KR100485751B1 - 웨이퍼 세정 장치용 순수 공급 라인 시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 스핀 드라이어의 오염 방지구조에 관한 것으로, 본 발명에 따른 스핀드라이어의 오염방지방법은, 핫 DIW 가 공급되도록 핫DIW유니트에 케미칼 용기 및 지지탱크가 연결되고, DIW 가 공급되도록 DIW 메인파이프에 연결된 스핀 드라이어 세정라인과, 린스용기라인 및 압력게이지라인을 포함하는 스핀드라 이어의 오염방지구조에 있어서, 상기 스핀 드라이어 세정라인은 상기 핫 DIW 가 공급 되도록 상기 핫 DIW유니트에 연결되어 있는 것이다.

Description

웨이퍼 세정 장치용 순수 공급 라인 시스템{DIW Supply Line System for Wafer Cleaning Apparatus}
본 발명은 스핀 드라이어의 오염 방지 구조에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 습식 식각장비의 웨이퍼 세정 장치에서 건식용 스핀 드라이어의 오염 방지구조에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 제조공정에 사용되는 스핀드라이어는 케미칼처리 및 DIW 린스후 최종적으로 드라이를 하기 위해 빠른 속도를 이용하여 웨이퍼 표면의 DIW (수분)을 말리는 장치를 말한다.
이 장치의 세정상태는 디바이스의 고품질 생산에 중요한 일부분이므로 주기적으로 DIW를 이용하여 자동적으로 세정(flushing)을 실시한다.
이러한 관점에서, 종래기술에 따른 스핀 드라이어장치의 자동 세정구조에 대해 도 1 및 2를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 1는 종래기술에 따른 습식식각장비 구조 및 웨이퍼의 이동을 간략하게 도시한 개략도이고, 도 2는 종래기술에 따른 스핀드라이어의 DIW 세정 메카니즘을 설명하기 위한 개략도로서, (a)는 메인라인으로부터 스핀드라이어 내부의 각 라인으로 공급되는 것을 나타내고, (b)는 유니트로부터 캐미칼용기와 지지탱크내로 DIW 가 공급(b)되는 것을 나타낸 개략도이다.
도 1에 도시된 바와같이, 웨이퍼투입 및 반출구역(10)으로 통해 웨이퍼가 스핀드라이어(20)내로 이동된 상태에서 케미칼 및 린스부스(30)를 거쳐 세정공정을 진행한후 다시 웨이퍼투입 및 반출구역(10)을 통해 외부로 이동시키는 단계로 이루어져 있다.
이러한 구조로 이루어진 스핀 드라이어(20)내부에서의 DIW 의 흐름은, 도 2a에 도시된 바와 같이, DIW 메인 파이프를 통해 스핀 드라이어 세정 라인과 린스 용기 라인 및 압력 게이지 라인으로 구성된 스핀 드라이어 장치용 DIW 공급 라인에 DIW를 공급하고, 각 라인에서의 DIW를 샘플링한다.
이렇게 하여, 박테리아 유무를 몇차례에 걸쳐 점검한 결과 다량의 박테리아가 발생한다.
또한, 도 2b에 도시된 바와 같이, 케미칼 및 린스처리를 진행하기 위해 설치된 핫 DIW 유니트에서는 일반 DIW를 공급받아 온도를 70 내지 80 ℃ 정도로 상승시켜 사용한다. 여기서, 핫 DIW 유니트에서 가열된 핫 DIW는 케미컬 세정 장치용 DIW 공급라인을 통해 케미컬 세정 장치 및 지지 탱크에 공급된다.
그러나, 상기와 같은 종래기술에 의하면, 스핀드라이어에 공급되는 DIW라인에 DIW 정체 및 오염으로 인해 박테리아의 생성가능성이 있으며, 이러한 문제로 인하여 자동세정의 경우 박테리아로 오염된 DIW로 세정을 실시하게 되므로써 스핀드라이어내부가 오염되어, 드라이시 웨이퍼의 오염의 한 원인이 될 수 있다.
이에 본 발명은 상기 종래기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 스핀드라이어에 핫 DIW가 공급되도록 스핀드라이어 세정 라인을 핫 DIW 유니트에 연결하여 자동세정을 실시하므로써 박테리아 살균 및 발생을 억제할 수 있는 스핀 드라 이어의 오염 방지구조를 제공함에 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 웨이퍼 세정 장치용 DIW 공급 라인 시스템은, 케미컬 세정 장치 및 스핀 드라이어 장치를 포함하는 웨이퍼 세정 장치에서 (a) 상온의 DIW를 공급하는 DIW 메인 파이프, (b) 핫 DIW를 공급하는 핫 DIW 유니트, (c) 상기 케미컬 세정 장치에 상기 핫 DIW 를 공급하기 위한 케미컬 세정 장치용 DIW 공급라인 및 (d) 상기 스핀 드라이어 장치에 DIW를 공급하기 위한 린스 용기 라인, 압력 게이지 라인 및 스핀 드라이어 세정 라인을 포함하는 스핀 드라이어 장치용 DIW 공급 라인을 포함하는 웨이퍼 세정 장치용 DIW 공급 라인 시스템에 있어서, 상기 스핀 드라이어 세정 라인은 그 일단이 상기 스핀 드라이어 장치에 연결되고 그 타단은 제1 가지 및 제2 가지로 분기되어 상기 제1 가지는 상기 DIW 메인 파이프에 연결되고 상기 제2 가지는 상기 핫 DIW 유니트에 연결되며, 상기 스핀 드라이어 세정 라인에 공급되는 핫 DIW의 온도를 70℃ 이상으로 하여 상기 스핀 드라이어 라인을 살균처리하는 것을 특징으로 한다.
(실시예)
이하, 본 발명에 따른 웨이퍼 세정 장치용 스핀 드라이어의 오염 방지구조를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 핫DIW 라인의 설치 구성도로서, 핫 DIW 유니트를 이용하여 스핀 드라이어에 공급되는 핫 DIW를 나타낸 개략도이다.
본 발명에 따른 웨이퍼 세정 장치 및 스핀 드라이어 장치용 DIW 공급 라인 시스템 오염 방지구조는, 도 3에 도시된 바와 같이, 70 ℃ 이상의 온도로 가열된 핫 DIW를 핫 DIW유니트로부터 케미칼용기 및 지지탱크로 공급되도록 설치한다.
또한, 상온, 예를 들면 23 내지 25 ℃의 DIW를 DIW 메인파이프를 통해 스핀드라이어 세정라인과, 린스용기라인 및 압력게이지라인으로 공급되도록 설치한다.
그리고, 상기 스핀 드라이어 세정라인은 그 일단이 상기 스핀 드라이어 장치에 연결되고, 그 타단은 제1가지 및 제2가지로 분기되어 제1가지는 DIW 메인 파이프와 연결되고 제2가지는 핫 DIW 유니트에 연결된다. 그리하여, 스핀 드라이어 장치에 핫 DIW가 공급되어 스핀 드라이어 장치를 세정 및 살균처리할 수 있다.
상기에서 설명한 바와같이, 본 발명에 따른 스핀 드라이어의 오염 방지구조에 의하면, 핫 DIW 유니트를 이용하여 스핀드라이어에 공급되는 DIW 대신에 70 ℃이상온도의 핫 DIW이 공급되도록 핫 DIW 공급라인을 스핀드라이어에 설치하여 주므로써 박테리아 발생을 억제할 수 있으며, 기존의 박테리아를 살균시키는 효과가 있다.
한편, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능할 것이다.
도 1는 종래기술에 따른 습식식각장비 구조 및 웨이퍼의 이동을 간략하게 도시한 개략도.
도 2는 종래기술에 따른 스핀드라이어의 DIW 세정 메카니즘을 설명하기 위한 개략도로서, (a)는 메인라인으로부터 스핀드라이어 내부의 각 라인으로 공급되는 것을 나타내고, (b)는 유니트로부터 캐미칼용기와 지지탱크내로 DIW 가 공급(b)되는 것을 나타낸 개략도.
도 3은 본 발명에 따른 핫DIW 라인의 설치 구성도로서, 핫 DIW 유니트를 이용하여 스핀 드라이어에 공급되는 핫 DIW를 나타낸 개략도.
[도면부호의설명]
10 : 웨이퍼 투입/반출구역 20 : 스핀드라이어
30 : 케미칼 및 린스부스

