KR100581152B1 - Manufacturing method of stamper for catapulting light guide plate - Google Patents

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Abstract

개시된 내용은 도광판 사출용 스템퍼 제조방법에 관한 것으로서, 평탄도를 고려한 양면 폴리싱을 거친 임의의 면적을 가지는 판상의 글라스를 세척한 후 글라스 상부에 비선택 영역의 글라스 에칭을 방지하기 위하여 티타늄(크롬)과 골드(백금)를 2층으로 진공증착하고, 2층으로 진공증착된 티타늄(크롬), 골드(백금) 상부에 포토 레지스터를 도포한 후 포토 레지스터 위에 원하는 패턴 마스크를 올리고 노광을 수행하고, 노광된 포토 레지스터를 현상하고, 2층으로 진공증착된 골드(백금), 티타늄(크롬)을 패터닝된 포토 레지스터를 중심으로 차례대로 에칭한 후 글라스 표면을 에칭하여 원하는 패턴 표면을 부드럽게 하고, 티타늄(크롬), 골드(백금)를 제거한 후 글라스 기판에 니켈 도금층을 적층하고, 니켈 도금층을 이형시켜 마스터를 제작하며, 마스터를 재도금한 후 이형시켜 스템퍼를 생성한다.Disclosed is a method for manufacturing a light guide plate injection stamper, and after cleaning a plate-shaped glass having an arbitrary area through double-side polishing in consideration of flatness, titanium (chrome) ) And gold (platinum) are vacuum deposited in two layers, and the photoresist is applied on the titanium (chromium) and gold (platinum) vapor deposited in two layers, and the desired pattern mask is placed on the photoresist and exposure is performed. The exposed photoresist is developed, and gold (platinum) and titanium (chromium) vacuum-deposited in two layers are sequentially etched around the patterned photoresist, and then the glass surface is etched to soften the desired pattern surface and titanium ( After removing chrome) and gold (platinum), the nickel plated layer is laminated on the glass substrate, and the nickel plated layer is released to make a master. A re-plating and then generates the stamper to the release.

따라서, 본 발명은 종래의 CD 제조방식에서 국한되어 사용하던 패턴 크기의 고정은 물론 패턴의 크기를 다변화하고, 그 패턴들간의 거리를 자유롭게 위치시킬 수 있고, 패턴의 크기 및 깊이를 다양하게 제작할 수 있으며, 빛의 휘도를 균일하게 유지하면서도 빛의 확산 효과를 증대시킬 수 있는 효과를 제공한다.Therefore, the present invention is not only fixed to the size of the pattern used in the conventional CD manufacturing method, but also can vary the size of the pattern, the distance between the patterns can be freely positioned, and the size and depth of the pattern can be produced in various ways In addition, it provides an effect that can increase the light diffusion effect while maintaining a uniform brightness of the light.

스템퍼, 도광판, 티타늄(크롬), 골드(백금), 사진식각, 진공증착Stamper, Light Guide Plate, Titanium (Chrome), Gold (Platinum), Photo Etch, Vacuum Deposition

Description

도광판 사출용 스템퍼 제조방법{Manufacturing method of stamper for catapulting light guide plate}Manufacturing method of stamper for catapulting light guide plate

도 1은 종래 기술에 의한 백라이트 유니트의 구성을 나타내는 사시도,1 is a perspective view showing the configuration of a backlight unit according to the prior art;

도 2는 종래 기술에 의한 백라이트 유니트의 구성을 나타내는 단면도,2 is a cross-sectional view showing the configuration of a backlight unit according to the prior art;

도 3은 본 발명에 따른 도광판 사출용 스템퍼 제조방법의 일 실시예의 공정을 나타내는 단면도,3 is a cross-sectional view showing a process of one embodiment of a manufacturing method for manufacturing a light guide plate injection stamper according to the present invention;

도 4는 본 발명에 따른 도광판 사출용 스템퍼 제조방법의 일 실시예의 과정을 상세하게 나타낸 순서도,Figure 4 is a flow chart showing in detail the process of an embodiment of a manufacturing method for manufacturing a light guide plate injection stamper according to the present invention,

도 5는 본 발명에 따른 도광판 사출용 스템퍼 제조방법의 다른 실시예의 과정을 상세하게 나타낸 순서도이다.Figure 5 is a flow chart showing in detail the process of another embodiment of the manufacturing method for manufacturing a light guide plate injection stamper according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

110 : 글라스110: glass

120 : 티타늄(크롬)120: titanium (chrome)

130 : 골드(백금)130: gold (platinum)

140 : 포토 레지스터140: photo register

150 : 니켈 도금층150: nickel plated layer

160 : 마스터160: master

170 : 스템퍼170: stamper

본 발명은 스템퍼 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a stamper.

보다 상세하게는 도광판 사출시 도광판 표면에 도트 패턴의 형성을 위해 금형에 장착되는 스템퍼(stamper)를 반도체 공정기술인 사진식각 기술 및 진공증착 기술을 이용하여 제조할 수 있도록 하는 도광판 사출용 스템퍼 제조방법에 관한 것이다.More specifically, manufacturing a light guide plate injection stamper for manufacturing a stamper mounted on a mold to form a dot pattern on the light guide plate surface by using a photolithography technique and a vacuum deposition technique. It is about a method.

일반적으로 인간이 정보를 취득하는 수단으로는 인쇄, 음성, 영상 등과 같은 다양한 수단이 사용된다. 또한, 최근 들어 멀티미디어 기술의 발전에 따라 인간이 정보를 취득하는 수단으로서 멀티미디어 개념이 도입되고 있으며, 컴퓨터나 휴대용 전화기와 같은 정보기기의 사용 빈도가 증가함에 따라 이러한 정보기기를 위한 영상 표시수단이 급격히 발전되고 있다.In general, a variety of means such as printing, audio, video, etc. are used as a means for humans to obtain information. In addition, in recent years, with the development of multimedia technology, the concept of multimedia has been introduced as a means of acquiring information by humans, and as the frequency of use of information devices such as computers and mobile phones increases, the image display means for such information devices is rapidly increasing. It is developing.

