KR100521265B1 - Wide viewing angle liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 기판 위에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계, 박막 트랜지스터를 덮는 유기 절연막을 도포하는 단계, 유기 절연막에 접촉구를 형성하기 위한 제1 마스크를 사용하여 1차 노광하는 단계, 유기 절연막에 돌기를 형성하기 위한 제2 마스크를 사용하여 2차 노광하는 단계, 유기 절연막을 패터닝하는 단계, 유기 절연막 위에 화소 전극을 형성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a liquid crystal display according to the present invention includes forming a thin film transistor on a substrate, applying an organic insulating film covering the thin film transistor, and performing primary exposure using a first mask for forming a contact hole on the organic insulating film. A second exposure method is performed by using a second mask for forming protrusions on the organic insulating film, patterning the organic insulating film, and forming a pixel electrode on the organic insulating film.
Description
이 발명은 광시야각 액정 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a wide viewing angle liquid crystal display device.
일반적으로 액정 표시 장치는 두 장의 기판 사이에 액정을 주입하고, 여기에 가하는 전장의 세기를 조절하여 광 투과량을 조절하는 구조로 되어 있다.In general, a liquid crystal display device has a structure in which a liquid crystal is injected between two substrates, and the amount of light transmitted is controlled by adjusting the intensity of the electric field applied thereto.
수직 배향 비틀린 네마틱(vertically aligned twisted nematic ; VATN) 방식의 액정 표시 장치는, 안쪽 면에 투명 전극이 형성되어 있는 한 쌍의 투명 기판, 두 투명 기판 사이의 액정 물질, 각각의 투명 기판의 바깥 면에 부착되어 빛을 편광시키는 두 장의 편광판으로 구성된다. 전기장을 인가하지 않은 상태에서는 두 기판 사이의 액정 분자들이 두 기판에 수직인 상태로 배열되어 있고, 전기장이 인가되면 액정 분자들은 기판에 평행하며 일정한 피치(pitch)를 가지고 나선상으로 꼬여 있어 액정 분자의 장축의 방향이 연속적으로 변화되는 비틀린 구조로 바뀐다.A vertically aligned twisted nematic (VATN) type liquid crystal display includes a pair of transparent substrates having transparent electrodes formed on an inner surface thereof, a liquid crystal material between two transparent substrates, and an outer surface of each transparent substrate. It consists of two polarizers attached to and polarizing light. In the state in which no electric field is applied, the liquid crystal molecules between the two substrates are arranged in a state perpendicular to the two substrates. When the electric field is applied, the liquid crystal molecules are parallel to the substrate and are twisted in a spiral with a constant pitch to form a liquid crystal molecule. The direction of the long axis changes into a twisting structure that changes continuously.
액정은 분자의 장축 방향과 단축 방향으로의 굴절률이 서로 다른 복굴절성을 갖는데, 이 복굴절성에 의해 액정 표시 장치를 보는 위치에 따라 빛이 느끼는 굴절률이 차이가 생기므로 선편광된 빛이 액정을 통과하면서 편광 상태가 바뀌는 비율에 차이가 생겨 정면에서 벗어난 위치에서 볼 때의 빛의 양과 색특성이 정면에서 볼 경우와는 달라진다. VATN 액정 표시 장치의 경우 전압이 인가된 상태에서 시야각에 대해서 큰 광학 특성의 변화가 발생하며, 이에 따라 시야각에 따른 대비비(contrast ratio)의 변화, 색상 전이(color shift), 계조 반전(gray inversion) 등의 현상이 발생한다. Liquid crystals have birefringence with different refractive indices in the long axis and short axis of the molecule. The birefringence causes a difference in the refractive index of light depending on the position at which the liquid crystal display device is viewed. There is a difference in the rate of change of state, so the amount of light and color characteristics when viewed from a position away from the front are different from those seen from the front. In the case of the VATN liquid crystal display, a large change in optical characteristics occurs with respect to the viewing angle when a voltage is applied. Accordingly, a change in contrast ratio, color shift, and gray inversion according to the viewing angle is caused. ) Occurs.
