KR100563941B1 - 인듐틴옥사이드 나노 입자와 표시소자용 도전성 필름의제조방법 - Google Patents
인듐틴옥사이드 나노 입자와 표시소자용 도전성 필름의제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
In : Sn (원자비) | 평균입도(nm) | 결정구조(%) C : R | 도포두께 (Å) | 빛투과율 (%) | 헤이즈 (%) | 표면저항 (Ω/□) | 접착성 | 표면상태 |
9.5 : 0.5 | 10-15 | 95 : 05 | 400 | 89 | 2.1 | 104 | ○ | ○ |
8.5 : 1.5 | 10-15 | 89 : 10 | 400 | 91 | 2.1 | 105 | ○ | ○ |
7.5 : 2.5 | 15-20 | 80 : 20 | 400 | 93 | 2.0 | 107 | ○ | ○ |
5.0 : 5.0 | 20-25 | 70 : 30 | 400 | 90 | 2.1 | 109 | ○ | ○ |
pH | In : Sn (원자비) | 평균입도(nm) | 결정구조 C : R | 도포두께 (Å) | 빛투과율 (%) | 헤이즈 (%) | 표면저항 (Ω/□) | 접착성 | 표면상태 |
10 | 8.5 :1.5 | 10 - 15 | 89 : 10 | 400 | 90 | 2.3 | 105 | ○ | ○ |
7.0 | 8.5 :1.5 | 20 - 30 | 70 : 30 | 400 | 90 | 3.3 | 107 | ○ | ○ |
3.0 | 8.5 :1.5 | 20 - 50 | 50 : 50 | 400 | 83 | 2.2 | 109 | X | △ |
반응온도 | In : Sn (원자비) | 평균입도(nm) | 결정구조 C : R | 도포두께 (Å) | 빛투과율 (%) | 헤이즈 (%) | 표면저항 (Ω/□) | 접착성 | 표면상태 |
150℃ | 8.5 :1.5 | 10 - 15 | 60 : 40 | 400 | 83 | 3.3 | 106 | △ | △ |
200℃ | 8.5 :1.5 | 10 - 15 | 89 : 10 | 400 | 90 | 2.3 | 105 | ○ | ○ |
250℃ | 8.5 :1.5 | 10 | 89 : 10 | 400 | 90 | 2.3 | 105 | ○ | ○ |
300℃ | 8.5 :1.5 | 10 | 40 : 60 | 400 | 90 | 2.2 | 107 | ○ | ○ |
소성온도 | In : Sn (원자비) | 평균입도(nm) | 결정구조 C : R | 도포두께 (Å) | 빛투과율 (%) | 헤이즈 (%) | 표면저항 (Ω/□) | 접착성 | 표면상태 |
300℃ | 8.5 :1.5 | 10 - 20 | 30 : 70 | 400 | 92 | 2.1 | 107 | ○ | ○ |
400℃ | 8.5 :1.5 | 10 - 20 | 40 : 60 | 400 | 90 | 2.3 | 106 | ○ | ○ |
600℃ | 8.5 :1.5 | 10 - 15 | 89 : 10 | 400 | 90 | 2.1 | 105 | ○ | ○ |
800℃ | 8.5 :1.5 | 10 - 20 | 60 : 40 | 400 | 90 | 2.2 | 106 | ○ | ○ |
1000℃ | 8.5 :1.5 | 20 - 30 | 40 : 60 | 400 | 89 | 3.1 | 107 | △ | △ |
용매 | In : Sn (원자비) | 평균입도(nm) | 결정구조 C : R | 도포두께 (Å) | 빛투과율 (%) | 헤이즈 (%) | 표면저항 (Ω/□) | 접착성 | 표면상태 |
에탄올 | 8.5 :1.5 | 20 | 85 : 15 | 400 | 90 | 2.3 | 106 | ○ | ○ |
물 | 8.5 :1.5 | 10 - 15 | 89 : 10 | 400 | 90 | 2.3 | 105 | ○ | ○ |
에틸렌 글리콜 | 8.5 :1.5 | 10 | 70 : 30 | 400 | 90 | 2.2 | 107 | ○ | ○ |
도포두께 | In : Sn (원자비) | 평균입도(nm) | 결정구조 C : R | 빛투과율 (%) | 헤이즈 (%) | 표면저항 (Ω/□) | 접착성 | 표면상태 |
200 nm | 8.5 :1.5 | 10 - 15 | 89 : 10 | 95 | 2.3 | 106 | ○ | ○ |
400 nm | 8.5 :1.5 | 10 - 15 | 89 : 10 | 90 | 2.1 | 105 | ○ | ○ |
600 nm | 8.5 :1.5 | 10 - 15 | 89 : 10 | 79 | 4.2 | 105 | X | △ |
비교예 | In : Sn (원자비) | 평균입도(nm) | 유효성분 (g/m2) | 도포두께 (Å) | 빛투과율 (%) | 헤이즈 (%) | 표면저항 (Ω/□) | 접착성 | 표면상태 |
D 사 | 9.96 :0.04 | 45 | 0.06 | 400 | 90 | 1.3 | 104 | ○ | ○ |
