KR100506492B1 - Chemical supply system and method semiconductor fabrication - Google Patents
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Abstract
본 발명은 약액 저장 탱크를 반도체 장비의 주장치 내에 장착함과 더불어 약액 저장 탱크에의 약액충전을 자동방식과 수동방식을 선택적으로 사용할 수 있도록 하는 반도체 제조용 약액공급장치 및 방법을 제공한다.The present invention provides a chemical liquid supplying device and method for manufacturing a chemical liquid storage tank which enables the chemical liquid filling into the chemical liquid storage tank and an automatic method and a manual method.
이는 약액 저장 탱크에 배관을 통해 버퍼가 연결되어 상기 약액 저장 탱크에 질소가스를 주입하여 이에 의한 가압력에 의해 약액 저장 탱크로부터 버퍼로 약액이 공급되어 해당 반도체 장비로 공급될 수 있도록 하는 것으로, 약액 저장 탱크에의 약액 수동충전방식을 구현하기 위한 그의 일 실시예에 의하면, 약액충전시기 경고시 약액 저장 탱크에의 질소가스 주입을 위한 가압 밸브를 닫고 약액 저장 탱크로부터 질소가스를 배출시키기 위한 드레인 밸브를 오픈시키는 단계; 약액 저장 탱크에 약액이 충전되면 리셋 스위치를 오프한 후, 드레인 밸브를 닫고 가압 밸브를 오픈시켜 약액 저장 탱크에 질소가스를 주입시키는 단계; 상기 버퍼로부터 질소가스를 배출시키기 위한 배출 밸브를 오픈시켜 버퍼내의 질소가스를 배출시킨 후, 약액 저장 탱크에 설치된 정전용량센서가 온되면 약액 충전 경고를 해제하는 단계를 수행하여 약액 저장 탱크에의 약액 충전을 수행하여 이를 바탕으로 해당 반도체 장비로 약액이 공급되도록 한다.This means that the buffer is connected to the chemical storage tank through a pipe to inject nitrogen gas into the chemical storage tank so that the chemical liquid can be supplied from the chemical storage tank to the buffer by the pressing force, and the chemical liquid can be supplied to the semiconductor device. According to one embodiment of the present invention for implementing a manual filling method of the chemical liquid into the tank, when the chemical liquid filling time warning, closing the pressure valve for nitrogen gas injection into the chemical storage tank and drain valve for discharging nitrogen gas from the chemical liquid storage tank Opening; Turning off the reset switch when the chemical storage tank is filled with chemicals, closing the drain valve and opening the pressure valve to inject nitrogen gas into the chemical storage tank; After discharging nitrogen gas in the buffer by opening a discharge valve for discharging nitrogen gas from the buffer, if the capacitive sensor installed in the chemical storage tank is turned on, the chemical liquid filling warning is released by performing a step of releasing the chemical liquid filling warning. The charging is performed so that the chemical liquid is supplied to the semiconductor device based on the charging.
Description
본 발명은 반도체 제조용 약액공급장치 및 방법에 관한 것으로, 특히 약액 저장 탱크를 반도체 장비의 주장치 내에 장착함과 더불어 약액 저장 탱크에의 약액충전을 자동방식과 수동방식을 선택적으로 사용할 수 있도록 하는 반도체 제조용 약액공급장치 및 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chemical liquid supplying device and method for semiconductor manufacturing, and more particularly, to a semiconductor manufacturing device for mounting a chemical liquid storage tank in a main device of a semiconductor device and enabling chemical liquid filling to a chemical liquid storage tank to be selectively used in an automatic method and a manual method. It relates to a chemical liquid supply device and method.
일반적으로 반도체 제조 공정에는 많은 종류의 약액이 사용되며, 대표적인 것으로는 웨이퍼 세정공정에 사용되는 IPA용액 및 HF(불산)용액과 웨이퍼 도포공정에 사용되는 도포액 및 신너 등이 있으며, 그 외에도 HMDS 등이 있다.Generally, many kinds of chemicals are used in the semiconductor manufacturing process, and typical examples include IPA solution and HF (fluoric acid) solution used in the wafer cleaning process, coating liquid and thinner used in the wafer coating process, and HMDS. There is this.
이러한 각종 약액을 필요로 하는 반도체 장비에 안정적으로 공급하기 위해 약액을 해당 반도체 장비에 공급하는 약액공급장치가 사용된다. In order to stably supply these various chemical liquids to the semiconductor equipment, a chemical liquid supply device for supplying the chemical liquid to the semiconductor equipment is used.
도 1은 종래의 약액공급장치의 개략 구성도를 도시한 것으로, 약액 저장 탱크(1)가 반도체 장비의 주장치(2)의 외부에 설치되어 있다. Fig. 1 shows a schematic configuration diagram of a conventional chemical liquid supply apparatus, wherein a chemical liquid storage tank 1 is provided outside the main apparatus 2 of semiconductor equipment.
따라서 반도체 장비의 주장치(2) 외부에 별도로 약액 저장 탱크(1)를 설치해야할 공간을 확보해야만 하고, 약액 저장 탱크(1)을 설치하기 위한 별도의 랙(Rack) 등이 구비되어야 하였다.Therefore, a space in which the chemical liquid storage tank 1 should be separately installed outside the main apparatus 2 of the semiconductor equipment, and a separate rack for installing the chemical liquid storage tank 1 should be provided.
