KR100647701B1 - Flexible substrate, flexible thin film transistor substrate and flat panel display apparatus comprising the same - Google Patents

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Abstract

An FPCB, a flexible TFT(Thin Film Transistor) substrate, and a flat panel display device are provided to maintain a constant image quality by preventing pollutants from permeating into the display device. An FPCB(Flexible Printed Circuit Board) includes a laminate(11) and a plastic film(13). The laminate contains a metal film and an oxide film. The plastic film is arranged on upper/lower portions of the laminate and planarizes a surface of the plastic film. Plural metal layers and oxide layers are alternatively arranged inside the laminate. The FPCB includes an adhesive layer(12) which is applied on a space between the laminate and the plastic film arranged on the upper/lower portions of the laminate.

Description

플렉서블 기판, 플렉서블 박막 트랜지스터 기판 및 이를 구비한 평판 디스플레이 장치{Flexible substrate, flexible thin film transistor substrate and flat panel display apparatus comprising the same}Flexible substrate, flexible thin film transistor substrate and flat panel display apparatus comprising the same

도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플렉서블 기판을 개략적으로 도시하는 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing a flexible substrate according to a preferred embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에 도시된 플렉서블 기판의 변형예를 개략적으로 도시하는 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating a modified example of the flexible substrate illustrated in FIG. 1.

도 3은 도 1에 도시된 플렉서블 기판의 변형예를 개략적으로 도시하는 단면도이다.3 is a cross-sectional view schematically illustrating a modified example of the flexible substrate illustrated in FIG. 1.

도 4는 도 1에 도시된 플렉서블 기판의 변형예를 개략적으로 도시하는 단면도이다.4 is a cross-sectional view schematically illustrating a modified example of the flexible substrate illustrated in FIG. 1.

도 5는 본 발명의 바람직한 다른 일 실시예에 따른 플렉서블 박막 트랜지스터 기판을 개략적으로 도시하는 단면도이다.5 is a cross-sectional view schematically illustrating a flexible thin film transistor substrate according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 바람직한 또 다른 일 실시예에 따른 플렉서블 평판 디스플레이 장치의 개략적인 단면도이다.6 is a schematic cross-sectional view of a flexible flat panel display device according to another exemplary embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

10: 플렉서블 기판 11: 적층체 10: flexible substrate 11: laminate

11a: 금속막 11b: 금속 산화물막 11a: metal film 11b: metal oxide film

13: 플라스틱 필름13: plastic film

본 발명은 플렉서블 기판, 플렉서블 박막 트랜지스터 기판 및 이를 구비한 평판 디스플레이 장치에 관한 것으로서, 더 상세하게는 플렉서블하면서도 산소 또는 수분 등의 불순물의 침투가 방지된 플렉서블 기판, 플렉서블 박막 트랜지스터 기판 및 이를 구비한 평판 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a flexible substrate, a flexible thin film transistor substrate, and a flat panel display device including the same, and more particularly, a flexible substrate, a flexible thin film transistor substrate, and a flat plate having the same, which are prevented from penetrating impurities such as oxygen or moisture. It relates to a display device.

최근 플렉서블 평판 디스플레이 장치에 관한 관심이 높아짐에 따라 이에 관한 연구가 활발히 진행되고 있는데, 이러한 플렉서블 평판 디스플레이 장치를 구현하기 위해서는 종래의 글라스재 기판이 아닌 플라스틱 또는 금속막(metal foil) 등과 같은 재질의 플렉서블 기판을 이용한다.Recently, as the interest in the flexible flat panel display device is increasing, researches on it are being actively conducted. In order to implement the flexible flat panel display device, a flexible material made of a material such as plastic or metal foil is used instead of a glass substrate. A substrate is used.

