KR100687728B1 - Process for the preparation of broadband antireflection film and the broadband antireflection film prepared therefrom - Google Patents

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KR100687728B1 KR1020050055409A KR20050055409A KR100687728B1 KR 100687728 B1 KR100687728 B1 KR 100687728B1 KR 1020050055409 A KR1020050055409 A KR 1020050055409A KR 20050055409 A KR20050055409 A KR 20050055409A KR 100687728 B1 KR100687728 B1 KR 100687728B1
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학교법인 포항공과대학교
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Abstract

본 발명은 광대역 반사방지 필름의 제조방법 및 그로부터 제조된 광대역 반사방지 필름에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 고분자 물질을 저비등점을 갖는 용매에 용해시켜 고분자 용액을 제조하는 단계; 및 상기 고분자 용액을 고습도 환경 하에서 기판 상에 코팅하는 단계를 포함하는 광대역 반사방지 필름의 제조방법 및 그로부터 제조된 반사방지 필름에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 고가의 장비를 사용하거나 또는 다단계 작업을 수행할 필요 없이, 단일 공정에 의하여 짧은 시간 내에 광대역 반사방지필름을 제조할 수 있다.The present invention relates to a method for producing a broadband antireflection film and a broadband antireflection film prepared therefrom, more specifically, dissolving a polymer material in a solvent having a low boiling point to prepare a polymer solution; And it relates to a method for producing a broadband anti-reflection film comprising the step of coating the polymer solution on a substrate in a high humidity environment and an anti-reflection film prepared therefrom. According to the present invention, it is possible to produce a broadband antireflection film in a short time by a single process without using expensive equipment or performing a multi-step operation.

광대역 반사방지 필름 Broadband antireflection film

Description

광대역 반사방지 필름의 제조방법 및 그로부터 제조된 반사방지 필름 {Process for the preparation of broadband antireflection film and the broadband antireflection film prepared therefrom} Process for the preparation of broadband antireflection film and the broadband antireflection film prepared therefrom

도 1은 본 발명에 따라서 제조된 광대역 반사방지 필름으로 코팅된 유리기판의 반사율을 도시한 그래프이다.1 is a graph showing the reflectance of a glass substrate coated with a broadband anti-reflection film prepared according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따라서 제조된 광대역 반사방지 필름의 단면 구조를 전자현미경으로 관찰한 사진이다.Figure 2 is a photograph observing the cross-sectional structure of the broadband anti-reflection film prepared according to the present invention with an electron microscope.

본 발명은 광대역 반사방지 필름의 제조방법 및 그로부터 제조된 광대역 반사방지 필름에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 고가의 장비 또는 다단계 작업을 수행할 필요 없이, 단일 공정에 의하여 짧은 시간 내에 광대역 반사방지필름을 제조할 수 있는 광대역 반사방지필름의 제조방법 및 그로부터 제조된 광대역 반사방지 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a broadband antireflection film and a broadband antireflection film prepared therefrom, and more particularly, to provide a broadband antireflection film in a short time by a single process, without the need for expensive equipment or multi-step operations. It relates to a method for producing a broadband anti-reflection film that can be produced and a broadband anti-reflection film produced therefrom.

광대역 반사방지 필름 (antireflection film)이란, 근적외선 영역의 광대역에서 광반사를 방지하기 위한 필름을 의미하며, 광통신 및 광전자 소자와 같은 다 양한 분야에 유용하게 사용된다.Broadband antireflection film (antireflection film) means a film for preventing light reflection in the broadband of the near infrared region, and is useful in various fields such as optical communication and optoelectronic devices.

종래에 이러한 광대역 반사방지 필름의 제조에 있어서는 진공증착 방법이나, 유리의 에칭 방법 등이 널리 사용되어 왔으나, 상기 종래기술에 따른 방법들은 그 공정이 다단계로 이루어져 매우 복잡하고, 고진공 증착기 등의 고가의 장치를 사용하게 되어 경제적으로 매우 불리하다는 문제점을 지니고 있었다.Conventionally, the vacuum deposition method and the etching method of glass have been widely used in the manufacture of such a broadband antireflection film. However, the method according to the prior art is very complicated because the process is multi-stage and expensive such as a high vacuum evaporator. The use of the device had the problem of being very economically disadvantageous.

