KR100694789B1 - Apparatus for supplying/exhausting of hot air used in oven chamber for LCD glass substrate - Google Patents

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Abstract

본 발명은 베이킹 과정에서 발생하는 증기(fume)에 의한 악영향을 최소화할 수 있는 LCD 글라스 기판용 오븐챔버의 열풍 공급 배기 장치에 관한 것으로서, 복수개의 LCD 글라스 기판용 오븐챔버에 열풍을 공급하기 위한 열풍공급장치와, 이러한 열풍을 배기하기 위한 열풍배기장치로 구성되는데, 상기 열풍공급장치는, 열풍 송풍기를 통해 열풍을 공급받아 이를 상기 오븐챔버로 공급하고, 상기 열풍배기장치는, 상기 오븐챔버에 각각 연통되는 부배기관과, 상기 부배기관에 공통으로 연결되는 하나의 주배기관과, 상기 주배기관에 연결되는 열풍배기펌프와, 상기 부배기관에 각각 설치되는 부 냉각트랩과, 상기 열풍배기펌프에 최인접한 상기 부배기관과 상기 주배기관의 연결부위와 상기 열풍배기펌프 사이에 위치하도록 상기 주배기관에 설치되는 주 냉각트랩;을 구비하는 것을 특징으로 한다. The present invention relates to a hot air supply exhaust device of an oven chamber for an LCD glass substrate that can minimize the adverse effect of the steam generated during the baking process, the hot air for supplying hot air to a plurality of LCD chamber oven chambers And a hot air exhaust device for exhausting the hot air, wherein the hot air supply device receives hot air through a hot air blower and supplies the hot air to the oven chamber, wherein the hot air exhaust devices are respectively supplied to the oven chamber. A communicating sub-exhaust pipe, one main exhaust pipe commonly connected to the sub-exhaust pipe, a hot air exhaust pump connected to the main exhaust pipe, a sub-cooling trap installed on each of the sub-exhaust pipes, and a hot air exhaust pump closest to the hot air exhaust pump. Main air cooler installed in the main exhaust pipe so as to be located between the connection between the secondary exhaust pipe and the main exhaust pipe and the hot air exhaust pump It characterized in that it comprises a; trap.

열풍, 냉각트랩, 증기, 베이킹, 오븐 챔버, LCD Hot Air, Cooling Trap, Steam, Baking, Oven Chamber, LCD

Description

ＬＣＤ 글라스 기판용 오븐챔버의 열풍 공급 배기 장치{Apparatus for supplying/exhausting of hot air used in oven chamber for LCD glass substrate} Apparatus for supplying / exhausting of hot air used in oven chamber for LCD glass substrate}

도 1은 본 발명에 따른 LCD 글라스 기판용 오븐챔버의 열풍 공급 배기 장치를 설명하기 위한 도면;1 is a view for explaining a hot air supply and exhaust device of the oven chamber for an LCD glass substrate according to the present invention;

도 2는 도 1의 열풍공급장치를 설명하기 위한 도면이다. 2 is a view for explaining the hot air supply device of FIG.

<도면의 주요부분에 대한 참조번호의 설명><Description of reference numbers for the main parts of the drawings>

11a, 11b, 11c: 부배기관 12a, 12b, 12c: 부냉각트랩11a, 11b, 11c: sub-pipe 12a, 12b, 12c: sub-cooling trap

13: 주배기관 14: 주 냉각트랩13: Main exhaust pipe 14: Main cooling trap

15: 열풍배기펌프 21, 22: 열풍 공급관15: hot air exhaust pump 21, 22: hot air supply pipe

24: 공급밸브 26: 바이패스관24: supply valve 26: bypass pipe

28: 바이패스 밸브 29: 열풍 송풍기28: bypass valve 29: hot air blower

본 발명은 LCD 글라스 기판용 오븐챔버의 열풍 공급 배기 장치에 관한 것으 로서, 특히 베이킹 과정에서 발생하는 증기(fume)에 의한 악영향을 최소화할 수 있는 LCD 글라스 기판용 오븐챔버의 열풍 공급 배기 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a hot air supply and exhaust device of the oven chamber for LCD glass substrate, and more particularly, to a hot air supply and exhaust device of the oven chamber for LCD glass substrate that can minimize the adverse effect of the steam generated during the baking process. will be.