이러한 문제를 해결하기 위해 화소를 이분할하거나 화소 단위별 러빙을 하여 시야각을 향상시키는 방법이 사용되지만, 1번의 러빙 공정이 추가되는 등 공정이 복잡해지는 문제점이 있다.In order to solve this problem, a method of improving the viewing angle by dividing pixels or rubbing pixel by pixel is used, but there is a problem in that the process is complicated, such as adding one rubbing process.
본 발명의 과제는 단순한 공정으로 수직 배향 액정 표시 장치의 시야각을 넓히는 것이다. An object of the present invention is to widen the viewing angle of a vertically aligned liquid crystal display in a simple process.
위와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명에서는 수직 배향 액정 표시 장치의 기판에 유기 절연막으로 이루어진 돌기를 형성한다. In order to solve the above problems, in the present invention, protrusions formed of an organic insulating layer are formed on a substrate of the vertically aligned liquid crystal display.
구체적으로, 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 기판 위에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계, 박막 트랜지스터를 덮는 유기 절연막을 도포하는 단계, 유기 절연막에 접촉구를 형성하기 위한 제1 마스크를 사용하여 1차 노광하는 단계, 유기 절연막에 돌기를 형성하기 위한 제2 마스크를 사용하여 2차 노광하는 단계, 유기 절연막을 패터닝하는 단계, 유기 절연막 위에 화소 전극을 형성하는 단계를 포함한다.Specifically, the method of manufacturing a liquid crystal display according to the present invention includes forming a thin film transistor on a substrate, applying an organic insulating film covering the thin film transistor, and using a first mask for forming a contact hole in the organic insulating film. Differential exposure, second exposure using a second mask for forming projections on the organic insulating film, patterning the organic insulating film, and forming a pixel electrode on the organic insulating film.
1차 노광 단계 이전에 유기 절연막 위에 포토레지스트를 도포하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include applying a photoresist on the organic insulating layer before the first exposure step.
포토레지스트는 양성(positive)이며, 1차 노광 단계에서의 노광 에너지가 2차 노광 단계에서의 노광 에너지보다 클 수 있다.The photoresist is positive and the exposure energy in the primary exposure step may be greater than the exposure energy in the secondary exposure step.
포토레지스트는 음성(negative)이며, 1차 노광 단계에서의 노광 에너지가 2차 노광 단계에서의 노광 에너지보다 작을 수 있다.The photoresist is negative and the exposure energy in the primary exposure step may be less than the exposure energy in the secondary exposure step.
유기 절연막은 사진 공정이 가능한 재료로 이루어질 수 있다.The organic insulating layer may be made of a material capable of a photographic process.
유기 절연막은 양성(positive)이며, 1차 노광 단계에서의 노광 에너지가 2차 노광 단계에서의 노광 에너지보다 클 수 있다.The organic insulating film is positive, and the exposure energy in the first exposure step may be greater than the exposure energy in the second exposure step.
유기 절연막은 음성(negative)이며, 1차 노광 단계에서의 노광 에너지가 2차 노광 단계에서의 노광 에너지보다 작을 수 있다.The organic insulating layer is negative, and the exposure energy in the first exposure step may be less than the exposure energy in the second exposure step.
상기한 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정 표시 장치는 제1 기판, 제1 기판 위에 형성되어 있는 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터를 덮는 유기 절연막, 유기 절연막 위에 형성되어 있으며 박막 트랜지스터와 연결되어 있는 화소 전극, 제1 기판과 마주보는 제2 기판, 제1 기판과 제2 기판 사이에 수직 배향되어 있는 액정층을 포함하고, 유기 절연막의 표면에 형성되어 있는 돌기를 더 포함한다.In accordance with another aspect of the present invention, a liquid crystal display device includes a first substrate, a thin film transistor formed on the first substrate, an organic insulating film covering the thin film transistor, an organic insulating film formed on the organic insulating film, and connected to the thin film transistor. And a pixel electrode, a second substrate facing the first substrate, a liquid crystal layer oriented vertically between the first substrate and the second substrate, and further comprising protrusions formed on the surface of the organic insulating film.