이에 본 발명자들은 상기 종래기술에 따른 문제점을 해결하기 위해서, 고가의 장비를 사용하거나 또는 다단계 작업을 수행할 필요 없이, 단일 공정에 의하여 짧은 시간 내에 광대역 반사방지필름을 제조할 수 있는 방법 및 그로부터 제조된 반사방지 필름을 제공하고자 한다.In order to solve the problems according to the prior art, the present inventors can manufacture a broadband antireflection film in a short time by a single process without using expensive equipment or performing a multi-step operation, and manufacturing therefrom. To provide an antireflective film.

상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명에 따른 일 구현예에서는,In order to achieve the above object, in one embodiment according to the present invention,

고분자 물질을 저비등점을 갖는 용매에 용해시켜 고분자 용액을 제조하는 단계; 및Dissolving the polymer material in a solvent having a low boiling point to prepare a polymer solution; And

상기 고분자 용액을 고습도 환경 하에서 기판 상에 코팅하는 단계를 포함하는 광대역 반사방지 필름의 제조방법을 제공한다.It provides a method for producing a broadband anti-reflection film comprising the step of coating the polymer solution on a substrate in a high humidity environment.

상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명에 따른 다른 구현예에서는,In order to achieve the above object, in another embodiment according to the present invention,

상기 방법에 의해서 제조된 광대역 반사방지 필름을 제공한다.It provides a broadband anti-reflection film produced by the above method.

이하 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명은 광대역 반사방지 필름의 제조방법 및 그로부터 제조된 광대역 반 사방지 필름에 관한 것으로서, 본 발명에 따르면 고가의 장비를 사용하거나 또는 다단계 작업을 수행할 필요 없이, 단일 공정에 의하여 짧은 시간 내에 광대역 반사방지필름을 제조할 수 있다.The present invention relates to a method for manufacturing a broadband antireflection film and a broadband antireflection film prepared therefrom, according to the present invention, broadband reflection is performed within a short time by a single process without using expensive equipment or performing a multi-step operation. The prevention film can be manufactured.

본 발명의 일 구현예에 따르면 반사방지 필름의 제조방법이 제공되며, 본 발명에 따른 반사방지 필름의 제조방법은, 고분자 물질을 저비등점을 갖는 용매에 용해시켜 고분자 용액을 제조하는 단계; 및 상기 고분자 용액을 고습도 환경 하에서 기판 상에 코팅하는 단계를 포함한다.According to one embodiment of the present invention there is provided a method for producing an antireflective film, the method for producing an antireflective film according to the present invention comprises the steps of dissolving a polymer material in a solvent having a low boiling point to prepare a polymer solution; And coating the polymer solution on a substrate in a high humidity environment.

본 발명은 휘발성이 강한 저비등점 용매가 고분자 용액으로부터 증발할 때, 용액의 표면에서 냉각 현상이 발생하고, 이때 대기 중의 습도가 높으면 냉각된 용액의 표면에 물이 응축하는 현상 (breath figure)을 이용한 것이다. 최종적으로, 용매와 물이 모두 증발한 이후에는 고분자 필름이 얻어지게 되는데, 이때 응축되어 있던 물방울의 형상이 고분자 필름에 잔류하여 다공성 필름을 얻게 된다. 특히 응축된 물방울은 표면에 단층으로만 생기지 않고 다층구조를 이루게 되며, 따라서 결과물인 고분자 필름은 다층 구조의 다공성 구조를 갖게 되고 표면의 기공도가 더 높아서 두께 방향으로 비대칭 구조를 갖게 된다.According to the present invention, when a volatile low boiling point solvent evaporates from a polymer solution, a cooling phenomenon occurs at the surface of the solution, and when the humidity in the air is high, water condenses on the surface of the cooled solution (breath figure). will be. Finally, after evaporation of both the solvent and water, a polymer film is obtained. At this time, the condensed water droplets remain in the polymer film to obtain a porous film. In particular, the condensed water droplets form a multi-layered structure instead of only a single layer on the surface. Therefore, the resultant polymer film has a porous structure of a multi-layered structure and a porosity of the surface is higher, thereby having an asymmetrical structure in the thickness direction.