LCD 글라스 기판 표면에 감광막을 코팅하기 전에 세정과정을 거치는데 이러한 세정과정 후에는 수분을 제거하기 위한 가열건조가 행해진다. 그리고 감광막을 LCD 글라스 기판에 코팅한 후에는 노광 및 현상 공정을 거치는데 이러한 노광 및 현상공정 전에는 프리 베이킹(pre-baking)이 행해지고, 노광 및 현상공정 후에는 포스트 베이킹(post-baking)이 행해진다. 이렇게 LCD를 제조하는 경우에 LCD 글라스 기판을 가열하여야 하는 경우가 종종 생긴다. 이러한 가열은 가열히터가 매립된 핫 플레이트에 기판을 올려 놓음으로써 이루어진다. Before the photoresist is coated on the surface of the LCD glass substrate, a cleaning process is performed. After this cleaning process, heat drying to remove moisture is performed. After the photoresist is coated on the LCD glass substrate, the photoresist film is subjected to an exposure and development process. Before this exposure and development process, pre-baking is performed, and after the exposure and development process, post-baking is performed. . In the case of producing LCDs, it is often necessary to heat the LCD glass substrate. This heating is performed by placing a substrate on a hot plate in which a heating heater is embedded.

챔버 내에서 LCD 글라스 기판을 베이킹 하는 과정에서 글라스 기판 표면에 코팅되어 있는 물질이 증발하는데, 이렇게 생긴 증기(fume)가 상대적으로 차가운 챔버 벽에 닿게 되면 고착되고 이것이 나중의 공정진행 중에 글라스 기판에 비산되어 수율 저하를 야기시킨다. During the baking of the LCD glass substrate in the chamber, the material coated on the surface of the glass substrate evaporates, and when these fumes come into contact with the relatively cold chamber walls, they stick and scatter on the glass substrate during later processing. Resulting in a decrease in yield.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 열풍흐름을 인위적으로 형성시켜 베이킹 과정에서 발생하는 증기(fume)를 외부로 뽑아냄으로써 베이킹 공정 시에 발생하는 증기에 의한 생산수율의 저하를 방지할 수 있는 LCD 글라스 기판용 오븐챔버의 열풍 공급 배기 장치를 제공하는 데 있다.  Therefore, the technical problem to be achieved by the present invention is to form a hot air flow artificially to extract the steam (fume) generated during the baking process to the outside to prevent the degradation of the production yield due to steam generated during the baking process It is providing the hot-air supply exhaust apparatus of the oven chamber for glass substrates.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 LCD 글라스 기판용 오븐챔버의 열풍 공급 배기 장치는, 복수개의 LCD 글라스 기판용 오븐챔버에 열풍을 공급하기 위한 열풍공급장치와, 이러한 열풍을 배기하기 위한 열풍배기장치로 구성되는데, 상기 열풍공급장치는, 열풍 송풍기를 통해 열풍을 공급받아 이를 상기 오븐챔버로 공급하고, 상기 열풍배기장치는, 상기 오븐챔버에 각각 연통되는 부배기관과, 상기 부배기관에 공통으로 연결되는 하나의 주배기관과, 상기 주배기관에 연결되는 열풍배기펌프와, 상기 부배기관에 각각 설치되는 부냉각트랩과, 상기 열풍배기펌프에 최인접한 상기 부배기관과 상기 주배기관의 연결부위와 상기 열풍배기펌프 사이에 위치하도록 상기 주배기관에 설치되는 주 냉각트랩;을 구비하는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above technical problem, a hot air supply and exhaust device of an oven chamber for an LCD glass substrate includes a hot air supply device for supplying hot air to a plurality of LCD chamber oven chambers, and a hot air for exhausting the hot air. The hot air supply device receives a hot air through a hot air blower, and supplies it to the oven chamber, wherein the hot air exhaust device includes a secondary exhaust pipe communicating with the oven chamber, and the secondary exhaust pipe in common. A main exhaust pipe connected to the main exhaust pipe, a hot air exhaust pump connected to the main exhaust pipe, a subcooling trap installed at each of the sub exhaust pipes, and a connection portion between the sub exhaust pipe closest to the hot air exhaust pump and the main exhaust pipe; And a main cooling trap installed in the main exhaust pipe so as to be located between the hot air exhaust pumps.

