KR100617938B1 - Thin film structure for shading electromagnetic waves - Google Patents

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Abstract

본 발명의 전자파 차단 코팅 박막은 1층 내지 4층의 산화인듐주석층(ITO)과, 3층 내지 6층의 은(Ag) 층과, 4층 내지 6층의 산화 유전체 층으로 이루어져 총 8층 내지 16층으로 형성되며, 이 때 은 박막 층 중 적어도 2층의 은 박막 층은 산화인듐주석 층과 위층 또는 아래층으로 인접하게 형성되어, 전자파를 차단하고 가시광선을 투과시켜 각종 디스플레이 제품에 응용하기에 적합하다.The electromagnetic wave shielding coating thin film of the present invention comprises eight layers of indium tin oxide (ITO), three to six layers of silver (Ag), and four to six layers of oxide dielectric layers. To 16 layers, wherein at least two of the silver thin film layers are formed adjacent to the indium tin oxide layer and the upper layer or the lower layer to block electromagnetic waves and transmit visible light to be applied to various display products. Suitable for

전자파 차폐, 가시광선 투과, 원적외선 투과, 코팅 박막, LCD 모니터, 핸드폰Electromagnetic shielding, visible light transmission, far infrared transmission, coating thin film, LCD monitor, mobile phone

Description

전자파 차단 코팅 박막 {Thin film structure for shading electromagnetic waves}Thin film structure for shading electromagnetic waves

도 1은 제1 실시예에 따른 전자파 차단 코팅 박막이 기판에 형성된 것을 도시한 단면도이고,1 is a cross-sectional view showing that the electromagnetic wave blocking coating thin film according to the first embodiment is formed on a substrate,

도 2는 1nm ~ 5000nm 파장 대역에서 본 발명에 따른 전자파 차단 코팅 박막의 투과율을 측정한 그래프이고Figure 2 is a graph measuring the transmittance of the electromagnetic wave shielding coating thin film according to the present invention in the wavelength range of 1nm ~ 5000nm

도 3 및 도 4는 400mm ~ 5000mm 파장 대역(700MHz ~ 2.5GHz 주파수 대역)에서 본 발명에 따른 전자파 차단 코팅 박막의 투과율을 측정한 그래프이다.3 and 4 is a graph measuring the transmittance of the electromagnetic wave shielding coating thin film according to the present invention in the 400mm ~ 5000mm wavelength band (700MHz ~ 2.5GHz frequency band).

본 발명은 전자파 차단 코팅 박막에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 유해 전자파를 차단하는 한편 가시광선은 투과시킬 수 있는 투명한 전자파 차단 코팅 박막 및 이러한 코팅 박막이 형성된 유리 또는 플라스틱 제품에 관한 것이다.The present invention relates to an electromagnetic shielding coating thin film, and more particularly, to a transparent electromagnetic shielding coating thin film that can block harmful electromagnetic waves while transmitting visible light and a glass or plastic product in which the coating thin film is formed.

일반적으로 전기, 전자, 통신, 컴퓨터 등 반도체 이용 제품이 발전을 거듭할 수록 응용 범위가 극대화될 뿐만 아니라 휴대폰이나 각종 디스플레이 제품의 사용이 급속히 늘어나고 있는 추세이다. 각종 전자제품에서 발생하는 유해 전자파의 주파수 대역은 LCD 모니터의 경우 150MHz ~ 800MHz, 전자레인지의 경우 대략 2.45GHz, 휴대폰의 경우 800MHz ~ 1.8GHz 정도이다. In general, as semiconductor-use products such as electricity, electronics, communication, and computers continue to develop, the application range is maximized, and the use of mobile phones and various display products is rapidly increasing. The frequency bands of harmful electromagnetic waves generated by various electronic products range from 150 MHz to 800 MHz for LCD monitors, 2.45 GHz for microwave ovens, and 800 MHz to 1.8 GHz for mobile phones.

이러한 각종 전자 제품에서 발생하는 전자파가 인체에 미치는 유해한 영향을 제거하기 위하여, 유해 전자파를 차단하는 방안이 개발되고 있다. 현재, 유해 전자파를 차폐하기 위하여 가장 많이 쓰는 방법은 전자파 차폐용 금속 박막을 사용하는 것으로서, 금속 용액을 스프레이로 코팅하는 스프레이 방식과 진공 증착 방식이 있다. 이러한 방식은 플라스틱의 기판 표면에 예를 들어 크롬, 철 또는 구리 등의 도전성 금속 박막을 형성하여 그 두께에 따른 저항 값을 갖도록 하여 전자파를 차폐하고 있다.In order to remove the harmful effects of electromagnetic waves generated in various electronic products on the human body, a method of blocking harmful electromagnetic waves has been developed. Currently, the most commonly used method for shielding harmful electromagnetic waves is to use a metal thin film for electromagnetic shielding, and there are a spray method and a vacuum deposition method for coating a metal solution with a spray. This method shields electromagnetic waves by forming a conductive metal thin film such as chromium, iron, or copper on the surface of a plastic substrate to have a resistance value according to its thickness.

그러나, 이러한 금속 물질은 전 파장 대역의 투과성이 떨어질 뿐 아니라, 특히 가시광선 영역에서 투과율이 매우 낮아 디스플레이 제품에 적용할 수가 없었다. 또한, 인체에 유해한 자외선을 차단하기 위해서는 별도의 자외선 차단 코팅을 사용해야 했다.However, these metal materials not only have poor transmittance over the entire wavelength band, but also have a very low transmittance in the visible light range, and thus cannot be applied to display products. In addition, in order to block harmful ultraviolet rays to the human body had to use a separate sunscreen coating.