한편, 평판 디스플레이 장치에는 각 화소의 동작을 제어하거나 구동부에서의 전기적 신호를 만들기 위해 박막 트랜지스터가 구비되는데, 이러한 박막 트랜지스터는 외부의 불순물 등으로부터 보호되는 것이 바람직하다. 특히 플렉서블 평판 디스플레이 장치와 관련하여 최근 활발히 연구가 진행되고 있는 유기 박막 트랜지스터의 경우 유기물은 외부의 수분 또는 산소 등으로부터 매우 취약하므로 이러한 외부의 불순물들의 침투를 방지할 필요가 있다.On the other hand, the flat panel display device is provided with a thin film transistor to control the operation of each pixel or to generate an electrical signal from the driver, it is preferable that such a thin film transistor is protected from external impurities and the like. In particular, in the case of an organic thin film transistor that is being actively researched in recent years with respect to a flexible flat panel display device, since organic matter is very vulnerable from external moisture or oxygen, it is necessary to prevent penetration of such external impurities.

또한, 플렉서블 평판 디스플레이 장치의 디스플레이부와 관련하여 최근 연구 가 활발하게 진행되고 있는 유기 발광 디스플레이 장치의 경우에도 각 화소에 구비되는 유기 발광 소자의 유기물들이 외부의 수분 또는 산소 등과 같은 불순물에 매우 취약하므로 이러한 외부의 불순물의 침투를 방지할 필요가 있다.In addition, in the case of the organic light emitting display device which is being actively researched in recent years with respect to the display unit of the flexible flat panel display device, organic materials of the organic light emitting device included in each pixel are very vulnerable to impurities such as external moisture or oxygen. It is necessary to prevent the penetration of such external impurities.

그러나 최근 개발되고 있는 플렉서블 기판은 이러한 외부의 불순물 등의 침투를 완벽하게 방지하지 못한다는 문제점이 있었다.However, the recently developed flexible substrate has a problem that does not completely prevent the penetration of such impurities.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 플렉서블하면서도 산소 또는 수분 등의 불순물의 침투가 방지된 플렉서블 기판, 플렉서블 박막 트랜지스터 기판 및 이를 구비한 평판 디스플레이 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Disclosure of Invention The present invention is to solve various problems including the above problems, and to provide a flexible substrate, a flexible thin film transistor substrate, and a flat panel display device having the same, which are flexible and prevent penetration of impurities such as oxygen or moisture. It is done.

상기와 같은 목적 및 그 밖의 여러 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 금속막과 산화물막을 포함하는 적층체와, 상기 적층체의 상하부에 각각 배치되어 표면을 평탄화시키는 플라스틱 필름을 구비하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판을 제공한다.In order to achieve the above object and various other objects, the present invention is characterized by comprising a laminate comprising a metal film and an oxide film, and a plastic film disposed on the upper and lower portions of the laminate to planarize the surface thereof. Provided is a flexible substrate.

이러한 본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 적층체는 복수개의 금속막들과 산화물막들이 교호적으로 배치된 적층체인 것으로 할 수 있다.According to another aspect of the present invention, the laminate may be a laminate in which a plurality of metal films and oxide films are alternately arranged.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 산화물막은 금속 산화물막인 것으로 할 수 있다.According to still another feature of the present invention, the oxide film may be a metal oxide film.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 산화물막은 실리콘 옥사이드인 것으 로 할 수 있다.According to another feature of the present invention, the oxide film may be silicon oxide.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 적층체와 상기 적층체의 상하부에 배치된 플라스틱 필름들 사이들 중 적어도 어느 한 곳에 개재된 접착층을 더 구비하는 것으로 할 수 있다.According to still another feature of the present invention, it may be further provided with an adhesive layer interposed between at least one of the laminate and the plastic films disposed above and below the laminate.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 접착층은 상기 적층체의 산화물막과 플라스틱 필름 사이에 개재되는 것으로 할 수 있다.According to still another feature of the present invention, the adhesive layer may be interposed between the oxide film of the laminate and the plastic film.

본 발명은 또한 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 상기와 같은 플렉서블 기판과, 상기 플렉서블 기판의 일면에 배치된 박막 트랜지스터를 구비하는 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 기판을 제공한다.The present invention also provides a thin film transistor substrate comprising a flexible substrate as described above, and a thin film transistor disposed on one surface of the flexible substrate in order to achieve the above object.