또한, 약액 저장 탱크(1)가 반도체 장비의 주장치(2) 외부에 설치됨에 따라 약액 저장 탱크(1)와 반도체 장비의 주장치(2) 사이의 약액 공급로를 형성할 배관 라인이 복잡하였다.In addition, as the chemical liquid storage tank 1 is installed outside the main apparatus 2 of the semiconductor equipment, the piping line for forming the chemical liquid supply path between the chemical liquid storage tank 1 and the main apparatus 2 of the semiconductor equipment is complicated.
뿐만 아니라, 종래의 약액 공급 장치는 약액 저장 탱크에의 약액 충전시 장비 운전자가 수동으로 약액을 충전하여야만 하였다.In addition, the conventional chemical liquid supplying device had to be manually filled with chemical liquid by the equipment operator during chemical liquid filling into the chemical liquid storage tank.
본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명은 반도체 장비의 주장치 내에 약액 저장 탱크를 구비시켜 공간 활용도를 높임과 더불어 부품의 절감은 물론 약액 공급로를 형성할 배관 라인을 간소화할 수 있도록 한 반도체 제조용 약액공급장치를 제공함에 그 목적이 있다.The present invention is to solve this problem, the present invention is to provide a chemical storage tank in the main device of the semiconductor equipment to increase the space utilization and to reduce the components as well as to simplify the piping line to form the chemical liquid supply path It is an object of the present invention to provide a chemical liquid supply device for semiconductor manufacturing.
본 발명의 다른 목적은 약액 저장 탱크에의 약액의 충전을 자동방식과 수동방식을 선택적으로 채택할 수 있도록 함으로써 시스템의 효율적 운영이 가능토록 한 반도체 제조용 약액공급장치 및 방법을 제공함에 있다. Another object of the present invention is to provide a chemical liquid supplying device and method for semiconductor manufacturing which enables efficient operation of the system by selectively adopting an automatic method and a manual method of filling the chemical liquid into a chemical storage tank.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 약액 수동충전방식을 구현하기 위한 반도체 제조용 약액공급장치는, 소정의 약액이 충전되어 있는 약액 저장 탱크와; 상기 약액 저장 탱크 내의 약액의 충전상태를 감지하는 로우레벨센서, 하이레벨센서, 하이하이레벨센서와; 상기 약액 저장 탱크에 질소가스를 공급하여 이에 의한 가압력에 의해 상기 약액 저장 탱크내의 약액이 해당 반도체 장비로 공급될 수 있도록 하는 가압 밸브 및 가압 밸브 제어기와; 상기 약액 저장 탱크에 약액을 충전시킬 수 있도록 약액 저장 탱크 내의 질소가스를 외부로 배출시키기 위한 드레인 밸브 및 드레인 밸브 제어기와; 상기 약액 저장 탱크로부터 배관을 통해 공급되는 약액을 해당 반도체 장비로 공급하는 버퍼와; 상기 버퍼내의 약액부족상태를 센싱하기 위한 정전용량센서와; 상기 약액 저장 탱크로부터 배관을 통해 버퍼에 약액이 충전될 수 있도록 버퍼 내의 질소 가스를 배출하기 위한 배출 밸브와; 상기 각 센서의 센싱값에 따라 상기 각 밸브 및 밸브 제어기를 제어하는 제어부를 구비함과 더불어 상기 약액 저장 탱크가 반도체 장비의 주장치 내에 설치된 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a chemical liquid supply device for semiconductor manufacturing for implementing a chemical liquid manual filling method according to the present invention includes a chemical liquid storage tank filled with a predetermined chemical liquid; A low level sensor, a high level sensor, and a high level sensor for sensing a state of filling of the chemical liquid in the chemical storage tank; A pressurizing valve and a pressurizing valve controller for supplying nitrogen gas to the chemical liquid storage tank so that the chemical liquid in the chemical liquid storage tank can be supplied to the corresponding semiconductor equipment by the pressing force thereby; A drain valve and a drain valve controller for discharging nitrogen gas in the chemical storage tank to the outside so as to fill the chemical liquid in the chemical storage tank; A buffer for supplying the chemical liquid supplied from the chemical liquid storage tank through a pipe to the semiconductor device; A capacitive sensor for sensing a chemical shortage condition in the buffer; A discharge valve for discharging nitrogen gas in the buffer so that the chemical liquid can be filled in the buffer from the chemical liquid storage tank through a pipe; In addition to the control unit for controlling each valve and the valve controller according to the sensing value of each sensor, the chemical liquid storage tank is installed in the main device of the semiconductor equipment.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 약액 자동충전방식을 구현하기 위한 반도체 제조용 약액공급장치는, 소정의 약액이 충전되어 있는 약액 저장 탱크와; 상기 약액 저장 탱크 내의 약액의 충전상태를 감지하는 로우레벨센서, 하이레벨센서, 하이하이레벨센서와; 상기 약액 저장 탱크에 질소가스를 공급하여 이에 의한 가압력에 의해 상기 약액 저장 탱크내의 약액이 해당 반도체 장비로 공급될 수 있도록 하는 가압 밸브 및 가압 밸브 제어기와; 상기 약액 저장 탱크에 약액을 충전시킬 수 있도록 약액 저장 탱크 내의 질소가스를 외부로 배출시키기 위한 드레인 밸브 및 드레인 밸브 제어기와; 약액 공급 라인에 설치되어 상기 약액 저장 탱크에 약액을 공급하기 위한 충전 밸브 및 충전 밸브 제어기와; 상기 약액 공급 라인에 공급되는 약액을 레귤레이팅하여 상기 충전 밸브로 공급하는 레귤레이터와; 상기 약액 저장 탱크로부터 배관을 통해 공급되는 약액을 해당 반도체 장비로 공급하는 버퍼와; 상기 버퍼내의 약액부족상태를 센싱하기 위한 정전용량센서와; 상기 약액 저장 탱크로부터 배관을 통해 버퍼에 약액이 충전될 수 있도록 버퍼 내의 질소 가스를 배출하기 위한 배출 밸브와; 상기 각 센서의 센싱값에 따라 상기 각 밸브 및 밸브 제어기를 제어하는 제어부를 구비함과 더불어 상기 약액 저장 탱크가 반도체 장비의 주장치 내에 설치된 것을 특징으로 한다.Chemical liquid supply device for semiconductor manufacturing for implementing the chemical liquid automatic charging method according to the present invention for achieving the above object, the chemical liquid storage tank is filled with a predetermined chemical liquid; A low level sensor, a high level sensor, and a high level sensor for sensing a state of filling of the chemical liquid in the chemical storage tank; A pressurizing valve and a pressurizing valve controller for supplying nitrogen gas to the chemical liquid storage tank so that the chemical liquid in the chemical liquid storage tank can be supplied to the corresponding semiconductor equipment by the