이러한 정보기기의 표시수단으로서 종래의 음극선관(Cathode Ray Tube)과 비교하여 전력 소모가 적으며 가볍고 휴대가 간편한 액정표시장치(Liquid Crystal Display)의 쓰임새가 증가되고 있는 추세이다.As the display means of such information devices, the use of liquid crystal displays, which consume less power and are lighter and more portable than conventional cathode ray tubes, is increasing.

이러한 액정표시장치는 음극선관(Cathode Ray Tube), 플라스마 표시장치(Plasma Display Panel), 박형 표시장치(Field Emission Display)와는 달리, 스스로 빛을 내는 장치가 아니므로 액정화면의 배면에 화상을 시각적으로 표현하기 위 하여 광원이 필요하게 된다. 이러한 액정표시장치는 액정층의 배면을 조사하기 위하여 액정층의 하면에 백라이트 유니트(Back Light Unit)를 설치하여 사용하게 된다.Unlike the cathode ray tube, the plasma display panel, and the field emission display, the liquid crystal display device does not emit light by itself, and thus visually displays an image on the back of the liquid crystal display. The light source is needed to express. In such a liquid crystal display, a backlight unit is installed on a lower surface of the liquid crystal layer in order to irradiate a rear surface of the liquid crystal layer.

즉, 자발광원이 없는 액정에 임의의 광원을 추가하여 화면표시를 자발광원처럼 할 수 있도록 정보표시면을 균일하게 면조사하는 장치가 백라이트 유니트이며, 이러한 백라이트 유니트는 노트북, 모니터용 TFT LCD의 광원이기 때문에 최소의 전력으로 최대한 밝은 빛을 내야 한다. 백라이트 유니트는 선과 같이 가는 형광등 빛을 액정표시장치의 표면 구석구석까지 동일한 밝기로 유지시켜 면광으로 바꾸어 주는 역할을 한다.In other words, the backlight unit is a device for uniformly irradiating the information display surface to add an arbitrary light source to the liquid crystal without a self-luminous source so that the screen display is like a self-luminous source. The backlight unit is a light source of a TFT LCD for notebooks and monitors. Because of this, it should emit as much bright light as possible with minimum power. The backlight unit maintains the same brightness as a line and converts it into surface light by maintaining the same brightness to every corner of the liquid crystal display device.

도 1과 도 2는 상술한 바와 같은 종래 기술에 의한 백라이트 유니트의 구성을 나타내는 사시도와 단면도이다.1 and 2 are a perspective view and a cross-sectional view showing the configuration of the backlight unit according to the prior art as described above.

도시된 바와 같이, 백라이트 유니트는 광원을 제공하는 램프(1)와, 램프(1)에서 발광된 빛을 반사시켜 주는 반사판(Reflection sheet)(3)과, 도광판(Light guide plate)(5)과, 확산판(Diffusion sheet)(7)과, 수평 및 수직 프리즘 시트(Prism sheet)(9, 11) 및 상술한 각각의 부품을 하나의 유니트로 묶어주는 몰드 프레임(Mold flame)(도시되어 있지 않음)으로 구성된다.As shown, the backlight unit includes a lamp 1 for providing a light source, a reflection sheet 3 for reflecting light emitted from the lamp 1, a light guide plate 5, Diffusion sheet 7, horizontal and vertical Prism sheets 9 and 11, and a mold flame that binds each of the above components into one unit (not shown) It is composed of

백라이트의 분류는 램프(1)의 위치에 따라 램프(1)가 TFT-LCD의 배면에서 바로 전면을 향하여 빛을 발하는 직하형(Direct type)과, 램프(1)가 도광판(5)의 옆에 위치하여 빛이 도광판(5)을 거치면서 전면을 향하도록 하는 사이드형(Side type) 및 사이드형의 일부이기는 하지만 도광판(5)이 경사진 쐐기형(Wedge type)으 로 분류할 수 있으며, 직하형과 사이드형은 대형 모니터용으로 사용되고 쐐기형은 노트북 컴퓨터용으로 사용되고 있다.The backlight is classified into a direct type in which the lamp 1 emits light directly from the rear of the TFT-LCD to the front side according to the position of the lamp 1, and the lamp 1 is located next to the light guide plate 5. The light guide plate 5 can be classified into a wedge type in which the light guide plate 5 is located in a side type and a part of the side type so that the light is directed toward the front while passing through the light guide plate 5. Type and side types are used for large monitors and wedge types are used for notebook computers.

한편, 램프(1)는 백색광을 발광하는 것으로 도광판(5)의 일측 가장자리에 위치할 수 있고, 도광판(5)의 양측 가장자리에 각각 복수개가 위치할 수 있으며, 램프(1)는 백라이트 유니트를 통해 LCD 패널에 빛을 입사시켜주는 광원이다. 주로 사용되는 램프(1)의 종류는 발광 다이오드(Light Emitting Diodes), EL(Electro Luminescent), 냉음극 형광램프(Cold Cathode Fluorescent Lamp) 등이 있으나, 통상 발열량이 적은 냉음극 형광램프(Cold Cathode Fluorescence Lamp)를 많이 사용하고 있다.Meanwhile, the lamp 1 emits white light and may be positioned at one edge of the light guide plate 5, and a plurality of lamps may be positioned at both edges of the light guide plate 5, and the lamp 1 may be disposed through the backlight unit. It is a light source that injects light into the LCD panel. The types of lamps 1 used mainly include Light Emitting Diodes, Electro Luminescent (EL), and Cold Cathode Fluorescent Lamps. However, Cold Cathode Fluorescence with low heat generation is generally used. Lamp is used a lot.