본 발명은 또한 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 상기와 같은 플렉서블 기판과, 상기 플렉서블 기판의 일면에 배치된 디스플레이 소자를 구비하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 장치를 제공한다.The present invention also provides a flat panel display apparatus comprising the above-described flexible substrate and a display element disposed on one surface of the flexible substrate in order to achieve the above object.

이러한 본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 디스플레이 소자에서 발생된 광은 상기 플렉서블 기판의 반대방향으로 출사되는 것으로 할 수 있다.According to another aspect of the present invention, the light generated in the display element may be emitted in the opposite direction of the flexible substrate.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플렉서블 기판을 개략적으로 도시하는 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing a flexible substrate according to a preferred embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 실시예에 다른 플렉서블 기판(10)은 적층체(11)와 이 적층체(11)의 상하부에 각각 배치된 플라스틱 필름(13)들을 구비한다. 여기서 적층 체(11)는 금속막(11a)과 금속 산화물막(11b)을 포함한다. Referring to FIG. 1, the flexible substrate 10 according to the present embodiment includes a laminate 11 and plastic films 13 disposed on upper and lower portions of the laminate 11, respectively. Here, the laminate 11 includes a metal film 11a and a metal oxide film 11b.

금속막(11a)은 전성과 연성이 높은 금속으로 형성되는 것이 바람직한데, 예컨대 알루미늄, 구리, 철, 니켈 또는 티타늄과 같은 것을 예로 들 수 있다. 이러한 금속막(11a)은 기판의 플렉서블 특성을 강화하는 기능을 한다. 산화물막(11b)은 외부로부터의 수분 또는 산소 등과 같은 불순물의 침투를 방지하는 배리어 역할을 하는 것으로, 예컨대 실리콘 옥사이드, 또는 알루미늄 옥사이드나 티타늄 옥사이드와 같은 금속 산화물막 등이 이용될 수 있다.The metal film 11a is preferably formed of a metal having high malleability and ductility, for example, aluminum, copper, iron, nickel or titanium. The metal film 11a serves to enhance the flexible characteristics of the substrate. The oxide film 11b serves as a barrier for preventing the penetration of impurities such as moisture or oxygen from the outside. For example, a silicon oxide or a metal oxide film such as aluminum oxide or titanium oxide may be used.

이러한 적층체(11)는 금속막(11a)에 화학기상증착법(CVD: chemical vapor deposition), 또는 원자층 증착법(ALD: Atomic Layer Deposition) 등을 이용하여 산화물막(11b)을 형성하여 제조될 수 있다. 물론 이 외의 다양한 방법을 통해 제조될 수도 있음은 물론이다.The laminate 11 may be manufactured by forming the oxide film 11b on the metal film 11a by using chemical vapor deposition (CVD), atomic layer deposition (ALD), or the like. have. Of course, it can also be manufactured through a variety of other methods.

한편, 이러한 적층체(11)는 그 표면의 거칠기(roughness)가 커서 적층체(11)만으로 이루어진 기판 상에 박막 트랜지스터 등을 형성할 경우 그 수율이 저하되는 등의 문제점이 있다. 따라서 이 적층체(11)의 상하부에 각각 플라스틱 필름(13)이 구비되도록 하는 것이 바람직하다. 이러한 플라스틱 필름(13)은 핫롤(hot roll)을 이용하여 적층체(11)의 상하부(양면)에 플라스틱 물질을 라미네이트(laminate)하여 형성할 수도 있다. 물론 이 외의 다양한 방법이 이용될 수도 있음은 물론이다. 또한, 처음부터 플라스틱 필름(13) 상에 금속막(11a)과 산화물막(11b)을 형성한 후 그 상부에 다시 플라스틱 필름(13)을 형성함으로써 플렉서블 기판(10)을 제조할 수도 있음은 물론이다.On the other hand, such a laminate 11 has a problem in that the yield is lowered when the thin film transistors or the like are formed on a substrate made of the laminate 11 only because the surface roughness thereof is large. Therefore, it is preferable that the plastic film 13 is provided in the upper and lower parts of this laminated body 11, respectively. The plastic film 13 may be formed by laminating a plastic material on upper and lower portions (both sides) of the laminate 11 using a hot roll. Of course, various other methods may be used. In addition, the flexible substrate 10 may be manufactured by forming the metal film 11a and the oxide film 11b on the plastic film 13 and forming the plastic film 13 thereon again. to be.

