KR100485998B1 - 압출 다이를 이용한 플라스틱 광섬유 모재의 제조방법 - Google Patents

압출 다이를 이용한 플라스틱 광섬유 모재의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 압출다이를 사용하여 제1광학용 재료를 연속상으로, 제2광학용 재료를 다수개의 분산상으로 압출하여, 상기 다수개의 분산상이 축방향으로 배향되도록 한 광섬유 모재의 제조방법에 대한 것이다.

Description

압출 다이를 이용한 플라스틱 광섬유 모재의 제조방법 {Method for Fabricating Optical Fiber Preform Using Extrusion Die}
본 발명은 압출 다이를 이용한 플라스틱 광섬유 모재의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 클래드(Clad) 영역에 광자결정 구조(Photonic crystal structure)를 도입하여 코어(Core)영역과의 굴절률 차이 또는 광자결정 금지대(Photonic crystal band gap)를 가지는 코어-클래드형 광자 결정 섬유(PCF ; Photonic Crystal Fiber: 이하 '광섬유'라 한다)용 모재를 제조하는 방법에 관한 것이다.
광섬유는 통상적으로 단면에서 기공이 분포되어 있는 클래드가 고굴절율의 코어를 둘러 싸고 있는 형태로 기존의 내부 전반사 현상을 통해 광도파가 이루어지는 고굴절률 코어형 광섬유와 기공들이 분포되어 있는 클래드가 기공 등의 저굴절률의 코어를 둘러싸고 있는 형태로 광자결정 금지대 현상을 통해 광도파가 이루어지는 저굴절률 코어형 광섬유로 대별될 수 있다.
광자결정 구조가 형성된 클래드층을 가지는 광섬유의 광도파 성질에 관한 내용들은 여러 문헌에 소개되었다. 예로서, Knight et al., "All Silica Single Mode Optical Fiber with Photonic Crystal Cladding", Optics Letters, V.21, No.19, p1547 (1996), 그리고, Birks, et al., "Endless Single Mode Photonic Crystal Fiber", Optics Letters, V.22, No.13, p961 (1997) 등이 있는데, 이들은 실리카 코어와 다공성 실리카 클래드층으로 이루어진 단일모드 광섬유의 특징에 관한 내용을 기술하고 있다. 이러한 광섬유는 복수의 실리카 관들로 이루어진 삼각형(triangular) 격자의 다발중 중심의 실리카 관을 실리카 봉으로 대체한 후 고온에서의 연신 방법을 통하여 제조된다. 중심의 실리카 봉은 종래 계단형 굴절률(Step-index: 이하 SI) 광섬유의 코어에 해당하며, 이를 둘러쌓고 축방향에 수직인 단면상에서 규칙적인(periodicity) 배열의 기공들을 포함하는 클래딩 층으로 이루어진다. 클래딩 영역에 존재하는 기공들은 광섬유의 축방향 양끝단까지 연신된 구조를 하고 있는데, 이로 인해 클래드층은 효과 굴절률(effective refractive index)의 변화가 생겨, 모드장(mode field)의 직경이나 분산성질(dispersion property) 등의 광도파 성질의 변화를 야기한다. 광섬유 단면상의 광세기 분포(mode power distribution)는 광섬유의 특성을 결정하는 중요한 인자인데, 클래드층의 효과 굴절률의 변화는 결과적으로 광섬유의 광도파 성질을 변화시킨다. 또한, 계단형 굴절률 광섬유에 비해 고출력의 레이저를 단일모드에서 도파할 수 있는 독특한 결과를 보이기도 한다. 추가적으로 클레딩 영역에서 기공의 분율을 조절하여 코어와의 상대 굴절률을 조절할 수 있다는 사실도 매우 유리한 사항이다. 이러한 광섬유의 경우, 기존의 광섬유의 광도파 개념인 내부 전반사(total internal reflection: 이하 TIR) 메카니즘에 의한 것으로 높은 굴절률로 이루어진 코어 영역과 이보다 낮은 굴절율을 갖는 물질이 클래드층을 형성하는 축방향에 수직한 단면을 가지는 부류의 광섬유이다. 기존의 광섬유의 특이한 특성들은 Broeng et al., "Invited Paper : A new class of optical waveguides", Optical Fiber Technology, V.5, p305 (1999)에 잘 정리되어 있다.