유기 절연막은 사진 공정이 가능한 재료로 이루어질 수 있다.The organic insulating layer may be made of a material capable of a photographic process.
제2 기판 위에 형성되어 있으며 돌기를 포함하는 유기 절연막을 더 포함할 수 있다.It may further include an organic insulating layer formed on the second substrate and including the projections.
제1 기판의 돌기와 제2 기판의 돌기는 교대로 배치되어 있을수 있다.The protrusions of the first substrate and the protrusions of the second substrate may be alternately arranged.
이처럼 유기 절연막 돌기는 평탄화된 보호막으로 이용되는 유기 절연막을 이용하여 노광 공정을 두 번 실시하여 형성할 수 있는데, 먼저 보호막에 접촉구를 형성하기 위한 1차 노광을 하고 두번째로 돌기를 형성하기 위한 2차 노광을 한다. 이 때, 양성(positive) 포토레지스트를 사용하는 경우에는 보호막에 접촉구를 형성하기 위한 1차 노광 공정에서의 노광 에너지보다 유기 절연막 돌기를 형성하기 위한 2차 노광 공정의 노광 에너지가 작아야 하고, 음성(negative) 포토레지스트를 사용하는 경우는 이와 반대로 된다. As described above, the organic insulating film protrusion may be formed by performing an exposure process twice using an organic insulating film used as a planarized protective film. First, a first exposure for forming a contact hole in the protective film is performed, and a second process for forming a protrusion is performed. Differential exposure is performed. At this time, in the case of using a positive photoresist, the exposure energy of the secondary exposure process for forming the organic insulating film protrusion must be smaller than the exposure energy in the primary exposure process for forming the contact hole in the protective film, and the negative The opposite is true when using a negative photoresist.
이와 같이, 두 번의 노광 공정을 거쳐 보호막과 유기 절연막 돌기를 형성하는 경우 공정을 단순화할 수 있다. As such, when the protective film and the organic insulating film protrusion are formed through two exposure processes, the process may be simplified.
유기 절연막 돌기는 박막 트랜지스터 기판, 컬러 필터 기판 중 하나에 형성할 수 있으며, 두 기판 모두에 형성할 수도 있다. The organic insulating layer protrusion may be formed on one of the thin film transistor substrate and the color filter substrate, or may be formed on both substrates.
유기 절연막 돌기를 수직 배향 액정 표시 장치의 기판에 형성하는 경우 유기 절연막 돌기의 중심선을 기준으로 양쪽의 액정 분자의 배열 방향이 반대로 되어 유기 절연막 돌기의 중심선을 기준으로 배향이 다른 영역을 얻을 수 있고, 이 두 영역의 광학적 특성이 서로 보상되어 액정 표시 장치의 시야각이 넓어진다. When the organic insulating film projections are formed on the substrate of the vertically aligned liquid crystal display device, the alignment directions of the liquid crystal molecules on both sides of the organic insulating film projections are reversed, so that regions having different orientations can be obtained based on the center lines of the organic insulating film projections. The optical characteristics of these two regions are compensated for each other to widen the viewing angle of the liquid crystal display.
이제 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다. Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치의 단면이 도 1에 나타나 있다. 본 발명의 제1 실시예에서는 액정 표시 장치의 아래쪽 기판인 박막 트랜지스터 기판에 유기 절연막 돌기를 형성한다. A cross section of a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention is shown in FIG. 1. In the first embodiment of the present invention, an organic insulating film protrusion is formed on the thin film transistor substrate, which is a lower substrate of the liquid crystal display.
