KR100702481B1 - 무격벽 유기 전계 발광 소자 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (9)
- (a) 기판 상에 소정 간격으로 분리된 ITO층을 형성하는 단계;(b) 상기 ITO층 상에서 소정 간격으로 분리된 절연층을 형성하는 단계;(c) 마스크를 전체 구조면 상에 위치시키는 단계;(d) 상기 전체 구조면의 반대면에 위치한 마스크 고정 수단으로 상기 마스크를 상기 전체 구조면 상에 고정시키는 단계;(e) 상기 절연층 사이에 형성된 공간의 상기 ITO층 상에 유기물층을 형성하는 단계;(f) 상기 유기물층 상에 금속 전극층을 형성하는 단계; 및(g) 상기 마스크를 상기 전체 구조면에서 분리시키는 단계를 포함하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,(h) 상기 금속 전극층 및 절연층 상에 패시베이션 막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
- 제 2 항에 있어서,상기 패시베이션 막은 PECVD 또는 PVD의 방법에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
- 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 패시베이션 막은 SiNx 또는 SiO2로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 마스크는 셀 영역에 개구가 형성된 슬릿 형태인 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
- 제 1 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 마스크는 금속으로 이루어지고, 상기 마스크 고정 수단은 마그네틱 척인 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
- 기판 상에 소정 간격으로 분리되어 형성된 ITO층;상기 ITO층 상에서 소정 간격으로 분리되어 형성된 절연층;상기 절연층 사이에 형성된 공간의 상기 ITO층 상에 형성된 유기물층;상기 유기물층 상에 형성된 금속 전극층; 및상기 금속 전극층 및 절연층 상에 형성된 패시베이션 막을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
- 삭제
- 제 7 항에 있어서,상기 패시베이션 막은 SiNx 또는 SiO2로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
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