따라서, 본 발명의 목적은 가시광선의 투과율은 우수하면서도 전자파를 차단할 수 있는 전자파 차단 코팅 박막 및 이러한 전자파 차단 코팅 박막이 형성된 유리 또는 플라스틱 제품을 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide an electromagnetic wave shielding coating thin film capable of blocking electromagnetic waves while having excellent transmittance of visible light, and a glass or plastic product in which the electromagnetic wave shielding coating thin film is formed.

본 발명의 다른 목적은 자외선까지도 효율적으로 차단할 수 있는 전자파 차단 코팅 박막 및 이러한 전자파 차단 코팅 박막이 형성된 유리 또는 플라스틱 제품을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an electromagnetic shielding coating thin film that can effectively block even ultraviolet rays and a glass or plastic product in which the electromagnetic shielding coating thin film is formed.

전술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 빛이 전자파의 일종인 점과 광학적으로 사용하는 코팅 박막이 소정 파장의 빛만을 선택적으로 투과, 차단할 수 있다는 점에 착안하여, 다수의 층이 적층된 코팅 박막으로 가시광선은 양호하게 투과시키면서 인체에 유해한 전자파를 선택적으로 차단하도록 한 것이다.In order to achieve the above object, the present invention is focused on the fact that the light is a kind of electromagnetic wave and that the optically used coating thin film can selectively transmit and block only light of a predetermined wavelength, coating a plurality of layers are laminated The visible light is transmitted through the thin film to selectively block electromagnetic waves harmful to the human body.

본 발명에 따른 전자파 차단 코팅 박막은 유리 또는 플라스틱 기판 위에 형성되며, 1층 내지 4층의 산화인듐주석 박막층과; 3층 내지 6층의 은 박막층과; 4층 내지 6층의 산화물 유전체 층으로 이루어진다. 이때, 은 박막층 중 적어도 2층의 은 박막층은 산화인듐주석 층과 위층 또는 아래층으로 인접하여 형성되어, 전자파를 차단하고 가시광선을 투과시킨다. The electromagnetic wave shielding coating thin film according to the present invention is formed on a glass or plastic substrate, and has 1 to 4 layers of indium tin oxide thin film layers; 3 to 6 silver thin film layers; It consists of four to six oxide dielectric layers. At this time, the silver thin film layer of at least two layers of the silver thin film layer is formed adjacent to the indium tin oxide layer and the upper layer or the lower layer to block electromagnetic waves and transmit visible light.

각각의 산화물 유전체 층은 산화규소(SiO2), 산화티타늄(TiO2), 산화알루미늄(Al2O3), 산화질리코늄(ZrO2). 산화이트리움(Y2O3), 산화탄탈(Ta2O5) 중에서 선택되는 재료로 형성된다.Each oxide dielectric layer is silicon oxide (SiO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), and silicon oxide (ZrO 2 ). It is formed of a material selected from yttrium oxide (Y 2 O 3 ) and tantalum oxide (Ta 2 O 5 ).

이러한 박막에서, 공기와 접하는 마지막 층을 산화인듐주석 층으로 하여 코팅 박막의 표면 체적 저항을 향상시켜 정전기가 방지되도록 사용할 수 있다. 이와는 대안적으로 공기와 접하는 마지막 층을 산화물 유전체 층으로 하여 대기의 오염 물질을 차단하고 전체 박막의 산화를 방지할 수도 있다.In such a thin film, the last layer in contact with air may be used as the indium tin oxide layer to improve the surface volume resistance of the coated thin film to prevent static electricity. Alternatively, the last layer in contact with air may be an oxide dielectric layer to block air pollutants and prevent oxidation of the entire thin film.

본 발명의 다른 양태에 따른 전자파 차단 유리 또는 플라스틱 제품은 유리 또는 플라스틱 기판과; 기판의 일 측면에 형성되어, 전자파를 차단하고 가시광선을 투과시키는 전자파 차단 코팅 박막으로 이루어지며, 전자파 차단 코팅 박막은 According to another aspect of the present invention, an electromagnetic wave shielding glass or plastic product includes a glass or plastic substrate; It is formed on one side of the substrate, consisting of an electromagnetic wave shielding coating thin film that blocks electromagnetic waves and transmits visible light,

1층 내지 4층의 산화인듐주석 박막층과;1 to 4 layers of indium tin oxide thin film layers;

3층 내지 6층의 은 박막층과;3 to 6 silver thin film layers;

4층 내지 6층의 산화물 유전체 층으로 이루어진다. 이 때, 전자파 차단 코팅 박막의 은 박막층 중 적어도 2층의 은 박막층은 산화인듐주석 층과 위층 또는 아래층으로 인접하여 형성된다.It consists of four to six oxide dielectric layers. At this time, the silver thin film layer of at least two layers of the silver thin film layer of the electromagnetic wave shielding coating thin film is formed adjacent to the indium tin oxide layer as the upper layer or the lower layer.