pressing force thereby; A drain valve and a drain valve controller for discharging nitrogen gas in the chemical storage tank to the outside so as to fill the chemical liquid in the chemical storage tank; A filling valve and a filling valve controller installed in the chemical liquid supply line to supply the chemical liquid to the chemical liquid storage tank; A regulator for regulating the chemical liquid supplied to the chemical liquid supply line and supplying the chemical liquid to the filling valve; A buffer for supplying the chemical liquid supplied from the chemical liquid storage tank through a pipe to the semiconductor device; A capacitive sensor for sensing a chemical shortage condition in the buffer; A discharge valve for discharging nitrogen gas in the buffer so that the chemical liquid can be filled in the buffer from the chemical liquid storage tank through a pipe; In addition to the control unit for controlling each valve and the valve controller according to the sensing value of each sensor, the chemical liquid storage tank is installed in the main device of the semiconductor equipment.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 약액 수동충전방식을 구현하기 위한 반도체 제조용 약액공급방법은, 약액 저장 탱크에 배관을 통해 버퍼가 연결되어 상기 약액 저장 탱크에 공급되는 질소가스의 가압력에 의해 상기 약액 저장 탱크로부터 버퍼로 공급되는 약액이 해당 반도체 장비로 공급되도록 하는 반도체 제조용 약액공급방법에 있어서, 약액충전시기 경고시 상기 약액 저장 탱크에의 질소가스 주입을 위한 가압 밸브를 닫고 약액 저장 탱크로부터 질소가스를 배출시키기 위한 드레인 밸브를 오픈시키는 단계와; 상기 약액 저장 탱크에 약액이 충전되면 리셋 스위치를 오프한 후, 상기 드레인 밸브를 닫고 가압 밸브를 오픈시켜 상기 약액 저장 탱크에 질소가스를 주입시키는 단계와; 상기 버퍼로부터 질소가스를 배출시키기 위한 배출 밸브를 오픈시켜 버퍼내의 질소가스를 배출시킨 후, 상기 약액 저장 탱크에의 질소가스 주입에 따라 버퍼에 약액이 공급되어 버퍼에 설치된 정전용량센서가 온되면 약액 충전 경고를 해제하는 단계로 이루어짐을 특징으로 한다.Chemical solution supplying method for semiconductor manufacturing to implement the manual liquid filling method according to the present invention for achieving the above object, the buffer is connected to the chemical storage tank through a pipe by the pressure of the nitrogen gas supplied to the chemical storage tank In the chemical liquid supply method for manufacturing a semiconductor, in which the chemical liquid supplied from the chemical liquid storage tank to the buffer is supplied to the semiconductor device, when the chemical liquid filling time is warned, the pressure valve for injecting the nitrogen gas into the chemical liquid storage tank is closed and the nitrogen is discharged from the chemical liquid storage tank. Opening a drain valve for discharging the gas; Injecting nitrogen gas into the chemical storage tank by closing a drain valve and opening a pressure valve after the reset switch is turned off when the chemical storage tank is filled with chemical liquid; After discharging nitrogen gas in the buffer by opening a discharge valve for discharging nitrogen gas from the buffer, the chemical liquid is supplied to the buffer according to the nitrogen gas injection into the chemical storage tank, and the chemical liquid is turned on when the capacitance sensor installed in the buffer is turned on. Characterized in that the step of releasing the charge warning.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 약액 자동충전방식을 구현하기 위한 반도체 제조용 약액공급방법은, 약액 저장 탱크에 배관을 통해 버퍼가 연결되어 상기 약액 저장 탱크에 공급되는 질소가스의 가압력에 의해 상기 약액 저장 탱크로부터 버퍼로 공급되는 약액이 해당 반도체 장비로 공급되도록 한 반도체 제조용 약액공급방법에 있어서, 약액충전시기 경고시 약액 저장 탱크에의 질소가스 주입을 위한 가압 밸브를 닫고 약액 저장 탱크로부터 질소가스를 배출시키기 위한 드레인 밸브를 오픈시키는 단계와; 상기 약액 저장 탱크에의 약액의 충전을 위한 충전 밸브를 오픈시켜 상기 약액 저장 탱크에 약액을 충전시킨 후, 상기 충전 밸브를 닫고, 리셋 스위치를 오프하는 단계와; 상기 드레인 밸브를 닫고 가압 밸브를 오픈시켜 상기 약액 저장 탱크에 질소가스를 주입하는 단계와; 상기 버퍼로부터 질소가스를 배출시키기 위한 배출 밸브를 오픈시켜 버퍼내의 질소가스를 배출시킨 후, 상기 약액 저장 탱크에의 질소가스 주입에 따라 버퍼에 약액이 공급되어 상기 버퍼에 설치된 정전용량센서가 온되면 약액 충전 경고를 해제하는 단계로 이루어짐을 특징으로 한다.Chemical solution supplying method for semiconductor manufacturing to implement the automatic chemical liquid charging method according to the present invention for achieving the above object, the buffer is connected to the chemical liquid storage tank via a pipe by the pressure of the nitrogen gas supplied to the chemical liquid storage tank In the chemical liquid supply method for semiconductor manufacturing, in which the chemical liquid supplied from the chemical liquid storage tank to the buffer is supplied to the semiconductor equipment, when the chemical liquid filling time is warned, the pressure valve for injecting the nitrogen gas into the chemical liquid storage tank is closed and the nitrogen gas is discharged from the chemical liquid storage tank. Opening a drain valve for discharging the gas; Opening a filling valve for filling the chemical liquid into the chemical liquid storage tank to fill the chemical liquid storage tank, closing the filling valve, and turning off a reset switch; Closing the drain valve and opening a pressure valve to inject nitrogen gas into the chemical storage tank; After opening the discharge valve for discharging the nitrogen gas from the buffer to discharge the nitrogen gas in the buffer, the chemical liquid is supplied to the buffer in accordance with the injection of nitrogen gas into the chemical storage tank and the capacitive sensor installed in the buffer is turned on Characterized in that the step of releasing the chemical charge warning.
