KR100511771B1 - Valve and system for supplying wet chemical using the valve - Google Patents
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Abstract
본 발명은 세정설비 또는 식각설비에 약액을 공급하는 약액공급시스템에 관한 것으로, 시스템은 약액 저장부, 약액 공급 라인, 버퍼부, 약액 반송 라인, 그리고 상기 약액 반송 라인의 통로를 개폐하는 밸브를 더 포함하며, 상기 밸브는 하우징, 일방향 또는 타방향으로 이동됨에 따라 상기 하우징 내에서 상기 약액이 흐르는 통로를 개폐하는 차단부, 그 일단이 상기 차단부와 결합되어 소정의 압축력에 의해 상기 차단부를 가압하는 탄성체, 상기 탄성체의 압축력을 조절하는 조절부를 구비한다.The present invention relates to a chemical liquid supply system for supplying a chemical liquid to a cleaning or etching facility, the system further comprises a chemical storage unit, chemical liquid supply line, buffer unit, chemical liquid conveying line, and a valve for opening and closing the passage of the chemical liquid conveying line. The valve includes a blocking portion for opening and closing a passage through which the chemical liquid flows in the housing as the housing moves in one direction or the other direction, and one end thereof is coupled with the blocking portion to press the blocking portion by a predetermined compression force. An elastic body, and an adjusting unit for adjusting the compressive force of the elastic body.
상술한 구조를 가지는 본발명에 의하면, 차단부를 상승시킬 수 있는 약액의 압력(설정압력)의 크기를 용이하게 조절할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention having the above-described structure, there is an effect that can easily adjust the magnitude of the pressure (setting pressure) of the chemical liquid that can raise the blocking portion.
Description
본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 식각설비 및 세정설비에 약액을 공급하는 약액 공급 시스템과 이에 사용되는 릴리프 밸브에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly, to a chemical liquid supply system for supplying a chemical liquid to an etching facility and a cleaning facility, and a relief valve used therein.
하나의 반도체 장치를 제조하기 위하여는 포토공정, 식각공정, 확산공정, 증착공정 및 금속공정, 그리고 세정공정 등을 수행하면서 적절한 전기적 특성들을 갖는 소자들을 웨이퍼 상에 형성하고, 이렇게 처리된 웨이퍼를 조립공정에 따라 다이싱하고, 팩케이징하는 등의 여러 공정들을 거치게 된다. In order to manufacture a semiconductor device, devices having appropriate electrical characteristics are formed on a wafer by performing a photo process, an etching process, a diffusion process, a deposition process, a metal process, and a cleaning process, and then the processed wafer is assembled. Depending on the process, the process goes through several processes such as dicing and packaging.
이들 중 증착공정 및 금속공정은 실리콘산화막, 실리콘질화막 또는 금속 등과 같이 웨이퍼의 전면에 박막을 형성되는 공정들이며, 식각공정은 상기 증착공정 및 금속공정에서 증착된 원하지 않는 부위의 박막들을 선택적으로 제거해 내는 공정이다. 식각 공정에 사용되는 약액은 약액 공급 시스템을 통해 식각공정이 수행되는 챔버나 배쓰로 공급된다. Among these, the deposition process and the metal process are processes for forming a thin film on the front surface of the wafer, such as a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a metal, and the etching process selectively removes undesired thin films deposited in the deposition process and the metal process. It is a process. The chemical liquid used in the etching process is supplied to the chamber or bath through which the etching process is performed through the chemical liquid supply system.
