냉각하는 단계 및 상기 몰드를 제거하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법. 10. The method of claim 8, wherein transferring the rib structure to the insulating glass frit containing layer comprises pressing the mold against a heated insulating glass layer on the collector drum such that the rib structure contacts the insulating glass layer; And cooling the insulating glass frit-containing layer in contact with the blocking rib structure and removing the mold. 제 1 항에 있어서, 상기 절연 글라스 프릿 함유층은 두께가 15㎛에서 50㎛인 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.The method of claim 1, wherein the insulating glass frit-containing layer has a thickness of 15 µm to 50 µm. 제 6 항에 있어서, 상기 리브 구조와 절연 글라스 프릿층은 상기 리브 구조를 기판에 접촉시킴으로써, 상기 콜렉터 롤로부터 기판으로 전달되는 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.The method of claim 6, wherein the rib structure and the insulating glass frit layer are transferred from the collector roll to the substrate by contacting the rib structure to a substrate. 제 11 항에 있어서, 상기 기판은 상기 리브 구조와 접촉되기 이전에 40℃에서 150℃까지의 온도로 가열되는 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.12. The method of claim 11, wherein the substrate is heated to a temperature from 40 ° C to 150 ° C before contacting the rib structure. 제 1 항에 있어서, 콜렉터 드럼상에 절연 글라스 프릿 함유 조성물층을 형성하는 단계는 상기 콜렉터 드럼상의 중합체 필름에 절연 글라스 프릿 함유 페이스트를 제공하는 단계로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.The method of claim 1, wherein forming the insulating glass frit-containing composition layer on the collector drum comprises providing an insulating glass frit-containing paste to the polymer film on the collector drum. Way. 유리 기판으로부터 돌출된 리브 구조에 절연 글라스층을 적층하는 방법에 있어서, In a method of laminating an insulating glass layer on a rib structure protruding from a glass substrate, 글라스 프릿 함유 페이스트로부터 상기 기판의 표면상에 노출된 상부 표면을 가진 리브 구조를 형성하는 단계;Forming a rib structure having a top surface exposed from the glass frit containing paste on the surface of the substrate; 상기 리브 구조를 400℃에서 600℃의 온도로 가열하는 단계;Heating the rib structure at a temperature of 400 ° C. to 600 ° C .; 릴리스 기판상에 두께조정된 가소성 절연 글라스 프릿 함유 조성물층을 적층하는 단계;Laminating a thickness-adjusted plastic insulating glass frit-containing composition layer on the release substrate; 상기 릴리스 기판상의 절연 글라스 조성물층을 리브 구조의 상부 표면에 접촉시키는 단계; 및Contacting the insulating glass composition layer on the release substrate with an upper surface of the rib structure; And 상기 릴리스 기판을 제거하는 단계로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.The glass structure manufacturing method for a flat panel display comprising the step of removing the release substrate. 제 14 항에 있어서, 상기 글라스 프릿 함유 페이스트는 열가소성 바인더로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.15. The method of claim 14, wherein the glass frit-containing paste is made of a thermoplastic binder. 제 15 항에 있어서, 상기 절연 글라스 프릿 함유 조성물은 열가소성 바인더로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.The method of claim 15, wherein the insulating glass frit-containing composition comprises a thermoplastic binder. 제 16 항에 있어서, 상기 리브 구조는 절연 글라스 프릿 함유층과 접촉되기 이전에 40℃에서 150℃의 온도로 가열되는 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.The method of claim 16, wherein the rib structure is heated to a temperature of 40 ° C. to 150 ° C. before contacting the insulating glass frit-containing layer. 제 14 항에 있어서, 상기 두께조정된 절연 글라스 프릿 함유 조성물층은 15㎛에서 50㎛의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.15. The method of claim 14, wherein the thickness-adjusted insulating glass frit-containing composition layer has a thickness of 15 µm to 50 µm. 