KR100514580B1 - Method for manufacturing polycrystalline solar cell using grain boundary first etching - Google Patents
Method for manufacturing polycrystalline solar cell using grain boundary first etching Download PDFInfo
- Publication number
- KR100514580B1 KR100514580B1 KR10-1998-0047751A KR19980047751A KR100514580B1 KR 100514580 B1 KR100514580 B1 KR 100514580B1 KR 19980047751 A KR19980047751 A KR 19980047751A KR 100514580 B1 KR100514580 B1 KR 100514580B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- forming
- grain boundary
- solar cell
- etching
- crystal grain
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 10
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010893 electron trap Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000002803 fossil fuel Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 244000144972 livestock Species 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000001443 photoexcitation Effects 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Abstract
결정 입자 경계면을 식각하고 식각된 입자 경계면에 직접 전극을 형성하여 생산단가를 낮추면서도 변환 효율이 높은 태양전지를 제조할 수 있도록 하기 위한 결정 입계 우선 식각을 이용한 다결정 태양전지의 제조방법이 제시된다. 본 발명은, 다결정기판내의 결정 입자 경계면의 상부 및 하부를 소정 성분의 화합물 용액에 의해서 일정깊이 이상 식각하는 단계; 내부 전계 형성용 에미터 층을 형성한 후, 후면 전계 형성을 위한 하부 전극을 형성하고, 후면 전계 형성층을 형성시키는 단계; 및 식각된 상기 결정 입자 경계면을 포함한 모든 상부에 투명 전극을 직접 형성하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의한 태양전지는 태양광에 의해 생성된 전자와 정공이 항상 결정 입자 경계면에서 직접 수집되어 생산단가가 낮고 변환 효율이 높다.A method of manufacturing a polycrystalline solar cell using grain boundary first etching to etch a crystal grain boundary surface and form an electrode directly on the etched grain boundary surface to manufacture a solar cell with high conversion efficiency while lowering production cost is provided. The present invention comprises the steps of etching the upper and lower portions of the crystal grain boundary in the polycrystalline substrate by a compound solution of a predetermined component more than a predetermined depth; Forming an emitter layer for forming an internal field, forming a lower electrode for forming a rear field, and forming a rear field forming layer; And directly forming transparent electrodes on all of the etched crystal grain boundaries. In the solar cell according to the present invention, electrons and holes generated by sunlight are always collected directly at the crystal grain boundary, so that production cost is low and conversion efficiency is high.
Description
본 발명은 다결정 태양전지의 제조방법에 관한 것으로 특히, 결정 입자 경계면을 식각하고 식각된 입자 경계면에 직접 전극을 형성하여 생산단가를 낮추면서도 변환 효율이 높은 태양전지를 제조할 수 있도록 하기 위한 결정 입계 우선 식각을 이용한 다결정 태양전지의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a polycrystalline solar cell, and in particular, by crystallizing the grain boundary surface and forming an electrode directly on the etched grain boundary surface to reduce the production cost, but also to produce a solar cell with high conversion efficiency First, the present invention relates to a method of manufacturing a polycrystalline solar cell using etching.