도 1에 나타난 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치는 박막 트랜지스터(11)와 화소 전극(15)이 형성되어 있는 하판(10)과 컬러 필터(26)와 블랙 매트릭스(27), 공통 전극(28)이 형성되어 있는 상판(20) 및 두 기판(10, 20) 사이에 주입되어 있는 수직 배향 액정 물질(30)로 이루어진다. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention includes a lower plate 10, a color filter 26, a black matrix 27, on which the thin film transistor 11 and the pixel electrode 15 are formed. A top plate 20 having a common electrode 28 formed thereon and a vertically aligned liquid crystal material 30 injected between two substrates 10 and 20.
하판(10) 위에는 게이트 전극(111)이 형성되어 있고, 게이트 전극(111) 위에는 게이트 절연막(13)이 형성되어 있다. 게이트 전극(111) 위의 게이트 절연막(13) 위에는 박막 트랜지스터(11)의 활성층인 비정질 규소층(112)이 형성되어 있고, 그 위에 양쪽으로 소스 및 드레인 전극(113, 114)이 형성되어 있다. 소스 전극(113)과 드레인 전극(114)이 형성되어 있는 기판 위에 유기 절연 재료로 이루어져 있고 평탄화된 보호막(14)이 덮여 있다. 이 보호막(14)에는 상판(20)의 컬러 필터(26)가 형성된 영역에 대응하는 화소 영역에 돌기(16)가 형성되어 있다. 보호막(14)에는 드레인 전극(114)을 노출시키는 접촉구가 형성되어 있으며, 이 접촉구를 통해 드레인 전극(114)과 접촉되는 ITO 화소 전극(15)이 보호막(14) 위에 형성되어 있다. 화소 전극(15)은 보호막(14)에 형성되어 있는 돌기(16)의 모양을 따라 동일한 돌기 모양을 갖도록 형성된다.The gate electrode 111 is formed on the lower plate 10, and the gate insulating layer 13 is formed on the gate electrode 111. An amorphous silicon layer 112, which is an active layer of the thin film transistor 11, is formed on the gate insulating layer 13 on the gate electrode 111, and source and drain electrodes 113 and 114 are formed on both sides thereof. The planarized protective film 14 is formed of an organic insulating material on the substrate on which the source electrode 113 and the drain electrode 114 are formed. The protective film 14 is provided with protrusions 16 in the pixel region corresponding to the region where the color filter 26 of the upper plate 20 is formed. A contact hole for exposing the drain electrode 114 is formed in the passivation layer 14, and an ITO pixel electrode 15 contacting the drain electrode 114 through the contact hole is formed on the passivation layer 14. The pixel electrode 15 is formed to have the same protrusion shape along the shape of the protrusion 16 formed on the protective film 14.
상판(20)에는 블랙 매트릭스(27)와 컬러 필터(26)가 형성되어 있고, 그 위에 ITO로 이루어진 공통 전극(25)이 형성되어 있다. The black plate 27 and the color filter 26 are formed in the upper plate 20, and the common electrode 25 which consists of ITO is formed on it.
이와 같이 유기 절연막(14)을 이용하여 돌기(16)를 형성하고 그 위에 화소 전극(15)을 형성하면, 돌기(16)의 중심선 양쪽으로 액정 분자가 배열되는 방향이 반대가 되어 다중 영역 액정 표시 장치를 구현할 수 있다. 따라서 여러 각도에서 액정 표시 장치를 보더라도 빛의 지연(retardation)값이 거의 동일하게 되어 시야각이 넓어진다. As such, when the protrusions 16 are formed using the organic insulating layer 14 and the pixel electrodes 15 are formed thereon, the direction in which the liquid crystal molecules are arranged on both sides of the center line of the protrusions 16 is reversed, so that the multi-domain liquid crystal display is formed. The device can be implemented. Therefore, even when the liquid crystal display is viewed from various angles, the retardation value of the light becomes almost the same, thereby widening the viewing angle.