본 발명의 전자파 차단 코팅 박막은 굴절률이 상이한 재료를 유리 또는 투명 플라스틱(아크릴, 폴리카보네이트, PET 필름 등)과 같은 기판 상에 다층 구조로 적층시킴으로써 형성되며, 통상의 물리 기상 증착법(PVD) 또는 화학 기상 증착법(CVD)을 이용한 진공증착법으로 형성할 수 있다. 또한, 박막 증착 시 유전체 물질의 운동 에너지를 활성화시키기 위하여 이온 충돌 반응 가스를 사용하여 박막의 구조를 고밀도로 유지하였으며, 이는 박막의 부착력을 향상시켜 외부환경에 노출되었을 때 박막의 경시 변화를 막을 수 있을 뿐만 아니라 박막과 기판의 내구성을 향상시킨다. The electromagnetic wave shielding coating thin film of the present invention is formed by laminating materials having different refractive indices on a substrate such as glass or transparent plastic (acrylic, polycarbonate, PET film, etc.) in a multi-layered structure, and using conventional physical vapor deposition (PVD) or chemical It can be formed by a vacuum deposition method using a vapor deposition method (CVD). In addition, in order to activate the kinetic energy of the dielectric material when the thin film is deposited, the structure of the thin film was maintained at a high density by using an ion bombardment reaction gas, which improves the adhesion of the thin film to prevent the change of the thin film when exposed to the external environment. In addition to improving the durability of the thin film and substrate.

이러한 코팅 박막의 설계에 있어 기본이 되는 기술적 원리는 상이한 재료로 형성된 각각의 박막층에서 발생하는 전자파의 다중 간섭 현상을 이용하여 특정 파장대의 빛을 선택적으로 상쇄시키거나 또는 투과시킬 수 있도록 하는 것이다. 이때 박막을 형성하는 재료는 각각의 굴절률과 재료의 특성을 고려하여 선택되어야 하며, 그 증착 두께도 상쇄시키고자 하는 파장 영역의 전자파의 간섭이 발생할 수 있을 정도로 적절히 선정되어야 한다. 특히, 본 발명은 전자파 차단 코팅 박막 설 계에 따른 물질을 구성함에 있어, 전자파를 흡수할 수 있는 물질의 산화인듐주석 층과 가시광선에 투과 특성이 우수하면서 소정의 저항 값을 갖는 은을 포함 시켰으며, 가시광선 및 자외선의 투과 특성을 고려하여 산화물 유전체를 각 층간에 배열하였다.The basic technical principle in the design of such a coating thin film is to selectively cancel or transmit light of a specific wavelength band by using the multiple interference phenomenon of electromagnetic waves generated in each thin film layer formed of different materials. At this time, the material forming the thin film should be selected in consideration of the refractive index and the characteristics of the material, and should be appropriately selected so that interference of electromagnetic waves in the wavelength region to cancel the deposition thickness may occur. In particular, the present invention includes the indium tin oxide layer of the material capable of absorbing electromagnetic waves and silver having a predetermined resistance value while having excellent transmittance to visible light in constructing a material according to the electromagnetic wave blocking coating thin film design. In addition, the oxide dielectric was arranged between the layers in consideration of the transmission characteristics of visible light and ultraviolet light.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예에 대하여 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment according to the present invention.

<제1 실시예><First Embodiment>

먼저 도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 전자파 차단 코팅 박막(200)은 유리 또는 투명 플라스틱의 기판(100)의 일 측면에 형성되어 있다. 기판(100)의 타측면에 무반사 코팅 박막(300)을 형성하여 가시광선의 투과율을 더 향상시킬 수 있다.First, referring to FIG. 1, the electromagnetic wave shielding coating thin film 200 according to the present invention is formed on one side of the substrate 100 of glass or transparent plastic. The antireflective coating thin film 300 may be formed on the other side of the substrate 100 to further improve the transmittance of visible light.

본 발명의 제1 실시예에 따른 전자파 차단 코팅 박막(200)은 모두 10층으로 형성되고, 은, 산화인듐주석, 산화규소 및 산화알루미늄의 4가지 재료가 박막 재료로 이용된다. 즉, 전자파 차단 코팅 박막(200)은 굴절률이 3층의 산화인듐주석 층, 3층의 은 층 및 3층의 산화알루미늄 층과 1층의 산화규소 층으로 구성되어 있다.The electromagnetic wave shielding coating thin film 200 according to the first embodiment of the present invention is formed of ten layers, and four materials of silver, indium tin oxide, silicon oxide, and aluminum oxide are used as the thin film material. That is, the electromagnetic wave shielding coating thin film 200 has a refractive index composed of three layers of indium tin oxide, three layers of silver, three layers of aluminum oxide, and one layer of silicon oxide.

박막 재료의 배열, 각각의 재료의 굴절률과 막 두께를 나타내면 기판 위에 증착된 순서에 따라 다음의 표 1과 같다.The arrangement of the thin film materials, the refractive index and the film thickness of each material are shown in Table 1 in the order of deposition on the substrate.