본 발명에서 사용가능한 고분자로는, 이에 제한되는 것은 아니지만, 아크릴계 고분자, 셀룰로오스계 고분자, 스티렌계 고분자, 폴리술폰계 고분자, 플루오르계 고분자 및 그 혼합물 등과 같은 비정형의 투명한 고분자가 사용될 수 있다.As the polymer usable in the present invention, amorphous polymers such as, but not limited to, acrylic polymers, cellulose polymers, styrene polymers, polysulfone polymers, fluorine polymers and mixtures thereof may be used.

본 발명에서 사용가능한 저비등점 용매로는 비등점이 물보다 낮은 것이라면 무방하며, 바람직하게는 40 내지 100℃인 것이 사용될 수 있다. 저비등점 용매의 비등점이 40℃ 미만인 경우에는 매우 빠른 증발로 인하여 코팅이 균일하지 않은 문제점이 있으며, 100℃를 초과하는 경우에는 물을 응축시키지 못 하는 문제점이 있어서 바람직하지 않다.The low boiling point solvent usable in the present invention may be any one having a boiling point lower than that of water, and preferably 40 to 100 ° C. If the boiling point of the low boiling point solvent is less than 40 ℃ there is a problem that the coating is not uniform due to very fast evaporation, if it exceeds 100 ℃ it is not preferable because there is a problem that does not condense water.

한편, 이러한 저비등점 용매로는, 이에 제한되는 것은 아니지만, 예를 들어 테트라하이드로퓨란, 클로로포름, 벤젠, 톨루엔, 이황화탄소, 에테르 및 아세톤 등과 같은 유기 용매들이 사용될 수 있다.On the other hand, as the low boiling point solvent, organic solvents such as, but not limited to, tetrahydrofuran, chloroform, benzene, toluene, carbon disulfide, ether, acetone, and the like can be used.

고분자 물질을 저비등점을 갖는 용매에 용해시켜 고분자 용액을 제조하는 단계에 있어서, 고분자 물질의 농도는 얻고자하는 필름의 두께, 즉 반사방지 효과가 있는 빛의 파장 영역에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 800nm 내지 2200nm의 근적외선 영역을 고려하고자 한다면 고분자 물질의 농도가 0.03 내지 0.06 g/cc인 것이 바람직한데, 이 경우 고분자 물질의 농도가 0.06 g/cc를 초과하는 경우에는 필름의 두께가 너무 두꺼워져서 적당한 반사방지 설계에 적합하지 않으며, 0.03 g/cc 미만인 경우에는 필름의 두께가 너무 얇아서 응축된 물방울을 담지 못하여 기공도가 낮아지고 반사방지 효과를 크게 나타내지 못한다는 문제점이 있어서 바람직하지 않다.In the step of preparing a polymer solution by dissolving the polymer material in a solvent having a low boiling point, the concentration of the polymer material may vary depending on the thickness of the film to be obtained, that is, the wavelength region of the light having an antireflection effect. For example, if the near-infrared region of 800 nm to 2200 nm is considered, the concentration of the polymer material is preferably 0.03 to 0.06 g / cc. In this case, when the concentration of the polymer material exceeds 0.06 g / cc, the thickness of the film is If it is too thick, it is not suitable for proper anti-reflective design, and if it is less than 0.03 g / cc, it is not preferable because the film is too thin to contain condensed water droplets, resulting in low porosity and large anti-reflective effect. .

이어서, 상기 고분자 용액을 고습도 환경 하에서 기판 상에 코팅하는 단계를 수행한다.Subsequently, the polymer solution is coated on a substrate under a high humidity environment.

코팅 단계에서는 습도가 높은 고습도 환경을 유지하기 위해서 밀폐된 용기 안에서 코팅을 수행하며, 이를 위하여 온수를 밀폐된 용기 안에 놓는 방법 등을 사용할 수 있다.In the coating step, the coating is performed in a sealed container in order to maintain a high humidity environment with high humidity. For this purpose, a method of placing hot water in a closed container may be used.

바람직하게는 고습도 환경이라 함은 상대습도가 50% 내지 100%, 더욱 바람직하게는 70% 내지 100%, 더더욱 바람직하게는 90% 내지 100%인 환경을 의미한다.Preferably, the high humidity environment refers to an environment having a relative humidity of 50% to 100%, more preferably 70% to 100%, even more preferably 90% to 100%.