최근 미래 에너지원의 개발필요성이 심각하게 대두됨에 따라 그 대체에너지로서 무한정, 무공해의 태양에너지를 이용하는 기술에 관한 연구가 세계적으로 진행되고 있다. 이러한 태양의 광에너지를 흡수하여 전력을 발생하는 광전효과를 이용하여 태양에너지를 직접 전기에너지로 변환시키는 태양전지는 화석 연료, 원자력, 수력등을 이용한 기존의 발전이 야기하는 공해,에너지원의 제한등이 없으며, 정원의 미등, 교통 경고 표시기, 농수산물 양육 재배용 투약기, 환경정화용 유산소 공급기, 밧데리 충전기, 야외 전원, 어장 공기 공급용 펌프구동등 비교적 작은 제품에서 태양광 발전기,태양광 자동차, 담수 정화 시스템, 군용비상 전원등의 비교적 큰 제품까지 다양하게 응용할 수 있다. 또한, 기존의 전럭을 끌어오기 힘들었던 도서 및 산간지역에 실용가능한 경제성을 가지며, 기존의 디젤방식에 비하여 수명이 길고 기계적 가동부분이 없기 때문에 소음이 없고, 연료수송, 유지보수에 문제점을 해결할 수 있어서 그 보급이 확대되고 있다.Recently, as the need for the development of future energy sources is serious, researches on technologies that use solar energy of indefinite and pollution-free as its alternative energy are being conducted worldwide. The solar cell that converts solar energy directly into electrical energy by using the photoelectric effect that absorbs the light energy of the sun and generates electric power has limited pollution and energy sources caused by the existing power generation using fossil fuel, nuclear power, hydropower, etc. Backlights in gardens, traffic warning indicators, agricultural and livestock raising dosers, environmental aerobic feeders, battery chargers, outdoor power sources, pump driving for fisheries air supply, etc. It can be applied to a relatively large product such as military emergency power. In addition, it has practical economic feasibility in islands and mountainous regions where it was difficult to draw existing vehicles, and it has no noise and has no mechanical moving parts compared to the existing diesel system, so there is no noise, and fuel transportation and maintenance can be solved. Its spread is expanding.
이러한, 태양전지는 단결정 실리콘을 소재로한 것, 화합물 반도체를 소재로한 것 그리고 다결정 실리콘을 소재로한 것이 널리 알려져 있다. 단결정 실리콘의 태양전지는 현재 최고 24%의 변환효율을 보이고 있지만 전지 제작 면적이 제한되며, 실리콘 웨이퍼(silicon wafer)가 원형으로 성장되기 때문에 태양전지 제작시 Kerf 손실이 있으며 생산단가가 다결정보다 비싸다. 다결정 태양전지는 단결정보다 전기적 특성은 나쁘지만 가격이 싸고 대면적으로 성장이 가능하므로 저가의 태양전지를 제작할 수 있다. Such solar cells are widely known as being made of monocrystalline silicon, made of compound semiconductors, and made of polycrystalline silicon. Single crystal silicon solar cells currently show up to 24% conversion efficiency, but the cell manufacturing area is limited and silicon wafers are grown in a circular form, resulting in Kerf loss in solar cell manufacturing and higher production cost than polycrystalline. Polycrystalline solar cells have lower electrical characteristics than single crystals, but they can be manufactured at low cost because they are inexpensive and can grow large.
이와 같은 다결정 태양전지 연구는 크게 세 가지 분야로 나누어진다. 첫째로는 저가의 기판(예를 들면 유리)위에 다결정 실리콘 박막 태양전지를 제조하는 것이고, 둘째는 박막으로 성장된 아몰퍼스 실리콘(a-Si)을 다결정화 하여 태양전지를 제조하는 것이며, 셋째는 다결정 웨이퍼를 이용하여 p-n접합 태양전지를 제조하는 것이다. 다결정 태양전지는 단결정 태양전지의 고가격과 아몰퍼스 실리콘(a-Si) 태양전지의 낮은 변환효율을 대체할 수 있다.Such polycrystalline solar cell research is largely divided into three fields. First, a polycrystalline silicon thin film solar cell is manufactured on a low-cost substrate (for example, glass). Second, a solar cell is manufactured by polycrystallizing amorphous silicon (a-Si) grown as a thin film. A pn junction solar cell is manufactured using a wafer. Polycrystalline solar cells can replace the high cost of single crystal solar cells and the low conversion efficiency of amorphous silicon (a-Si) solar cells.