번호number 증착물질Evaporation material 굴절률Refractive index 물리적 박막 두께Physical thin film thickness 위상 두께Phase thickness 1010 산화규소Silicon oxide 1.461.46 16.35nm16.35nm 0.046λ0.046λ 99 산화인듐주석Indium tin oxide 2.0582.058 32.84nm32.84nm 0.132λ0.132λ 88 은silver 0.0510.051 13.72nm13.72 nm 0.001λ0.001λ 77 산화알루미늄Aluminum oxide 1.671.67 111.71nm111.71nm 0.366λ0.366λ 66 은silver 0.0510.051 11.68nm11.68 nm 0.001λ0.001λ 55 산화인듐주석Indium tin oxide 2.0582.058 65.06nm65.06nm 0.262λ0.262λ 44 은silver 0.0510.051 6.95nm6.95 nm 0.001λ0.001λ 33 산화알루미늄Aluminum oxide 1.671.67 164.43nm164.43nm 0.539λ0.539λ 22 산화인듐주석Indium tin oxide 2.0582.058 19.94nm19.94 nm 0.08λ0.08λ 1One 산화알루미늄Aluminum oxide 1.671.67 18.42nm18.42nm 0.06λ0.06λ

위의 표 1에서 나타낸 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 전자파 차단 코팅 박막(200)은 4가지 박막 재료를 이용하여 10층으로 적층시킴으로써 형성되며, 특히 제5층의 산화인듐주석 층은 제4층과 제6층의 은 층 사이에 형성되고 제9층의 산화인듐주석 층은 제8층의 은 층 위에 형성된다.As shown in Table 1, the electromagnetic wave shielding coating thin film 200 according to the first embodiment of the present invention is formed by laminating in 10 layers using four thin film materials, in particular the indium tin oxide layer of the fifth layer The silver is formed between the fourth layer and the silver layer of the sixth layer, and the indium tin oxide layer of the ninth layer is formed on the silver layer of the eighth layer.

제1 실시예에 따른 전자파 차단 코팅 박막(200)은 공기와 접하는 마지막 층을 산화규소 층으로 하여 대기의 오염 물질을 차단하고 전체 박막의 산화를 방지하도록 이루어진다.The electromagnetic wave shielding coating thin film 200 according to the first embodiment is made of a silicon oxide layer as the last layer in contact with air to block pollutants in the air and to prevent oxidation of the entire thin film.

한편, 전자파 차단 코팅 박막(200)이 형성된 유리 또는 플라스틱 제품의 투과율을 향상시키기 위하여, 기판(100)의 전자파 차단 코팅 박막(200)과 대향면에 무반사 코팅 박막을 형성할 수 있다. On the other hand, in order to improve the transmittance of the glass or plastic product on which the electromagnetic wave shielding coating thin film 200 is formed, an antireflection coating thin film may be formed on the opposite surface to the electromagnetic wave shielding coating thin film 200 of the substrate 100.

무반사 코팅 박막(300)은 3층의 산화규소와 1층의 산화티타늄, 1층의 산화인듐주석 층으로 구성되어 있으며, 가시광선(400nm ~ 700nm)에서 평균 3.5% 정도의 투과율을 향상시킬 수 있다.The antireflective coating thin film 300 is composed of three layers of silicon oxide, one layer of titanium oxide, and one layer of indium tin oxide, and can improve transmittance of about 3.5% in visible light (400 nm to 700 nm) on average. .

무반사 코팅 박막(300)박막 재료의 배열, 각각의 재료의 굴절률과 막 두께를 나타내면 기판 위에 증착된 순서에 따라 다음의 표 2와 같다.The antireflective coating thin film 300 shows the arrangement of the thin film material, the refractive index and the film thickness of each material, as shown in Table 2 in the order of deposition on the substrate.

번호number 증착물질Evaporation material 굴절률Refractive index 물리적 박막 두께Physical thin film thickness 위상 두께Phase thickness B5B5 산화규소Silicon oxide 1.451.45 86.76nm86.76 nm 0.247λ0.247λ B4B4 산화인듐주석Indium tin oxide 2.052.05 139.56nm139.56 nm 0.563λ0.563λ B3B3 산화규소Silicon oxide 1.451.45 36.10nm36.10 nm 0.103λ0.103λ B2B2 산화티타늄Titanium oxide 2.42.4 13.48nm13.48 nm 0.063λ0.063λ B1B1 산화규소Silicon oxide 1.451.45 38.24nm38.24 nm 0.109λ0.109λ

본 발명의 전자파 차단 코팅 박막(200)이나 무반사 코팅 박막(300)은 물리 기상 증착법(PVD) 또는 화학 기상 증착법(CVD)으로 형성할 수 있으며, 개략적으로 설명하면 다음과 같다. 코팅을 하고자 하는 재료를 진공 챔버 내의 고정 장치에 장착하고, 증착 물질을 전자총(Electronic Beam Gun)의 용기에 담는다. 다음으로 진공 챔버의 문을 닫고 챔버 내부의 진공도가 2×10-5 Torr이 될 때까지 진공 펌프를 작동시켜 진공도를 유지시킨다. 이때, 챔버 내부의 온도가 플라스틱류는 70℃, 유리는 270℃가 유지되는 것이 바람직하다. 이와 같이 진공도와 온도가 유지되면 전자총을 작동시켜 정해진 순서에 의하여 증착 물질에 전자 에너지를 가하면, 이온화된 증착 물질이 재료에 증착되면서 박막을 형성하게 된다. The electromagnetic wave shielding coating thin film 200 or the antireflective coating thin film 300 of the present invention may be formed by physical vapor deposition (PVD) or chemical vapor deposition (CVD). The material to be coated is mounted in a fixture in a vacuum chamber and the deposition material is placed in a container of an electron beam gun. Next, close the door of the vacuum chamber and operate the vacuum pump until the vacuum inside the chamber reaches 2 × 10 -5 Torr to maintain the vacuum level. At this time, the temperature inside the chamber is preferably maintained at 70 ℃ plastic, 270 ℃ plastic. As such, when the vacuum degree and the temperature are maintained, when the electron gun is operated to apply electron energy to the deposition material in a predetermined order, the ionized deposition material is deposited on the material to form a thin film.