상대습도는 높게 유지할수록 많은 양의 물을 응축시킬 수 있어서 유리하며, 상대습도가 50% 미만인 경우에는 상기 언급한 응축 현상이 충분히 발생될 수 없어서 바람직하지 않다.The higher the relative humidity, the higher the amount of water can be condensed, which is advantageous. If the relative humidity is less than 50%, the above-mentioned condensation cannot be sufficiently generated, which is not preferable.

코팅 방법으로는 용매를 빠르게 증발시키면서 두께를 잘 제어할 수 있는 코팅 방법이라면 어떠한 코팅 방법이라도 사용가능하며, 이에 제한되는 것은 아니지만, 롤코팅, 바코팅 및 스핀코팅 등과 같은 다양한 코팅 방법들이 사용될 수 있다.As the coating method, any coating method can be used as long as the coating method can control the thickness well while rapidly evaporating the solvent. Various coating methods such as roll coating, bar coating, and spin coating can be used. .

코팅에 있어서, 고분자 용액의 코팅량은 원하는 크기의 기판을 잘 덮을 수 있을 정도면 무방하며, 예를 들어 2.5cm2 × 2.5cm2 크기의 기판이라면 0.3cc 정도의 고분자 용액이면 충분하다.In the coating, the coating amount of the polymer solution may be sufficient to cover a substrate of a desired size, and for example, a polymer solution of about 0.3 cc is sufficient for a substrate having a size of 2.5 cm 2 × 2.5 cm 2 .

코팅시 사용되는 기판으로는, 고분자 용액에 녹지 않고, 굴절율이 1.45 내지 1.8인 것들이 사용될 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니지만, 유리, 인듐 틴옥사이드 (ITO) 및 플라스틱 기판 (폴리에스터(PET), 이미드, 폴리카보네이트) 등이 사용될 수 있다.As the substrate used for coating, those which are not soluble in the polymer solution and have a refractive index of 1.45 to 1.8 can be used, but are not limited to glass, indium tin oxide (ITO) and plastic substrates (polyester (PET), , Polycarbonates) and the like can be used.

기판의 굴절율이 상기 범위 미만인 경우와, 상기 범위를 초과하는 경우에는 빛의 간섭 결과가 충분히 상쇄간섭을 일으키지 못하기 때문에 반사방지효과가 떨어지는 문제점이 있어서 바람직하지 않다.If the refractive index of the substrate is less than the above range, and if the refractive index of the substrate exceeds the above range, there is a problem that the antireflection effect is poor because the interference result of the light does not sufficiently cause interference.

코팅 방법으로서 스핀코팅을 사용하는 경우, 그 회전 속도 (rpm)는 2,000 내 지 9,000 rpm의 범위 내에서 원하는 두께를 맞추기 위해 광범위하게 조절이 가능하다.When spin coating is used as the coating method, the rotational speed (rpm) can be extensively adjusted to suit the desired thickness within the range of 2,000 to 9,000 rpm.

본 발명의 다른 구현예에 따르면 상기 방법에 의해서 제조된 광대역 반사방지 필름이 제공된다.According to another embodiment of the present invention there is provided a broadband anti-reflection film produced by the above method.

본 발명에 따른 방법에 의해서 제조된 광대역 반사방지 필름은 상기 언급한 바와 같이 물방울의 응축에 의해서 형성된 다공성 구조를 갖게 된다. 상기 다공성 구조에 있어서, 생성되는 기공은 200nm 내지 수십 마이크론 정도의 직경을 가지며, 용매의 증발 속도가 빠를수록 생성되는 기공의 크기는 작아진다. 이러한 다공성 필름이 광대역 반사방지 필름으로 사용되려면 기공의 크기가 200 내지 300nm 정도로 작게 조절되어야 하는데, 이는 이러한 다공성 구조가 근적외선 영역에서 빛의 산란은 초래하지 않으면서도 저굴절층으로 작용하도록 하기 위한 것이다. 결과적으로 작은 크기의 기공을 가지면서 표면의 기공도가 필름의 아래 부분보다 높게 되면, 굴절율이 표면으로부터 매우 낮은 값부터 유리기판으로 갈수록 점차 증가하여 광대역 반사방지필름으로 작용하게 되는 것이다.The broadband antireflection film produced by the method according to the invention has a porous structure formed by condensation of water droplets as mentioned above. In the porous structure, the resulting pores have a diameter of about 200 nm to several tens of microns, and the faster the evaporation rate of the solvent, the smaller the size of the generated pores. In order to use such a porous film as a broadband anti-reflection film, the pore size should be controlled to be as small as 200 to 300 nm, so that the porous structure acts as a low refractive layer without causing light scattering in the near infrared region. As a result, when the porosity of the surface is higher than the lower portion of the film while having small pores, the refractive index is gradually increased from the very low value from the surface to the glass substrate to act as a broadband antireflection film.