도 1은 종래의 다결정 실리콘 태양전지를 도시하였다. 도 1에서 보는 바와 같이 광흡수에 의해서 생성된 전자 또는 정공쌍(10)은 내부 p-n접합 전계에 의하여 분리되고 공핍층(30)을 지나 외부 전극(20a,20b)로 수집된다. 이때 기존의 태양전지는 생성된 반송자가 여러개의 결정 입자 경계면(40a, 40b)을 통과하여 상부전극(20a)에 수집되어 부하에 전력을 공급하게 된다.1 illustrates a conventional polycrystalline silicon solar cell. As shown in FIG. 1, the electron or hole pair 10 generated by light absorption is separated by an internal p-n junction electric field and collected through the depletion layer 30 to the external electrodes 20a and 20b. At this time, in the conventional solar cell, the generated carrier passes through the plurality of crystal grain boundaries 40a and 40b and is collected by the upper electrode 20a to supply power to the load.
그러나, 이러한 다결정 실리콘 태양전지는 광여기에 의해 생성된 반송자가 결정 입자 경계면(40a, 40b)을 통과하여 상부전극(20a)에 수집되어 부하에 전력을 공급하였다. 다결정 입자 경계면은 전위장벽을 형성하여 반송자의 흐름에 장벽을 주거나 경계면 내에 존재하는 트랩 때문에 빛에 의해 생성된 반송자는 결정 입자 경계면에서 재 결합 하게 된다. 이런 재결합은 다결정 태양전지의 소수 반송자 수명시간을 단축하고 변환효율을 떨어 뜨리게 된다.However, in such a polycrystalline silicon solar cell, carriers generated by photoexcitation pass through the crystal grain boundaries 40a and 40b and are collected by the upper electrode 20a to supply power to the load. The polycrystalline grain boundary forms a dislocation barrier, which blocks the carrier flow or the carriers generated by the light recombine at the grain boundary due to traps present in the boundary. This recombination shortens the minority carrier lifetime of the polycrystalline solar cell and decreases the conversion efficiency.
이러한 현상을 방지하기 위하여 기존 다결정 실리콘을 사용한 태양전지의 상부 전극의 형태는 다양한 모양의 그리드(grid)를 형성하거나 기판 상부에 일정한 간격의 홈을 파서 그 안에 전극을 형성하는 방법이 있었으나, 전위 장벽이나 재결합 센터로 작용하는 결정입계의 영향을 줄이지 못해 태양전지의 효율 향상을 저해하는 문제점이 있다.In order to prevent such a phenomenon, the upper electrode of the conventional solar cell using polycrystalline silicon has a method of forming grids of various shapes or digging grooves at regular intervals on the substrate to form electrodes therein. However, there is a problem in that it does not reduce the influence of the grain boundary acting as the recombination center, which hinders the efficiency improvement of the solar cell.
상기와 같은 문제점을 해소하기 위하여 창안된 본 발명의 목적은, 결정입자 경계면을 깊게 식각하고 식각된 결정입자 경계면을 따라 투명 전극을 형성하여 태양광에 의해 생성된 전자와 정공이 항상 결정 입자 경계면에서 직접 수집되도록 함으로서 생산단가를 낮고 변환 효율이 높은 결정 입계 우선 식각을 이용한 다결정 태양전지의 제조방법을 제공한다.An object of the present invention, which was devised to solve the above problems, deeply etches the crystal grain boundary and forms a transparent electrode along the etched crystal grain boundary so that electrons and holes generated by sunlight are always at the crystal grain boundary. The present invention provides a method of manufacturing a polycrystalline solar cell using grain boundary first etching with low production cost and high conversion efficiency by allowing direct collection.
이와 같은 목적을 수행하기 위한 본 발명은,The present invention for performing such an object,
다결정기판내의 결정 입자 경계면의 상부 및 하부를 소정 성분의 화합물 용액에 의해서 10㎛ 이상 ~ 30㎛ 이하의 깊이로 식각하는 단계; Etching the upper and lower portions of the crystal grain boundary in the polycrystalline substrate to a depth of 10 µm or more and 30 µm or less with a compound solution of a predetermined component;
내부 전계 형성용 에미터 층을 형성한 후, 후면 전계 형성을 위한 하부 전극을 형성하고, 후면 전계 형성층을 형성시키는 단계; 및 Forming an emitter layer for forming an internal field, forming a lower electrode for forming a rear field, and forming a rear field forming layer; And
식각된 상기 결정 입자 경계면을 포함한 모든 상부에 투명 전극을 직접 형성하는 단계를 포함한다.And directly forming transparent electrodes on all of the etched crystal grain boundaries.