제 16 항에 있어서, 상기 절연 글라스 프릿 함유층은 상기 차단 리브 구조와 접촉되기 이전에 40℃에서 150℃의 온도로 가열되는 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.The method of claim 16, wherein the insulating glass frit-containing layer is heated to a temperature of 40 ° C. to 150 ° C. before contacting the blocking rib structure. 제 14 항에 있어서, 상기 기판상에 리브 구조를 형성하는 단계는,The method of claim 14, wherein the forming of the rib structure on the substrate comprises: 원하는 리브 구조의 형상 및 위치에 해당하는 몰드의 홈에 가소성 글라스 프릿 함유 페이스트를 적층하는 단계;Laminating a plastic glass frit-containing paste in the groove of the mold corresponding to the shape and location of the desired rib structure; 상기 리브 구조를 형성하도록 가소성 페이스트를 경화시키는 단계;Curing the plastic paste to form the rib structure; 상기 리브 구조가 접착되는 조건하에서 상기 리브 구조를 상기 기판에 접촉시키는 단계; 및 Contacting the rib structure with the substrate under conditions that the rib structure is bonded; And 상기 몰드를 제거하는 단계로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.Glass structure manufacturing method for a flat panel display, characterized in that consisting of the step of removing the mold. 제 20 항에 있어서, 상기 가소성 글라스 프릿 함유 페이스트는 글라스 프릿 과 열가소성 바인더로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.21. The method of claim 20, wherein the plastic glass frit-containing paste comprises a glass frit and a thermoplastic binder. 제 20 항에 있어서, 상기 리브 구조는 리브 사이에 글라스 프릿 함유 페이스트의 잔여막이 형성되지 않고 상기 글라스 기판상에 형성되는 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.21. The method of claim 20, wherein the rib structure is formed on the glass substrate without forming a residual film of glass frit-containing paste between the ribs. 제 22 항에 있어서, 상기 몰드는 원하는 차단 리브의 위치에 해당하는 슬롯으로 패턴닝된 상기 글라스 기판 상부의 필름으로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.23. The method of claim 22, wherein the mold is comprised of a film over the glass substrate patterned into slots corresponding to the desired blocking rib positions. 제 23 항에 있어서, 상기 필름은 15㎛에서 50㎛의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.24. The method of claim 23, wherein the film has a thickness of 15 µm to 50 µm. 제 23 항에 있어서, 상기 필름과 글라스 기판은 상기 가소성 글라스 프릿 함유 페이스트를 수용하기 이전에 40℃에서 150℃의 온도로 가열되는 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.24. The method of claim 23, wherein the film and glass substrate are heated to a temperature of 40 ° C to 150 ° C prior to receiving the plastic glass frit containing paste. 제 23 항에 있어서, 상기 패턴화된 필름은 강성 코어 구조가 내부에 제공된 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.24. The method of claim 23, wherein the patterned film is provided with a rigid core structure therein. 제 23 항에 있어서, 상기 패턴화된 필름은 슬롯 간격을 유지하기 위해 슬롯을 가로지르는 브릿지가 제공된 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.24. The method of claim 23, wherein the patterned film is provided with a bridge across the slot to maintain slot spacing. 제 14 항에 있어서, 상기 릴리스 기판은 회전성 전달 드럼과 유동 롤러에 배치된 연속 이동 벨트인 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.15. The method of claim 14, wherein the release substrate is a continuous moving belt disposed on the rotatable transfer drum and the flow roller. 제 28 항에 있어서, 상기 절연 글라스 프릿 함유 조성물은 상기 벨트상에 적층되어, 리브 구조의 상부 표면과 접촉하기 이전에 한정된 크기의 개구를 통과함으로써 원하는 두께의 층으로 형성되는 것을 특징으로 하는 평면 패널 디스플레이용 글라스 구조 제조방법.29. The flat panel of claim 28 wherein the insulating glass frit-containing composition is laminated onto the belt and formed into a layer of desired thickness by passing through a defined sized opening prior to contacting the upper surface of the rib structure. Glass structure manufacturing method for display.

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