한편, 축방향에 수직한 단면에 분산된 기공이 삼각형이나 벌집모양 등과 같은 임의의 주기적인 구조의 격자 모양을 가지는 클래딩으로 둘러 쌓인 코어가 기공으로 이루어졌을 때 이 구조에 상응하는 주파수를 가지는 빛에 대해 2차원적으로 광자결정 금지대(photonic crystal band gap: 이하 PCBG)가 형성되어 빛이 코어 영역에 한정됨으로 인해 광도파가 이루어질 수 있다는 사실이 알려져 있다. (Birks et al., "Full 2-D photonic bandgap in silica/air structures", Electronics Letters, V.31, No. 22, p1941 (1995), Knight et al. "Photonic band gap guidance in optical fiber", Science, V.282, p1476 (1998))
이러한 PCBG 구조는 새로운 광학적인 개념으로서 3차원의 주기성을 가지는 PCBG 물질에 있어서, 이에 상응하는 일정한 파장을 가지는 파는 이 물질을 통하여 진행되는 것을 제한받는다. 2차원의 주기성을 가지는 PCBG 물질의 경우, 전파(propagation)가 금지된 주기면(periodic plane)에 대해 수직한 전파상수 β (propagation constant)는 임의의 범위를 갖는다. 그러한 물질의 응용예 중의 하나가 PCBG물질로 이루어진 클래딩으로 둘러 쌓인 중심 기공 영역에 빛을 제한하는 방법을 이용해서 광도파를 구현하는 것이다. 이와 같이 클래드층이 적당한 분산 배열의 단면을 가지는 광섬유는 코어에만 빛을 한정하여 도파를 할 수 있을 것이다. 이러한 개념의 광섬유는 정보통신망을 이용한 고속/대용량의 데이터 전송에 있어서 획기적인 전기를 마련할 수 있을 것이다.
이러한 광섬유는 연속상을 이루는 광학재료와 주로 공기로 이루어져 있는 분산상의 굴절률비, 분산상의 크기와 이들의 중심간의 거리에 따라 여러 가지 특이한 성질을 보이며, PCBG의 존재 여부도 이들의 값에 의존한다. 기존의 광섬유에 있어서 주로 연속상을 이루는 광학적 재료로는 실리카(굴절률 1.45)가 사용되었으며, 주된 제조 방법은 실리카 관과 봉을 임의의 단면 배열을 갖도록 묶어서 약 2000℃의 고온에서 연신을 하는 방법이었다. 이러한 제조 방법에 있어서 주된 인자는 연신된 후의 단면에서 기공의 크기, 기공의 중심간의 거리, 기공의 배열 모양이 주된 것들이었으며, 이로 인해 일차적으로 클래딩의 유효 굴절률이 변화하여 실리카 코어와의 굴절율 차이로 인한 광도파의 구현이 주된 원리였다. 이러한 내용은 US 5,802,236, WO 00-16141, WO 00-37974, WO 99-00685, WO 00-49435, WO 00-49435, WO 00-60388, WO 99-64903, WO 00-64904 등에 잘 기술이 되어 있다.
그러나, 1.45 정도의 굴절률을 가지는 고분자 광학재료를 분산상의 재료로 하여 압출기를 이용한 미세구조의 단면을 가지는 광섬유 모재를 제조하는 방법은 알려져 있지 않다. 다만, 이러한 다공성 섬유의 압출은 단면상에 다중의 코어 할로우(core hollow)를 포함하는 내시경(endscope)의 제조(미국특허 제5,471,553호) 및 광학적 신호 전달용 광섬유의 제조(미국특허 제6,188,824호) 등에 사용되어지고 있지만, 이들의 경우도 기존의 TIR 개념에 근간한 다중의 광섬유 다발의 제조를 그 목적으로 한다. 특히 기존의 자동차 배기 영역에서 사용되는 결정 변환기(crystallic converter)를 제조하기 위해 무기재료를 이용한 벌집모양 구조의 제작을 위해 압출기 다이를 사용한 발명을 응용하여 광섬유의 모재 제작 및 연신 공정에 관한 방법(미국특허 제6,260,388호)이 제시되었으나, 그 사용된 압출 다이가 본 발명에서 제시한 구조와 상이하며, 재료의 경우도 고온 소결(sintering) 공정이 수반되는 글래스 파우더와 바인더의 혼합물을 예로 들고 있다. 본 발명에서 사용되는 압출 다이의 경우 고분자 용융체의 압출에 적합하고, 동시에 단면에 분포된 분산상을 공기 이외의 연속상의 광학 물질과는 다른 광학적 물질을 분포시킬 수 있는 장점을 가진다.