반사판(3)은 도광판(5)에서 일부의 빛이 반대편을 통해 손실이 발생할 때 이러한 손실부분을 최소한으로 줄이기 위하여 사용되는 것으로, 도광판(5)의 배면으로 빠져나가는 빛을 도광판(5)의 방향으로 반사시키는 역할을 수행한다.The reflector 3 is used to reduce this loss to a minimum when a part of light in the light guide plate 5 is lost through the opposite side, the light exiting to the back of the light guide plate 5 in the direction of the light guide plate 5 It serves as a reflection.

도광판(5)은 백라이트 유니트에서 가장 핵심이 되는 부품으로서 광의 경로가 전면으로 향하도록 하는 기능을 수행하며, 실제로 광의 경로는 매질의 변화가 있어야 하지만 도광판(5) 내부에서는 경로의 변화가 없기 때문에 이를 위해 도광판(5)의 표면에는 도광판(5)의 형성물질과 다른 도트 스크린(dot screen)이 인쇄되어 있다.The light guide plate 5 is a key component of the backlight unit, and performs a function of directing the light path toward the front surface. In fact, the light path should have a change in the medium, but since there is no change in the path inside the light guide plate 5, To this end, a dot screen different from the material of the light guide plate 5 is printed on the surface of the light guide plate 5.

즉, 도광판(5)은 인쇄방식을 이용하여 도광판(3)의 하부면에 도트 패턴(6)을 형성시킨 것이다. 그리고, 도트 패턴(6) 내에는 작은 유리구술과 같은 작은 알갱이를 포함한다. 따라서, 정확하게는 대부분의 도광판(5) 내로 들어온 빛이 알갱이에 의해 산란되고, 알갱이에 의하여 산란된 빛이 도광판(5)의 상부 표면을 지나 패널로 향하면서 결국 사용자의 육안에 의하여 감지되는 것이다.That is, the light guide plate 5 is a dot pattern 6 formed on the lower surface of the light guide plate 3 using a printing method. The dot pattern 6 includes small grains such as small glass dictations. Therefore, the light entering most of the light guide plate 5 is scattered by the grains, and the light scattered by the grains passes through the upper surface of the light guide plate 5 to the panel and is finally sensed by the user's naked eye.

이때, 도트 패턴(6)이 형성된 도광판(5) 만으로는 산란된 빛이 직접 눈으로 들어오기 때문에 도광판(5)에 인쇄된 도트패턴(6)의 모양이 그대로 비치게 된다. 도트 패턴(6)은 심지어 패널을 장착한 후에도 확연히 감지할 수 있는 수준인 바, 종래에는 도트 패턴(6)의 비침을 최소화시키거나 제거하는 과정이 필요하였으며, 이를 위해 종래에는 폴리머 재료를 기본으로 하고 양면에 작은 유리구슬 알갱이와 같은 확산재를 혼합한 확산판(7)을 구비하였다.At this time, only the light guide plate 5 having the dot pattern 6 is formed so that the scattered light directly enters the eyes, and thus the shape of the dot pattern 6 printed on the light guide plate 5 is reflected. The dot pattern 6 is a level that can be clearly detected even after the panel is mounted. In the related art, a process of minimizing or removing the reflection of the dot pattern 6 has been required. And a diffusion plate 7 in which diffusion materials, such as small glass beads, were mixed on both sides.

더불어, 확산판(7)을 지난 광 휘도는 수평 및 수직 양방향으로 확산이 일어나면서 광 휘도는 급격히 저하된다. 이러한 광을 다시 포커스(focus) 시켜 광 휘도를 올리기 위한 것이 수평 및 수직 프리즘 시트(9, 11)이다.In addition, while the light luminance passing through the diffusion plate 7 is diffused in both horizontal and vertical directions, the light luminance decreases rapidly. The horizontal and vertical prism sheets 9 and 11 are used to refocus this light to increase the light brightness.

수평 및 수직 프리즘 시트(9,11)는 띠 모양(strip type)의 마이크로 프리즘(micro prism)이 모재(base materials : Polyethylene Terephtalate)의 상부에 형성된 것으로, 거의 수평 및 수직 두 장을 한 세트로 사용한다.The horizontal and vertical prism sheets 9 and 11 have a strip-type micro prism formed on top of a base material (polyethylene terephtalate), and use two sets of almost horizontal and vertical sheets as a set. do.

백라이트 유니트의 구성중 도광판(5)은 램프(1)에서 출사되는 선광원을 면광원으로 바꾸어 주는 것으로 사이드형 혹은 쐐기형 백라이트에서는 그 역할이 대단히 중요하며, 도광판(5)에 도트 패턴(6)을 형성하는 기술 또한 백라이트 유니트의 제작공정 중 가장 복잡한 기술로 알려져 있다.In the configuration of the backlight unit, the light guide plate 5 converts the line light source emitted from the lamp 1 to a surface light source, and its role is very important in the side or wedge type backlight, and the dot pattern 6 on the light guide plate 5 The technology for forming the is also known as the most complicated technology of the manufacturing process of the backlight unit.

도광판(5)에 도트 패턴(6)을 형성하는 방법은 상술한 바와 같이 빛의 확산효과를 증대하기 위하여 사출된 도광판(5)에 스크린 인쇄를 하여 광산란 잉크를 고착 시키는 스크린 인쇄(Screen Printing) 방법, 도광판(5)에 패턴을 인쇄하지 않는 무인쇄 방법, 휘도를 향상시키기 위한 V 홈(cut)을 도광판(5)에 형성하는 프리즘 방법 등으로 발전하였다.The method of forming the dot pattern 6 on the light guide plate 5 is a screen printing method in which light scattering ink is fixed by screen printing on the light guide plate 5 that is injected to increase the light diffusion effect as described above. , A non-printing method in which no pattern is printed on the light guide plate 5, and a prism method in which a V groove is formed in the light guide plate 5 to improve luminance.