본 발명의 방법에 따라서 제조된 광대역 반사방지 필름의 두께는 400nm 내지 600nm 정도이며, 이 경우 빛의 파장이 900nm 내지 2200nm인 근적외선 영역에서 반사율을 1% 이하로 낮춘 광대역 반사방지 필름을 제조할 수 있다. The thickness of the broadband anti-reflection film prepared according to the method of the present invention is about 400nm to 600nm, in this case it can be produced a broadband antireflection film having a reflectance lowered to 1% or less in the near infrared region of the wavelength of light 900nm to 2200nm. .

이하 실시예를 통하여 본 발명을 상세히 설명하되, 본 발명이 하기 실시예로만 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to the following examples.

실시예Example

고분자로 셀룰로오스 아세테이트 부티레이트 (이하, CAB), 용매로 테트라하이드로퓨란 (이하, THF)을 사용하였다.Cellulose acetate butyrate (hereinafter CAB) was used as a polymer, and tetrahydrofuran (hereinafter THF) was used as a solvent.

먼저, CAB를 THF에 용해하여 CAB의 농도를 0.05 g/cc가 되도록 준비하였다. 이어서, 2.5 cm2 × 2.5 cm2 크기의 유리 기판에 용액을 도포하고, 회전 속도를 7000 rpm으로 하여 스핀 코팅을 수행하였다. 상대 습도는 85℃의 물을 사용하여 95%로 유지하였다. 필름 형성은 30초 이내의 스핀 코팅으로 충분하였다.First, CAB was dissolved in THF to prepare a concentration of CAB of 0.05 g / cc. Subsequently, the solution was applied to a glass substrate having a size of 2.5 cm 2 × 2.5 cm 2 , and spin coating was performed at a rotation speed of 7000 rpm. Relative humidity was maintained at 95% using 85 ° C. water. Film formation was sufficient with spin coating within 30 seconds.

도 2는 본 발명에 따라서 제조된 광대역 반사방지 필름의 단면 구조를 전자현미경으로 관찰한 사진이며, 필름의 단면 구조를 전자현미경으로 관찰한 결과, 필름의 윗부분은 직경 230nm 정도의 기공이 매우 조밀하게 형성되어 있었으며, 그 아래 부분은 기공도가 낮은 조직이 형성되어 있었다.Figure 2 is a photograph of the cross-sectional structure of the broadband anti-reflection film prepared according to the present invention by electron microscopy, the cross-sectional structure of the film is observed by electron microscopy, the upper part of the film is very dense pores of about 230nm diameter In the lower part, a low pore tissue was formed.

또한, 필름이 코팅된 유리의 반사율을 측정하여 본 결과, 도 1 및 하기 표 1에서 볼 수 있는 바와 같이, 900nm 내지 2200nm의 근적외선 영역에서 평균 반사율이 1% 이하로서, 광대역에서 낮게 측정되었다.In addition, as a result of measuring the reflectance of the film-coated glass, as shown in FIG. 1 and Table 1 below, the average reflectance in the near infrared region of 900 nm to 2200 nm was 1% or less, which was low in the broadband.