이와 같은 구조의 플렉서블 기판(10)은 금속막(11a)의 전성과 연성에 기인한 플렉서블 특성을 가지면서도 산화물막(11b)의 배리어 특성에 기인한 외부로부터의 수분 또는 산소 등의 불순물의 침투 방지 특성을 가진다.The flexible substrate 10 having such a structure has a flexible property due to the malleability and ductility of the metal film 11a and prevents penetration of impurities such as moisture or oxygen from the outside due to the barrier property of the oxide film 11b. Has characteristics.

한편, 도 1에는 적층체(11)가 금속막(11a)과 산화물막(11b)을 하나씩 구비하는 경우에 대해 도시되어 있으나, 도 2에 도시된 것과 같이 두 층의 금속막(11a)들이 산화물막(11b)의 양측에 구비된 구조를 가질 수도 있다. 물론 이와 반대로 두 층의 산화물막들이 금속막의 양측에 구비된 구조를 가질 수도 있다. 또한 도 3에 도시된 것과 같이 적층체(11)가 복수개의 금속막(11a)들과 산화물막(11b)들이 교호적으로 배치된 구조를 가질 수도 있음은 물론이다.Meanwhile, although FIG. 1 illustrates a case in which the laminate 11 includes the metal film 11a and the oxide film 11b one by one, as shown in FIG. 2, two layers of the metal films 11a are oxides. It may have a structure provided on both sides of the film 11b. Of course, on the contrary, two layers of oxide films may be provided on both sides of the metal film. In addition, as shown in FIG. 3, the laminate 11 may have a structure in which a plurality of metal films 11a and oxide films 11b are alternately arranged.

한편, 전술한 바와 같이 이러한 적층체(11)의 상하부에는 플라스틱 필름(13)이 구비되는 바, 이 플라스틱 필름(13)과 적층체(11)의 접합을 더욱 확실하게 하기 위해 도 4에 도시된 것과 같이 적층체(11)와 플라스틱 필름(13) 사이에 접착층(12)이 필요에 따라 더 구비될 수도 있다. 물론 이 접착층(12)의 위치는 도 4에 도시된 것에 한정되는 것은 아니며, 적층체(11)와 적층체(11)의 상하부에 배치된 플라스틱 필름(13)들 사이들 중 적어도 어느 한 곳에 개재될 수 있다. 특히, 접착층(12)이 도 4에 도시된 것과 같이 산화물막(11b)과 플라스틱 필름(13) 사이에 개재될 수 있는데, 이는 일반적으로 산화물막(11b)과 플라스틱 필름(13) 사이의 접합력이 좋지 않은 경향이 있기 때문이다. 즉, 접착층(12)은 적층체(11)의 산화물막(11b)과 플라스틱 필름(13) 사이에 개재되는 것이 더욱 바람직하다.On the other hand, as described above, the upper and lower portions of the laminate 11 are provided with a plastic film 13, which is shown in FIG. 4 to more surely bond the plastic film 13 and the laminate 11. As described above, an adhesive layer 12 may be further provided between the laminate 11 and the plastic film 13 as necessary. Of course, the position of the adhesive layer 12 is not limited to that shown in FIG. 4, and is interposed between at least one of the laminate 11 and the plastic films 13 disposed above and below the laminate 11. Can be. In particular, the adhesive layer 12 may be interposed between the oxide film 11b and the plastic film 13 as shown in FIG. 4, which generally has a bonding force between the oxide film 11b and the plastic film 13. Because it tends to be bad. That is, it is more preferable that the adhesive layer 12 is interposed between the oxide film 11b of the laminate 11 and the plastic film 13.