이하, 본 발명을 첨부된 도면을 참조로 하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings the present invention will be described in detail.
도 2는 본 발명에 따른 반도체 제조용 약액공급장치의 개략 구성도를 도시한 것으로, 약액 저장 탱크(100)가 반도체 장비의 주장치(200)내에 구비됨을 보여주고 있다.2 shows a schematic configuration diagram of a chemical liquid supply device for semiconductor manufacturing according to the present invention, and shows that the chemical liquid storage tank 100 is provided in the main device 200 of semiconductor equipment.
도 3은 도 2와 같은 본 발명의 반도체 제조용 약액공급장치의 일 실시 예의 상세 구성도를 도시한 것으로, 약액 저장 탱크에의 약액 수동충전을 위한 구성도이다. Figure 3 is a detailed configuration diagram of an embodiment of a chemical liquid supply device for manufacturing a semiconductor of the present invention as shown in Figure 2, it is a configuration diagram for the manual charging of the chemical liquid to the chemical storage tank.
이에 도시한 바와 같이, 해당 반도체 장비로 공급하기 위한 약액이 충전되어 있는 약액 저장 탱크(100)에는 약액 저장 탱크(100) 내의 약액의 충전 상태를 감지하는 로우레벨센서(101), 하이레벨센서(102), 하이하이레벨센서(103)가 설치되어 있다.As shown in the drawing, the chemical liquid storage tank 100 filled with the chemical liquid for supplying to the semiconductor equipment includes a low level sensor 101 and a high level sensor for detecting the state of charge of the chemical liquid in the chemical liquid storage tank 100. 102, a high high level sensor 103 is provided.
그리고 상기 약액 저장 탱크(100)에 저장되어 있는 약액의 배출을 위한 질소가스(N2)를 약액 저장 탱크(100)에 공급하기 위한 가압 밸브(104) 및 가압 밸브(104)의 제어를 위한 가압 밸브 제어기(105)가 도시하지 않은 제어부로부터의 제어라인((L1,L2)에 연결 설치되고, 상기 약액 저장 탱크(100)에의 약액의 충전을 위해 약액 저장 탱크(100)로부터 질소가스를 배출시키기 위한 드레인 밸브(106) 및 드레인 밸브(106) 제어를 위한 드레인 밸브 제어기(107)가 설치된다. 여기서, 상기 드레인 밸브 제어기(107)는 상기 제어라인(L2)에 연결 설치된다.And pressurization for the control of the pressure valve 104 and the pressure valve 104 for supplying the nitrogen gas (N 2 ) for the discharge of the chemical liquid stored in the chemical liquid storage tank 100 to the chemical liquid storage tank 100. The valve controller 105 is connected to the control lines (L1, L2) from the control unit (not shown), and discharges nitrogen gas from the chemical liquid storage tank 100 to fill the chemical liquid into the chemical liquid storage tank 100. A drain valve 106 and a drain valve controller 107 for controlling the drain valve 106 are installed, where the drain valve controller 107 is connected to the control line L2.
또한, 상기 약액 저장 탱크(100)에는 약액 저장 탱크(100)로부터 배관을 통해 공급되는 약액을 해당 반도체 장비로 공급하는 버퍼(100a)가 연결되고, 상기 버퍼(100a)에는 버퍼(100a)내의 약액부족상태를 센싱하기 위한 정전용량센서(108)가 설치되며, 상기 약액 저장 탱크(100)에 약액이 충전되어 상기 가압 밸브(104) 및 가압 밸브 제어기(105)를 통해 약액 저장 탱크(100)내의 약액의 가압을 위한 질소가스가 공급되면 버퍼(100a)내로 약액 저장 탱크(100)로부터 약액이 공급될 수 있는 여건조성을 위해 버퍼(100a) 내의 질소가스를 배출하기 위한 배출 밸브(109)가 설치되어 있다.In addition, the chemical liquid storage tank 100 is connected to the buffer 100a for supplying the chemical liquid supplied from the chemical liquid storage tank 100 through a pipe to the semiconductor device, and the chemical liquid in the buffer 100a is connected to the buffer 100a. A capacitive sensor 108 for sensing a shortage condition is installed, and the chemical liquid is filled in the chemical liquid storage tank 100 so that the chemical liquid storage tank 100 may be charged through the pressure valve 104 and the pressure valve controller 105. When nitrogen gas for pressurizing the chemical liquid is supplied, a discharge valve 109 for discharging nitrogen gas in the buffer 100a is installed for the condition that the chemical liquid can be supplied from the chemical liquid storage tank 100 into the buffer 100a. have.