도 1a는 본 발명에 따른 플라스틱 광섬유 모재를 제조하기 위한 압출다이 구조의 일예를 나타내는 단면도,
도 1b는 도 1a의 압출다이 구조를 압출방향에서 바라본 도면,
도 2a는 분산상 물질을 주입하는 별도의 장치를 구비하지 않고 공기 이외의 물질을 분산상으로 하는 플라스틱 광섬유 모재를 제조하기 위한 압출다이 구조의 일예를 나타내는 단면도,
도 2b는 도 2a의 압출다이 구조를 압출방향에서 바라본 도면,
도 3은 본 발명에 의해 제조되는 플라스틱 광섬유 모재의 단면 개략도,
도 4는 실시예 1에서 사용된 압출 다이를 압출방향에서 바라본 도면, 및
도 5는 실시예 2에서 사용된 압출 다이를 압출방향에서 바라본 도면이다.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 고분자 용융체의 압출에 적합하도록 설계된 다이를 이용하여, 미세 구조의 광섬유를 보다 간단하고 저렴한 비용으로 제조할 수 있으며, 이미 기술한 인자들 이외에 쉽게 조절이 가능한 인자들을 추가하여 보다 정확하고 넓은 응용 분야를 형성시킬 수 있는 광자결정을 가지는 플라스틱 광섬유 모재의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
즉, 본 발명은 제1광학용 재료를 연속상으로, 제2광학용 재료를 다수개의 분산상으로 압출하여, 상기 다수개의 분산상이 축방향으로 배향되도록 하는 광섬유 모재의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에서는 압출다이를 사용하여 연속상 내에서 분산상이 축방향으로 배향된 광섬유 모재를 제공함을 특징으로 한다.
분산상은 일정한 크기와 형태를 가지고, 규칙적인 격자형태로 배열되거나 불규칙적으로 분포될 수 있다. 이러한 분산상의 부피분율에 의해 클래드층의 유효 굴절율이 변화하고 따라서 기존의 계단형 굴절률 차이를 이용한 광섬유에서는 관찰되지 않았던 특이한 성질들이 나타난다.
도 1a 및 1b는 본 발명에 따라 플라스틱 광섬유 모재를 제조하기 위한 압출다이 구조를 나타내는 도면이다. 압출기로부터 다이(1)의 입구에 이송된 수지 용융체(5)는 다이의 단면에 존재하는 임의의 배열을 가지는 구조(2)에 의해 분산상(3)을 포함하여 다이의 출구를 통해 나온다. 다이에는 분산상의 물질을 주입할 수 있는 입구(6)이 존재하는데, 이를 통해 공기 이외의 분산상의 물질이 연속상(4)에 분포하게 된다.
도 2a 및 2b는 도 1a 및 1b와 달리 분산상 물질을 주입하는 별도의 장치를 구비하지 않고 공기 이외의 물질을 분산상으로 하는 플라스틱 광섬유 모재를 제조하기 위한 압출다이 구조를 나타내는 도면이다. 분산상이 공기일 경우, 별도의 분산상의 물질을 주입하는 장치가 없이 다이의 단면에 존재하는 임의의 배열을 가지는 구조(2)에 의해 공기 이외의 물질(7)이 분산된 연속상(4)의 단면을 가지는 모재의 제조가 가능하다.
본 발명에서와 같이 압출 다이를 사용하여 플라스틱 광섬유 모재를 제조하는 경우, 압출 다이구조를 조절하여 분산상의 모양, 크기, 거리, 배열 등을 쉽게 변형할 수 있다.
도 3은 광학용 고분자를 연속상으로 하고, 공기 이외의 물질을 분산상으로 하여 제조된 플라스틱 광섬유 모재의 일예를 나타낸다. 여기서 기호 8은 모재에서의 분산상 직경(d')를 나타내고 기호 9는 모재에서의 분산상의 중심간 거리(Λ')를 나타내는데 이들 역시 하나의 조절인자에 속한다.
플라스틱 광섬유의 모재를 제조할 때, 목적하는 파장의 빛에 대한 흡수 손실이 최소가 되도록 광학적으로 투명한 물질을 원료로 사용하여야 하며, 종래에 사용되어 온 실리카 외에도 실리카와 비슷한 굴절률을 갖는 여러가지 광학용 플라스틱 재료를 사용할 수 있다.