도 5는 본 발명의 바람직한 다른 일 실시예에 따른 플렉서블 박막 트랜지스 터 기판을 개략적으로 도시하는 단면도이다.5 is a schematic cross-sectional view of a flexible thin film transistor substrate according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 전술한 실시예의 변형예에 따른 접착층(12)까지 구비한 플렉서블 기판(10) 상에 게이트 전극(21), 소스 전극(23), 드레인 전극(24), 반도체층(25) 및 게이트 절연막(26)을 구비한 박막 트랜지스터가 구비되어 있다.Referring to FIG. 5, the gate electrode 21, the source electrode 23, the drain electrode 24, and the semiconductor layer 25 are provided on the flexible substrate 10 including the adhesive layer 12 according to the modification of the above-described embodiment. ) And a gate insulating film 26 are provided.

전술한 바와 같이 박막 트랜지스터, 특히 유기 박막 트랜지스터의 경우 외부로부터의 수분 또는 산소 등과 같은 불순물의 침투에 매우 취약한 바, 따라서 전술한 실시예 및 그 변형예들에 따른 플렉서블 기판을 이용함으로써, 이러한 박막 트랜지스터들을 보호할 수 있다.As described above, thin film transistors, particularly organic thin film transistors, are very susceptible to the penetration of impurities such as moisture or oxygen from the outside. Thus, by using the flexible substrate according to the above-described embodiments and modifications thereof, such thin film transistors Can protect them.

도 6은 본 발명의 바람직한 또 다른 일 실시예에 따른 플렉서블 평판 디스플레이 장치의 개략적인 단면도이다.6 is a schematic cross-sectional view of a flexible flat panel display device according to another exemplary embodiment of the present invention.

전술한 바와 같이 최근 플렉서블 평판 디스플레이 장치에 관한 관심이 높아짐에 따라 이에 관한 연구가 활발히 진행되고 있는데, 따라서 전술한 플렉서블 기판은 이러한 플렉서블 평판 디스플레이 장치에 이용될 수 있다. 이러한 평판 디스플레이 장치로서 유기 발광 디스플레이 장치 등 다양한 디스플레이 장치들이 있는 바, 이하에서는 유기 발광 디스플레이 장치에 상술한 바와 같은 유기 박막 트랜지스터가 구비된 경우에 대해 도 6을 참조하여 간략히 설명한다.As mentioned above, as the interest in the flexible flat panel display device has recently increased, research on this has been actively conducted. Therefore, the above-described flexible substrate can be used in such a flexible flat panel display device. As such a flat panel display device, there are various display devices such as an organic light emitting display device. Hereinafter, a case in which the organic light emitting display device includes the organic thin film transistor as described above will be briefly described with reference to FIG. 6.

유기 발광 디스플레이 장치는 다양한 형태의 것이 적용될 수 있는 데, 본 실시예에 따른 유기 발광 디스플레이 장치는 유기 박막 트랜지스터를 구비한 능동 구동형(AM: active matrix) 발광 디스플레이 장치이다.The organic light emitting display device may be applied in various forms. The organic light emitting display device according to the present embodiment is an active matrix (AM) light emitting display device having an organic thin film transistor.

각 부화소들은 도 6에서 볼 수 있는 바와 같은 적어도 하나의 유기 박막 트 랜지스터(TFT)를 구비한다. 도 6을 참조하면, 전술한 것과 같은 플렉서블 기판(110) 상에 박막 트랜지스터가 구비된다. 물론 박막 트랜지스터의 형태는 도 6에 도시된 것에 한하지 않으며, 유기 박막 트랜지스터 또는 실리콘 박막 트랜지스터 등 다양한 박막 트랜지스터들이 구비될 수 있다.Each subpixel has at least one organic thin film transistor (TFT) as shown in FIG. Referring to FIG. 6, a thin film transistor is provided on the flexible substrate 110 as described above. Of course, the shape of the thin film transistor is not limited to that shown in FIG. 6, and various thin film transistors such as an organic thin film transistor or a silicon thin film transistor may be provided.