여기서, 상기 각 센서(101-103),(108)는 도시하지 않은 제어부에 연결되어 있다.Here, each of the sensors 101-103 and 108 is connected to a controller (not shown).
이와 같이 구성된 약액 수동충전방식의 약액공급장치의 동작을 도 4의 흐름도와 함께 설명한다.The operation of the chemical liquid supply device of the manual liquid filling method configured as described above will be described with the flowchart of FIG. 4.
먼저, 약액 저장 탱크(100)에 약액이 정상적으로 충전되어 있어 약액 저장 탱크(100)로부터 버퍼(100a)를 통해 약액이 반도체 장비로 공급되고 있는 동안에는 상기 약액 저장 탱크(100)내의 오버 플로우를 센싱하기 위한 하이하이레벨센서(103)를 제외한 각 센서(101,102,108)가 모두 온 상태이며, 이 경우, 제어부의 제어에 따라 가압 밸브 제어기(105)에 의해 가압 밸브(104)가 열려 약액 저장 탱크(100)로 질소가스가 공급되어 질소가스의 가압에 의해 약액 저장 탱크(100)로부터 배관을 통해 버퍼(100a)로 약액이 공급되어 이 약액이 반도체 장비로 공급되는 것이며, 이때 드레인 밸브(106) 및 배출 밸브(109)는 닫혀있는 상태이다.First, while the chemical liquid is normally filled in the chemical liquid storage tank 100 and the chemical liquid is being supplied from the chemical liquid storage tank 100 to the semiconductor equipment through the buffer 100a, sensing the overflow in the chemical liquid storage tank 100. Each of the sensors 101, 102, 108 except for the high level sensor 103 is in an on state. In this case, the pressure valve 104 is opened by the pressure valve controller 105 under the control of the controller. Nitrogen gas is supplied to the chemical liquid is supplied from the chemical liquid storage tank 100 to the buffer 100a through a pipe by pressurization of the nitrogen gas, and the chemical liquid is supplied to the semiconductor equipment, wherein the drain valve 106 and the discharge valve 109 is in a closed state.
이러한 상태에서 제어부에 상기 정전용량센서(108)가 오프 즉, 버퍼(100a) 내의 약액이 거의 고갈되어 감을 알리는 감지신호가 입력되면 제어부는 제어부에 연결되어 있는 알람을 울려 약액을 충전해야 함을 알리며, 도시하지 않은 표시부에 이를 표시한다.In this state, when the capacitive sensor 108 is turned off to the control unit, that is, a sensing signal indicating that the liquid is almost exhausted in the buffer 100a is input, the control unit sounds an alarm connected to the control unit to inform that the chemical liquid should be charged. This is indicated on a display not shown.
그리고 상기 가압 밸브 제어기(105)를 통해 가압 밸브(104)를 닫아 약액 저장 탱크(100)에의 질소가스의 유입을 차단하고, 드레인 밸브 제어기(107)를 통해 드레인 밸브(106)를 열어 약액 저장 탱크(100) 내의 질소 가스를 배출시키며, 이때 제어부는 표시부에 질소 가스의 배출상태임을 표시하여 장비 운전자가 약액 저장 탱크(100)에 약액을 충전시킬 수 있도록 한다.Then, the pressure valve 104 is closed through the pressure valve controller 105 to block inflow of nitrogen gas into the chemical liquid storage tank 100, and the drain valve 106 is opened through the drain valve controller 107 to open the chemical liquid storage tank. The nitrogen gas in the 100 is discharged, and the control unit displays that the nitrogen gas is discharged on the display unit so that the equipment driver can fill the chemical liquid in the chemical storage tank 100.
한편, 제어부는 운전자가 약액 저장 탱크(100)에 약액을 충전함에 따라 약액 저장 탱크(100)에 약액이 채워지면 이에 따른 센싱값 즉, 로우레벨센서(101), 하이레벨센서(102)의 센싱값을 도시하지 않은 표시부에 표시하며, 제어부는 정해진 소정시간동안 하이레벨센서(102)가 온되지 않으면 오버 타임 에러를 발생시켜 경고하며, 하이하이레벨센서(103)가 온되면 약액 저장 탱크(100)에 약액 공급이 과다(Over Flow)한 것이므로 오버 플로우를 경고한다.On the other hand, when the driver fills the chemical liquid in the chemical storage tank 100 as the driver fills the chemical liquid in the chemical storage tank 100, the sensing value according to this, that is, the sensing of the low level sensor 101, high level sensor 102 The value is displayed on a display unit not shown, and the controller generates an over time error when the high level sensor 102 is not turned on for a predetermined time, and when the high level sensor 103 is turned on, the chemical storage tank 100 ) Is overflowed, so warn of overflow.
만일, 약액 저장 탱크(100)에 약액이 채워지지 않으면 즉, 일정시간 동안 상기 로우레벨센서(101)가 온되지 않거나 또는 상기와 같이 하이레벨센서(102)가 온되지 않으면 이를 경고하여 장비 운전자가 상기 센서(101),(102) 및 밸브(104),(106)의 고장여부 등을 점검할 수 있도록 한다.If the chemical liquid is not filled in the chemical storage tank 100, that is, if the low level sensor 101 is not turned on for a predetermined time or the high level sensor 102 is not turned on as described above, the operator of the equipment warns of this. It is possible to check whether the sensor 101, 102 and the valve 104, 106 is broken.
상기 약액 저장 탱크(100)에 정상적인 상태로 약액 충전이 완료되면, 제어부는 도시하지 않은 리셋 스위치를 오프시킨 후, 드레인 밸브 제어기(107)를 통해 드레인 밸브(106)를 닫고 가압 밸브 제어기(105)를 통해 가압 밸브(104)를 열어 약액 저장 탱크(100)내에 질소가스를 주입하여 약액 저장 탱크(100)내의 약액을 가압하여 약액 저장 탱크(100)로부터 버퍼(100a)로 약액이 공급될 수 있도록 한다.When the chemical liquid filling is completed in the normal state in the chemical storage tank 100, the controller turns off the reset switch (not shown), and then closes the drain valve 106 through the drain valve controller 107 and pressurizes the pressure valve controller 105. Open the pressure valve 104 to inject nitrogen gas into the chemical liquid storage tank 100 to pressurize the chemical liquid in the chemical liquid storage tank 100 so that the chemical liquid can be supplied from the chemical liquid storage tank 100 to the buffer 100a. do.
그리고 약액 저장 탱크(100)로부터 배관을 통해 버퍼(100a)에 약액이 충전될 수 있도록 배출 밸브(109)를 열어 버퍼(100a)내의 질소가스가 배출시키며, 상기 버퍼(100a)내의 질소가스가 외부로 배출되면 배출 밸브(109)를 닫으며, 상기 약액 저장 탱크(100)로부터의 약액 공급에 따라 버퍼(100a)에 설치된 정전용량센서(108)가 온되면 제어부는 표시부에서 약액 충전 경고를 해제하고, 정상적인 약액 공급이 이루어지도록 한다.The nitrogen gas in the buffer 100a is discharged by opening the discharge valve 109 to fill the buffer 100a with the chemical liquid from the chemical storage tank 100 through a pipe, and the nitrogen gas in the buffer 100a is externally discharged. When discharged to the discharge valve 109 is closed, when the capacitive sensor 108 installed in the buffer (100a) according to the supply of the chemical liquid from the chemical storage tank 100 is turned on, the control unit releases the chemical liquid filling warning from the display unit To ensure normal supply of chemicals.
도 5는 본 발명의 반도체 제조용 약액공급장치의 다른 실시 예의 상세 구성도를 도시한 것으로, 약액 저장 탱크에의 약액 자동충전을 위한 구성도이다.Figure 5 shows a detailed configuration of another embodiment of the chemical liquid supply device for manufacturing a semiconductor of the present invention, it is a configuration diagram for the automatic charging of the chemical liquid to the chemical storage tank.
이는 상기 약액의 수동 충전을 위한 도 3의 구성에, 약액 저장 탱크(100)에 약액을 공급하기 위한 충전 밸브(110)가 약액 공급 라인(PL1)에 설치되고, 상기 충전 밸브(110)를 제어하는 충전 밸브 제어기(111)가 도시하지 않은 제어부의 제어라인(L2)에 연결 설치되며, 또한, 상기 약액 공급 라인(PL1)에는 공급되는 약액을 레귤레이팅하여 상기 충전 밸브(110)로 공급하는 레귤레이터(112)가 더 설치되어 있다.3, a filling valve 110 for supplying a chemical liquid to the chemical liquid storage tank 100 is installed in the chemical liquid supply line PL1, and controls the filling valve 110. The charging valve controller 111 is connected to the control line (L2) of the control unit (not shown), and the regulator for regulating the chemical liquid supplied to the chemical liquid supply line (PL1) to supply to the filling valve 110 112 is further installed.
이와 같이 구성된 약액 자동충전방식의 약액공급장치의 동작을 도 6의 흐름도와 함께 설명한다.The operation of the chemical liquid supply device of the automatic chemical liquid filling method configured as described above will be described with the flowchart of FIG. 6.
먼저, 약액 저장 탱크(100)에 약액이 정상적으로 충전되어 있어 약액 저장 탱크(100)로부터 버퍼(100a)를 통해 약액이 반도체 장비로 공급되고 있는 동안에는 상기 약액 수동충전방식과 마찬가지로 상기 약액 저장 탱크(100)내의 오버 플로우를 센싱하기 위한 하이하이레벨센서(103)를 제외한 각 센서(101,102,108)가 모두 온 상태이며, 이 경우 제어부의 제어에 따른 가압 밸브 제어기(105)에 의해 가압 밸브(104)가 열려 약액 저장 탱크(100)로 질소가스가 공급되어 질소가스의 가압에 의해 약액 저장 탱크(100)로부터 배관을 통해 버퍼(100a)로 약액이 공급되어 이 약액이 해당 반도체 장비로 공급되는 것이며, 이때 드레인 밸브(106) 및 배출 밸브(109)는 닫혀있는 상태이다.First, while the chemical liquid is normally filled in the chemical liquid storage tank 100 and the chemical liquid is supplied from the chemical liquid storage tank 100 through the buffer 100a to the semiconductor equipment, the chemical liquid storage tank 100 is similar to the manual chemical liquid filling method. Each sensor 101, 102, 108 except for the high high level sensor 103 for sensing the overflow in the) is on, in which case the pressure valve 104 is opened by the pressure valve controller 105 under the control of the controller. Nitrogen gas is supplied to the chemical liquid storage tank 100 and the chemical liquid is supplied from the chemical liquid storage tank 100 to the buffer 100a through a pipe by pressurization of the nitrogen gas, and the chemical liquid is supplied to the semiconductor device. The valve 106 and the discharge valve 109 are in a closed state.
이러한 상태에서 제어부에 상기 정전용량센서(108)가 오프 즉, 버퍼(100a) 내의 약액이 거의 고갈되어 감을 알리는 감지신호가 입력되면 제어부는 도시하지 않은 제어부에 연결되어 있는 알람을 울려 약액을 충전해야 함을 알리며, 도시하지 않은 표시부에 이를 표시한다.In this state, when the capacitive sensor 108 is turned off to the control unit, that is, a sensing signal indicating that the chemical liquid in the buffer 100a is almost exhausted, the control unit needs to fill the chemical liquid by ringing an alarm connected to the control unit (not shown). And a display unit not shown.
그리고 제어부는 가압 밸브 제어기(105)를 통해 가압 밸브(104)를 닫아 약액 저장 탱크(100)에의 질소가스의 유입을 차단하고, 드레인 밸브 제어기(107)를 통해 드레인 밸브(106)를 열어 약액 저장 탱크(100) 내의 질소 가스를 배출시키며, 충전 밸브 제어기(111)를 통해 충전 밸브(110)를 열어 약액 공급 라인(PL1)을 통해 공급되는 약액이 약액 저장 탱크(100)에 충전되도록 한다. 이때, 충전 밸브(110)를 통해 약액 저장 탱크(100)에 공급되는 약액은 레귤레이터(112)에 의해 레귤레이팅되어 공급된다.The control unit closes the pressure valve 104 through the pressure valve controller 105 to block the inflow of nitrogen gas into the chemical liquid storage tank 100, and opens the drain valve 106 through the drain valve controller 107 to store the chemical liquid. Nitrogen gas in the tank 100 is discharged, and the filling valve 110 is opened through the filling valve controller 111 so that the chemical liquid supplied through the chemical liquid supply line PL1 is filled in the chemical liquid storage tank 100. At this time, the chemical liquid supplied to the chemical liquid storage tank 100 through the filling valve 110 is regulated by the regulator 112 is supplied.
이와 같이 충전 밸브(110)를 통해 약액 저장 탱크(100)에 약액이 충전되면 이에 따른 센싱값 즉, 로우레벨센서(101), 하이레벨센서(102)의 센싱값을 도시하지 않은 표시부에 표시하며, 제어부는 정해진 소정시간동안 하이레벨센서(102)가 온되지 않으면 오버 타임 에러를 발생시켜 경고하며, 하이하이레벨센서(103)가 온되면 약액 저장 탱크(100)에 약액 공급이 과다(Over Flow)한 것이므로 오버 플로우를 경고한다. As such, when the chemical liquid is filled in the chemical storage tank 100 through the filling valve 110, the sensing value corresponding to the chemical liquid storage tank 100 is displayed on the display unit (not shown), that is, the sensing value of the low level sensor 101 and the high level sensor 102. When the high level sensor 102 is not turned on for a predetermined time, the controller generates an over time error and warns. When the high level sensor 103 is turned on, the chemical liquid supply to the chemical storage tank 100 is excessive (Over Flow). It warns of overflows.
만일, 약액 저장 탱크(100)에 약액이 채워지지 않으면 즉, 일정시간 동안 상기 로우레벨센서(101)가 온되지 않거나 또는 상기와 같이 하이레벨센서(102)가 온되지 않으면 이를 경고하여 장비 운전자가 상기 센서(101),(102) 및 밸브(104),(106)의 고장여부 등을 점검할 수 있도록 한다. 한편, 약액 자동충전방식의 경우 제어부에 약액 저장 탱크(100)에 일정량 만큼 약액이 채워지면 약액 충전을 종료하도록 설정되어 하이하이레벨센서(103)가 온 될 경우는 없을 경우나 혹시 장비의 불량이나 하이하이레벨센서(103)의 고장으로 인해 하이하이레벨센서(103)가 온 될 수 있으므로 상기와 같이 하이하이레벨센서(103)가 온되면 이를 경고하여 장비 운전자가 해당사항을 점검할 수 있도록 하는 것이다.If the chemical liquid is not filled in the chemical storage tank 100, that is, if the low level sensor 101 is not turned on for a predetermined time or the high level sensor 102 is not turned on as described above, the operator of the equipment warns of this. It is possible to check whether the sensor 101, 102 and the valve 104, 106 is broken. On the other hand, in the case of the automatic chemical liquid charging method, if the chemical liquid storage tank 100 is filled with a certain amount of chemical liquid in the control unit is set to end the chemical liquid filling and the high high level sensor 103 is not turned on or if the Since the high high level sensor 103 may be turned on due to a failure of the high high level sensor 103, the high high level sensor 103 is warned when the high high level sensor 103 is turned on so that the equipment driver can check the corresponding matter. will be.
상기 약액 저장 탱크(100)에 정상적인 상태로 약액 충전이 완료되면, 제어부는 상기 충전 밸브 제어기(111)를 통해 충전 밸브(110)를 닫고, 도시하지 않은 리셋 스위치를 오프시킨 후, 드레인 밸브 제어기(107)를 통해 드레인 밸브(106)를 닫고 가압 밸브 제어기(105)를 통해 가압 밸브(104)를 열어 약액 저장 탱크(100)내에 질소가스를 주입하여 약액 저장 탱크(100)내의 약액을 가압하여 약액 저장 탱크(100)로부터 버퍼(100a)로 약액이 공급될 수 있도록 한다.When the chemical liquid filling is completed in the normal state in the chemical storage tank 100, the controller closes the filling valve 110 through the filling valve controller 111, turns off the reset switch (not shown), and then discharges the drain valve controller ( 107 to close the drain valve 106 and open the pressure valve 104 through the pressure valve controller 105 to inject nitrogen gas into the chemical storage tank 100 to pressurize the chemical liquid in the chemical storage tank 100 The chemical liquid may be supplied from the storage tank 100 to the buffer 100a.
그리고 약액 저장 탱크(100)로부터 배관을 통해 버퍼(100a)에 약액이 충전될 수 있도록 배출 밸브(109)를 열어 버퍼(100a)내의 질소가스가 배출시키며, 상기 버퍼(100a)내의 질소가스가 외부로 배출되면 배출 밸브(109)를 닫으며, 상기 약액 저장 탱크(100)로부터의 약액 공급에 따라 버퍼(100a)에 설치된 정전용량센서(108)가 온되면 제어부는 표시부에서 약액 충전 경고를 해제하고, 정상적인 약액 공급이 이루어지도록 한다.The nitrogen gas in the buffer 100a is discharged by opening the discharge valve 109 to fill the buffer 100a with the chemical liquid from the chemical storage tank 100 through a pipe, and the nitrogen gas in the buffer 100a is externally discharged. When discharged to the discharge valve 109 is closed, when the capacitive sensor 108 installed in the buffer (100a) according to the supply of the chemical liquid from the chemical storage tank 100 is turned on, the control unit releases the chemical liquid filling warning from the display unit To ensure normal supply of chemicals.
이상의 본 발명은 정전용량센서(108)의 오프를 기준으로 하여 약액 저장 탱크(100)에의 약액 충전을 설명하였으나, 상기 약액 저장 탱크(100)에 설치된 로우레벨센서(101)의 오프를 기준으로 상기 동작을 수행토록 할 수도 있을 것이다.Although the present invention has described the chemical liquid filling into the chemical liquid storage tank 100 on the basis of the off of the capacitive sensor 108, the chemical liquid storage tank 100 is based on the off level sensor 101 installed in the chemical liquid storage tank 100. You might want to perform an action.
상기와 같은 본 발명은 약액 저장 탱크(100) 및 이의 약액 충전 및 배출을 위한 구성을 다단으로 함으로써 각각의 약액 저장 탱크(100)에 충전되는 약액의 종류를 달리함으로써 하나의 약액공급장치로 다수의 반도체 장비에 해당하는 약액을 공급할 수 있게 된다.In the present invention as described above, the chemical liquid storage tank 100 and its configuration for filling and discharging the chemical liquid are multistage, thereby changing the type of chemical liquid filled in each of the chemical liquid storage tanks 100 to a single chemical liquid supplying device. It is possible to supply the chemical liquid corresponding to the semiconductor equipment.
본 발명은 상기에 기술된 실시 예에 의해 한정되지 않고, 당업자들에 의해 다양한 변형 및 변경을 가져올 수 있으며, 이는 첨부된 청구항에서 정의되는 본 발명의 취지와 범위에 포함된다.The present invention is not limited to the above described embodiments, and various modifications and changes can be made by those skilled in the art, which are included in the spirit and scope of the present invention as defined in the appended claims.
이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명은 반도체 장비의 주장치 내에 약액 저장 탱크를 구비시켜 공간 활용도를 높임과 더불어 부품의 절감은 물론 약액 공급로를 형성할 배관 라인을 간소화할 수 있게 된다.As described above, the present invention provides a chemical storage tank in the main device of the semiconductor equipment, thereby increasing the space utilization and simplifying the piping line to form the chemical liquid supply passage as well as the reduction of parts.
또한, 본 발명은 약액 저장 탱크에의 약액의 충전을 자동방식과 수동방식을 선택적으로 채택할 수 있도록 함으로써 시스템의 효율적 운영을 도모할 수 있게 된다. In addition, the present invention enables the efficient operation of the system by selectively adopting the automatic method and the manual method of filling the chemical liquid into the chemical liquid storage tank.
도 1은 종래의 반도체 제조용 약액공급장치의 개략 구성도.1 is a schematic configuration diagram of a conventional chemical liquid supply device for semiconductor manufacturing.
도 2는 본 발명에 따른 반도체 제조용 약액공급장치의 개략 구성도.Figure 2 is a schematic configuration diagram of a chemical liquid supply device for manufacturing a semiconductor according to the present invention.
도 3은 본 발명에 따른 반도체 제조용 약액공급장치의 일 실시 예에 의한 상세 구성도.Figure 3 is a detailed configuration according to an embodiment of the chemical liquid supply device for semiconductor manufacturing according to the present invention.
도 4는 도 3의 동작 흐름도.4 is an operational flowchart of FIG. 3.
도 5는 본 발명에 따른 반도체 제조용 약액공급장치의 다른 실시 예에 의한 상세 구성도.5 is a detailed configuration diagram according to another embodiment of the chemical liquid supply device for semiconductor manufacturing according to the present invention.
도 6은 도 3의 동작 흐름도.6 is an operational flowchart of FIG. 3.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
100 : 약액 저장 탱크 200 : 약액 공급 주장치100: chemical liquid storage tank 200: chemical liquid supply main unit
101 : 로우레벨센서 102 : 하이레벨센서101: low level sensor 102: high level sensor
103 : 하이하이레벨센서 104 : 가압 밸브103: high high level sensor 104: pressure valve
105 : 가압 밸브 제어기 106 : 드레인 밸브105: pressure valve controller 106: drain valve
107 : 드레인 밸브 제어기 108 : 정전용량센서107: drain valve controller 108: capacitive sensor
109 : 배출 밸브 110 : 충전 밸브109: discharge valve 110: filling valve
111 : 충전 밸브 제어기 112 : 레귤레이터 111: charge valve controller 112: regulator
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