KR100661349B1 - Mems 스위치 및 그 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (20)
- 기판;상기 기판상에 형성되며 스위칭접점부를 갖는 복수의 신호라인;상기 기판상에 형성되되 상기 신호라인들의 사이에 형성된 복수의 고정전극;상기 기판상에 소정의 높이로 돌출되게 마련된 복수의 앵커;상기 앵커에 지지되어 상하 유동가능하게 설치되어 동일 평면상에 설치되는 적어도 두개의 작동빔;상기 작동빔의 저면에 설치되어 상기 스위칭접점부와 접촉하는 접촉부재;상기 작동빔들을 연결하는 연결유닛; 및상기 접촉부재가 상기 스위칭접점부를 향하여 이동시 상기 연결유닛을 지지하도록 상기 기판에 마련된 지지유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치.
- 제 1항에 있어서, 상기 연결유닛은 상기 작동빔과 동일 평면을 유지하며 상기 작동빔과 일체로 형성된 연결바이고;상기 지지유닛은 상기 기판상에 소정높이로 돌출되게 형성되며 상기 연결바와 대응된 위치로 형성된 지지돌기;인 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치.
- 제 1항에 있어서, 상기 앵커 및 상기 지지돌기는 동일한 높이로 형성되고;상기 작동빔 및 상기 연결바는 상기 앵커 및 지지돌기로부터 소정간격 이격되도록 형성된 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치.
- 제 2항에 있어서, 상기 연결바는 소정의 간격을 두고 복수개로 마련되고;상기 지지돌기는 상기 연결바와 교차하도록 소정의 간격을 두고 복수개로 마련된 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치.
- 제 1항에 있어서, 상기 신호라인들은 하나의 입력라인과 복수개의 출력라인들로 이루어지되 기판의 중심으로부터 방사형을 이루고;상기 신호라인들과 대응하여 상기 작동빔들이 소정의 각도를 이루며 배치된 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치.
- 제 1항에 있어서, 상기 작동빔은 절연막과, 상기 절연막의 상면에 소정두께로 형성된 전극으로 된 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치.
- 제 6항에 있어서, 상기 절연막의 재질은 실리콘나이트라이드인 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치.
- 제 6항에 있어서, 상기 전극의 재질은 알루미늄인 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치.
- 제 6항에 있어서, 상기 연결유닛은 상기 작동빔을 이루는 절연막상에 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치.
- 제 1항에 있어서, 상기 작동빔들은 상기 연결유닛이 마련된 반대쪽에 상기 앵커의 상면에 지지되는 지지바를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치.
- 기판상에 복수개의 앵커 및 지지유닛을 형성하는 단계;상기 앵커 및 지지유닛이 형성된 상기 기판의 상면에 금속층을 증착하는 단계;상기 금속층을 통하여 복수의 고정전극 및 신호라인을 패터닝하는 단계;상기 복수의 고정전극, 신호라인 및 지지부재를 덮는 제 1희생층을 형성하는 단계;상기 제 1희생층을 소정 두께로 평탄화하는 단계;상기 평탄화된 제 1희생층의 상측에 제 2희생층을 소정두께로 증착하고, 접촉부재관통홀을 패터닝하는 단계;상기 제 2희생층의 상측에 접촉부재층을 증착한 후 상기 접촉부재관통홀에 매몰된 접촉부재를 패터닝하는 단계;상기 접촉부재가 형성된 상기 제 2희생층의 상측에 작동빔층을 형성한 후 적어도 두개의 작동빔 및 상기 작동빔들을 연결하는 연결유닛을 패터닝하는 단계; 및상기 제 1,2희생층을 제거하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치 제조방법.
- 제 11항에 있어서, 상기 앵커 및 지지유닛을 형성하는 단계에서, 상기 앵커 및 지지유닛은 상기 기판을 에칭하여 상기 기판상에 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치 제조방법.
- 제 12항에 있어서, 상기 지지유닛은 상기 앵커와 동일한 높이로 형성되며, 소정의 간격을 두고 4각 기둥형태의 지지돌기로 형성되고;상기 연결유닛은 상기 지지돌기와 교차되도록 소정의 간격을 두고 복수개의 연결바로 형성되는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치 제조방법.
- 제 13항에 있어서, 상기 제 1희생층 평탄화 단계에서, 상기 제 1희생층은 상기 앵커 및 지지돌기의 상면과 소정의 간격을 유지하는 두께로 평탄화 되는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치 제조방법.
- 제 11항에 있어서, 상기 제 1희생층의 평탄화는 에치 백(ETCH BACK)에 의하는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치 제조방법.
- 제 11항에 있어서, 상기 작동빔을 형성하는 단계는 작동빔 패턴에 대응되는 절연막이 형성되는 단계; 및상기 절연막의 상측에 전극을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치 제조방법.
- 제 16항에 있어서, 상기 절연막 형성단계에서, 상기 연결유닛이 상기 절연막과 일체로 패터닝되는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치 제조방법.
- 제 11항에 있어서, 상기 고정전극 및 신호라인을 패터닝하는 단계에서, 상기 신호라인은 상기 기판의 중심으로부터 방사형으로 형성되되 소정의 간격을 두고 갭을 형성하는 스위칭접점부가 형성되고, 상기 고정전극은 상기 신호라인의 사이에 개재되도록 형성되는 것을 특징으로하는 MEMS 스위치 제조방법.
- 제 18항에 있어서, 상기 작동빔은 상기 신호라인의 상방향에 위치하도록 기판의 중심으로부터 소정의 각도로 형성되는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치 제조방법.
- 제 11항에 있어서, 상기 작동빔 및 연결유닛을 패터닝하는 단계에서, 상기 연결유닛이 형성된 반대쪽의 작동빔 단부에는 상기 앵커의 상면에 지지되는 지지바를 패터닝하는 단계;가 더 포함된 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치 제조방법.
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