이제, 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치를 제조하는 방법을 설명한다. 도 2 내지 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법을 나타낸 단면도이다. Now, a method of manufacturing the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention will be described. 2 to 6 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a thin film transistor substrate according to an exemplary embodiment of the present invention.
먼저, 도 2에 나타난 바와 같이, 투명한 절연 기판(10) 위에 금속을 증착하고 패터닝하여 게이트 전극(111)을 형성하고 그 위에 질화 규소 등으로 이루어진 게이트 절연막(13)을 증착한다. 게이트 절연막(13) 위에 비정질 규소층(112)을 증착하고 패터닝하여 박막 트랜지스터의 채널층을 형성하고, 금속을 증착하고 패터닝하여 비정질 규소층(112) 위에 양쪽으로 소스 전극(113)과 드레인 전극(114)을 형성한다. 다음, 소스 및 드레인 전극(113, 114) 위에 유동성 유기 절연 재료를 코팅하여 평탄화된 보호막(14)을 형성한다. 유기 절연막의 두께는 보호막으로 사용되는 경우에 요구되는 두께에 유기 절연막 돌기를 형성하기 위한 만큼을 보탠 두께로 형성한다. 이 때 사용되는 유기 절연막은 사진 공정이 가능한 재료를 쓸 수도 있고, 그렇지 않을 수도 있다. 예를 들면 아크릴 오버코트(일본 JSR 사, 모델 번호 PC303) 등을 쓸 수 있다. First, as shown in FIG. 2, the gate electrode 111 is formed by depositing and patterning a metal on the transparent insulating substrate 10 and depositing a gate insulating layer 13 made of silicon nitride or the like thereon. The amorphous silicon layer 112 is deposited and patterned on the gate insulating layer 13 to form a channel layer of the thin film transistor, and the metal is deposited and patterned to form a source electrode 113 and a drain electrode on both sides of the amorphous silicon layer 112. 114). Next, a flowable organic insulating material is coated on the source and drain electrodes 113 and 114 to form a planarized protective film 14. The thickness of the organic insulating film is formed at a thickness that is sufficient for forming the organic insulating film projections at the thickness required when used as the protective film. The organic insulating film used at this time may or may not use a material capable of performing a photographic process. For example, an acrylic overcoat (Japan JSR, model number PC303) etc. can be used.
사진 공정이 가능하지 않은 유기 재료로 유기 절연막(14)을 형성한 경우라면, 도 2에 나타난 바와 같이, 유기 절연막(14) 위에 포토레지스트(40)를 한 층 도포한다.In the case where the organic insulating film 14 is formed of an organic material which is not capable of a photographic process, as shown in FIG. 2, a layer of photoresist 40 is applied onto the organic insulating film 14.
다음, 도 3에 나타난 바와 같이, 드레인 전극(114)을 드러내는 접촉구를 형성하기 위한 마스크(51)를 사용하여 1차 노광하고, 도 4에 나타난 바와 같이, 화소 영역에 유기 절연막 돌기(16)를 형성하기 위한 마스크(52)를 사용하여 2차 노광하고 패터닝하면, 도 5에 나타난 바와 같은 유기 절연막 패턴(14)이 형성된다. 만일 유기 절연막을 사진 공정이 가능한 재료로 형성하였다면, 포토레지스트를 도포할 필요 없이 바로 노광, 현상할 수 있다. 한편, 이 때 사용된 포토레지스트가 양성(positive) 포토레지스트인 경우는 접촉구를 형성하기 위한 1차 노광에서의 노광 에너지가 돌기를 형성하기 위한 2차 노광에서의 노광 에너지보다 커야 한다. 반대로 음성(negative) 포토레지스트를 사용한 경우라면 1차 노광 에너지가 2차 노광 에너지보다 작아야 한다.Next, as shown in FIG. 3, first exposure is performed using a mask 51 for forming a contact hole exposing the drain electrode 114, and as shown in FIG. 4, the organic insulating film protrusions 16 are formed in the pixel region. After the second exposure and patterning using a mask 52 for forming a film, an organic insulating film pattern 14 as shown in FIG. 5 is formed. If the organic insulating film is formed of a material capable of photographic processing, it can be directly exposed and developed without applying a photoresist. On the other hand, when the photoresist used at this time is a positive photoresist, the exposure energy in the primary exposure for forming the contact hole must be greater than the exposure energy in the secondary exposure for forming the projection. In contrast, in the case of using a negative photoresist, the primary exposure energy should be smaller than the secondary exposure energy.
마지막으로 도 6에 나타난 바와 같이, 돌기(16)가 형성된 유기 절연막(14) 위에 ITO 등의 투명 도전 물질을 증착하고 패터닝하여 보호막(14)에 형성되어 있는 접촉구를 통하여 드레인 전극(114)과 전기적으로 연결되는 화소 전극(15)을 형성하면 박막 트랜지스터 기판이 완성된다. 화소 전극(15)은 그 아래에 형성되어 있는 유기 절연막 돌기(16)와 동일한 돌기 패턴을 갖는 형태로 형성된다.Finally, as shown in FIG. 6, a transparent conductive material such as ITO is deposited and patterned on the organic insulating layer 14 on which the protrusions 16 are formed, and the drain electrode 114 is formed through a contact hole formed in the protective layer 14. When the pixel electrode 15 is electrically connected, the thin film transistor substrate is completed. The pixel electrode 15 is formed in a form having the same protrusion pattern as the organic insulating film protrusion 16 formed thereunder.
이와 같이 형성한 박막 트랜지스터 기판을 블랙 매트릭스, 컬러 필터, 공통 전극이 형성된 컬러 필터 기판과 결합하고, 두 기판 사이에 액정 물질을 주입하면 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치 기판을 제조할 수 있다.The thin film transistor substrate formed as described above is combined with a color filter substrate having a black matrix, a color filter, and a common electrode, and a liquid crystal material is injected between the two substrates to manufacture the liquid crystal display substrate according to the first embodiment of the present invention. Can be.
본 발명의 제1 실시예에서는 유기 절연막 돌기를 톱니 모양으로 형성하여 돌기의 중심선 양쪽의 액정 분자의 배열 방향이 반대로 되도록 하였지만, 이밖에도 여러 가지 다른 모양으로 돌기를 형성할 수 있다. 예를 들어 사각뿔 모양의 돌기를 형성하여 액정 분자의 배열 방향이 서로 다른 네 개의 영역으로 분할할 수도 있고, 반구형의 돌기를 형성한다면 원통 대칭의 액정 분자 배열을 얻을 수 있다. In the first embodiment of the present invention, the organic insulating film protrusions are sawtooth-shaped so that the alignment direction of the liquid crystal molecules on both sides of the center line of the protrusions is reversed. However, the protrusions may be formed in various other shapes. For example, a quadrangular pyramid-shaped protrusion may be formed and divided into four regions having different alignment directions of the liquid crystal molecules. If the hemispherical protrusion is formed, a cylindrical symmetrical arrangement of liquid crystal molecules may be obtained.
한편, 본 발명의 제1 실시예에서는 하판인 박막 트랜지스터 기판에 유기 절연막 돌기를 형성하였지만, 이와 반대로 컬러 필터 기판에 유기 절연막 돌기를 형성할 수도 있고, 두 기판 모두에 형성할 수도 있다. On the other hand, in the first embodiment of the present invention, the organic insulating film protrusions are formed on the thin film transistor substrate which is the lower plate, but the organic insulating film protrusions may be formed on the color filter substrate, or may be formed on both substrates.
본 발명의 제2 실시예에서는 유기 절연막 돌기를 두 기판 모두에 형성하는 방법을 제시한다. 도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이다. In a second embodiment of the present invention, a method of forming an organic insulating film protrusion on both substrates is provided. 7 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to a second exemplary embodiment of the present invention.