상기 열풍공급장치는, 한쪽은 상기 열풍 송풍기에 연결되고 나머지 한쪽은 상기 주배기관에 각각 연결되는 바이패스관과, 상기 바이패스관의 중간에서 각각 분기되어 상기 오븐챔버에 각각 연통되는 열풍 공급관과, 열풍공급의 차단여부를 결정하도록 상기 열풍 공급관에 각각 설치되는 공급밸브와, 상기 바이패스관에서 상기 열풍 공급관이 분기되는 부위와 상기 주배기관 사이에 각각 설치되는 바이패스 밸브;를 구비할 수 있다. The hot air supply device, the bypass pipe is connected to each of the hot air blower and the other end is connected to the main exhaust pipe, hot air supply pipe branched in each of the middle of the bypass pipe and communicated with the oven chamber, And a supply valve installed at each of the hot air supply pipes so as to determine whether the hot air supply is blocked, and a bypass valve provided between the portion where the hot air supply pipe branches from the bypass pipe and the main exhaust pipe.

이하에서, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 아래의 실시예는 본 발명의 내용을 이해하기 위해 제시된 것일 뿐이며 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상 내에서 많은 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명의 권리범위가 이러한 실시예에 한정되는 것으로 해석돼서는 안 된다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. The following examples are only presented to understand the content of the present invention, and those skilled in the art will be capable of many modifications within the technical spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as limited to these embodiments.

도 1은 본 발명에 따른 LCD 글라스 기판용 오븐챔버의 열풍 공급 배기 장치를 설명하기 위한 도면이다. 1 is a view for explaining a hot air supply exhaust device of the oven chamber for an LCD glass substrate according to the present invention.

LCD 글라스 기판용 오븐챔버는 양산에 적합하도록 통상 챔버 프레임에 복수개가 적층된 형태로 설치된다. 베이킹 시에 발생하는 증기(fume)를 열풍 흐름 속에 편승시켜 외부로 배출시키기 위해서 오븐챔버의 마주보는 양쪽에 열풍공급부(20a)와 열풍배기부(10a)를 설치한다. 도 1에서는 오븐챔버가 3개 적층된 경우를 도시한 것이다. Oven chambers for LCD glass substrates are usually installed in a plurality of stacked form on the chamber frame to be suitable for mass production. The hot air supply unit 20a and the hot air exhaust unit 10a are installed on both sides of the oven chamber so as to piggyback the fumes generated during baking in the hot air stream and discharge them to the outside. In FIG. 1, three oven chambers are stacked.

[열풍공급][Hot air supply]

도 2는 도 1의 열풍공급장치를 설명하기 위한 도면으로서, 도 2와 결부하여 도 1을 설명하면, 열풍공급장치는 오븐챔버마다 각각 설치되는데, 한쪽은 열풍 송풍기(29)에 연결되고 나머지 한쪽은 주배기관(13)에 연결되는 바이패스관(26)과, 바이패스관(26)의 중간에서 분기되어 오븐챔버에 연통되는 열풍 공급관(21, 22)을 포함하여 이루어진다. 열풍 공급관의 후단(22)은 여러 갈래로 분기되어서 오븐 챔버에 연결되는 것이 균일한 열풍공급측면에서 바람직하다. 열풍 공급관의 전단(21)에는 열풍 공급의 차단여부를 결정하도록 공급밸브(24)가 설치된다. 바이패스관(26)에서 열풍 공급관(21)이 분기되는 부위와 주배기관(13) 사이에는 바이패스 밸브(28)가 설치된다. 주배기관(13)에는 열풍배기펌프(15)가 설치된다. FIG. 2 is a view for explaining the hot air supply device of FIG. 1. Referring to FIG. 1 in conjunction with FIG. 2, the hot air supply devices are installed in respective oven chambers, one side of which is connected to the hot air blower 29 and the other side. The bypass pipe 26 is connected to the main exhaust pipe 13, and the hot air supply pipe (21, 22) branched in the middle of the bypass pipe 26 to communicate with the oven chamber. The rear end 22 of the hot air supply pipe is preferably branched into several branches and connected to the oven chamber in terms of a uniform hot air supply side. The front end 21 of the hot air supply pipe is provided with a supply valve 24 to determine whether the hot air supply is blocked. The bypass valve 28 is provided between the portion where the hot air supply pipe 21 branches in the bypass pipe 26 and the main exhaust pipe 13. The main exhaust pipe 13 is provided with a hot air exhaust pump 15.

바이패스 밸브(28)를 닫고 공급밸브(24)를 연 상태에서 열풍 송풍기(29)로 열풍을 바이패스관(26)으로 불어넣으면 열풍은 주배기관(13)으로는 흐르지 못하고 열풍공급관(21, 22)을 통하여 오븐챔버 내로 공급된다.  When the bypass valve 28 is closed and the supply valve 24 is opened and hot air is blown into the bypass pipe 26 by the hot air blower 29, the hot air does not flow to the main exhaust pipe 13, and the hot air supply pipe 21, 22 is fed into the oven chamber.