박막 트랜지스터의 상부로는 SiO2 등으로 이루어진 패시베이션막(128)이 형성되고, 패시베이션막(128)의 상부에는 아크릴, 폴리이미드 등에 의한 화소정의막(129)이 형성되어 있다. 패시베이션막(128)은 유기 박막 트랜지스터를 보호하는 보호막의 역할을 할 수도 있고, 그 상면을 평탄화시키는 평탄화막의 역할을 할 수도 있다.A passivation film 128 made of SiO 2 or the like is formed on the thin film transistor, and a pixel definition film 129 made of acryl, polyimide, or the like is formed on the passivation film 128. The passivation film 128 may serve as a protective film for protecting the organic thin film transistor and may serve as a planarization film for planarizing an upper surface thereof.

그리고 비록 도면으로 도시하지는 않았지만, 유기 박막 트랜지스터에는 적어도 하나의 커패시터가 연결될 수 있다. 그리고, 이러한 유기 박막 트랜지스터를 포함하는 회로는 반드시 도 6에 도시된 예에 한정되는 것은 아니며, 다양하게 변형 가능함은 물론이다.Although not shown in the drawings, at least one capacitor may be connected to the organic thin film transistor. The circuit including the organic thin film transistor is not necessarily limited to the example illustrated in FIG. 6, and may be variously modified.

한편, 드레인 전극(124)에 유기 발광 소자가 연결된다. 유기 발광 소자는 상호 대향된 화소 전극(131) 및 대향 전극(134)과, 이 전극들 사이에 개재된 적어도 발광층을 포함하는 중간층(133)을 구비한다. 대향 전극(134)은 복수개의 화소들에 있어서 공통으로 형성될 수도 있는 등 다양한 변형이 가능하다.Meanwhile, the organic light emitting diode is connected to the drain electrode 124. The organic light emitting device includes a pixel electrode 131 and a counter electrode 134 opposed to each other, and an intermediate layer 133 including at least a light emitting layer interposed between the electrodes. The counter electrode 134 may be modified in various ways, such as may be formed in common among a plurality of pixels.

한편, 도 6에는 중간층(133)이 부화소에만 대응되도록 패터닝된 것으로 도시되어 있으나 이는 부화소의 구성을 설명하기 위해 편의상 그와 같이 도시한 것이 며, 중간층(133)은 인접한 부화소의 중간층과 일체로 형성될 수도 있음은 물론이다. 또한 중간층(133) 중 일부의 층은 각 부화소별로 형성되고, 다른 층은 인접한 부화소의 중간층과 일체로 형성될 수도 있는 등 그 다양한 변형이 가능하다.Meanwhile, although the intermediate layer 133 is shown to be patterned to correspond only to the subpixels in FIG. 6, this is illustrated as such for convenience of description of the configuration of the subpixels. Of course, it may be formed integrally. In addition, some layers of the intermediate layer 133 may be formed for each subpixel, and other layers may be integrally formed with an intermediate layer of an adjacent subpixel.

화소 전극(131)은 애노드 전극의 기능을 하고, 대향 전극(134)은 캐소드 전극의 기능을 한다. 물론, 이 화소 전극(131)과 대향 전극(134)의 극성은 반대로 되어도 무방하다.The pixel electrode 131 functions as an anode electrode, and the opposite electrode 134 functions as a cathode electrode. Of course, the polarity of the pixel electrode 131 and the counter electrode 134 may be reversed.

화소 전극(131)은 반사형 전극으로 구비된다. 즉, 본 발명에 따른 플렉서블 기판(110)은 금속막(111a)과 산화물막(111b)을 포함하는 적층체(111)를 구비하는 바, 이러한 적층체(111)는 불투명한 특성을 가지므로 중간층(133)에서 발생된 광은 플렉서블 기판(110)의 반대방향으로, 즉 대향 전극(134)을 통해 방출된다. 따라서 화소 전극(131)은 반사형 전극으로 형성하고 대향전극(134)은 투명 전극으로 형성한다.The pixel electrode 131 is provided as a reflective electrode. That is, the flexible substrate 110 according to the present invention includes a laminate 111 including a metal film 111a and an oxide film 111b. Since the laminate 111 has an opaque characteristic, an intermediate layer Light generated at 133 is emitted in the opposite direction of the flexible substrate 110, that is, through the counter electrode 134. Accordingly, the pixel electrode 131 is formed of a reflective electrode, and the counter electrode 134 is formed of a transparent electrode.