Claims (1)

  1. 케미컬 세정 장치 및 스핀 드라이어 장치를 포함하는 웨이퍼 세정 장치에서 (a) 상온의 DIW를 공급하는 DIW 메인 파이프, (b) 핫 DIW를 공급하는 핫 DIW 유니트, (c) 상기 케미컬 세정 장치에 상기 핫 DIW 를 공급하기 위한 케미컬 세정 장치용 DIW 공급 라인 및 (d) 상기 스핀 드라이어 장치에 DIW를 공급하기 위한 린스 용기 라인, 압력 게이지 라인 및 스핀 드라이어 세정 라인을 포함하는 스핀 드라이어 장치용 DIW 공급 라인을 포함하는 웨이퍼 세정 장치용 DIW 공급 라인 시스템에 있어서,
    상기 스핀 드라이어 세정 라인은 그 일단이 상기 스핀 드라이어 장치에 연결되고, 그 타단은 제1가지 및 제2가지로 분기되어 상기 제1가지는 상기 DIW 메인 파이프에 연결되고 상기 제2가지는 상기 핫 DIW 유니트에 연결되며,
    상기 스핀 드라이어 세정 라인에 공급되는 핫 DIW의 온도를 70℃ 이상으로 하여 상기 스핀 드라이어 라인을 세정하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정 장치용 DIW 공급 라인 시스템.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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