하지만, 상술한 스크린 인쇄 방법은 광효율과 고온, 고습에서 안정성 문제를 가지고 있으며, 도광판을 성형한 후 인쇄 작업을 다시 수행하여야 하는 번거로움이 있어 생산 효율이 크게 떨어지는 문제점이 있었다.However, the screen printing method described above has a problem of stability in light efficiency, high temperature, and high humidity, and has a problem in that production efficiency is greatly reduced because of the inconvenience of having to perform the printing operation again after molding the light guide plate.

또한, 무인쇄 방법으로 형성한 도광판의 경우에는 도광판 패턴의 크기 및 깊이의 제어가 어려워 재현성이 떨어지는 단점이 있으며, 프리즘 방법으로 형성한 도광판의 경우에는 패턴의 크기 때문에 일부 모델에 국한되는 문제점이 있었다.In addition, the light guide plate formed by the non-printing method is difficult to control the size and depth of the light guide plate pattern, which is disadvantageous in reproducibility, and the light guide plate formed by the prism method has a problem that is limited to some models due to the size of the pattern. .

또한, 도광판 제작시 종래에는 CD 제조방식을 이용하여 반사형태의 도광판을 제작하였으나 이는 패턴의 크기를 고정시켜야 하는 방식을 사용하기 때문에 다양한 패턴을 구현하기 힘들고, 패턴면을 원하는 규격으로 형성하는 전사성에 결함이 있었으며, 상술한 방법들은 사출 후 발생되는 추가 공정으로 인하여 생산성이 저하되며 미세 패턴의 형성이 어렵다는 단점이 있었다.In addition, when manufacturing a light guide plate, a light guide plate having a reflection type is manufactured by using a CD manufacturing method. However, since the size of the pattern is fixed, it is difficult to implement various patterns, and the transferability of forming the pattern surface to a desired standard is required. There was a defect, and the above-described methods had a disadvantage in that productivity was reduced due to additional processes generated after injection, and it was difficult to form fine patterns.

즉, 종래의 방법으로는 도광판 패턴의 사이즈 변화는 물론 기존 CD 제조방식의 반사형태를 그대로 유지하면서 도광판 패턴 설계를 다변화하고 고휘도를 실현하기 어려운 문제점이 있었던 것이다.That is, the conventional method has a problem that it is difficult to diversify the light guide plate pattern design and realize high brightness while maintaining the reflection shape of the conventional CD manufacturing method as well as the size change of the light guide plate pattern.

본 발명의 목적은 전술한 문제점을 해결할 수 있도록, 도광판 사출시 그 표면에 도트 패턴의 형성을 위해 금형에 장착되는 스템퍼를 반도체 공정기술인 사진 식각 기술 및 진공증착 기술을 이용하여 제조함으로써, 도광판 패턴의 사이즈 변화는 물론 기존 CD 제조방식의 반사형태를 그대로 유지하면서 도광판 패턴 설계의 다변화 및 고휘도를 실현할 수 있도록 하는 도광판 사출용 스템퍼 제조방법을 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to manufacture a stamper mounted on a mold to form a dot pattern on its surface during injection of the light guide plate by using a photolithography technique and a vacuum deposition technique, which is a semiconductor process technology, so as to solve the above problems, The present invention provides a method of manufacturing a light guide plate injection stamper that can realize diversification and high brightness of a light guide plate pattern design while maintaining the reflection form of a conventional CD manufacturing method.

이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 도광판 사출용 스템퍼 제조방법은, (1) 평탄도를 고려한 양면 폴리싱을 거친 임의의 면적을 가지는 판상의 글라스를 세척하는 과정과; (2) 세척한 임의의 글라스 상부에 티타늄(크롬)과 골드(백금)를 2층으로 진공증착하는 과정과; (3) 2층으로 진공증착된 티타늄(크롬), 골드(백금) 상부에 포토 레지스터를 도포하는 과정과; (4) 포토 레지스터 위에 원하는 패턴 마스크를 올리고 노광을 수행한 후 노광된 포토 레지스터를 현상하는 과정과; (5) 글라스 상부에 비선택 영역의 글라스 에칭을 방지하기 위하여 2층으로 진공증착된 골드(백금), 티타늄(크롬)을 패터닝된 포토 레지스터를 중심으로 차례대로 에칭하는 과정과; (6) 차례대로 에칭된 티타늄(크롬), 골드(백금)를 마스크화한 후 HF 원액을 사용하여 글라스 표면을 에칭하여 원하는 패턴 표면을 부드럽게 하는 과정과; (7) 티타늄(크롬), 골드(백금)를 제거하는 과정과; (8) 글라스 기판에 니켈 도금층을 적층한 후 니켈 도금층을 이형시켜 마스터를 제작하는 과정과; (9) 마스터를 재도금한 후 이형시켜 스템퍼를 생성하는 과정을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.The method for manufacturing a light guide plate injection stamper according to the present invention for achieving the above object comprises the steps of: (1) washing a plate-shaped glass having an arbitrary area after double-side polishing in consideration of flatness; (2) vacuum depositing two layers of titanium (chromium) and gold (platinum) on any of the cleaned glass tops; (3) applying a photoresist on the titanium (chromium) and gold (platinum), which are vacuum deposited in two layers; (4) raising a desired pattern mask on the photoresist, performing exposure and developing the exposed photoresist; (5) sequentially etching gold (platinum) and titanium (chromium) vacuum-deposited in two layers around the patterned photoresist to prevent glass etching of the non-selected region on the glass; (6) masking the sequentially etched titanium (chromium) and gold (platinum) and etching the glass surface using HF stock solution to smooth the desired pattern surface; (7) removing titanium (chromium) and gold (platinum); (8) fabricating a master by laminating a nickel plating layer on a glass substrate and releasing the nickel plating layer; (9) characterized in that it comprises the step of re-plating the master and then release to create a stamper.