따라서 화소 전극(131)은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr 및 이들의 화합물 등으로 반사막을 형성한 후, 그 위에 ITO, IZO, ZnO 또는 In2O3를 형성한 구조를 갖는다. 대향 전극(134)은 전술한 바와 같이 투명 전극이 되는데, Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Al, Mg 및 이들의 화합물이 중간층(133)을 향하도록 증착한 후, 그 위에 ITO, IZO, ZnO 또는 In2O3 등의 투명 전극 형성용 물질로 보조 전극이나 버스 전극 라인을 형성할 수 있다.Accordingly, the pixel electrode 131 is formed of a reflecting film of Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, or a compound thereof, and thereafter, ITO, IZO, ZnO, or In 2 O 3. It has a structure formed. The counter electrode 134 becomes a transparent electrode as described above. Li, Ca, LiF / Ca, LiF / Al, Al, Mg and their compounds are deposited to face the intermediate layer 133, and thereafter, ITO, The auxiliary electrode or the bus electrode line may be formed of a material for forming a transparent electrode such as IZO, ZnO, or In 2 O 3 .

화소 전극(131)과 대향 전극(134) 사이에 구비되는 중간층(133)은 저분자 또 는 고분자 유기물로 구비될 수 있다. 저분자 유기물을 사용할 경우 홀 주입층(HIL: hole injection layer), 홀 수송층(HTL: hole transport layer), 유기 발광층(EML: emission layer), 전자 수송층(ETL: electron transport layer), 전자 주입층(EIL: electron injection layer) 등이 단일 혹은 복합의 구조로 적층되어 형성될 수 있으며, 사용 가능한 유기 재료도 구리 프탈로시아닌(CuPc: copper phthalocyanine), N,N-디(나프탈렌-1-일)-N,N'-디페닐-벤지딘 (N,N'-Di(naphthalene-1-yl)-N,N'-diphenyl-benzidine: NPB) , 트리스-8-하이드록시퀴놀린 알루미늄(tris-8-hydroxyquinoline aluminum)(Alq3) 등을 비롯해 다양하게 적용 가능하다. 이들 저분자 유기물은 마스크를 이용하여 진공증착의 방법으로 형성될 수 있다.The intermediate layer 133 provided between the pixel electrode 131 and the counter electrode 134 may be formed of low molecular weight or high molecular organic material. In case of using low molecular weight organic material, hole injection layer (HIL), hole transport layer (HTL), organic emission layer (EML), electron transport layer (ETL), electron injection layer (EIL) The electron injection layer may be formed by stacking a single or complex structure, and the usable organic materials may be copper phthalocyanine (CuPc), N, N-di (naphthalen-1-yl) -N, N '-Diphenyl-benzidine (N, N'-Di (naphthalene-1-yl) -N, N'-diphenyl-benzidine: NPB), tris-8-hydroxyquinoline aluminum ( Alq3) can be used in various ways. These low molecular weight organics can be formed by a vacuum deposition method using a mask.

고분자 유기물의 경우에는 대개 홀 수송층(HTL) 및 발광층(EML)으로 구비된 구조를 가질 수 있으며, 이 때, 상기 홀 수송층으로 PEDOT를 사용하고, 발광층으로 PPV(Poly-Phenylenevinylene)계 및 폴리플루오렌(Polyfluorene)계 등 고분자 유기물질을 사용한다.In the case of the polymer organic material, the structure may include a hole transporting layer (HTL) and a light emitting layer (EML). In this case, PEDOT is used as the hole transporting layer, and PPV (Poly-Phenylenevinylene) and polyfluorene are used as the light emitting layer. Polymer organic materials such as (Polyfluorene) are used.