상판인 컬러 필터 기판의 구조를 살펴보면, 투명한 절연 기판(20) 위에 블랙 매트릭스(27)와 컬러 필터(26)가 형성되어 있다. 본 발명의 제1 실시예에서와는 달리 컬러 필터(26) 위에도 유기 절연막으로 이루어진 돌기(29)가 형성되어 있다. 유기 절연막 돌기(29) 위에 ITO 등의 투명 도전 물질로 이루어진 공통 전극(28)이 형성되어 있다. 아래쪽 기판인 박막 트랜지스터 기판의 구조는 제1 실시예와 유사하다. Looking at the structure of the color filter substrate as a top plate, a black matrix 27 and a color filter 26 are formed on the transparent insulating substrate 20. Unlike the first embodiment of the present invention, the protrusion 29 made of the organic insulating film is formed on the color filter 26. A common electrode 28 made of a transparent conductive material such as ITO is formed on the organic insulating film protrusion 29. The structure of the thin film transistor substrate, which is the lower substrate, is similar to that of the first embodiment.
이 때, 아래 기판(10)에 형성된 돌기(16)와 위 기판(20)에 형성된 돌기(29)는 서로 교대로 형성되도록 하여 돌기와 돌기 사이에서 액정 분자가 쓰러지는 방향이 반대가 되는 경우 발생하는 전경(disclination)을 없앨 수 있다.At this time, the projections 16 formed on the lower substrate 10 and the projections 29 formed on the upper substrate 20 are alternately formed so that the foreground generated when the direction in which the liquid crystal molecules fall between the projections and the projections is reversed. (disclination) can be eliminated.
컬러 필터 기판(20)에 유기 절연막 돌기(29)를 형성하는 경우에는 두 번의 노광 과정을 거칠 필요는 없고, 돌기(29)의 높이 정도로 유기 절연막을 코팅한 후 돌기(29)를 형성하기 위한 마스크를 사용하여 노광하고 현상하여 돌기(29)를 형성할 수 있다. 이 때에도 사진 공정이 가능한 유기 절연막을 사용하면 공정을 단순화할 수 있다. When forming the organic insulating film projections 29 on the color filter substrate 20, there is no need to go through two exposure processes, and the mask for forming the projections 29 after coating the organic insulating film to the height of the projections 29. The exposure and development can be performed using to form the projections 29. In this case, an organic insulating film capable of a photographic process can be used to simplify the process.
본 발명의 실시예에서는 음의 유전율 이방성을 갖는 액정 물질과 수직 배향막을 사용하는 VATN 액정 표시 장치의 경우만을 설명하였지만, 양의 유전율 이방성을 갖는 액정 물질을 사용하는 통상의 비틀린 네마틱 액정 표시 장치의 경우도 본 발명의 실시예와 유사한 유기 절연막 돌기를 이용하여 광시야각을 실현할 수 있다.In the embodiment of the present invention, only the case of the VATN liquid crystal display device using the liquid crystal material having the negative dielectric anisotropy and the vertical alignment layer is described. In this case, a wide viewing angle can be realized by using an organic insulating film protrusion similar to the embodiment of the present invention.
이와 같이 액정 표시 장치의 기판에 유기 절연막을 이용하여 단순한 공정으로 돌기를 형성함으로써 액정 분자의 배열 방향을 다양하게 하여 액정 표시 장치의 시야각을 넓힐 수 있다.As described above, by forming protrusions in a simple process using an organic insulating layer on the substrate of the liquid crystal display device, the alignment direction of the liquid crystal molecules can be varied to widen the viewing angle of the liquid crystal display device.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이고, 1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention;
도 2 내지 도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치의 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법을 나타내는 단면도이고,2 to 6 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a thin film transistor substrate of a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 장치의 단면도이다.7 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to a second exemplary embodiment of the present invention.
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