일반적인 약액 공급 시스템에 의하면 약액 저장부로부터 버퍼부로 약액이 공급되고, 버퍼부는 복수의 공정장치로 약액을 분배한다. 또한, 버퍼부로 과공급된 약액은 반송라인을 통해 다시 약액 저장부로 흐르게 된다. 반송라인 상에는 공기압에 의해 반송라인의 통로를 개폐하는 릴리프 밸브가 설치된다. 릴리프 밸브는 약액이 흐르는 통로를 개방/차단하기 위해 상하로 이동되는 다이아프램을 가진다. 다이아프램의 이동은 공기의 압력에 의해 이루어지며, 공기의 제공은 PLC(programmable logic controller)와 같은 제어부의 신호에 의해 온/오프(on/off)되는 솔레노이드 밸브에 의해 이루어진다. 그러나 솔레노이드 밸브로의 신호전송에러등의 이유로 다이아프램이 상승되지 않아 약액이 흐르는 통로를 계속 차단하는 경우, 약액의 압력이 계속 상승되며 이로 인해 시스템이 파손되는 문제가 있다.According to a general chemical liquid supply system, the chemical liquid is supplied from the chemical liquid storage unit to the buffer unit, and the buffer unit distributes the chemical liquid to the plurality of processing apparatuses. In addition, the chemical liquid over-supplied to the buffer portion flows back to the chemical liquid storage portion through the conveying line. On the conveying line, a relief valve for opening and closing the passage of the conveying line by air pressure is provided. The relief valve has a diaphragm that is moved up and down to open / block a passage through which chemical liquid flows. The diaphragm is moved by the pressure of air, and the air is provided by a solenoid valve that is turned on / off by a signal from a controller such as a programmable logic controller (PLC). However, if the diaphragm does not rise due to a signal transmission error to the solenoid valve, and thus continuously blocks the passage of the chemical liquid, the pressure of the chemical liquid is continuously raised, which causes the system to be damaged.
본 발명은 약액의 유동통로가 차단된 릴리프 밸브 내부를 흐르는 약액의 압력이 소정압력 이상되면 그 유동통로가 개방될 수 있는 릴리프 밸브 및 이를 사용하는 약액 공급 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a relief valve that can open the flow passage when the pressure of the chemical liquid flowing inside the relief valve is blocked the flow passage of the chemical liquid and the chemical liquid supply system using the same.
또한, 본 발명은 상술한 소정압력의 크기를 용이하게 조절할 수 있는 릴리프 밸브 및 약액 공급 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a relief valve and a chemical liquid supply system which can easily adjust the size of the predetermined pressure described above.
상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명인 약액 공급 시스템은 약액이 저장된 약액 저장부, 상기 약액 저장부와 연통된 약액 공급 라인, 상기 약액 공급 라인을 통해 흐르는 상기 약액이 모이는 그리고 상기 약액을 적어도 하나의 식각 장치 또는 세정 장치에 공급하기 위한 버퍼부, 상기 버퍼부에 과수용된 상기 약액이 상기 탱크로 반송되는 통로인 약액 반송 라인, 그리고 상기 약액 반송 라인 상에 설치되며 상기 약액 반송 라인의 통로를 개폐하는 밸브를 포함한다. 상기 밸브는 하우징, 일방향 또는 타방향으로 이동됨에 따라 상기 하우징 내에서 상기 약액이 흐르는 통로를 개폐하는 차단부, 그 일단이 상기 차단부와 결합되어 소정의 압축력에 의해 상기 차단부를 가압하는 탄성체, 상기 탄성체의 압축력을 조절하는 조절부를 구비한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a chemical liquid supply system for storing a chemical liquid storage unit, a chemical liquid supply line in communication with the chemical liquid storage unit, the chemical liquid flowing through the chemical liquid supply line is collected and at least one etching the chemical liquid A buffer unit for supplying a device or a cleaning device, a chemical liquid conveying line which is a passage for conveying the chemical liquid over-watered to the tank, and a valve installed on the chemical liquid conveying line to open and close a passage of the chemical liquid conveying line. It includes. The valve is a block for opening and closing the passage through which the chemical liquid flows in the housing, one direction or the other direction, one end thereof is coupled to the block and the elastic body for pressing the block by a predetermined compression force, the It is provided with a control unit for adjusting the compressive force of the elastic body.