A 사 | 9.9 :0.1 | 50 | 0.05 | 400 | 90 | 2.2 | 105 | ○ | ○ |
본 발명 | 9.5 :0.5 | 10 -20 | 0.03 | 400 | 90 | 2.1 | 104 | ○ | ○ |
Claims (10)
- 용매에 인듐 전구체 및 주석 전구체를 가하는 단계;pH를 7 내지 11로 조절하는 단계; 및10 내지 80기압의 압력 및 100 내지 350℃의 온도에서 열처리하는 단계;를 포함하며,상기 인듐 전구체 : 주석 전구체의 몰비가 5.0 내지 9.5 : 5.0 내지 0.5인 것을 특징으로 하는 ITO 나노입자의 제조방법.
- 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 용매가 알코올류, 물 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 ITO 나노입자의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 인듐 전구체가 염화인듐, 질산인듐 또는 인듐 이소프로폭시드인 것을 특징으로 하는 ITO 나노입자의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 주석 전구체가 염화주석, 질산주석 또는 주석 이소프로폭시드인 것을 특징으로 하는 ITO 나노입자의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 산소 또는 질소 분위기 하에 300 내지 1600℃ 범위 내에서 재결정화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 ITO 나노입자의 제조방법.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 제조방법으로 얻어진 ITO 나노입자를 용매 및 0.1 내지 2.0 wt%의 첨가제와 혼합하여 용액 A를 얻는 단계;얻어진 용액 A를 분산시켜 ITO 나노 분말 현탁액을 제조하는 단계;얻어진 ITO 나노 분말 현탁액에 금속알콕시드가 부분적으로 가수분해되어 있는 무기 고분자의 출발물질, 친수성 유기수지, 혹은 이 둘의 혼합용액을 혼합하여 용액 B를 얻는 단계; 및얻어진 용액 B를 롤코팅법 또는 바아코팅법으로 고분자막에 도포 및 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시소자용 도전성 필름의 제조방법.
- 제7항에 있어서, 상기 고분자 필름이 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름인 것을 특징으로 하는 표시소자용 도전성 필름의 제조방법.
- 제7항에 있어서, 상기 ITO 나노입자막의 두께가 100 내지 500Å인 것을 특징으로 하는 표시소자용 도전성 필름의 제조방법.
- 제7항에 있어서, 제조된 고분자막 위에 존재하는 ITO 유효성분이 0.01 내지 0.1g/m2인 것을 특징으로 하는 표시소자용 도전성 필름의 제조방법.
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KR1020030072989A KR100563941B1 (ko) | 2003-10-20 | 2003-10-20 | 인듐틴옥사이드 나노 입자와 표시소자용 도전성 필름의제조방법 |
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KR1020030072989A KR100563941B1 (ko) | 2003-10-20 | 2003-10-20 | 인듐틴옥사이드 나노 입자와 표시소자용 도전성 필름의제조방법 |
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KR20050037729A KR20050037729A (ko) | 2005-04-25 |
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KR1020030072989A KR100563941B1 (ko) | 2003-10-20 | 2003-10-20 | 인듐틴옥사이드 나노 입자와 표시소자용 도전성 필름의제조방법 |
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KR100819062B1 (ko) | 2007-03-19 | 2008-04-03 | 한국전자통신연구원 | 인듐 틴 산화물 전자빔 레지스트의 합성 방법 및 이를이용한 인듐 틴 산화물 패턴 형성 방법 |
KR101333603B1 (ko) * | 2012-03-30 | 2013-11-27 | 전자부품연구원 | 액정표시소자로부터 인듐주석산화물 및 유가 자원을 회수하는 방법 |
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