본 발명에서 광학용 재료로 선택될 수 있는 광학용 고분자로는 폴리메틸메타크릴레이트(polymethyl methacrylate), 메틸메타크릴레이트(methyl metahcrylate)를 주성분으로 하는 공중합체, 폴리스티렌(polystyrene), 스티렌(styrene)을 주성분으로 하는 공중합체, 스티렌과 아크릴로나이트릴(acrylonitrile)의 공중합체, 폴리-4-메틸펜텐-1(poly-4-methylpentene-1), 에칠렌(ethylene)과 비닐 아세테이트(vinyl acetate)의 공중합체, 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리클로로스티렌(polychlorostyrene), 폴리비닐리덴 클로라이드(polyvinylidene chloride), 폴리비닐 아세테이트(polyvinyl acetate), 메틸메타크릴레이트와 스티렌, 비닐톨루엔(vinyltoluene)이나 α-메틸스틸렌(α-methylstyrene)과 무수 말레산(maleic anhydride)로 이루어진 삼원 공중합체 혹은 사원 공중합체, 폴리다이메틸실록세인(polydimethylsiloxane), 폴리아세탈(polyacetal), 폴리테트라플루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene), 폴리비닐리덴 플루오라이드(polyvinylidene fluoride), 폴리트리플루오로에틸렌(polytrifluoroethyelene), 폴리퍼플루오로프로필렌(polyperfluoropropylene), 플루오렌(fluorene) 공중합체 혹은 삼원 공중합체, 폴리비닐리덴 플루오라이드(polyvinylidene fluoride)와 폴리메틸메타크릴레이트의 블렌드, 일반식 CH2=C(CH3)COORf(여기서 Rf는 (CH2)m(CF2 )nH, (CH2)m(CF2)nF, CH-(CF3)2, C(CF3)3, CH2CF2CHFCF3 , 혹은 CH2CF2(CF3)2, m=1~20, n=1~20인 정수) 로 표현되는 플루오로메타크릴레이트(fluoromethacrylate)를 주성분으로 하는 고분자, 상기 플루오로메타크릴레이트를 포함하는 공중합체, 상기 플루오로메타크릴레이트와 메틸메타크릴레이트의 공중합체, 일반식 CH2CHCOOR'f(여기서 R'f는 (CH2)m(CF 2)nF, (CH2)m(CF2)nH, CH2CF2CHFCF3, 혹은 CH(CH3)2, m=1~20, n=1~20인 정수)로 표현되는 플루오로아크릴레이트(fluoroacrylate)를 주성분으로 하는 고분자, 상기 플루오로아크릴레이트를 포함하는 공중합체, 상기 플루오로아크릴레이트와 플루오로메타크릴레이트의 공중합체, 상기 플루오로아크릴레이트, 플루오로메타크릴레이트 및 메틸메타크릴레이트의 공중합체, 일반적으로 CH2=CFCOOR"f(여기서 R"f는 CH3, (CH2)m(CF2)nH, (CH2)m(CF2) nF, C(CF3)3, 혹은 CH2CF2CHFCF3, m=1~20, n=1~20인 정수) 로 표현되는 2-플루오로아크릴레이트(2-fluoroacrylate)의 중합체 및 상기 2-플루오로아크릴레이트의 중합체를 포함하는 공중합체 등이 있다. 물질적인 관점에서 원하는 파장의 흡수 손실을 최소화하기 위해서는 물질의 선택에 있어서 플루오로 치환 플라스틱이나 중수소 치환 플라스틱 등을 포함하는 광학용 재료들을 사용할 수 있다.
분산상을 형성하는 제2광학용 재료로는 제1광학용 재료보다 낮은 굴절율을 가지는 광학용 고분자를 사용할 수 있으나 바람직하기로는 분산상은 기공으로 형성한다.
본 발명에 따르면 코어-클래드형 광섬유의 코어의 기능을 하는 코어영역을 연속상으로 형성하여 내부 전반사 현상을 통해 광도파가 이루어지는 고굴절률 코어형 광섬유를 제조하거나, 코어영역을 분산상으로 형성하여 광자결정 금지대(Photonic crystal bandgap) 효과에 의해 광도파가 이루어지는 저굴절률 코어형 광섬유로 제조할 수 있다. 또한, 코어영역을 연속상보다 굴절율이 높거나 또는 낮은 제3광학용 재료로 형성하여 광섬유 모재를 제조하는 것도 가능하다
본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 구체화될 것이며, 하기 실시예는 본 발명의 구체적인 예시에 불과하며 본 발명의 보호 범위를 한정하거나 제한하고자 하는 것은 아니다.