또한, 상기 조절부는 상기 하우징의 내부나사산이 형성된 부분에 삽입되도록 외주면에 나사산이 형성된 회전체, 상기 회전체와 연결되며 상기 탄성체의 타단과 결합된 플레이트를 구비하여 상기 조절부는 상기 회전체의 회전에 의해 상기 탄성체의 압축력을 조절한다.The control unit may include a rotating body having a screw thread formed on an outer circumferential surface thereof to be inserted into a portion of the housing in which the internal thread is formed, and a plate connected to the rotating body and coupled to the other end of the elastic body so that the adjusting part may be rotated by the rotating body. Thereby adjusting the compressive force of the elastic body.
또한, 상기 밸브는 유체 유입라인과 유체 유출라인 사이에 형성된 약액 도입부, 상기 약액 도입부 위에 위치되며 상기 차단부의 이동을 가이드하는 가이드부, 그리고 상기 가이드부 위에 형성되며 아래측면에 상기 차단부를 상기 일방향으로 이동시키기 위한 공기가 유입되는 기체 유입라인과 상기 차단부가 상기 일방향으로 소정거리 이동하면 상기 기체를 배기하는 기체 배기라인이 형성된 기체 도입부를 가진다.The valve may further include a chemical introduction portion formed between the fluid inflow line and the fluid discharge line, a guide portion positioned on the chemical liquid introduction portion and guiding movement of the blocking portion, and formed on the guide portion and below the one side in the one direction. A gas inlet line into which air for movement is introduced, and a gas introduction line formed with a gas exhaust line for exhausting the gas when the blocking unit moves a predetermined distance in the one direction.
상술한 구조를 가진 본 발명에 의하면 차단부를 상승시킬 수 있는 약액의 압력(설정압력)의 크기를 용이하게 조절할 수 있다.According to the present invention having the above-described structure, it is possible to easily adjust the size of the pressure (setting pressure) of the chemical liquid that can raise the blocking portion.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 1 및 도 3을 참조하면서 보다 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다. 본 실시예에서는 약액 공급 시스템이 사용되는 공정으로 습식식각 설비를 예로 들어 설명하나, 이와는 달리 웨이퍼를 세정하는 세정설비와 같이 소정의 유체를 공급받는 모든 반도체 설비에 사용될 수 있다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 1 and 3. The embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiments described below. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Therefore, the shape of the elements in the drawings are exaggerated to emphasize a clearer description. In this embodiment, a wet etching apparatus is described as an example in which a chemical liquid supply system is used. Alternatively, the chemical liquid supply system may be used in all semiconductor apparatuses that receive a predetermined fluid, such as a cleaning apparatus for cleaning a wafer.
본 발명인 약액 공급 시스템(1)을 개략적으로 보여주는 도 1을 참조하면, 약액 공급 시스템(1)은 약액 저장부(10), 버퍼부(20), 복수의 공정 설비들(30), 약액 공급 라인(50), 약액 반송 라인(60), 그리고 릴리프 밸브(100)를 구비한다.Referring to FIG. 1 schematically showing the present inventors' chemical supply system 1, the chemical supply system 1 includes a chemical storage unit 10, a buffer unit 20, a plurality of process facilities 30, and a chemical supply line. 50, the chemical | medical agent conveyance line 60, and the relief valve 100 are provided.
복수의 공정 설비들(30)은 약액을 사용하여 소정공정을 수행하기 위한 설비로 반도체 웨이퍼를 낱개로 습식 식각하는 스핀 식각 챔버이거나 복수매의 웨이퍼에 대해 습식 식각하는 배쓰일 수 있다. 약액 저장부(10)는 습식식각을 위해 사용되는 약액을 수용하는 부분으로, 예컨대 상기 약액은 불산(HF), 비.오.이(Bufferd Oxide Exchant), 또는 인산(H3PO4)이거나 이와 달리 다른 종류의 약액일 수 있다.The plurality of process facilities 30 may be a spin etching chamber for wet etching semiconductor wafers individually or a bath for wet etching a plurality of wafers as equipment for performing a predetermined process using a chemical liquid. The chemical storage unit 10 is a portion for receiving a chemical liquid used for wet etching, for example, the chemical liquid is hydrofluoric acid (HF), B. O. (Buffered Oxide Exchant), or phosphoric acid (H3PO4) or other types It may be a drug solution.