사용된 용액Used solution CAB 0.05g/cc THF 용액, 상대습도 95%CAB 0.05g / cc THF solution, 95% relative humidity 스핀코팅의 회전수Number of revolutions of spin coating 7000rpm7000 rpm 제1 최소반사율First reflectance 970nm에서 0.77% 0.77% at 970 nm 제2 최소반사율Second minimum reflectance 1740nm에서 0.76%0.76% at 1740 nm 900~2200nm에서의 평균 반사율Average reflectance at 900-2200 nm 0.88%0.88%

본 발명에 따르면, 고가의 장비를 사용하거나 또는 다단계 작업을 수행할 필요 없이, 단일 공정에 의하여 짧은 시간 내에 광대역 반사방지필름을 제조할 수 있 다.According to the present invention, a broadband anti-reflection film can be manufactured in a short time by a single process without using expensive equipment or performing a multi-step operation.

Claims (16)

고분자 물질을 40 내지 100℃의 저비등점을 갖는 용매에 용해시켜 고분자 용액을 제조하는 단계; 및Preparing a polymer solution by dissolving the polymer material in a solvent having a low boiling point of 40 to 100 ° C .; And 상기 고분자 용액을 고습도 환경 하에서 기판 상에 코팅하는 단계를 포함하는 광대역 반사방지 필름의 제조방법.The method of manufacturing a broadband anti-reflection film comprising the step of coating the polymer solution on a substrate in a high humidity environment. 제1항에 있어서, 상기 고분자 물질은 비정형의 투명 고분자인 것을 특징으로 하는 광대역 반사방지 필름의 제조방법.The method of claim 1, wherein the polymer material is an amorphous transparent polymer. 제2항에 있어서, 상기 고분자 물질은 아크릴계 고분자, 셀룰로오스계 고분자, 스티렌계 고분자, 폴리술폰계 고분자, 플루오르계 고분자 및 그 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 광대역 반사방지 필름의 제조방법.The method of claim 2, wherein the polymer material is selected from the group consisting of acrylic polymers, cellulose polymers, styrene polymers, polysulfone polymers, fluorine polymers, and mixtures thereof. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 저비등점 용매는 테트라하이드로퓨란, 클로로포름, 벤젠, 톨루엔, 이황화탄소, 에테르, 아세톤 및 그 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 광대역 반사방지 필름의 제조방법.The method of claim 1, wherein the low boiling point solvent is selected from the group consisting of tetrahydrofuran, chloroform, benzene, toluene, carbon disulfide, ether, acetone, and mixtures thereof. 제1항에 있어서, 상기 고분자 물질의 농도는 0.03 내지 0.06 g/cc인 것을 특징으로 하는 광대역 반사방지 필름의 제조방법.The method of claim 1, wherein the concentration of the polymer material is 0.03 to 0.06 g / cc. 제1항에 있어서, 상기 고습도 환경은 상대습도 50% 내지 100%의 환경인 것을 특징으로 하는 광대역 반사방지 필름의 제조방법.The method of claim 1, wherein the high humidity environment is 50% to 100% relative humidity. 제7항에 있어서, 상기 고습도 환경은 상대습도 70% 내지 100%의 환경인 것을 특징으로 하는 광대역 반사방지 필름의 제조방법.The method of claim 7, wherein the high humidity environment is 70% to 100% relative humidity environment. 제8항에 있어서, 상기 고습도 환경은 상대습도 90% 내지 100%의 환경인 것을 특징으로 하는 광대역 반사방지 필름의 제조방법.The method of claim 8, wherein the high humidity environment is 90% to 100% relative humidity. 제1항에 있어서, 상기 혼합 용액을 기판 상에 코팅하는 방법은 롤코팅, 바코팅 및 스핀코팅 인 것을 특징으로 하는 광대역 반사방지 필름의 제조방법.The method of claim 1, wherein the method of coating the mixed solution on a substrate is roll coating, bar coating, or spin coating. 제1항에 있어서, 상기 기판의 굴절율은 1.45 내지 1.8인 것을 특징으로 하는 광대역 반사방지 필름의 제조방법.The method of claim 1, wherein the substrate has a refractive index of 1.45 to 1.8. 제10항에 있어서, 상기 코팅 방법이 스핀코팅인 경우, 그 회전 속도 (rpm)는 2,000 내지 9,000 rpm인 것을 특징으로 하는 광대역 반사방지 필름의 제조방법.The method of manufacturing a broadband antireflection film according to claim 10, wherein when the coating method is spin coating, its rotation speed (rpm) is 2,000 to 9,000 rpm. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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