실시예 1
도 4와 같은 구조를 가지는 압출 다이를 사용하여 굴절률이 1.49, 용융 흐름 지수가 230℃에서 1.5g/10min인 폴리메틸메타크릴레이트의 용융체를 압출하였다. 분산상의 압출을 위한 분산 구조물들이 벌집모양 배열을 갖도록 하여 광섬유 모재를 압출하였다. 압출된 모재는 d'=1mm, Λ'=2mm의 기공들이 벌집모양 배열로 이루어진 클래드 영역을 가지고 있다. 이 모재의 직경은 50cm이다. 분산상의 경우 압출과정에서 질소를 투입하여 기공을 유지시키도록 하였다.
실시예 2
도 5와 같은 구조를 가지는 압출다이를 사용하여 굴절률이 1.49, 용융 흐름 지수가 230℃에서 1.5g/10min인 폴리메틸메타크릴레이트의 용융체를 압출하였다. 분산상으로 기공을 형성하기 위한 분산 구조물들은 삼각형 배열을 갖는다. 압출된 모재는 d'=1mm, Λ'=2mm의 기공들이 삼각형 배열로 이루어진 클래드 영역을 가지고 있다. 이 모재의 직경은 50cm이다.

Claims (14)

  1. 제1광학용 재료를 연속상으로, 제2광학용 재료를 다수개의 분산상으로 압출하여, 상기 다수개의 분산상이 축방향으로 배향되도록 하는 광섬유 모재의 제조방법.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서, 상기 광섬유 모재에서 코어영역이 분산상 성분으로 형성되어 광자결정 금지대(photonic crystal band gap) 현상에 의해 광도파가 이루어지는 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 광섬유 모재에서 코어영역이 연속상보다 굴절율이 높거나 낮은 제3광학용 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 제1광학용 재료가 폴리메틸메타크릴레이트(polymethyl methacrylate), 메틸메타크릴레이트(methyl metahcrylate)를 주성분으로 하는 공중합체, 폴리스티렌(polystyrene), 스티렌(styrene)을 주성분으로 하는 공중합체, 스티렌과 아크릴로나이트릴(acrylonitrile)의 공중합체, 폴리-4-메틸펜텐-1(poly-4-methylpentene-1), 에칠렌(ethylene)과 비닐 아세테이트(vinyl acetate)의 공중합체, 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리클로로스티렌(polychlorostyrene), 폴리비닐리덴 클로라이드(polyvinylidene chloride), 폴리비닐 아세테이트(polyvinyl acetate), 메틸메타크릴레이트와 스티렌, 비닐톨루엔(vinyltoluene)이나 α-메틸스틸렌(α-methylstyrene)과 무수 말레산(maleic anhydride)로 이루어진 삼원 공중합체 혹은 사원 공중합체, 폴리다이메틸실록세인(polydimethylsiloxane), 폴리아세탈(polyacetal), 폴리테트라플루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene), 폴리비닐리덴 플루오라이드(polyvinylidene fluoride), 폴리트리플루오로에틸렌(polytrifluoroethyelene), 폴리퍼플루오로프로필렌(polyperfluoropropylene), 플루오렌(fluorene) 공중합체 혹은 삼원 공중합체, 폴리비닐리덴 플루오라이드(polyvinylidene fluoride)와 폴리메틸메타크릴레이트의 블렌드, 일반식 CH2=C(CH3)COORf(여기서 Rf는 (CH2) m(CF2)nH, (CH2)m(CF2)nF, CH-(CF3)2, C(CF3 )3, CH2CF2CHFCF3, 혹은 CH2CF2(CF 3)2, m=1~20, n=1~20인 정수) 로 표현되는 플루오로메타크릴레이트(fluoromethacrylate)를 주성분으로 하는 고분자, 상기 플루오로메타크릴레이트를 포함하는 공중합체, 상기 플루오로메타크릴레이트와 메틸메타크릴레이트의 공중합체, 일반식 CH2CHCOOR'f(여기서 R'f는 (CH2)m(CF2)nF, (CH2)m(CF2) nH, CH2CF2CHFCF3, 