버퍼부(20)는 약액 저장부(10)로부터 공급받은 약액을 복수의 공정 설비들(10)로 분배하는 부분이다. 버퍼부(20)와 각각의 공정 설비(10)사이에는 도관(70)이 연결되어 있으며, 도관(70) 상에는 유량등을 조절하기 위한 밸브(72)가 설치된다. 버퍼부(20)에 저장된 약액은 각 공정 설비의 공정을 제어하는 제어부(도시되지 않음)의 조절에 의해 소정량의 약액을 도관(70)을 통해 각각의 공정 설비(30)로 공급한다.The buffer unit 20 is a portion for dispensing the chemical liquid supplied from the chemical liquid storage unit 10 to the plurality of process facilities 10. A conduit 70 is connected between the buffer unit 20 and each process facility 10, and a valve 72 for controlling a flow rate and the like is provided on the conduit 70. The chemical liquid stored in the buffer unit 20 supplies a predetermined amount of chemical liquid to each process facility 30 through the conduit 70 by adjusting a control unit (not shown) that controls the process of each process facility.
약액 저장부(10)와 버퍼부(20)는 약액 공급 라인(50)으로 연결되며, 약액 공급 라인(50) 상에는 펌프(52)와 히터(54)가 설치된다. 약액 저장부(10) 내의 약액은 펌프(52)에 의해 버퍼부(20)로 공급되며, 히터(54)에 의해 식각공정 조건에 따라 설정된 온도로 가열된다.The chemical liquid storage unit 10 and the buffer unit 20 are connected to the chemical liquid supply line 50, and a pump 52 and a heater 54 are installed on the chemical liquid supply line 50. The chemical liquid in the chemical storage unit 10 is supplied to the buffer unit 20 by the pump 52, and heated by the heater 54 to a temperature set according to the etching process conditions.
각각의 공정 설비(30)로 공급되지 않고 남아있는 약액이나 과공급된 약액은 약액 반송 라인(60)을 통해 다시 약액 저장부(10)로 회수된다. 약액 반송 라인(60) 상에는 릴리프 밸브(100)가 설치되어, 약액 저장부(10)로 반송되는 약액이 흐르는 통로를 개방하거나 차단한다.The remaining chemical liquid or oversupplied chemical liquid without being supplied to each process facility 30 is recovered to the chemical liquid storage unit 10 through the chemical liquid conveying line 60. A relief valve 100 is provided on the chemical liquid conveying line 60 to open or block a passage through which the chemical liquid conveyed to the chemical liquid storage unit 10 flows.
약액이 흐르는 통로가 개방된 상태와 차단된 상태의 릴리프 밸브(100)의 단면을 각각 보여주는 도 2 및 도 3을 참조하면, 릴리프 밸브(100)는 하우징(120), 차단부(150), 탄성체(160), 그리고 조절부(180)를 포함한다. 2 and 3 showing cross-sectional views of the relief valve 100 in the open and blocked states of the passage through which the chemical liquid flows, the relief valve 100 includes the housing 120, the blocking unit 150, and the elastic body. 160, and an adjusting unit 180.