이와 같이 형성된 전자파 차단 코팅 박막(200)을 스펙트럼 분석기 (Spectrophotometer)로 파장별 투과 특성을 분석하면 도 2 및 도 3과 같다. When the electromagnetic wave blocking coating thin film 200 formed as described above is analyzed by a spectrum analyzer (Spectrophotometer), the transmission characteristics of each wavelength are as shown in FIGS. 2 and 3.

먼저 도 2를 참조하면, 400nm~700nm 파장범위의 가시광선 영역에서는 대략 85% 이상의 우수한 투과율을 가지며, 0nm~300nm 파장범위의 자외선 영역에서는 투과율이 10% 이하로 되어 자외선 영역의 빛을 효율적으로 차단함을 알 수 있다. 또한, 1000nm 이상의 전자파가 완벽하게 차단됨을 알 수 있다.First, referring to FIG. 2, the visible light region having a wavelength range of 400 nm to 700 nm has an excellent transmittance of about 85% or more. In the ultraviolet range of 0 nm to 300 nm, the transmittance is 10% or less, effectively blocking light in the ultraviolet region. It can be seen that. In addition, it can be seen that electromagnetic waves of more than 1000nm is completely blocked.

특히, 도 3을 참조하면, 400mm~5000mm 파장 범위의 전자파의 투과율이 대략 1% 이하로 됨을 알 수 있다. 400mm~5000mm 파장 범위의 전자파는 주파수 범위로 750MHz~60MHz 범위의 극초단파와 초단파 범위로서, 본 발명에 의하여 LCD 모니터나 휴대폰 등에서 발생하는 전자파가 효율적으로 차단된다. 도 3은 퍼킨 엘머사(Perkin Elmer)의 SPECTRUM 2000이라는 스텍트럼 분석기를 사용하여 측정한 것이다. 도 2 및 도 3에서 도시되지 않은 영역의 전자파도 그 투과율이 1% 이하로 된다. In particular, referring to Figure 3, it can be seen that the transmittance of the electromagnetic wave in the wavelength range of 400mm to 5000mm is approximately 1% or less. Electromagnetic waves in the wavelength range of 400 mm to 5000 mm are microwave and microwave ranges of 750 MHz to 60 MHz in frequency range, and according to the present invention, electromagnetic waves generated in LCD monitors or mobile phones are effectively blocked. Figure 3 is measured using a spectrum analyzer called SPECTRUM 2000 of Perkin Elmer (Perkin Elmer). Electromagnetic waves in regions not shown in FIGS. 2 and 3 have a transmittance of 1% or less.

<제2 실시예>Second Embodiment

본 발명의 제2 실시예에 따른 전자파 차단 코팅 박막은 모두 9층으로 형성되고, 은, 산화인듐주석, 산화규소 및 산화티타늄의 4가지 재료가 증착 재료로 이용되었다.The electromagnetic wave shielding coating thin film according to the second embodiment of the present invention was formed in all nine layers, and four materials of silver, indium tin oxide, silicon oxide, and titanium oxide were used as deposition materials.

박막 재료의 배열에 따른, 각각의 증착 물질의 굴절률과 증착 두께를 기판 위에 증착된 순서는 다음 표 3과 같다.The order of deposition of the refractive index and the deposition thickness of each deposition material on the substrate according to the arrangement of the thin film material is shown in Table 3 below.

번호number 증착물질Evaporation material 굴절률Refractive index 물리적 박막 두께Physical thin film thickness 위상 두께Phase thickness 99 산화티타늄Titanium oxide 2.312.31 35.73nm35.73 nm 0.1621λ0.1621λ 88 은silver 0.0510.051 15.79nm15.79 nm 0.0015λ0.0015λ 77 산화인듐주석Indium tin oxide 2.0582.058 84.13nm84.13 nm 0.3395λ0.3395λ 66 은silver 0.0510.051 13.97nm13.97 nm 0.0014λ0.0014λ 55 산화티타늄Titanium oxide 2.312.31 58.08nm58.08nm 0.2635λ0.2635λ 44 은silver 0.0510.051 11.21nm11.21 nm 0.0011λ0.0011λ 33 산화규소Silicon oxide 1.451.45 129.24nm129.24nm 0.3687λ0.3687λ 22 은silver 0.0510.051 6.44nm6.44 nm 0.00064λ0.00064λ 1One 산화규소Silicon oxide 1.451.45 20.66nm20.66 nm 0.059λ0.059λ 기판Board 유리 또는 아크릴Glass or acrylic 1.521.52

위의 표 3에서 나타낸 바와 같이, 4가지의 증착 재료를 이용하여 9층으로 구성되어 있으며, 특히 제7층의 산화인듐주석 층은 제6층과 제8층의 은층 사이에 배치되어 있다.As shown in Table 3 above, nine layers are formed using four deposition materials. In particular, the indium tin oxide layer of the seventh layer is disposed between the sixth layer and the eighth layer of silver.

제2 실시예에 따른 코팅 박막은 공기와 접하는 마지막 층을 산화티타늄 층으로 하여 대기의 오염 물질을 차단하고 전체 박막의 산화를 방지하도록 이루어진다.The coated thin film according to the second embodiment is made of a titanium oxide layer as the last layer in contact with air to block air pollutants and to prevent oxidation of the entire thin film.