혹은 CH(CH3)2, m=1~20, n=1~20인 정수)로 표현되는 플루오로아크릴레이트(fluoroacrylate)를 주성분으로 하는 고분자, 상기 플루오로아크릴레이트를 포함하는 공중합체, 상기 플루오로아크릴레이트와 플루오로메타크릴레이트의 공중합체, 상기 플루오로아크릴레이트, 플루오로메타크릴레이트 및 메틸메타크릴레이트의 공중합체, 일반적으로 CH2=CFCOOR"f(여기서 R"f는 CH3, (CH2)m(CF2)nH, (CH2)m(CF 2)nF, C(CF3)3, 혹은 CH2CF2CHFCF3 , m=1~20, n=1~20인 정수) 로 표현되는 2-플루오로아크릴레이트(2-fluoroacrylate)의 중합체 및 상기 2-플루오로아크릴레이트의 중합체로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 제2광학용 재료가 폴리메틸메타크릴레이트(polymethyl methacrylate), 메틸메타크릴레이트(methyl metahcrylate)를 주성분으로 하는 공중합체, 폴리스티렌(polystyrene), 스티렌(styrene)을 주성분으로 하는 공중합체, 스티렌과 아크릴로나이트릴(acrylonitrile)의 공중합체, 폴리-4-메틸펜텐-1(poly-4-methylpentene-1), 에칠렌(ethylene)과 비닐 아세테이트(vinyl acetate)의 공중합체, 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리클로로스티렌(polychlorostyrene), 폴리비닐리덴 클로라이드(polyvinylidene chloride), 폴리비닐 아세테이트(polyvinyl acetate), 메틸메타크릴레이트와 스티렌, 비닐톨루엔(vinyltoluene)이나 α-메틸스틸렌(α-methylstyrene)과 무수 말레산(maleic anhydride)로 이루어진 삼원 공중합체 혹은 사원 공중합체, 폴리다이메틸실록세인(polydimethylsiloxane), 폴리아세탈(polyacetal), 폴리테트라플루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene), 폴리비닐리덴 플루오라이드(polyvinylidene fluoride), 폴리트리플루오로에틸렌(polytrifluoroethyelene), 폴리퍼플루오로프로필렌(polyperfluoropropylene), 플루오렌(fluorene) 공중합체 혹은 삼원 공중합체, 폴리비닐리덴 플루오라이드(polyvinylidene fluoride)와 폴리메틸메타크릴레이트의 블렌드, 일반식 CH2=C(CH3)COORf(여기서 Rf는 (CH2)m(CF2)nH, (CH2)m(CF2)nF, CH-(CF3)2, C(CF3)3, CH2CF2CHFCF3, 혹은 CH2CF2(CF3)2, m=1~20, n=1~20인 정수) 로 표현되는 플루오로메타크릴레이트(fluoromethacrylate)를 주성분으로 하는 고분자, 상기 플루오로메타크릴레이트를 포함하는 공중합체, 상기 플루오로메타크릴레이트와 메틸메타크릴레이트의 공중합체, 일반식 CH2CHCOOR'f(여기서 R'f는 (CH2)m(CF2)nF, (CH2)m(CF2)nH, CH2CF2CHFCF3, 혹은 CH(CH3)2, m=1~20, n=1~20인 정수)로 표현되는 플루오로아크릴레이트(fluoroacrylate)를 주성분으로 하는 고분자, 상기 플루오로아크릴레이트를 포함하는 공중합체, 상기 플루오로아크릴레이트와 플루오로메타크릴레이트의 공중합체, 상기 플루오로아크릴레이트, 플루오로메타크릴레이트 및 메틸메타크릴레이트의 공중합체, 일반적으로 CH2=CFCOOR"f(여기서 R"f는 CH3, (CH2)m(CF2)nH, (CH2)m(CF2)nF, C(CF3)3, 혹은 CH2CF2CHFCF3, m=1~20, n=1~20인 정수) 로 표현되는 2-플루오로아크릴레이트(2-fluoroacrylate)의 중합체 및 상기 2-플루오로아크릴레이트의 중합체로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.