하우징(120)은 릴리프 밸브(100)의 외관을 형성하는 부분이며, 하우징(120)은 약액 도입부(122), 가이드부(124), 기체 도입부(126), 그리고 나사홀부(128)로 이루어진다. 약액 도입부(122)의 저면은 버퍼부(20)로부터 약액이 흘러들어오는 통로인 약액 유입로(112) 및 약액 저장부(10)로 흘러나가는 통로인 약액 유출로(114)와 연결된다. 버퍼부(20)로부터 반송되는 약액은 릴리프 밸브(100) 내의 약액 유입로(112), 약액 도입부(122), 그리고 약액 유출로(114)를 통해 약액 저장부(10)로 흘러간다. 차단부(150)는 약액 유입로(112)의 출구(113)를 개방하거나 차단하는 부분이며, 하우징(120)의 가이드부(124)는 차단부(150)의 수직이동을 안내하기 위한 부분이다. The housing 120 is a part forming an appearance of the relief valve 100, and the housing 120 includes a chemical introduction part 122, a guide part 124, a gas introduction part 126, and a screw hole part 128. The bottom surface of the chemical liquid introduction part 122 is connected to the chemical liquid inflow path 112, which is a passage through which the chemical liquid flows from the buffer unit 20, and the chemical liquid outflow path 114, which is a passage flowing out to the chemical liquid storage unit 10. The chemical liquid conveyed from the buffer unit 20 flows into the chemical liquid storage unit 10 through the chemical liquid inflow path 112, the chemical liquid inlet 122, and the chemical liquid outlet path 114 in the relief valve 100. The blocking part 150 is a part for opening or blocking the outlet 113 of the chemical liquid inflow path 112, and the guide part 124 of the housing 120 is a part for guiding the vertical movement of the blocking part 150. .
차단부(150)는 측면 및 바닥면이 다이아프램(152)으로 감싸지는 하부 로드(144)와, 가이드부(124)를 따라 상하로 슬라이딩되는 중앙부 로드(146)와 후술할 기체 도입부(126)와 동일한 단면적을 가지는 상부 로드(148)로 이루어진다. 하부 로드(144), 중앙부 로드(146), 상부 로드(148) 모두 원통형의 형상을 가지며, 상부 로드(148)는 중앙부 로드(146)에 비해 넓은 단면을 가진다. 차단부(150)의 중앙부 로드(146)와 하우징(120)의 가이드부(124) 사이, 그리고 차단부(150)의 상부 로드(148)와 하우징(120)의 기체 도입부(126) 사이에는 실링을 위해 오링(134)이 설치된다.The blocking part 150 includes a lower rod 144 having side and bottom surfaces wrapped with a diaphragm 152, a central rod 146 sliding up and down along the guide part 124, and a gas introduction part 126 to be described later. It consists of an upper rod 148 having the same cross-sectional area as. The lower rod 144, the central rod 146, and the upper rod 148 all have a cylindrical shape, and the upper rod 148 has a wider cross section than the central rod 146. Sealing between the central rod 146 of the blocking portion 150 and the guide portion 124 of the housing 120, and between the upper rod 148 of the blocking portion 150 and the gas introduction portion 126 of the housing 120. O-ring 134 is installed for.
차단부(150)가 위로 이동되면 약액은 약액 도입부(122)를 통해 흐를 수 있으나, 차단부(150)가 아래로 이동되면 약액 유입로(112)의 출구(113)가 차단되어 약액이 흐르지 않게 된다. 차단부(150)의 상부 로드(148)에는 스프링(160)과 같은 탄성체의 일단이 결합된다. 스프링(160)은 차단부(150)가 약액 유입로(112)의 출구(113)를 차단한 상태에서 차단부(150)에 하향압력을 제공하기 위해 소정길이 압축된 상태로 설치된다. When the blocking part 150 is moved upward, the chemical liquid may flow through the chemical liquid introduction part 122, but when the blocking part 150 is moved downward, the outlet 113 of the chemical liquid inflow path 112 is blocked so that the chemical liquid does not flow. do. One end of an elastic body such as a spring 160 is coupled to the upper rod 148 of the blocking unit 150. The spring 160 is installed in a compressed state in a predetermined length to provide downward pressure to the blocking unit 150 in a state in which the blocking unit 150 blocks the outlet 113 of the chemical liquid inflow path 112.