제2 실시예에 따른 가시광선 투과 대역과 자외선 및 전자파 차폐 대역은 도 2 및 도 4의 투과율 그래프에 도시된 바와 동일하다. 즉, 400nm~700nm 파장범위의 가시광선 영역에서는 대략 85% 이상의 우수한 투과율을 가지며, 0nm~300nm 파장범위의 자외선 영역에서는 투과율이 10% 이하로 되어 자외선 영역의 빛을 효율적으로 차단함을 알 수 있다. 또한, 1000nm 이상의 전자파가 완벽하게 차단됨을 알 수 있으며, 특히 도 4에 도시된 바와 같이, 400mm~5000mm 파장 범위의 전자파의 투과율도 대략 1% 이하로 됨을 알 수 있다. 도 4 역시 퍼킨 엘머사(Perkin Elmer)의 SPECTRUM 2000이라는 스텍트럼 분석기를 사용하여 측정한 것이다.The visible light transmission band and the ultraviolet and electromagnetic wave shielding band according to the second embodiment are the same as shown in the transmittance graphs of FIGS. 2 and 4. That is, it can be seen that it has an excellent transmittance of about 85% or more in the visible light region in the 400 nm to 700 nm wavelength range, and the transmittance is 10% or less in the ultraviolet region in the 0 nm to 300 nm wavelength range, effectively blocking the light in the ultraviolet region. . In addition, it can be seen that the electromagnetic wave of more than 1000nm is completely blocked, in particular, as shown in Figure 4, it can be seen that the transmittance of the electromagnetic wave in the 400mm ~ 5000mm wavelength range is also approximately 1% or less. Figure 4 was also measured using a spectrum analyzer called SPECTRUM 2000 of Perkin Elmer (Perkin Elmer).

또한, 제2 실시예에 따른 전자파 차단 코팅 박막의 형성된 기판의 대향측면에 제1 실시예와 마찬가지로 무반사 코팅 박막을 형성하여 가시광선의 투과율을 향상시킬 수 있음은 물론이다.In addition, the anti-reflective coating thin film may be formed on the opposite side of the substrate on which the electromagnetic wave shielding coating thin film according to the second embodiment is formed in the same manner as in the first embodiment to improve the transmittance of visible light.

<제3 실시예>Third Embodiment

본 발명의 제3 실시예는 산화질리코늄, 은, 산화규소, 산화인듐주석의 4가지 증착 재료를 사용하여 총 10층의 전자파 차단 코팅 박막을 형성한다.The third embodiment of the present invention forms a total of ten layers of the electromagnetic wave shielding coating thin film using four deposition materials of silicon oxide, silver, silicon oxide, and indium tin oxide.

박막 재료의 배열에 따른, 각각의 증착 물질의 굴절률과 증착 두께를 기판 위에 증착된 순서는 다음 표 4와 같다.According to the arrangement of the thin film material, the order of depositing the refractive index and the deposition thickness of each deposition material on the substrate is shown in Table 4 below.

번호number 증착물질Evaporation material 굴절률Refractive index 물리적 박막 두께Physical thin film thickness 위상 두께Phase thickness 1010 산화인듐주석Indium tin oxide 2.052.05 20nm20 nm 0.081λ0.081λ 99 산화질리코늄Zirconia 2.192.19 21.52nm21.52nm 0.0924λ0.0924λ 88 은silver 0.0510.051 14.94nm14.94 nm 0.0015λ0.0015λ 77 산화인듐주석Indium tin oxide 2.052.05 83.2nm83.2 nm 0.336λ0.336λ 66 은silver 0.0510.051 14.35nm14.35 nm 0.0014λ0.0014λ 55 산화질리코늄Zirconia 2.192.19 65.14nm65.14 nm 0.28λ0.28λ 44 은silver 0.0510.051 12nm12nm 0.0012λ0.0012λ 33 산화규소Silicon oxide 1.451.45 127,97nm127,97nm 0.365λ0.365λ 22 은silver 0.0510.051 6.13nm6.13 nm 0.0006λ0.0006λ 1One 산화규소Silicon oxide 1.451.45 42.81nm42.81 nm 0.122λ0.122λ 기판Board 유리 또는 아크릴Glass or acrylic 1.521.52

위의 표 4에서 나타난 바와 같이, 4가지 증착 재료를 이용하여 10층으로 구성되어 있으며, 특히 제2층, 제4층, 제6층, 제8층은 은을 증착하였으며, 홀수 층인 제1층, 제3층은 산화규소, 그리고 제5층, 제9층은 산화질리코늄, 제7층과 공기와 접하는 제10층은 산화인듐 주석으로 박막을 형성하였다. 특히 제7층의 산화인듐주석 층은 제6층과 제8층의 은 층 사이에 배치되어 있다.As shown in Table 4 above, it is composed of 10 layers using four deposition materials. Particularly, the second layer, the fourth layer, the sixth layer, and the eighth layer are silver deposited, and the odd layer is the first layer. The third layer was formed of silicon oxide, and the fifth layer and the ninth layer were formed of silicon oxide, the seventh layer, and the tenth layer in contact with air were indium tin oxide. In particular, the indium tin oxide layer of the seventh layer is disposed between the silver layers of the sixth and eighth layers.