이때, 상술한 (5) 과정에서 진공증착된 골드(백금)를 에칭할 때에는 염산과 질산의 혼합액인 왕수를 사용하며, 티타늄(크롬)을 에칭할 때에는 황산과 과산화수소의 혼합액을 사용하는 것이 바람직하다.In this case, when etching gold (platinum) vacuum-deposited in the above-mentioned process (5), aqua regia is used as a mixed solution of hydrochloric acid and nitric acid, and a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide is used when etching titanium (chromium). .

또한, 상술한 (6) 과정에서 글라스 표면을 에칭할 때에는 습식 에칭 방식을 사용하는 것이 바람직하다.In addition, when etching a glass surface in the process (6) mentioned above, it is preferable to use a wet etching method.

또한, 상술한 (7) 과정에서 티타늄(크롬), 골드(백금)를 제거할 때 염산과 질산의 혼합액인 왕수를 사용하는 것이 바람직하다.In addition, when removing titanium (chromium) and gold (platinum) in the above-described process (7), it is preferable to use aqua regia, which is a mixture of hydrochloric acid and nitric acid.

그리고, 본 발명에 따른 도광판 사출용 스템퍼 제조방법은, (A) 평탄도를 고려한 양면 폴리싱을 거친 임의의 면적을 가지는 판상의 글라스를 세척하는 과정과; (B) 세척한 글라스 상부에 비선택 영역의 글라스 에칭을 방지하기 위하여 SU-8 포토 레지스터를 도포하는 과정과; (C) 포토 레지스터 위에 원하는 패턴 마스크를 올리고 노광을 수행한 후 노광된 포토 레지스터를 현상하는 과정과; (D) 포토 레지스터를 마스크화한 후 HF 원액을 사용하여 글라스 표면을 에칭하여 원하는 패턴 표면을 부드럽게 하는 과정과; (E) 패터닝된 글라스에 잔존하는 포토 레지스터를 제거하는 과정과; (F) 글라스 기판에 니켈 도금층을 적층한 후 니켈 도금층을 이형시켜 마스터를 제작하는 과정과; (G) 마스터를 재도금한 후 이형시켜 스템퍼를 생성하는 과정을 포함하여 이루어진 것을 다른 특징으로 한다.In addition, the method for manufacturing a light guide plate injection stamper according to the present invention includes the steps of: (A) washing a plate-shaped glass having an arbitrary area after double-side polishing in consideration of flatness; (B) applying a SU-8 photoresist on the cleaned glass to prevent glass etching of the non-selected area; (C) raising a desired pattern mask on the photoresist, performing exposure and developing the exposed photoresist; (D) masking the photoresist and then etching the glass surface using HF stock solution to smooth the desired pattern surface; (E) removing photoresist remaining in the patterned glass; (F) laminating a nickel plating layer on the glass substrate and releasing the nickel plating layer to prepare a master; (G) It is another feature that is made, including the process of re-plating the master and release to create a stamper.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 도광판 사출용 스템퍼 제조방법을 상세하게 설명한다.Hereinafter, a manufacturing method of the light guide plate injection stamper of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 따른 도광판 사출용 스템퍼 제조방법의 일 실시예의 공정을 나타내는 단면도이며, 도 4는 본 발명에 따른 도광판 사출용 스템퍼 제조방법의 일 실시예의 과정을 상세하게 나타낸 순서도이다.Figure 3 is a cross-sectional view showing a process of one embodiment of a light guide plate injection stamper manufacturing method according to the present invention, Figure 4 is a flow chart showing in detail the process of an embodiment of a light guide plate injection stamper manufacturing method according to the present invention.

도시된 바와 같이, 평탄도를 고려한 양면 폴리싱을 거친 임의의 면적을 가지는 판상의 글라스(110)를 준비하고 세척한다(S110).As shown in the drawing, a plate-shaped glass 110 having an arbitrary area that has undergone polishing on both sides in consideration of flatness is prepared and washed (S110).

그리고, 세척한 임의의 글라스(110) 상부에 티타늄(크롬)(120)을 진공증착하고(S120), 티타늄(크롬)(120) 상부에 골드(백금)(130)를 진공증착한다(S130). 즉, 글라스(110) 상부에 티타늄(크롬)(120), 골드(백금)(130)를 2층으로 진공증착하는 것이다.Then, vacuum deposition of titanium (chromium) 120 on the glass 110, the cleaned (S120), and vacuum (platinum) 130 on the titanium (chromium) 120 is vacuum-deposited (S130) . That is, the titanium (chromium) 120, gold (platinum) 130 on the glass 110 is vacuum deposited in two layers.

이때, 글라스(110) 상부에 2층의 티타늄(크롬)(120), 골드(백금)(130)를 증착할 때에는 Sputter, Evaporator 등의 장비를 이용한다.In this case, when depositing two layers of titanium (chromium) 120 and gold (platinum) 130 on the glass 110, equipment such as a sputter or an evaporator is used.

글라스(110) 상부에 비선택 영역의 글라스 에칭을 방지하기 위하여 티타늄(크롬)(120), 골드(백금)(130)를 2층으로 진공증착한 이후에는 골드(백금)(130) 상부에 포토 레지스터(140)를 도포한다(S140).In order to prevent the glass etching of the non-selected area on the glass 110, the titanium (chromium) 120 and the gold (platinum) 130 are vacuum-deposited in two layers, and then the photo above the gold (platinum) 130. The register 140 is applied (S140).