기체 도입부(126)는 하우징(120)의 가이드부(124) 위에 형성된 부분으로, 측면 하부에는 기체 유입로(116)가 형성되고 측면 상부에는 기체 유출로(118)가 형성된다. 기체 유입로(116)를 통해 기체 도입부(126)로 공급된 공기는 상부로드(148)의 하부면(149)을 가압하여 스프링(160)을 압축시킴으로써 차단부(150)를 상승시킨다. 이후에 공기는 기체 유출로(118)를 통해 외부로 배기된다. 기체 유입로(116)로 제공되는 공기가 흐르는 도관(192)에는 솔레노이드 밸브(190)가 설치되며, 솔레노이드 밸브(190)는 PLC(Programmable Logic Controller: PLC)와 같은 제어부(도시되지 않음)에 의해 온/오프(ON/OFF)된다.The gas introduction part 126 is a portion formed on the guide part 124 of the housing 120, and a gas inflow path 116 is formed at a lower side of the housing 120, and a gas outlet path 118 is formed at an upper side of the housing 120. Air supplied to the gas inlet 126 through the gas inlet 116 presses the lower surface 149 of the upper rod 148 to compress the spring 160 to raise the blocking unit 150. The air is then exhausted outward through the gas outlet 118. A solenoid valve 190 is installed in a conduit 192 through which air provided to the gas inlet 116 flows, and the solenoid valve 190 is controlled by a controller (not shown) such as a programmable logic controller (PLC). It is ON / OFF.
또한, 상기 PLC와 같은 제어부로부터 신호전송에 에러가 발생한 경우등의 이유로 차단부(150)가 상승되지 않아 약액이 흐르는 통로가 개방되지 않을 수 있다. 그러나 차단부(150)에 하향압력을 가하는 부분은 스프링(160)의 탄성력이므로, 약액 유입로(112)의 출구(113)에서의 압력이 스프링(160)의 탄성력보다 큰 경우에는 차단부(150)가 상승하여 약액이 흐를 수 있다. 이 때, 차단부(150)를 상승시킬 수 있는 약액 유입로(112)의 압력은 스프링(160)의 탄성력에 의해 결정한다.In addition, the blocking unit 150 may not be raised due to an error in signal transmission from a controller such as the PLC, such that a passage through which the chemical liquid flows may not be opened. However, since the portion that applies downward pressure to the blocking unit 150 is the elastic force of the spring 160, when the pressure at the outlet 113 of the chemical liquid inflow path 112 is greater than the elastic force of the spring 160, the blocking unit 150 ) May rise and the chemical liquid may flow. At this time, the pressure of the chemical liquid inlet 112 that can raise the blocking unit 150 is determined by the elastic force of the spring 160.
조절부(180)는 약액이 흐를 수 있도록 차단부(150)를 상승시킬 수 있는 약액의 압력(이하 '설정압력') 크기를 조절하는 부분으로, 플레이트(182), 회전체(184), 그리고 헤드부(186)로 이루어진다.Adjuster 180 is a portion for adjusting the size of the pressure (hereinafter 'setting pressure') of the chemical that can raise the blocking unit 150 so that the chemical flow, plate 182, the rotating body 184, and It consists of the head portion 186.