오븐챔버로의 열풍공급을 차단하고자 할 때는 바이패스 밸브(28)를 열고 공급밸브(24)를 닫는다. 그러면 열풍은 오븐챔버로는 공급되지 않고 주배기관(13)을 통해서 외부로 빠져나가게 된다. 이러한 바이패스 장치가 필요한 이유는 열풍공급을 중지하기 위해서 열풍발생장치(열풍 송풍기를 포함하여)를 오프시켜 버리면 나중에 다시 열풍을 공급하고자 할 때 열풍발생장치가 정상적인 궤도에 오르는 데까지 시간이 걸리기 때문에 이러한 단점을 극복하기 위해서이다. When the hot air supply to the oven chamber is to be cut off, the bypass valve 28 is opened and the supply valve 24 is closed. Then, the hot air is not supplied to the oven chamber and is discharged to the outside through the main exhaust pipe 13. The need for such a bypass device is that if the hot air generator (including the hot air blower) is turned off to stop the hot air supply, it will take time for the hot air generator to reach the normal track when the hot air is to be supplied again later. To overcome the shortcomings.

[열풍배기][Hot air exhaust]

열풍배기장치도 열풍공급장치와 마찬가지로 오븐챔버마다 설치되며, 오븐챔버에 각각 연통되는 부배기관(11a, 11b, 11c)과, 부배기관(11a, 11b, 11c)에 공통으로 연결되는 하나의 주배기관(13)과, 주배기관(13)에 연결되는 열풍배기펌프(15)를 포함하여 이루어진다. 부배기관(11a, 11b, 11c)에는 부 냉각트랩(sub-cold trap, 12a, 12b, 12c)가 각각 설치된다. 주배기관(13)에는 주 냉각트랩(14)이 설치된다. 주 냉각트랩(main cold trap, 14)은 열풍배기펌프(15)에 최인접한 상기 부배기관과 주배기관의 연결부위 즉 참조번호 11c의 부배기관과 주배기관의 연결부위와 열풍배기펌프(15) 사이에 위치한다. 따라서 부 냉각트랩(12a, 12b, 12c)을 거친 열풍은 주 냉각트랩(14)에 의해 재차 트래핑된다. 주냉각트랩(14)은 부냉각트랩(12a, 12b, 12c)보다 용량이 큰 것이 바람직하다. Like the hot air supply device, the hot air exhaust device is installed in each oven chamber and is connected to the secondary exhaust pipes 11a, 11b, 11c and the secondary exhaust pipes 11a, 11b, 11c, which are in communication with the oven chamber, respectively. And a hot air exhaust pump 15 connected to the main exhaust pipe 13. Sub-cold traps 12a, 12b, and 12c are respectively installed in the sub-exhaust pipes 11a, 11b, and 11c. The main exhaust pipe 13 is provided with a main cooling trap 14. The main cold trap 14 is connected between the secondary exhaust pipe closest to the hot air exhaust pump 15 and the main exhaust pipe, that is, between the secondary exhaust pipe of the reference numeral 11c and the main exhaust pipe and the hot air exhaust pump 15. Located in Therefore, the hot air passing through the sub cooling traps 12a, 12b, and 12c is trapped again by the main cooling trap 14. The main cooling trap 14 preferably has a larger capacity than the subcooling traps 12a, 12b, and 12c.

베이킹 과정에서 주로 발생할 수 있는 증기(fume)는 열풍에 편승하여 외부로 배출되는데 배기라인을 거쳐 배출되는 과정에서 외부기온을 냉각되어 배기라인에 응축 고착된다. 이렇게 응축고착된 것을 제거하기는 매우 어려울 뿐만 아니라 잠재적으로 생산수율의 저하가 야기된다. 이를 방지하기 위하여 상술한 바와 같은 냉각트랩을 설치하는 것이다. 그러면 증기의 응축 고착이 대부분 부냉각트랩 및 주냉각트랩에서 이루어질 것이므로 냉각트랩만 별도로 클리닝하면 되어 유지보수가 용이하게 된다. In the baking process, fumes are mainly discharged to the outside by riding hot air. In the process of being discharged through the exhaust line, the outside air is cooled and condensed to the exhaust line. It is very difficult to remove this condensation and potentially leads to a decrease in production yield. In order to prevent this is to install the cooling trap as described above. Then, condensation fixation of the steam will be mostly performed in the subcooling trap and the main cooling trap, so that only the cooling trap needs to be cleaned separately, thereby facilitating maintenance.