본 발명에 의한 태양전지는 태양광에 의해 생성된 전자와 정공이 항상 결정 입자 경계면에서 직접 수집되어 생산단가를 낮고 변환 효율이 높다.In the solar cell according to the present invention, electrons and holes generated by sunlight are always collected directly at the crystal grain boundary, so that the production cost is low and the conversion efficiency is high.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
첨부된 도 2는 본 발명에 따른 결정 입계 우선 식각을 이용한 다결정 태양전지의 구성을 보여주기 위한 단면도를 도시한다.2 is a cross-sectional view illustrating the configuration of a polycrystalline solar cell using grain boundary-first etching according to the present invention.
본 발명에 따른 태양전지는 도 2에서 보는 바와 같이, 베이스 물질인 다결정기판(100)내의 결정 입자 경계면(102)을 불화수소(HF)와 산화 크롬(CrO3)를 적당량 혼합한 용액에 의해서 약 10㎛ 이상 ~ 30㎛ 이하의 깊이로 깊게 식각한다. 다음 내부 전계 형성용 에미터 층(103)을 형성한 후, 후면 전계 형성을 위한 하부 전극(106)을 형성한다. 다음 열처리를 이용하여 후면 전계 형성층(105)을 형성시킨다. 후에 식각된 결정 입자 경계면을 포함한 모든 상부에 투명 전극(104)을 직접 형성한다. 따라서, 광에 의해 생성된 전자 또는 정공(101)이 결정 경계면을 통과하지 않고 항상 경계면에서 직접 수집된다. 본 태양전지를 대면적화 할 경우에는 직력 저항 성분을 줄이기 위해 그리드 전극(107)이 필요하다. 경계면을 통한 식각 용액은 결정입자 경계면을 빨리 깊게 식각 하며 또한 표면에 피라미드 구조물을 형성하여 빛 수집 효과를 나타낸다. In the solar cell according to the present invention, as shown in FIG. Deeply etch to a depth of greater than or equal to 30 µm. Next, after forming the emitter layer 103 for forming the internal electric field, the lower electrode 106 for forming the backside electric field is formed. Next, the backside field forming layer 105 is formed using a heat treatment. Later, the transparent electrode 104 is directly formed on all of the top surfaces including the etched crystal grain boundary. Thus, electrons or holes 101 generated by light are always collected directly at the interface without passing through the crystal boundary. When the solar cell has a large area, a grid electrode 107 is required to reduce the linear resistance component. The etching solution through the interface etches the grain boundary quickly and deeply, and also forms a pyramid structure on the surface to show the light collection effect.
다결정 입자 경계면은 전위장벽을 성성하여 반송자의 흐름에 장벽을 주거나 경계면 내에 존재하는 트랩 때문에 빛에 의해 생성된 반송자가 결정입자 경계면에서 재결합하게 되고, 전위 장벽 또는 재결합 중심으로 작용하는 결정입자 경계면을 통과하여 상부전극에 수집되어 부하에 전력을 공급하였다. 이런 재결합은 다결정 태양전지의 소수 반송자 수명시간을 단축하고 변환효율을 떨어뜨리는 약영향을 준다.The polycrystalline grain boundary forms a dislocation barrier to barrier carrier flow or the light generated carriers recombine at the grain boundary due to traps present in the boundary and pass through the grain boundary acting as a dislocation barrier or recombination center. Collected at the upper electrode to supply power to the load. This recombination has a weak effect on shortening the carrier life time of polycrystalline solar cells and reducing the conversion efficiency.