  7. 제 1항에 있어서, 상기 제3광학용 재료가 폴리메틸메타크릴레이트(polymethyl methacrylate), 메틸메타크릴레이트(methyl metahcrylate)를 주성분으로 하는 공중합체, 폴리스티렌(polystyrene), 스티렌(styrene)을 주성분으로 하는 공중합체, 스티렌과 아크릴로나이트릴(acrylonitrile)의 공중합체, 폴리-4-메틸펜텐-1(poly-4-methylpentene-1), 에칠렌(ethylene)과 비닐 아세테이트(vinyl acetate)의 공중합체, 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리클로로스티렌(polychlorostyrene), 폴리비닐리덴 클로라이드(polyvinylidene chloride), 폴리비닐 아세테이트(polyvinyl acetate), 메틸메타크릴레이트와 스티렌, 비닐톨루엔(vinyltoluene)이나 α-메틸스틸렌(α-methylstyrene)과 무수 말레산(maleic anhydride)로 이루어진 삼원 공중합체 혹은 사원 공중합체, 폴리다이메틸실록세인(polydimethylsiloxane), 폴리아세탈(polyacetal), 폴리테트라플루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene), 폴리비닐리덴 플루오라이드(polyvinylidene fluoride), 폴리트리플루오로에틸렌(polytrifluoroethyelene), 폴리퍼플루오로프로필렌(polyperfluoropropylene), 플루오렌(fluorene) 공중합체 혹은 삼원 공중합체, 폴리비닐리덴 플루오라이드(polyvinylidene fluoride)와 폴리메틸메타크릴레이트의 블렌드, 일반식 CH2=C(CH3)COORf(여기서 Rf는 (CH2)m(CF2)nH, (CH2)m(CF2)nF, CH-(CF3)2, C(CF3)3, CH2CF2CHFCF3, 혹은 CH2CF2(CF3)2, m=1~20, n=1~20인 정수) 로 표현되는 플루오로메타크릴레이트(fluoromethacrylate)를 주성분으로 하는 고분자, 상기 플루오로메타크릴레이트를 포함하는 공중합체, 상기 플루오로메타크릴레이트와 메틸메타크릴레이트의 공중합체, 일반식 CH2CHCOOR'f(여기서 R'f는 (CH2)m(CF2)nF, (CH2)m(CF2)nH, CH2CF2CHFCF3, 혹은 CH(CH3)2, m=1~20, n=1~20인 정수)로 표현되는 플루오로아크릴레이트(fluoroacrylate)를 주성분으로 하는 고분자, 상기 플루오로아크릴레이트를 포함하는 공중합체, 상기 플루오로아크릴레이트와 플루오로메타크릴레이트의 공중합체, 상기 플루오로아크릴레이트, 플루오로메타크릴레이트 및 메틸메타크릴레이트의 공중합체, 일반적으로 CH2=CFCOOR"f(여기서 R"f는 CH3, (CH2)m(CF2)nH, (CH2)m(CF2)nF, C(CF3)3, 혹은 CH2CF2CHFCF3, m=1~20, n=1~20인 정수) 로 표현되는 2-플루오로아크릴레이트(2-fluoroacrylate)의 중합체 및 상기 2-플루오로아크릴레이트의 중합체로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.
  8. 제1항에 있어서, 분산상의 단면이 원형, 타원, 별모양, 삼각형, 사각형, 오각형, 육각형, 다른 다각형 또는 다른 기하학적인 폐곡면의 단면 모양을 가지는 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.
  9. 제 1항에 있어서, 상기 분산상들이 규칙적이거나 또는 불규칙적인 격자 배치를 가지는 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.
  10. 제 1항에 있어서, 상기 분산상이 삼각형(triangular), 사각형(square), 육각형(hexagonal), 또는 벌집모양(honeycomb)의 배치형태인 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.
  11. 제 1항에 있어서, 상기 분산상이 삼각형(triangular), 사각형(square), 육각형(hexagonal), 및 벌집모양(honeycomb)으로부터 선택된 둘 이상의 배치 형태가 공존하는 형태인 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.
  12. 제 1항에 있어서, 분산상들의 크기가 연속상의 중심으로부터의 거리에 따라 변화하는 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.
  13. 제 1항에 있어서, 하나 혹은 둘 이상의 코어가 존재하는 것을 특징으로 하는 광섬유 모재의 제조방법.
  14. 제1광학용 재료를 연속상으로, 제2광학용 재료를 다수개의 분산상으로 압출하여, 상기 다수개의 분산상이 축방향으로 배향되도록 하여 광섬유 모재를 제조하고, 이를 연속적으로 연신하여 광섬유를 제조하는 방법.
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