상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 베이킹 공정 시에 발생하는 증기를 열풍의 흐름에 편승시켜 외부로 배출시켜 버림으로써 챔버 내에서 증기(fume)에 의한 이물질 발생을 방지할 수 있고, 또한 바이패스 기능에 의하여 대기상태에서 준비하고 있다가 바로 열풍을 공급할 수 있게 된다. 또한 냉각트랩을 설치함으로써 배기라인의 세정이 용이하게 된다. As described above, according to the present invention, the vapor generated during the baking process is piggybacked by the flow of hot air to be discharged to the outside, whereby foreign matters generated by the vapor in the chamber can be prevented, and the bypass function By preparing in the standby state it is possible to supply hot air immediately. In addition, by installing a cooling trap, it is easy to clean the exhaust line.

Claims (3)

복수개의 LCD 글라스 기판용 오븐챔버에 열풍을 공급하기 위한 열풍공급장치와, 이러한 열풍을 배기하기 위한 열풍배기장치로 구성되는데, It consists of a hot air supply device for supplying hot air to a plurality of LCD chamber oven chambers, and a hot air exhaust device for exhausting the hot air, 상기 열풍공급장치는, 열풍 송풍기를 통해 열풍을 공급받아 이를 상기 오븐챔버로 공급하고, The hot air supply device receives the hot air through a hot air blower and supplies it to the oven chamber, 상기 열풍배기장치는, 상기 오븐챔버에 각각 연통되는 부배기관과, 상기 부배기관에 공통으로 연결되는 하나의 주배기관과, 상기 주배기관에 연결되는 열풍배기펌프와, 상기 부배기관에 각각 설치되는 부 냉각트랩과, 상기 열풍배기펌프에 최인접한 상기 부배기관과 상기 주배기관의 연결부위와 상기 열풍배기펌프 사이에 위치하도록 상기 주배기관에 설치되는 주 냉각트랩;을 구비하는 것을 특징으로 하는 LCD 글라스 기판용 오븐챔버의 열풍 공급 배기 장치. The hot air exhaust device, a secondary exhaust pipe communicating with each of the oven chamber, one main exhaust pipe connected in common to the secondary exhaust pipe, a hot air exhaust pump connected to the main exhaust pipe, and a secondary portion installed in each of the secondary exhaust pipe And a cooling trap and a main cooling trap installed at the main exhaust pipe so as to be located between the connection portion of the sub exhaust pipe and the main exhaust pipe closest to the hot air exhaust pump and the hot air exhaust pump. Hot air supply exhaust device for oven chamber. 제1항에 있어서, 상기 열풍공급장치는, 한쪽은 상기 열풍 송풍기에 연결되고 나머지 한쪽은 상기 주배기관에 각각 연결되는 바이패스관과, 상기 바이패스관의 중간에서 각각 분기되어 상기 오븐챔버에 각각 연통되는 열풍 공급관과, 열풍공급의 차단여부를 결정하도록 상기 열풍 공급관에 각각 설치되는 공급밸브와, 상기 바이패스관에서 상기 열풍 공급관이 분기되는 부위와 상기 주배기관 사이에 각각 설치되는 바이패스 밸브;를 구비하는 것을 특징으로 하는 LCD 글라스 기판용 오븐챔버의 열풍 공급 배기 장치.According to claim 1, wherein the hot air supply device, the bypass pipe is connected to each of the hot air blower and the other one to the main exhaust pipe, respectively, branched in the middle of the bypass pipe, respectively in the oven chamber A hot air supply pipe communicating with each other, a supply valve installed at each of the hot air supply pipes so as to determine whether the hot air supply is blocked, and a bypass valve provided between the branched branch of the hot air supply pipe and the main exhaust pipe; Hot air supply exhaust device of the oven chamber for LCD glass substrate comprising a. 제1항에 있어서, 상기 주냉각트랩이 상기 부냉각트랩보다 용량이 큰 것을 특징으로 하는 LCD 글라스 기판용 오븐챔버의 열풍 공급 배기 장치.The hot air supply and exhaust apparatus of the oven chamber of claim 1, wherein the main cooling trap has a larger capacity than the sub cooling trap.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100258824B1 (en) 1996-11-26 2000-06-15 시마자키 기요시 Thermal treatment unit with sublimate protecting device
KR100461601B1 (en) 2002-01-21 2004-12-14 주성엔지니어링(주) Exhaust apparatus for use in process chamber of semiconductor device processing equipment

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100258824B1 (en) 1996-11-26 2000-06-15 시마자키 기요시 Thermal treatment unit with sublimate protecting device
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