그리고, 골드(백금)(130) 상부에 도포된 포토 레지스터(140) 위에 원하는 패턴의 포토 마스크(144)를 올린 후 노광처리를 수행하고(S150), 노광된 포토 레지스터(140)를 현상한다(S160).Then, after the photomask 144 having a desired pattern is placed on the photoresist 140 coated on the gold (platinum) 130, an exposure process is performed (S150), and the exposed photoresist 140 is developed ( S160).

즉, 포토 레지스터(140)를 글라스(110)의 표면에 도포한 이후 소정 거리를 두고 이격된 다수개의 노광부(142)가 형성된 포토 마스크(144)를 포토 레지스터(140)가 도포된 글라스(110) 상부에 위치시키고, 포토 마스크(144)의 외측에서 포토 레지스터(110)를 경유하여 글라스(110)를 향해 빛을 노출시키는 것이다. 그러면, 노광부(142)를 통해 빛이 투사된 글라스(110)의 표면에는 도포된 포토 레지스 터(110)가 현상과정을 통하여 선택적으로 제거된다.That is, after the photoresist 140 is coated on the surface of the glass 110, the photomask 144 on which the photoresist 140 is coated is formed on the photomask 144 having the plurality of exposure parts 142 spaced apart from each other by a predetermined distance. In the upper portion of the photomask 144, light is exposed to the glass 110 via the photoresist 110 from the outside of the photo mask 144. Then, the photoresist 110 applied to the surface of the glass 110, the light is projected through the exposure unit 142 is selectively removed through the development process.

이후, 글라스(110) 상부에 진공증착된 골드(백금)(130)를 염산과 질산의 혼합액인 왕수를 사용하여 에칭하고(S170), 골드(백금)(130)의 에칭 이후 황산과 과산화수소의 혼합액을 사용하여 티타늄(크롬)(120)을 에칭한다(S180). 즉, 글라스(110) 상부에 2층으로 진공증착된 골드(백금)(130), 티타늄(크롬)(120)을 패터닝된 포토 레지스터(140)를 중심으로 차례대로 에칭 작업을 수행하여 현상화시키는 것이다.Subsequently, the gold (platinum) 130 vacuum-deposited on the glass 110 is etched using aqua regia, which is a mixture of hydrochloric acid and nitric acid (S170), and the mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide after etching of the gold (platinum) 130. Etch the titanium (chrome) 120 using (S180). That is, gold (platinum) 130 and titanium (chromium) 120 vacuum-deposited in two layers on the glass 110 are sequentially developed around the patterned photoresist 140 to develop them. .

전술한 과정(S170)(S180)을 통해 골드(백금)(130), 티타늄(크롬)(120)을 차례대로 에칭한 이후에는, HF 원액을 사용하여 글라스(110) 표면을 에칭함으로써 원하는 패턴 표면을 부드럽게 한다(S190). 이때, 부드러운 에칭 표면을 만드는 방법으로는 습식, 건식방법을 채택할 수 있으나 여기에서는 습식 에칭 공정을 사용하기로 한다.After sequentially etching the gold (platinum) 130 and the titanium (chromium) 120 through the above-described process (S170) (S180), the desired pattern surface by etching the surface of the glass 110 using HF stock solution To smooth (S190). In this case, a wet etching method may be employed as a method of making a smooth etching surface, but a wet etching process will be used here.

원하는 깊이의 에칭공정이 끝난 후, 황산과수용액과 염산과 질산의 혼합액인 왕수를 사용하여 글라스(110) 상부에 진공증착된 티타늄(크롬)(120), 골드(백금)(130)를 제거한다(S200).After the etching process of the desired depth is finished, the titanium (chromium) 120 and gold (platinum) 130 are vacuum-deposited on the glass 110 by using aqua regia, a mixture of sulfuric acid and aqueous solution, hydrochloric acid and nitric acid. (S200).

티타늄(크롬)(120), 골드(백금)(130)를 제거한 이후에는 글라스(110) 기판에 니켈(Ni) 도금층(150)을 소정의 두께로 적층하고(S210), 니켈 도금층을 이형시켜 마스터(master)(160)를 제작한다(S220).After removing the titanium (chromium) 120 and the gold (platinum) 130, the nickel (Ni) plating layer 150 is laminated on the glass 110 substrate to a predetermined thickness (S210), and the nickel plating layer is released to the master. Produce a master 160 (S220).

마지막으로, 상술한 과정(S220)을 통해 제작된 마스터(160)의 패턴 면을 재도금한 후 이형시켜 스템퍼(170)를 생성한다(S230).Finally, after re-plating the pattern surface of the master 160 produced through the above-described process (S220) to release the stamper 170 is generated (S230).

한편, 도 5는 본 발명에 따른 도광판 사출용 스템퍼 제조방법의 다른 실시예의 과정을 상세하게 나타낸 순서도로서, 비선택 영역의 글라스 에칭을 방지하기 위하여 티타늄(크롬), 골드(백금)를 2층으로 증착한 전술한 실시예와는 달리 비선택 영역의 글라스 에칭을 방지하기 위하여 SU-8 포토 레지스터를 도포하는 실시예를 설명하기 위한 도면이다.On the other hand, Figure 5 is a flow chart showing in detail the process of another embodiment of the manufacturing method for manufacturing a light guide plate injection stamper according to the present invention, two layers of titanium (chromium), gold (platinum) to prevent glass etching of the non-selected area Unlike the above-described embodiment deposited with the above-described embodiment, the SU-8 photoresist is applied to prevent the glass etching of the non-selected region.