플레이트(182)는 스프링(160)의 타단과 결합되는 부분이며, 플레이트(182)의 상부면에는 외주면에 나사산이 형성된 회전체(184)가 연결되고, 회전체(184) 위에는 회전체(184)를 회전시킬 수 있도록 헤드부(186)가 연결된다. 헤드부(186)는 일반적으로 사용되는 툴(TOOL)에 의해 회전될 수 있도록 사각, 육각등의 형상을 가질 수 있다. 하우징(120)의 상부에는 내부에 나사산이 형성된 나사홀(128)이 형성되며, 회전체(184)는 나사홀(128)에 삽입된 상태를 유지한다. 이러한 구조에 의해 상기 설정압력을 변경시키기 위해서 사용자는 회전체(184)를 소정횟수 회전시킴으로써 상기 설정압력을 변경할 수 있다. 즉, 약액 유입로(112)의 출구(113)를 차단하기 위해 스프링(160)이 차단부(150)에 가해지는 압력이 2kgf/cm2으로 설정된 경우, 이후에 이보다 큰 3-6kgf/cm2으로의 변경을 위해서 사용자는 회전체(184)를 소정횟수 회전시킴으로써 스프링(160)이 처음보다 더 압축된 상태를 만들어주면 된다.The plate 182 is a portion that is coupled to the other end of the spring 160, the upper surface of the plate 182 is connected to the rotating body 184 having a threaded outer peripheral surface, the rotating body 184 on the rotating body 184 The head portion 186 is connected to rotate. The head portion 186 may have a square, hexagonal, or the like shape so as to be rotated by a commonly used tool. The upper portion of the housing 120 is formed with a screw hole 128 having a thread formed therein, the rotating body 184 is maintained in a state inserted into the screw hole (128). By such a structure, the user can change the set pressure by rotating the rotating body 184 a predetermined number of times to change the set pressure. That is, when the pressure applied to the blocking unit 150 by the spring 160 to block the outlet 113 of the chemical liquid inflow path 112 is set to 2kgf / cm2, afterwards to 3-6kgf / cm2 greater than this In order to change, the user may make the spring 160 more compressed than the first time by rotating the rotating body 184 a predetermined number of times.
본 발명인 약액 공급 시스템에 의하면 차단부에 의해 유동통로가 차단된 릴리프 밸브 내부를 흐르는 약액의 압력이 소정압력 이상되면 그 유동통로가 약액의 압력만으로 개방되므로, 신호전송에러등의 사유로 인해 유동통로가 차단되더라도 약액의 압력상승에 의해 시스템이 파손되는 것을 방지할 수 있다.According to the chemical liquid supply system of the present invention, when the pressure of the chemical liquid flowing inside the relief valve is blocked by the blocking portion more than a predetermined pressure, the flow passage is opened only by the pressure of the chemical liquid, the flow passage due to reasons such as signal transmission error Even if is blocked, it is possible to prevent the system from being damaged by the pressure rise of the chemical.
또한, 본 발명인 약액 공급 시스템에 의하면 차단부를 상승시킬 수 있는 약액의 압력(설정압력)의 크기를 용이하게 조절할 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention chemical supply system there is an effect that can easily adjust the size of the pressure (setting pressure) of the chemical that can raise the blocking portion.
도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 유체 공급 시스템의 개략도;1 is a schematic diagram of a fluid supply system according to one preferred embodiment of the present invention;
도 2와 도 3은 각각 도 1에서 릴리프 밸브내의 유체의 이동통로가 차단된 상태와 개방된 상태를 보여주는 단면도이다.2 and 3 are cross-sectional views showing a state in which the flow path of the fluid in the relief valve in FIG. 1 is blocked and opened, respectively.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
10 : 약액 저장부 20 : 버퍼부10: chemical storage unit 20: buffer unit
30 : 공정 설비 50 : 약액 공급 라인30: process equipment 50: chemical liquid supply line
60 : 약액 반송 라인 100 : 릴리프 밸브60: chemical liquid return line 100: relief valve
120 : 하우징 122 : 약액 도입부120 housing 122 chemical solution introduction portion
124 : 가이드부 126 : 기체 도입부124: guide portion 126: gas introduction portion
128 : 나사홀 140 : 이동체128: screw hole 140: moving body
150 : 차단부 152 : 다이아프램150: breaker 152: diaphragm
160 : 스프링 180 : 조절부160: spring 180: adjuster
182 : 플레이트 184 : 회전체182: plate 184: rotating body
190 : 솔레노이드 밸브190: solenoid valve
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