본 발명에 따른 태양전지는 10㎛ 이상 깊게 식각된 입자 경계면에 직접 전극이 형성되기 때문에 경계면에서의 약영향을 제거할 수 있다. 광에 의해 생성된 전자와 정공은 결정 경계면을 통과하지 않고 항상 경계면에서 직접 수집된다. 경계면의 상부에서 높은 도너 불순물 주입을 하여 여분의 전자들이 존재하고 공핍층을 지나온 전자들은 전자 트랩이 부재하므로 소수 반송자 수명시간이 길어지는 효과를 보인다. 경계면을 따라 행해진 식각은 또한 다결정 실리콘 표면에 light trapping 효과를 나타내어 실제 광 통과 길이를 증가시킬 수 있는 표면 texturing효과를 병행한다. 상 하부의 투명 전도막 전극 증착은 sputtering법,evaporation법,CVD법 등 다양한 방법으로 증착가능하다.In the solar cell according to the present invention, since the direct electrode is formed on the grain boundary surface deeply etched by 10 μm or more, the weak influence on the boundary surface can be eliminated. The electrons and holes generated by the light are always collected directly at the interface without passing through the crystal interface. The high donor impurity implantation at the top of the interface provides extra electrons and electrons passing through the depletion layer have no electron trap, which results in a long lifetime of minority carriers. Etching along the interface also exhibits a light trapping effect on the polycrystalline silicon surface, with a surface texturing effect that can increase the actual light path length. Transparent conductive film electrode deposition on the upper and lower sides can be deposited by various methods such as sputtering, evaporation, and CVD.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 결정 입계 우선 식각을 이용한 태양전지는 깊게 식각된 입자 경계면에 직접 전극이 형성되기 때문에 경계면에서의 약영향을 제거함으로서 광에 의해 생성된 전자와 정공은 결정 경계면을 통과하지 않고 항상 경계면에서 직접 수집되어 태양전지의 소수 반송자 수명시간을 증가시키고 변환효율을 증대시키는 효과가 있다.As described above, in the solar cell using the grain boundary preferential etching according to the present invention, since the direct electrode is formed on the deeply etched grain boundary surface, the electrons and holes generated by the light are removed by removing the weak influence at the boundary surface. It is collected directly at the interface at all times without passing through, which increases the lifetime of minority carriers and increases conversion efficiency of solar cells.
이상에서 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니며 본 발명의 기술적 사상의 범위내에서 당업자에 의해 그 개량이나 변형이 가능하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the accompanying drawings, the present invention is not limited thereto and may be improved or modified by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention.
도 1은 종래의 다결정 실리콘 태양전지를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a conventional polycrystalline silicon solar cell.
도 2는 본 발명에 따른 결정 입계 우선 식각을 이용한 다결정 태양전지의 구성을 보여주기 위한 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing the configuration of a polycrystalline solar cell using grain boundary preferential etching according to the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>
100 : 다결정기판 베이스 102 : 결정입자 경계면100: polycrystalline substrate base 102: crystal grain boundary surface
103 : 내부 전계 형성층 104 : 상부 투명 전도막103: internal field forming layer 104: upper transparent conductive film
105 : 후면 전계 형성용 에미터층 106 : 하부전극105: emitter layer for forming the back electric field 106: lower electrode
107 : 상부 그리드 전극107: upper grid electrode
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-1998-0047751A KR100514580B1 (en) | 1998-11-05 | 1998-11-05 | Method for manufacturing polycrystalline solar cell using grain boundary first etching |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-1998-0047751A KR100514580B1 (en) | 1998-11-05 | 1998-11-05 | Method for manufacturing polycrystalline solar cell using grain boundary first etching |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20000031624A KR20000031624A (en) | 2000-06-05 |
| KR100514580B1 true KR100514580B1 (en) | 2005-11-01 |
Family
ID=19557548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR10-1998-0047751A KR100514580B1 (en) | 1998-11-05 | 1998-11-05 | Method for manufacturing polycrystalline solar cell using grain boundary first etching |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100514580B1 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020010005A (en) * | 2000-07-28 | 2002-02-02 | 준 신 이 | Poly-Si solar cell fabrication method by using a self-aligned grain boundary electrode |