제3 실시예에 따른 코팅 박막은 공기와 접하는 마지막 층을 산화인듐주석 박막층으로 하여 코팅 박막의 표면 체적 저항을 향상시켜 정전기 발생을 억제할 수 있다.In the coating thin film according to the third embodiment, the last layer in contact with the air may be an indium tin oxide thin film layer, thereby improving the surface volume resistance of the coating thin film to suppress the generation of static electricity.

제3 실시예에 따른 가시광선 투과 대역과 자외선 및 전자파 차폐 대역은 도 2 및 도 3의 투과율 그래프에 도시된 바와 유사하다. 또한, 제3 실시예에 따른 전자파 차단 코팅 박막의 형성된 기판의 대향측면에 제1 실시예와 마찬가지로 무반사 코팅 박막을 형성하여 가시광선의 투과율을 향상시킬 수 있음은 물론이다.The visible light transmission band and the ultraviolet and electromagnetic shielding band according to the third embodiment are similar to those shown in the transmittance graphs of FIGS. 2 and 3. In addition, the anti-reflective coating thin film may be formed on the opposite side of the substrate on which the electromagnetic wave shielding coating thin film according to the third embodiment is formed, in order to improve the transmittance of visible light.

본 발명에 따른 코팅 박막은 다양한 전자 제품에 사용되어 전자파를 차단하는데 이용될 수 있다. 특히, 본 발명에 따른 코팅 박막은 가시광선 투과율이 우수하기 때문에 디스플레이 제품에 사용하기에 특히 우수하다. 즉, 본 발명에 따른 코팅 박막이 형성된 유리 또는 플라스틱 패널은 LCD, CRT 등의 각종 모니터 또는 플라즈마 디스플레이 패널 등의 디스플레이 제품 등에 적용되기에 적합하다. 이 뿐 아니라 본 발명은 휴대폰, PDA 등의 디스플레이 윈도우 또는 전자레인지의 도어창 등 다양하게 사용될 수 있다.Coating thin film according to the present invention can be used in various electronic products to block the electromagnetic waves. In particular, the coating thin film according to the present invention is particularly excellent for use in display products because of its excellent visible light transmittance. That is, the glass or plastic panel on which the coating thin film according to the present invention is formed is suitable for being applied to various monitors such as LCDs, CRTs, and display products such as plasma display panels. In addition, the present invention can be used in various ways, such as a display window of a mobile phone, a PDA, or a door window of a microwave oven.

본 발명의 전자파 차단 코팅 박막 및 이를 사용하는 유리 또는 플라스틱 제품은 다중막에서의 전자파의 상쇄간섭을 이용하여 가시광선 영역의 전자파, 즉 빛만을 선택적으로 투과시키고 나머지 파장 범위의 전자파를 효과적으로 차단할 수 있는 효과가 있다. 즉, 본 발명은 전자파를 완벽하게 차단하고 가시광선 투과율은 우수하므로 각종 디스플레이 제품 등에 다양하게 사용할 수 있다. 또한, 자외선 차단율이 우수하여 자외선에 의한 인체의 악영향까지도 방지할 수 있다.The electromagnetic wave shielding coating thin film and glass or plastic products using the same of the present invention can selectively transmit only electromagnetic waves in the visible light region, that is, light and effectively block electromagnetic waves in the remaining wavelength range by using the interference of electromagnetic waves in the multilayer. It works. That is, the present invention completely blocks electromagnetic waves and has excellent visible light transmittance, so that the present invention can be used in various display products. In addition, the UV blocking rate is excellent, it is possible to prevent even adverse effects of the human body by ultraviolet rays.

즉, 본 발명에 따른 전자파 차단 코팅박막은 400nm~700nm 파장범위의 가시광선 영역에서는 대략 85% 이상의 우수한 투과율을 가지며, 0nm~300nm 파장범위의 자외선 영역에서는 투과율이 10% 이하로 되어 자외선 영역의 빛을 효율적으로 차단함을 알 수 있다. 또한, 1000nm 이상의 파장범위의 전자기파에 대해서 5% 이하의 투과율을 가지게 되어 우수한 전자파 차단 능력을 가진다.That is, the electromagnetic wave shielding coating thin film according to the present invention has an excellent transmittance of about 85% or more in the visible light region in the wavelength range of 400 nm to 700 nm, and a transmittance of 10% or less in the ultraviolet region in the wavelength range of 0 nm to 300 nm, resulting in light in the ultraviolet region. It can be seen that the block effectively. In addition, it has a transmittance of 5% or less with respect to electromagnetic waves in the wavelength range of 1000nm or more, and has excellent electromagnetic wave blocking ability.

또한, 본 발명의 전자파 차단 코팅 박막을 사용하는 유리 또는 플라스틱 제품에서, 전자파 차단 코팅 박막의 대향면 기판 상에 무반사 코팅을 하는 경우 가시광선 투과율을 더욱 향상시킬 수 있다.In addition, in the glass or plastic product using the electromagnetic wave shielding coating thin film of the present invention, when the anti-reflective coating on the opposite surface substrate of the electromagnetic wave shielding coating thin film can further improve the visible light transmittance.

이상에서 본원 발명의 기술적 특징을 특정한 실시예를 중심으로 설명하였으 나, 본원 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 사람이라면 본 발명에 따른 기술적 사상의 범위 내에서도 여러 가지 변형 및 수정을 가할 수 있음은 명백하다.Although the technical features of the present invention have been described with reference to specific embodiments, those skilled in the art to which the present invention pertains may make various changes and modifications within the scope of the technical idea according to the present invention. Is obvious.