도시된 바와 같이, 평탄도를 고려한 양면 폴리싱을 거친 임의의 면적을 가지는 판상의 글라스를 준비하고 세척한다(S510).As shown in the drawing, a plate-shaped glass having an arbitrary area that has undergone polishing on both sides in consideration of flatness is prepared and washed (S510).

그리고, 세척한 임의의 글라스 상부에 비선택 영역의 글라스 에칭을 방지하기 위하여 SU-8 포토 레지스터를 도포한다(S520).In addition, the SU-8 photoresist is applied to prevent the glass etching of the non-selected area on the cleaned arbitrary glass (S520).

이후, SU-8 포토 레지스터 위에 원하는 패턴 마스크를 올린 후 노광을 수행한 후 노광된 SU-8 포토 레지스터를 현상한다(S530).Thereafter, a desired pattern mask is placed on the SU-8 photoresist and then exposed, and then the exposed SU-8 photoresist is developed (S530).

즉, 전술한 실시예에서와 같이, SU-8 포토 레지스터를 글라스의 표면에 도포한 이후 소정 거리를 두고 이격된 다수개의 노광부가 형성된 포토 마스크를 SU-8 포토 레지스터가 도포된 글라스 상부에 위치시키고, 포토 마스크의 외측에서 SU-8 포토 레지스터를 경유하여 글라스를 향해 빛을 노출시켜, 노광부를 통해 빛이 투사된 글라스의 표면에 도포된 SU-8 포토 레지스터가 현상과정을 통하여 선택적으로 제거되도록 하는 것이다.That is, as in the above-described embodiment, after applying the SU-8 photoresist to the surface of the glass, a photo mask having a plurality of exposed portions spaced apart by a predetermined distance is positioned on the glass to which the SU-8 photoresist is applied. By exposing the light toward the glass via the SU-8 photoresist outside the photo mask, the SU-8 photoresist applied to the surface of the glass onto which the light is projected through the exposure unit is selectively removed through the development process. will be.

이후, SU-8 포토 레지스터를 마스크화한 후 HF 원액을 사용하여 글라스 표면을 에칭하여 원하는 패턴 표면을 부드럽게 하고(S540), 패터닝된 글라스에 잔존하는 SU-8 포토 레지스터를 제거한다(S550).Thereafter, after masking the SU-8 photoresist, the glass surface is etched using the HF stock solution to smooth the desired pattern surface (S540), and the SU-8 photoresist remaining on the patterned glass is removed (S550).

그리고, 글라스 기판에 니켈(Ni) 도금층을 소정의 두께로 적층한 후, 니켈 도금층을 이형시켜 마스터를 제작한다(S560).Then, after the nickel (Ni) plating layer is laminated on the glass substrate to a predetermined thickness, the nickel plating layer is released to prepare a master (S560).

마지막으로, 상술한 과정(S560)을 통해 제작된 마스터의 패턴 면을 재도금한 후 이형시켜 스템퍼를 생성한다(S570).Finally, after re-plating the pattern surface of the master produced in the above-described process (S560) and release to create a stamper (S570).

이상에서와 같이 본 발명의 도광판 사출용 스템퍼 제조방법에 따르면, 스템퍼를 사진식각 기술 및 진공증착 기술을 이용하여 제조함으로써, 도광판 사출시 종래의 CD 제조방식에서 국한되어 사용하던 패턴 크기의 고정은 물론 패턴의 크기를 다변화할 수 있고, 패턴들간의 거리를 자유롭게 위치시킬 수 있고, 패턴의 크기 및 깊이를 다양하게 제작할 수 있으며, 빛의 휘도를 균일하게 유지하면서도 빛의 확산 효과를 증대시킬 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the manufacturing method of the light guide plate injection stamper of the present invention, by manufacturing the stamper using a photolithography technique and a vacuum deposition technology, fixing the pattern size used in the conventional CD manufacturing method when the light guide plate injection Of course, the size of the pattern can be diversified, the distance between the patterns can be freely positioned, the size and depth of the pattern can be made in various ways, and the light diffusion effect can be increased while maintaining the uniformity of the light. It has an effect.

여기에서, 상술한 본 발명에서는 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경할 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Herein, while the present invention has been described with reference to the preferred embodiments, those skilled in the art will variously modify the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. And can be changed.

Claims (6)

소정 면적을 가지는 판상의 글라스를 준비하고 세척하는 과정; 상기 글라스 상부에 포토 레지스터를 도포하는 과정; 상기 포토 레지스터 위에 원하는 패턴 마스크를 올리고 노광 및 현상하는 과정; 상기 글라스 기판에 니켈 도금층을 적층한 후 니켈 도금층을 이형시켜 마스터를 제작하는 과정; 및 상기 마스터를 재도금한 후 이형시켜 스템퍼를 생성하는 과정을 수행하는 도광판 사출용 스템퍼 제조방법에 있어서,Preparing and washing a plate-shaped glass having a predetermined area; Applying a photoresist on the glass; Raising, exposing and developing a desired pattern mask on the photoresist; Manufacturing a master by releasing a nickel plating layer after laminating a nickel plating layer on the glass substrate; In the light guide plate injection stamper manufacturing method for performing a process of generating a stamper by re-plating and then re-plating the master, 상기 포토 레지스터를 도포하기 전에 비선택 영역의 글라스 에칭을 방지하기 위하여 상기 글라스 상부에 티타늄(크롬)과 골드(백금)를 2층으로 진공증착하는 과정; 및Vacuum depositing two layers of titanium (chromium) and gold (platinum) on the glass to prevent glass etching of the non-selected region before applying the photoresist; And 상기 포토 레지스터를 현상한 후에 상기 글라스 상부에 2층으로 진공증착된 골드(백금), 티타늄(크롬)을 패터닝된 포토 레지스터를 중심으로 차례대로 에칭하고, 상기 티타늄(크롬), 골드(백금)를 마스크화하며, HF 원액을 사용하여 상기 글라스 표면을 에칭하여 원하는 패턴 표면을 부드럽게 하는 과정을 더 수행함을 특징으로 하는 도광판 사출용 스템퍼 제조방법.After the photoresist is developed, gold (platinum) and titanium (chromium) vacuum-deposited in two layers on the glass are sequentially etched around the patterned photoresist, and the titanium (chromium) and gold (platinum) are etched. The masking method of manufacturing a light guide plate injection stamper, characterized in that further performing the process of smoothing the desired pattern surface by etching the glass surface using the HF stock solution. 소정 면적을 가지는 판상의 글라스를 준비하고 세척하는 과정; 상기 글라스 상부에 포토 레지스터를 도포하는 과정; 상기 포토 레지스터 위에 원하는 패턴 마스크를 올리고 노광 및 현상하는 과정; 상기 글라스 기판에 니켈 도금층을 적층한 후 니켈 도금층을 이형시켜 마스터를 제작하는 과정; 및 상기 마스터를 재도금한 후 이형시켜 스템퍼를 생성하는 과정을 수행하는 도광판 사출용 스템퍼 제조방법에 있어서,Preparing and washing a plate-shaped glass having a predetermined area; Applying a photoresist on the glass; Raising, exposing and developing a desired pattern mask on the photoresist; Manufacturing a master by releasing a nickel plating layer after laminating a nickel plating layer on the glass substrate; In the light guide plate injection stamper manufacturing method for performing a process of generating a stamper by re-plating and then re-plating the master, 비선택 영역의 글라스 에칭을 방지하기 위하여 상기 포토 레지스터를 SU-8 포토 레지스터로 사용하며,In order to prevent glass etching of the non-selected region, the photoresist is used as the SU-8 photoresist, 상기 SU-8 포토 레지스터를 현상한 후에 HF 원액을 사용하여 상기 글라스 표면을 에칭하여 원하는 패턴 표면을 부드럽게 하는 과정을 더 수행함을 특징으로 하는 도광판 사출용 스템퍼 제조방법.And developing the SU-8 photoresist, and then etching the glass surface using HF stock solution to smooth the desired pattern surface. 제 1 항에 있어서, 상기 글라스 상부에 진공증착된 티타늄(크롬)을 에칭할 때 황산과 과산화수소의 혼합액을 사용함을 특징으로 하는 도광판 사출용 스템퍼 제조방법.The method of claim 1, wherein a mixture of sulfuric acid and hydrogen peroxide is used to etch the titanium (chromium) vacuum-deposited on the glass. 제 1 항에 있어서, 상기 티타늄(크롬) 상부에 진공증착된 골드(백금)를 에칭할 때 염산과 질산의 혼합액인 왕수를 사용함을 특징으로 하는 도광판 사출용 스템퍼 제조방법.The method of claim 1, wherein when etching gold (platinum) vacuum-deposited on the titanium (chromium), aqua regia is used as a mixed solution of hydrochloric acid and nitric acid. 제 1 항에 있어서, 상기 글라스 표면을 에칭할 때 습식 에칭 방식을 사용함을 특징으로 하는 도광판 사출용 스템퍼 제조방법.The method of claim 1, wherein a wet etching method is used to etch the glass surface. 제 1 항에 있어서, 상기 글라스 상부에 2층으로 진공증착된 티타늄(크롬), 골드(백금)를 제거할 때 염산과 질산의 혼합액인 왕수를 사용함을 특징으로 하는 도광판 사출용 스템퍼 제조방법.The method of claim 1, wherein when removing titanium (chromium) and gold (platinum) vacuum-deposited in two layers on the glass, aqua regia is used as a mixed solution of hydrochloric acid and nitric acid.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101549006B1 (en) * 2009-02-04 2015-09-01 엘지전자 주식회사 A production method and a manufacturing appartus for a stamper having a curved surface

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100773718B1 (en) * 2006-05-22 2007-11-06 태산엘시디 주식회사 Method for manufacturing a light guide plate of the backlight unit
KR100772441B1 (en) * 2006-10-12 2007-11-01 삼성전기주식회사 Manufacturing method for imprinting stamper
KR101253274B1 (en) 2006-12-07 2013-04-10 삼성디스플레이 주식회사 Method of manufacturing a mold for light guard plate and method of manufacturing the light guard plate using the same
CN101801652B (en) * 2007-04-23 2014-10-29 数字光学公司 Mass production of micro-optical devices, corresponding tools, and resultant structures
ES2748595T3 (en) 2012-08-24 2020-03-17 Omicron Electronics Gmbh Method and device for measuring the resistance of the switching contacts of a circuit breaker
KR101876494B1 (en) * 2017-07-10 2018-07-13 크레아퓨처 주식회사 Manufacturing method of surface enhanced stamper

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010064825A (en) * 1999-12-20 2001-07-11 정명식 Fabricating method of the mold of back light unit of liquid crystal device
KR100496520B1 (en) 2002-09-13 2005-06-22 주식회사 릿츠 Stamper manufacturing method using photo lithography and stamper manufactured its method, and light guide panel manufactured using stamper

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010064825A (en) * 1999-12-20 2001-07-11 정명식 Fabricating method of the mold of back light unit of liquid crystal device
KR100496520B1 (en) 2002-09-13 2005-06-22 주식회사 릿츠 Stamper manufacturing method using photo lithography and stamper manufactured its method, and light guide panel manufactured using stamper

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101549006B1 (en) * 2009-02-04 2015-09-01 엘지전자 주식회사 A production method and a manufacturing appartus for a stamper having a curved surface

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