| KR100543535B1 (en) * | 2003-05-07 | 2006-01-20 | 준 신 이 | Fabrication method of high efficiency multi-crystalline silicon solar cell with a minimized leakage current |
| KR102011852B1 (en) * | 2012-12-13 | 2019-08-20 | 한국전자통신연구원 | Solar cell and method for forming the same |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR970024323A (en) * | 1995-10-16 | 1997-05-30 | 김광호 | Manufacturing method of self-voltage applied solar cell |
| KR970024324A (en) * | 1995-10-16 | 1997-05-30 | 김광호 | Self-applied solar cell and module adopting solar cell |
| KR19980068248A (en) * | 1997-02-17 | 1998-10-15 | 김광호 | Manufacturing method of back side sintered silicon solar cell |
| KR19980068245A (en) * | 1997-02-17 | 1998-10-15 | 김광호 | Silicon thin film for solar cell and manufacturing method thereof |
-
1998
- 1998-11-05 KR KR10-1998-0047751A patent/KR100514580B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR970024323A (en) * | 1995-10-16 | 1997-05-30 | 김광호 | Manufacturing method of self-voltage applied solar cell |
| KR970024324A (en) * | 1995-10-16 | 1997-05-30 | 김광호 | Self-applied solar cell and module adopting solar cell |
| KR19980068248A (en) * | 1997-02-17 | 1998-10-15 | 김광호 | Manufacturing method of back side sintered silicon solar cell |
| KR19980068245A (en) * | 1997-02-17 | 1998-10-15 | 김광호 | Silicon thin film for solar cell and manufacturing method thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20000031624A (en) | 2000-06-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5503668B2 (en) | Solar battery | |
| KR101000064B1 (en) | Hetero-junction silicon solar cell and fabrication method thereof | |
| EP0548863B1 (en) | Method of fabricating a solar cell and solar cell | |
| US20100078055A1 (en) | Nanostructure and photovoltaic cell implementing same | |
| CN101842909A (en) | Structures of ordered arrays of semiconductors | |
| RU2526894C2 (en) | Solar battery module | |
| CN110707218A (en) | Gallium nitride micron-line array photoelectric detector and preparation method thereof | |
| KR102148427B1 (en) | Photoelectric device and the manufacturing method thereof | |
| US5961742A (en) | Converging solar cell element | |
| JP3269668B2 (en) | Solar cell | |
| KR101073488B1 (en) | Wire type thin film solar cell and preparation method thereof | |
| KR102547804B1 (en) | Bifacial silicon solar cell and method for manufacturing the same | |
| CN113809192A (en) | Trapezoidal gallium nitride microwire array photoelectric detector and preparation method thereof | |
| KR100514580B1 (en) | Method for manufacturing polycrystalline solar cell using grain boundary first etching | |
| CA1083253A (en) | Manufacture of semiconductor ribbon and solar cells | |
| CN102593232A (en) | PN solar cell with transverse structure and manufacturing method for solar cell | |
| CN210866245U (en) | Gallium nitride micron line array photoelectric detector | |
| KR20110060083A (en) | Substrate for solar cell and fabricating method of the same and solar cell module with the same | |
| KR101561427B1 (en) | Photovoltaic cell with transmitter distributed in a substrate, and method for making such cell | |
| CN101807609A (en) | Electrode structure suitable for high concentration cell or thin-film cell | |
| KR20020010005A (en) | Poly-Si solar cell fabrication method by using a self-aligned grain boundary electrode | |
| KR100968879B1 (en) | Solar Cell And Method For Manufacturing The Same | |
| JP2997363B2 (en) | Solar cell element | |
| CN201796899U (en) | Solar cell with single-deep junction and dense-grid line structure | |
| JP2005333016A (en) | Back surface electrode solar cell, and method for manufacturing the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20110907 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120718 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |