KR100506259B1 - Manufacturing apparatus for liquid crystal display - Google Patents
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Abstract
본 발명은 일정한 반응영역을 정의하는 챔버와; 상기 챔버의 내부에 위치하는 서셉터와; 상기 서셉터의 하부공간을 수평으로 분할하며, 가장자리와 상기 챔버의 측벽과의 사이에 일정한 간격이 유지되도록 설치되는 판상의 배기플레이트와; 상기 챔버의 저면에서 상기 배기플레이트의 가장자리보다 안쪽에 형성되는 배기홀과; 상기 챔버의 외부에서 상기 배기홀에 연결되는 배출관을 포함하는 액정표시장치의 제조장치를 제공한다.The present invention comprises a chamber defining a constant reaction zone; A susceptor located inside the chamber; A plate-shaped exhaust plate configured to horizontally divide the lower space of the susceptor and to maintain a constant distance between an edge and a side wall of the chamber; An exhaust hole formed inward from an edge of the exhaust plate at a bottom of the chamber; Provided is an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device including a discharge pipe connected to the exhaust hole outside the chamber.
Description
본 발명은 액정표시장치(LCD : Liquid Crystal Display)용 프로세스 모듈(process module)에 관한 것으로, 좀 더 자세하게는 액정표시장치용 기판 제조공정이 진행되는 챔버(chamber)에 부설되는 배기구조에 관한 것이다,BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process module for a liquid crystal display (LCD), and more particularly, to an exhaust structure installed in a chamber in which a substrate manufacturing process for a liquid crystal display is performed. ,
최근 정보화 사회로 시대가 급 발전함에 따라 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 가지는 평판표시장치(plate panel display)의 필요성이 대두되었고, 이에 액정표시장치(LCD : liquid crystal display)가 개발되어 현재 노트북이나 데스크탑 모니터 등에 활발하게 사용되고 있다.Recently, as the information society has evolved rapidly, the necessity of a flat panel display having excellent characteristics such as thinness, light weight, and low power consumption has emerged. Accordingly, a liquid crystal display (LCD) has been developed. Currently, it is actively used in laptops and desktop monitors.
액정표시장치는 서로 대향하는 두 기판의 일면에 각각 전계 생성 전극을 형성하고, 이들 각 전극을 서로 마주보도록 배치한 상태에서 그 사이에 액정 물질을 삽입하여 구성되는 화상표시장치로서, 상기 각각의 기판에 형성된 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장의 변화에 따라 그 사이에 개재된 액정을 구동시킴으로서, 변화하는 빛의 투과율을 통해 화상을 표현하는 장치이다.A liquid crystal display device is an image display device formed by forming a field generating electrode on one surface of two substrates facing each other, and inserting a liquid crystal material therebetween with each of the electrodes facing each other. It is a device for representing an image through the change in the transmittance of light by driving the liquid crystal interposed therebetween according to the change of the electric field generated by applying a voltage to the electrode formed in the.
이에 액정표시장치의 제조공정에는 통상 유리 재질의 투명기판 상에 수 차례에 걸친 박막의 증착 및 이를 패터닝(patterning)하는 등의 기판 제조공정이 포함되고, 이러한 기판 제조공정은 통상 챔버(chamber)를 포함하는 액정표시장치용 프로세스 모듈(process module)에서 이루어지는 것이 일반적이다.Accordingly, the manufacturing process of the liquid crystal display device generally includes a substrate manufacturing process such as deposition of a thin film on a transparent substrate made of glass and patterning the substrate several times, and such a substrate manufacturing process usually includes a chamber. It is generally made in a process module for a liquid crystal display including.
이 중 특히 투명기판의 직접적인 처리공정이 진행되는 밀폐된 반응용기인 챔버를 개략적으로 도시한 도 1을 참조하면, 이는 외부로부터 유입된 기체물질의 화학반응을 통해 내부 반응영역에 안착된 투명기판(1)의 상면에 박막을 증착하거나 또는 기(旣) 증착된 박막을 패터닝(patterning) 하는 반응용기로서, 기판 제조공정에 필요한 기체물질이 공급될 수 있도록 외부와 연결되는 유입관(22)과, 내부의 잔류 기체물질을 배출함으로써 챔버(20) 내부의 공정압력을 제어하는 배출관(24) 및 그 말단에 부설되는 펌프(P) 등의 감압수단을 포함하고 있다.In particular, referring to FIG. 1 schematically illustrating a chamber, which is a sealed reaction vessel in which a direct process of a transparent substrate is performed, it is a transparent substrate seated in an internal reaction region through a chemical reaction of gaseous material introduced from the outside ( Reaction vessel for depositing a thin film on the upper surface of 1) or patterning the pre-deposited thin film, the inlet pipe 22 connected to the outside so that the gaseous material required for the substrate manufacturing process can be supplied, And a decompression means such as a discharge pipe 24 for controlling the process pressure inside the chamber 20 by discharging the residual gaseous material therein and a pump P installed at the end thereof.
또한 챔버(20) 내에는 투명기판이 안착되는 테이블(table)로서 서셉터(susceptor)(30)가 챔버(20)의 저면(23)과 평행하게 설치되는데, 통상 이러한 서셉터(30) 내에는 발열 가능한 히터(heater)가 내장되어 그 상면에 안착되는 투명기판(1)을 가열하게 되고, 또한 챔버(20)의 내부로 인입된 유입관(22) 말단에 인젝터(26)를 설치함으로써 외부로부터 공급되는 기체물질을 챔버(20) 내부 전(全)면적으로 확산시키는 것이 일반적이다.In addition, a susceptor 30 is installed in the chamber 20 in parallel with the bottom surface 23 of the chamber 20 as a table on which a transparent substrate is seated. A heat generating heater is built in to heat the transparent substrate 1 seated on the upper surface thereof, and the injector 26 is installed at the end of the inlet pipe 22 introduced into the chamber 20 from the outside. It is common to diffuse the gaseous material supplied to the entire area inside the chamber 20.
따라서 최초 서셉터(30) 상면에 투명기판(1)이 안착된 후 챔버(20)가 밀폐되면, 상기 서셉터(30) 내부에 실장된 히터가 발열하여 투명기판(1)을 가열함과 동시에 배출관(24)을 통해 챔버(20) 내부의 압력을 고유하게 제어하고, 이어서 유입관(22) 및 인젝터(26)를 통해 반응영역 내로 유입되는 기체물질의 화학반응으로 투명기판(1)을 처리하게 된다.Therefore, when the chamber 20 is sealed after the transparent substrate 1 is seated on the upper surface of the susceptor 30, the heater mounted inside the susceptor 30 generates heat to heat the transparent substrate 1. The pressure in the chamber 20 is uniquely controlled through the discharge pipe 24, and then the transparent substrate 1 is treated by chemical reaction of gaseous substances introduced into the reaction zone through the inlet pipe 22 and the injector 26. Done.
이때 특히 챔버(20)의 내부에서 진행되는 기판의 제조공정을 전 후 또는 공정의 진행 중에 있어서, 챔버 내에 잔류하는 기체물질은 펌프(P) 등의 감압수단을 통해 배출관(24)을 경유하여 외부로 배출되어야 하므로 이를 위해 챔버(20) 내에는 배기구조가 부설되는 바, 이를 전술한 도 1 및 도 1에 도시한 일반적인 챔버(20)의 내부 평면도를 도시한 도 2를 참조하여 설명한다.At this time, especially before or during the process of manufacturing the substrate proceeding inside the chamber 20, the gaseous substance remaining in the chamber is externally supplied via the discharge pipe 24 through a decompression means such as a pump (P). Since the exhaust structure is installed in the chamber 20 for this purpose, it will be described with reference to FIG. 2, which shows an internal plan view of the general chamber 20 shown in FIGS. 1 and 1.
먼저 도시한 바와 같이 챔버(20)의 내부 저면(23)에는 다수의 홀이 설치되어 있는데, 이러한 다수의 홀은 각각 챔버의 저면(23) 내에 형성된 유로(22)와 연통되어 있으며, 이중 특히 선택된 하나의 홀은 타 홀에 비하여 상대적으로 큰 내경을 가지고 챔버(20)의 저면(23)을 관통하는 배기홀(21)로 구성되어 하부의 배출관(24)과 연결된다.As shown earlier, a plurality of holes are provided in the inner bottom surface 23 of the chamber 20, each of which communicates with a flow path 22 formed in the bottom surface 23 of the chamber, of which a particularly selected One hole is composed of an exhaust hole 21 penetrating the bottom surface 23 of the chamber 20 with a relatively larger inner diameter than the other hole is connected to the lower discharge pipe 24.
예를 들어 챔버(20)의 저면(23)에는 가장자리를 따라 제 1 내지 제 5 홀(20a, 20b, 20c, 20d, 20e)이 형성된 상태에서, 이들 각각의 홀(20a, 20b, 20c, 20d, 20e)은 챔버저면(23)의 내부에서 형성된 유로(22)와 연통되며, 이러한 유로(22)는 챔버저면(23)을 관통하는 배기홀(21)에 의해 외부의 배출관(24)과 연결되는 것이다.For example, each of the holes 20a, 20b, 20c, and 20d is formed in the bottom surface 23 of the chamber 20 with the first to fifth holes 20a, 20b, 20c, 20d, and 20e formed along the edge. , 20e communicates with the flow passage 22 formed inside the chamber bottom 23, and the flow passage 22 is connected to the external discharge pipe 24 by an exhaust hole 21 passing through the chamber bottom 23. Will be.
이때 배기홀(21)의 직경 및 그 내적은 제 1 내지 제 5 홀(20a, 20b, 20c, 20d, 20e) 보다 커서 수용될 수 있는 기체의 양이 상대적으로 많은데, 이러한 배기홀(21)에 연결되는 배출관(24)의 말단에는 전술한 펌프(P) 등의 감압수단이 부설되는 바, 상기 감압수단의 구동으로 챔버(20)의 내부 잔류 기체물질은 각각 제 1 내지 제 5 홀(20a, 20b, 20c, 20d, 20e)을 통해 배기홀(21) 내부로 수집되어, 도 2의 화살표와 같이 최종적으로 배출관(24)을 통해 외부로 배기되는 것이다.At this time, the diameter of the exhaust hole 21 and its inner product are larger than the first to fifth holes 20a, 20b, 20c, 20d, and 20e so that the amount of gas that can be accommodated is relatively large. Pressure reducing means such as the above-described pump (P) is installed at the end of the discharge pipe (24) to be connected, the internal residual gaseous material of the chamber 20 by the driving of the pressure reducing means, respectively, the first to fifth holes (20a, 20b, 20c, 20d, and 20e are collected into the exhaust hole 21 and finally exhausted to the outside through the discharge pipe 24 as shown by the arrow of FIG. 2.
이때 미설명 부호 30a 는 서셉터(30)를 지지하기 위하여 챔버저면(23)에 관통 설치되는 서셉터 지지관을 도시하고 있으며, 도 2의 점선은 챔버의 저면(23) 내부에 형성된 유로(22)를 나타내는 것으로서, 내부기체가 배출되는 경로를 표시한 것이다.In this case, reference numeral 30a illustrates a susceptor support tube installed through the chamber bottom 23 to support the susceptor 30, and the dotted line in FIG. 2 represents a flow path 22 formed inside the bottom 23 of the chamber. ) Indicates the path through which the internal gas is discharged.
그러나 이러한 일반적인 배기구조를 가지는 챔버(20)를 통해 액정표시장치를 제조할 경우에 몇 가지 문제점이 나타나게 되는데, 이는 챔버저면(23)의 일측으로 치우치게 형성된 하나의 배기홀(21)을 통해 각각의 홀(20a, 20b, 20c, 20d, 20e) 전체를 감압함에 따라, 이 배기홀(21) 및 이에 가까운 위치에 있는 홀(도면에서 각각 20c, 20d)의 압력이 타 홀에 비하여 상대적으로 낮음에 기인하는 배기쏠림의 현상이다.However, when manufacturing a liquid crystal display device through the chamber 20 having such a general exhaust structure, there are some problems, each of which is through one exhaust hole 21 formed to be biased toward one side of the chamber bottom (23) As the entire pressures of the holes 20a, 20b, 20c, 20d, and 20e are reduced, the pressure of the exhaust hole 21 and the hole in the position close thereto (20c, 20d in the drawing, respectively) is relatively lower than that of other holes. This is a phenomenon caused by exhaustion.
즉, 전술한 일반적인 배기구조를 가지는 챔버(20)에 있어서, 잔류기체의 제거를 위해 감압수단이 구동될 경우에 상기 감압수단과 직접 연결되는 배기홀(21) 및 이와 가까운 위치의 홀(도면에서 각각 20c, 20d)의 압력이 타 홀(도면에서 각각 20a, 20b, 20e)에 비하여 상대적으로 낮게되고, 이에 의하여 챔버의 내부 잔류기체물질은 이 부분으로 집중되어 전체적인 배기압력이 한쪽으로 쏠리는 불균일한 배기압력을 나타내게 된다.That is, in the chamber 20 having the general exhaust structure described above, when the decompression means is driven to remove residual gas, the exhaust hole 21 directly connected to the decompression means and a hole at a position close thereto (in the drawing) The pressures of 20c and 20d, respectively, are relatively low compared to the other holes (20a, 20b, and 20e in the drawing, respectively), whereby internal residual gaseous materials in the chamber are concentrated to this portion, resulting in an uneven distribution of the entire exhaust pressure to one side. Exhaust pressure is displayed.
이러한 불균일한 배기압력은 결국 투명기판의 제조공정의 신뢰성을 저하시킴은 물론, 하나의 투명기판에 있어서 위치에 따른 처리정도를 차이나게 하여 완성된 소자의 품질을 저하시키는 원인이 된다.This non-uniform exhaust pressure, in turn, lowers the reliability of the manufacturing process of the transparent substrate, and also causes the quality of the finished device to deteriorate by varying the degree of processing depending on the position in one transparent substrate.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 챔버 내부의 잔류 기체물질을 외부로 배기함에 있어서, 챔버의 반응영역 전 면적에 걸쳐 고른 배기 압력을 부여할 수 있는, 보다 개선된 배기구조를 가지는 액정표시장치용 제조장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, and in the exhaust of residual gaseous materials in the chamber to the outside, an improved exhaust structure that can give an even exhaust pressure over the entire area of the reaction region of the chamber. It is an object of the present invention to provide a manufacturing apparatus for a liquid crystal display device having a.
본 발명은 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 일정한 반응영역을 정의하는 챔버; 상기 챔버의 내부에 위치하는 서셉터; 상기 서셉터의 하부공간을 수평으로 분할하는 판상의 배기플레이트로서, 상기 배기플레이트의 단부와 상기 챔버의 측벽 사이에 일정한 간격이 유지되도록 설치되는 배기플레이트; 상기 배기플레이트의 단부와 상기 챔버의 측벽 사이의 공간을 통하여 상기 반응영역과 연통되고, 상기 챔버의 저면에 형성되며 상기 배기플레이트의 단부보다 안쪽에 형성되는 배기홀; 상기 챔버의 외부에서 상기 배기홀에 연결되는 배출관을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조장치를 제공한다. The present invention to achieve the above object, the chamber defining a constant reaction zone; A susceptor located inside the chamber; A plate-shaped exhaust plate that horizontally divides the lower space of the susceptor, the exhaust plate being installed to maintain a constant distance between the end of the exhaust plate and the side wall of the chamber; An exhaust hole communicating with the reaction region through a space between an end of the exhaust plate and a side wall of the chamber, formed on a bottom surface of the chamber and formed inward of an end of the exhaust plate; It provides an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device comprising a discharge pipe connected to the exhaust hole from the outside of the chamber.
이때 상기 서셉터의 단부와 상기 챔버 측벽사이의 간격이 상기 배기플레이트의 단부와 상기 챔버 측벽사이의 간격보다 큰 것이 바람직하다.In this case, it is preferable that the distance between the end of the susceptor and the side wall of the chamber is greater than the distance between the end of the exhaust plate and the side wall of the chamber.
본 발명에 따른 배기구조를 포함하는 액정표시장치 제조용 챔버의 개략적인 단면은 도 3 에 도시한 바와 같은데, 이때 챔버(120)는 그 내부에 안착된 투명기판(1)의 직접적인 처리공정이 구현되는 밀폐된 반응용기로서, 외부로부터 기판의 제조공정에 필요한 기체물질이 공급되는 유입관(122)과, 내부의 잔류 기체물질을 배출하여 챔버(120) 내의 공정압력을 제어하는 배출관(124) 및 그 말단에 부설되는 펌프(P) 등의 감압수단을 포함하고 있다.A schematic cross-sectional view of a chamber for manufacturing a liquid crystal display device including an exhaust structure according to the present invention is illustrated in FIG. 3, wherein the chamber 120 has a direct processing process of the transparent substrate 1 seated therein. As an airtight reaction vessel, an inlet pipe 122 through which a gaseous material necessary for manufacturing a substrate is supplied from the outside, a discharge pipe 124 for controlling a process pressure in the chamber 120 by discharging residual gaseous material therein and its It includes a pressure reducing means such as a pump (P) attached to the end.
또한 이러한 챔버(120)의 내부에는 투명기판(1)이 안착되는 테이블(table)로서 서셉터(susceptor)(130)가 설치되는데, 이는 챔버(120)의 저면(120a)을 관통하여 일단이 챔버(120) 내로 인입된 서셉터 지지관(130a)의 일 끝단에 결합되어 챔버(120)의 저면(120a)과 수평하게 지지되고, 상기 서셉터(130)의 내부에는 발열 가능한 히터(heater)가 실장되어 그 상면에 안착되는 투명기판(1)을 가열할 수 있음은 일반적인 경우와 동양(同樣)이라 할 수 있을 것이다.In addition, a susceptor 130 is installed inside the chamber 120 as a table on which the transparent substrate 1 is seated, which penetrates through the bottom surface 120a of the chamber 120. Is coupled to one end of the susceptor support tube 130a introduced into the 120 is supported horizontally with the bottom surface (120a) of the chamber 120, the inside of the susceptor 130 is a heater (heater) that can generate heat It can be said that the transparent substrate 1 mounted and mounted on the upper surface thereof can be heated in the ordinary case.
따라서 최초 서셉터(130)의 상면에 투명기판(1)이 안착된 후 챔버(120)가 밀폐되면 히터가 발열하여 투명기판(1)을 가열하고, 이와 동시에 배출관(124)을 통해 챔버(120) 내부의 기체물질을 배출함으로써 반응영역을 고유한 압력으로 제어하게 된다. 이어서 유입관(122)을 통해 반응영역 내로 유입되는 기체물질의 화학반응을 통해 투명기판(1)을 처리하게 되는데, 이때 챔버(120)의 내부 유입관(122)의 말단에는 인젝터(126)를 설치하여, 외부로부터 공급되는 기체물질을 챔버(120)의 내부 전(全)면적으로 확산하도록 하는 것이 바람직하다.Therefore, when the chamber 120 is sealed after the transparent substrate 1 is seated on the upper surface of the first susceptor 130, the heater generates heat to heat the transparent substrate 1, and at the same time, the chamber 120 through the discharge pipe 124. ) By discharging the gaseous material inside, the reaction zone is controlled to its own pressure. Subsequently, the transparent substrate 1 is treated through a chemical reaction of gaseous substances introduced into the reaction region through the inlet pipe 122. In this case, an injector 126 is disposed at the end of the inner inlet pipe 122 of the chamber 120. It is preferable that the gas material supplied from the outside be diffused to the entire entire area of the chamber 120.
또한 전술한 구성을 가지는 액정표시장치 제조용 챔버(120)의 내부에는 특히 본 발명에 따른 배기구조가 포함되는 것을 특징으로 하는 데, 이는 챔버(120)의 내부에서 진행되는 기판의 제조공정 중이나 또는 공정을 전 후로 챔버(120) 내의 잔류 기체물질을 효과적으로 배기하기 위한 역할을 가지고 있다. In addition, the inside of the chamber 120 for manufacturing the liquid crystal display device having the above-described configuration is characterized in that the exhaust structure according to the present invention is included, which is during or during the manufacturing process of the substrate proceeds in the chamber 120 Before and after has a role to effectively exhaust the residual gaseous material in the chamber 120.
이하 이러한 본 발명에 따른 챔버에 부설되는 배기구조를 도 3 및 이의 내부 평면도를 도시한 도 4를 참조하여 설명한다.Hereinafter, the exhaust structure installed in the chamber according to the present invention will be described with reference to FIG. 3 and FIG. 4 showing an internal plan view thereof.
본 발명에 따른 챔버의 배기구조는 전술한 배출관(124) 및 이의 말단에 부설되는 펌프(P) 등의 감압수단과, 챔버(120)의 내부에 수평하게 설치된 서셉터(130)와 챔버(120)의 저면(120a) 사이에 개재되는 배기플레이트(150) 및 챔버(120)의 저면(120a)을 관통하는 배기홀(121)을 포함하고 있는데, 이때 배기플레이트(150)는 챔버(120)의 저면(120a)에 형성된 배기홀(121)을 가릴 정도의 크기를 가지고 각각 챔버(120)의 측벽(120b)과 일정한 간격으로 이격된 것을 특징으로 한다.The exhaust structure of the chamber according to the present invention is a pressure reducing means such as the discharge pipe 124 and the pump (P) attached to the end thereof, the susceptor 130 and the chamber 120 horizontally installed inside the chamber 120 The exhaust plate 150 interposed between the bottom surface (120a) of the) and the exhaust hole 121 passing through the bottom surface (120a) of the chamber 120, wherein the exhaust plate 150 of the chamber 120 The exhaust holes 121 formed in the bottom surface 120a may have a size enough to be spaced apart from the side wall 120b of the chamber 120 at regular intervals.
즉, 본 발명에 따른 챔버(120)는 저면(120a)과, 상기 저면(120a)과 실질적으로 수직하게 설치된 측벽(120b)을 포함하는 밀폐된 반응용기임은 전술한 바 있는데, 이의 내부에 설치되는 배기플레이트(150)는 서셉터보다 크고 챔버의 저면(120a)보다 작은 면적을 가지고 상기 챔버의 측벽으로부터 일정한 간격으로 이격된 판 형상으로서, 서셉터 지지관(130a)에 의하여 관통된 상태로 서셉터(130)와 챔버(120)의 저면(120a) 사이에 실질적으로 평행하게 설치된다. 이때 일반적으로 액정표시장치용 챔버(120)는 통상 사각 박스의 형상을 가지고 있으므로 본 발명에 따른 배기플레이트(150) 또한 각 단부가 챔버(120)의 측벽과 일정한 간격으로 이격될 수 있도록 사각형 형상을 가질 수 있다.That is, the chamber 120 according to the present invention is a sealed reaction container including a bottom surface 120a and a side wall 120b installed substantially perpendicular to the bottom surface 120a, which has been installed above. The exhaust plate 150 is larger than the susceptor and has a smaller area than the bottom surface 120a of the chamber and has a plate shape spaced apart from the side wall of the chamber at regular intervals, and is penetrated by the susceptor support tube 130a. It is installed substantially parallel between the acceptor 130 and the bottom surface 120a of the chamber 120. At this time, since the chamber 120 for a liquid crystal display generally has a shape of a rectangular box, the exhaust plate 150 according to the present invention also has a rectangular shape so that each end thereof is spaced apart from the side wall of the chamber 120 at regular intervals. Can have
또한 이러한 배기플레이트(150)의 하부에 위치하는 배기홀(121)은 특히, 상기 배기플레이트(150)에 의해 가려질 수 있도록 배기플레이트(150)의 안쪽에 대응되는 챔버(120)의 저면(120a)에 형성된다.따라서 이러한 본 발명에 따른 배기구조를 가지는 챔버(120)는 실질적으로 배기플레이트(150)의 배면 및 챔버(120)의 저면(120a)으로 정의되는, 도 3 에 있어서 점선으로 도시한 배기영역을 가지는데, 이러한 배기영역은 배기플레이트(150)의 단부와 챔버 측벽 사이의 공간을 통해 웨이퍼가 안착되는 반응영역과 연통되는 한편, 챔버(120)의 저면(120a)에 관통된 배기홀(121)을 통해 외부와 연결되는 것이다.In addition, the exhaust hole 121 located below the exhaust plate 150 may be, in particular, the bottom surface 120a of the chamber 120 corresponding to the inside of the exhaust plate 150 so as to be covered by the exhaust plate 150. Thus, the chamber 120 having an exhaust structure according to the present invention is shown in phantom in FIG. 3, which is substantially defined as the rear surface of the exhaust plate 150 and the bottom surface 120a of the chamber 120. It has an exhaust area, which is in communication with the reaction area where the wafer is seated through the space between the end of the exhaust plate 150 and the side wall of the chamber, while exhausted through the bottom surface 120a of the chamber 120. It is connected to the outside through the hole 121.
또한 이러한 배기홀(121)은 외부의 배출관(124)과 연결되고, 상기 배출관(124)의 말단에는 펌프(P) 등의 감압수단이 부설되어 있으므로, 이러한 감압수단이 구동하여 배기홀(121)의 압력이 낮아지면 챔버(120) 내에 존재하는 잔류 가스물질은 배기플레이트(150)의 단부와 챔버측벽 사이의 공간을 통해 배기영역으로 유입된 후, 도 4의 화살표와 같이 배기홀(121)을 통해 배출된다.In addition, since the exhaust hole 121 is connected to an external discharge pipe 124, and a pressure reducing means such as a pump P is provided at the end of the discharge pipe 124, the pressure reducing means is driven to discharge the exhaust hole 121. When the pressure of the gas is lowered, the residual gaseous material existing in the chamber 120 flows into the exhaust area through the space between the end of the exhaust plate 150 and the chamber side wall, and then opens the exhaust hole 121 as shown by the arrow of FIG. Is discharged through.
이때 일차적으로는 배기영역 내의 배기홀(121) 방향으로 배기압력이 집중될 수 있겠지만 이는 곧 배기플레이트(150)를 통해 챔버의 내부 전면적으로 고르게 분배되는 것으로, 챔버(120) 내부의 기체물질이 배기영역으로 유입되기 위해서는 최단거리에 위치하는 배기플레이트(150)의 측면과 챔버(120)의 측벽 사이로 유입될 수밖에 없게 되고, 결국 이에 의하여 챔버(120)의 내부에 고른 배기압력이 부여되는 것이다.At this time, the exhaust pressure may be primarily concentrated in the direction of the exhaust hole 121 in the exhaust region, which is distributed evenly to the entire front surface of the chamber through the exhaust plate 150, and the gaseous material inside the chamber 120 is exhausted. In order to be introduced into the area, it is inevitable to flow between the side of the exhaust plate 150 located at the shortest distance and the side wall of the chamber 120, thereby providing an even exhaust pressure to the inside of the chamber 120.
본 발명은 판 상의 배기플레이트를 구비하여 서셉터와 챔버의 저면 사이에 수평하게 개재함으로써, 챔버의 내부 전면적에 걸쳐 고른 배기압력을 부여할 수 있는 장점을 가지고 있다.The present invention has the advantage of providing an even exhaust pressure over the entire inner surface of the chamber by having a plate-like exhaust plate horizontally interposed between the susceptor and the bottom of the chamber.
이때 특히 본 발명은 비교적 간단한 구성을 가지고 있지만 그 효과는 매우 크다 할 수 있는데, 특히 일반적인 액정표시장치의 배기구조를 구현하기 위해 챔버의 저면으로 연통되는 다수의 홀을 필요로 하지 않으므로 그 구성 및 제조공정이 매우 간단해지는 장점과 함께, 챔버의 내부 전면적에 고른 배기압력을 부여함으로서 보다 개선된 액정표시장치의 제조를 가능하게 하는 잇점을 가지고 있다.In this case, in particular, the present invention has a relatively simple configuration, but the effect can be very large. Especially, since the exhaust structure of a general liquid crystal display device does not require a plurality of holes communicated to the bottom of the chamber, its configuration and manufacture In addition to the advantages of the process being very simple, it has the advantage of enabling the production of a more improved liquid crystal display device by applying an even exhaust pressure to the entire inner surface of the chamber.
도 1은 일반적인 액정표시장치 제조용 챔버의 개략적인 단면구조도1 is a schematic cross-sectional structure diagram of a chamber for manufacturing a general liquid crystal display device
도 2는 일반적인 액정표시장치 제조용 챔버의 내부평면도2 is a plan view of the inside of a chamber for manufacturing a general liquid crystal display device
도 3은 본 발명에 따른 액정표시장치 제조용 챔버의 개략적인 단면구조도3 is a schematic cross-sectional view of a chamber for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.
도 4는 본 발명에 따른 액정표시장치 제조용 챔버의 내부평면도4 is an internal plan view of a chamber for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
120 : 챔버 120a : 저면120: chamber 120a: bottom
120b : 측벽 121 : 배기홀120b: side wall 121: exhaust hole
122 : 유입관 124 : 배출관122: inlet pipe 124: discharge pipe
126 : 인젝터 130 : 서셉터126: injector 130: susceptor
130a : 서셉터 지지대 150 : 배기플레이트130a: susceptor support 150: exhaust plate
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