Claims (7)

유리 또는 플라스틱 기판 위에 형성되는 코팅 박막에서,In coating thin films formed on glass or plastic substrates, 1층 내지 4층의 산화인듐주석 박막층과;1 to 4 layers of indium tin oxide thin film layers; 3층 내지 6층의 은 박막층과;3 to 6 silver thin film layers; 4층 내지 6층의 산화물 유전체 층4 to 6 oxide dielectric layers 을 포함하고,Including, 상기 은 박막층 중 적어도 2층의 은 박막 층은 산화인듐주석 층과 위층 또는 아래층으로 인접하여 형성되며, At least two of the silver thin film layers of the silver thin film layer are formed adjacent to the indium tin oxide layer and the upper or lower layers, 전자파를 차단하고 가시광선을 투과시키되,Block electromagnetic waves and transmit visible light, 0nm ~ 300nm 파장범위의 전자파에 대해서 10% 이하의 투과율을 가지고, It has a transmittance of 10% or less for electromagnetic waves in the wavelength range of 0 nm to 300 nm, 400nm ~ 700nm 파장범위의 전자파에 대해서 80% 이상의 투과율을 가지며, 80% or more transmittance for electromagnetic waves in the 400nm ~ 700nm wavelength range, 전자제품에서 발생하는 유해전자파의 파장범위인 400mm~5000mm를 포함하는 1000nm 이상의 파장범위의 전자파에 대해서 5% 이하의 투과율을 가지는 것을 특징으로 하는 전자파 차단 코팅 박막.An electromagnetic wave shielding coating thin film having a transmittance of 5% or less with respect to an electromagnetic wave in a wavelength range of 1000 nm or more, including a wavelength range of harmful electromagnetic waves generated in electronic products, 400 mm to 5000 mm. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 각각의 산화물 유전체층은 산화규소(SiO2), 산화티타 늄(TiO2), 산화알루미늄(Al2O3), 산화질리코늄(ZrO2). 산화이트리움(Y 2O3), 산화탄탈 (Ta2O5) 중에서 선택되는 재료로 형성되는 것을 특징으로 하는 전자파 차단 코팅 박막.The oxide dielectric layer of claim 1, wherein each of the oxide dielectric layers is silicon oxide (SiO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), or silicon oxide (ZrO 2 ). Electromagnetic shielding coating thin film formed of a material selected from yttrium oxide (Y 2 O 3 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ). 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 공기와 접하는 마지막 층이 산화인듐주석 박막층인 것을 특징으로 하는 전자파 차단 코팅 박막.The electromagnetic wave shielding coating thin film according to any one of claims 1 to 3, wherein the last layer in contact with air is an indium tin oxide thin film layer. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 공기와 접하는 마지막 층이 산화물 유전체층인 것을 특징으로 하는 전자파 차단 코팅 박막.The electromagnetic wave shielding coating thin film according to any one of claims 1 to 3, wherein the last layer in contact with air is an oxide dielectric layer. 유리 또는 플라스틱 기판과;A glass or plastic substrate; 상기 기판의 일 측면에 형성되어, 전자파를 차단하고 가시광선을 투과시키는 전자파 차단 코팅 박막Is formed on one side of the substrate, the electromagnetic wave blocking coating thin film to block the electromagnetic wave and transmit visible light 을 포함하고,Including, 상기 전자파 차단 코팅 박막은 The electromagnetic wave blocking coating thin film 1층 내지 4층의 산화인듐주석 박막층과;1 to 4 layers of indium tin oxide thin film layers; 3층 내지 6층의 은 박막층과;3 to 6 silver thin film layers; 4층 내지 6층의 산화물 유전체층4 to 6 oxide dielectric layers 을 포함하며,Including; 상기 전자파 차단 코팅 박막의 은 박막층 중 적어도 2층의 은 박막 층은 산화인듐주석 층과 위층 또는 아래층으로 인접하여 형성되고,At least two of the silver thin film layers of the electromagnetic wave shielding coating thin film layer are formed adjacent to the indium tin oxide layer and the upper or lower layer, 상기 전자파 차단 코팅 박막은The electromagnetic wave blocking coating thin film 0nm ~ 300nm 파장범위의 전자파에 대해서 10% 이하의 투과율을 가지고, It has a transmittance of 10% or less for electromagnetic waves in the wavelength range of 0 nm to 300 nm, 400nm ~ 700nm 파장범위의 전자파에 대해서 80% 이상의 투과율을 가지며, 80% or more transmittance for electromagnetic waves in the 400nm ~ 700nm wavelength range, 전자제품에서 발생하는 유해전자파의 파장범위인 400mm~5000mm를 포함하는1000nm 이상의 파장범위의 전자파에 대해서 5% 이하의 투과율을 가지는 것을 특징으로 하는 유리 또는 플라스틱을 사용하는 전자파 차단 제품.An electromagnetic wave shielding product using glass or plastic, having a transmittance of 5% or less with respect to an electromagnetic wave in a wavelength range of 1000 nm or more, including a wavelength range of 400 mm to 5000 mm of harmful electromagnetic waves generated in electronic products. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 기판의 타측면에 형성되어, 가시광선의 투과율을 향상시키는 무반사 코팅 박막Anti-reflective coating thin film formed on the other side of the substrate to improve the transmittance of visible light 을 더 포함하는 유리 또는 플라스틱을 사용하는 전자파 차단 제품.Electromagnetic shielding products using glass or plastic further comprising a.
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