기판(110) 상에 형성된 유기 발광 소자는, 대향 부재(미도시)에 의해 밀봉된다. 대향부재는 기판(110)과 동일하게 글라스 또는 플라스틱재로 구비될 수 있는 데, 이 외에도, 메탈 캡(metal cap) 등으로 형성될 수도 있다.The organic light emitting element formed on the substrate 110 is sealed by an opposing member (not shown). The opposing member may be formed of a glass or plastic material in the same manner as the substrate 110. In addition, the opposing member may be formed of a metal cap or the like.

이와 같은 유기 발광 디스플레이 장치에 있어서 전술한 실시예 및 그 변형예에 따른 플렉서블 기판을 이용함으로써, 플렉서블 평판 디스플레이 장치를 구현할 수 있다.In such an organic light emitting display device, the flexible flat panel display device can be implemented by using the flexible substrate according to the above-described embodiments and modified examples thereof.

또한, 상기 실시예에 있어서 유기 발광 디스플레이 장치의 구조를 기준으로 본 발명을 설명하였으나, 그 외의 다양한 플렉서블 디스플레이 장치들에도 본 발명이 적용될 수 있음은 물론이다.In addition, although the present invention has been described with reference to the structure of the organic light emitting display device in the above embodiment, the present invention may be applied to various other flexible display devices.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 플렉서블 기판, 플렉서블 박막 트랜지스터 기판 및 이를 구비한 평판 디스플레이 장치에 따르면, 플렉서블하면서도 산소 또는 수분 등의 불순물의 침투가 방지된 플렉서블 기판, 플렉서블 박막 트랜지스터 기판 및 이를 구비한 평판 디스플레이 장치를 구현할 수 있다.According to the present invention, the flexible substrate, the flexible thin film transistor substrate, and the flat panel display apparatus including the same, the flexible substrate, the flexible thin film transistor substrate, and the flat plate provided with the same are prevented from infiltration of impurities such as oxygen or moisture. The display device can be implemented.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, these are merely exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

Claims (9)

금속막과 산화물막을 포함하는 적층체; 및A laminate comprising a metal film and an oxide film; And 상기 적층체의 상하부에 각각 배치되어 표면을 평탄화시키는 플라스틱 필름;을 구비하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판.And a plastic film disposed on the upper and lower portions of the laminate to planarize the surface thereof. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 적층체는 복수개의 금속막들과 산화물막들이 교호적으로 배치된 적층체인 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판.And the laminate is a laminate in which a plurality of metal films and oxide films are alternately arranged. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 산화물막은 금속 산화물막인 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판.The oxide film is a flexible substrate, characterized in that the metal oxide film. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 산화물막은 실리콘 옥사이드인 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판.The oxide film is a flexible substrate, characterized in that the silicon oxide. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 적층체와 상기 적층체의 상하부에 배치된 플라스틱 필름들 사이들 중 적어도 어느 한 곳에 개재된 접착층을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판.A flexible substrate further comprising an adhesive layer interposed between at least one of the laminate and the plastic films disposed above and below the laminate. 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 접착층은 상기 적층체의 산화물막과 플라스틱 필름 사이에 개재되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 기판.The adhesive layer is interposed between the oxide film of the laminate and the plastic film. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항의 플렉서블 기판과, 상기 플렉서블 기판의 일면에 배치된 박막 트랜지스터를 구비하는 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 기판.A thin film transistor substrate comprising: the flexible substrate according to any one of claims 1 to 6, and a thin film transistor disposed on one surface of the flexible substrate. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항의 플렉서블 기판과, 상기 플렉서블 기판의 일면에 배치된 디스플레이 소자를 구비하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 장치.A flat panel display device comprising the flexible substrate according to any one of claims 1 to 6 and a display element disposed on one surface of the flexible substrate. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 디스플레이 소자에서 발생된 광은 상기 플렉서블 기판의 반대방향으로 출사되는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 장치.And light emitted from the display element is emitted in a direction opposite to the flexible substrate.
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