KR100471948B1 - 3-아미노-2-머캅토벤조산유도체및이들의제조방법 - Google Patents
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Abstract
하기 일반식(I)의 화합물 및 그의 디술피드 및 그의 염은 미생물 및 식물 면역작용을 갖는 일반식(III)의 화합물을 제조하기 위한 중요한 중간체 생성물이다:
상기 일반식(I) 및 (III)의 화합물에서,
X는 할로겐이고,
n은 0, 1, 2 또는 3이며,
Z는 CN, CO-A 또는 CS-A이고,
A는 수소, 할로겐, OR1, SR2 및 N(R3)R4 이며,
R1 내지 R4는 수소, 8개 이하의 탄소원자를 함유하는 치환되거나 비치환된 열린 사슬의 포화되거나 또는 불포화된 탄화수소 라디칼, 치환되거나 또는 비치환된 시클릭, 10개 이하의 탄소원자를 함유하는 포화 또는 불포화 탄화수소 라디칼, 치환되거나 또는 비치환된 벤질 또는 펜에틸, 8개 이하의 탄소원자를 함유하는 치환되거나 또는 비치환된 알카노일기, 치환되거나 또는 비치환된 벤조일기 또는 치환되거나 또는 비치환된 헤테로시클릭 라디칼이거나; 또는
R3 및 R4는 이들이 결합된 질소원자와 합쳐져서 1 내지 3개의 헤테로원자 0, S 및/또는 N을 갖는 5- 또는 6-원의 치환되거나 또는 비치환된 헤테로시클릭 라디칼이다.
일반식(I)의 화합물의 제조방법이 기재되어 있다.
Description
본 발명은 하기 일반식(I)의 화합물, 그의 디술피드 및 그의 염, 이들의 제조방법, 및 미생물 및 식물 면역화 작용을 갖는 하기 일반식(III)의 화합물을 제조하기 위한 그의 용도에 관한 것이다:
일반식(I) 및 (III)의 화합물에서,
X는 플루오르이고,
n은 0, 1, 2 또는 3이며,
Z는 CN, CO-A 또는 CS-A이고,
A는 수소, OR1, SR2 및 N(R3)R4 이며,
R1 내지 R4는 수소, 8개 이하의 탄소원자를 함유하는 치환되거나 비치환된 열린 사슬의 포화되거나 또는 불포화된 탄화수소 라디칼, 치환되거나 또는 비치환된 시클릭, 10개 이하의 탄소원자를 함유하는 포화 또는 불포화 탄화수소 라디칼, 치환되거나 또는 비치환된 벤질 또는 펜에틸, 8개 이하의 탄소원자를 함유하는 치환되거나 또는 비치환된 알카노일기, 치환되거나 또는 비치환된 벤조일기 또는 치환되거나 또는 비치환된 헤테로시클릭 라디칼이거나; 또는
R3 및 R4는 이들이 결합된 질소원자와 합쳐져서 1 내지 3개의 헤테로원자 0, S 및/또는 N을 갖는 5- 또는 6-원의 치환되거나 또는 비치환된 헤테로시클릭 라디칼이며; 단, n이 0 이고 Z가 CN, CONH2 또는 COOH인 화합물은 제외한다.
일반식(I)의 화합물은 하나 이상의 염기성 기를 가지므로 산 부가염을 형성할 수 있다. 이들은 무기산, 예컨대 황산, 인산 또는 할로겐화수소산과의 반응에 의해, 유기 카르복시산, 예컨대 아세트산 또는 옥살산, 말론산, 말레산, 푸마르산 또는 프탈산과의 반응에 의해, 히드록시카르복시산, 예컨대 아스코르브산, 락트산, 말산, 타르타르산 또는 시트르산과의 반응에 의해, 또는 벤조산과의 반응에 의해, 또는 유기 술폰산, 예컨대 메탄- 또는 p-톨루엔술폰산과의 반응에 의해 형성된다. 치환기 Z에 있는 SH기 또는 산기를 기준하여, 일반식(I)의 화합물은 염기와 염을 형성할 수 있다. 적합한 염기와의 염은 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속염과 같은 금속염, 예컨대 나트륨, 칼륨 또는 마그네슘염, 또는 암모니아 또는 모르폴린, 피페리딘, 피롤리딘, 모노-, 디- 또는 트리-저급 알킬아민과 같은 유기 아민, 예컨대 에틸-, 디에틸-, 트리에틸- 또는 디메틸-프로필-아민, 또는 모노-, 디-또는 트리히드록시-저급 알킬아민, 예컨대 모노-, 디-또는 트리에탄올아민과의 염이다. 적합하게는, 상응하는 내부염도 또한 형성될 수 있다.
특별히 정의하지 않는 한, 상기 및 하기에서 사용된 일반적 용어는 다음과 같은 의미를 갖는다.
탄화수소 라디칼은 포화 또는 불포화되며 열린 사슬 또는 시클릭 또는 열린 사슬과 시클릭의 혼합물, 예컨대 시클로프로필메틸 또는 벤질일 수 있다.
알킬기는 직쇄 또는 측쇄이며, 탄소원자의 수에 따라서 예컨대 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이차부틸, 이소부틸, 삼차부틸, 이차아밀, 삼차아밀, 1-헥실 또는 3-헥실이다.
불포화 탄화수소 라디칼은 3개 이상의 복수 결합, 예컨대 부타디에닐, 헥사트리에닐, 2-펜텐-4-인일을 갖는 알케닐, 알키닐 또는 알케닌일기이다.
알케닐은 직쇄 또는 측쇄 알케닐로서 이해되어지며, 예컨대 알릴, 메탈릴, 1-메틸비닐 또는 부트-2-엔-1-일이다. 3 내지 4개의 탄소원자 사슬 길이의 알케닐 라디칼이 바람직하다.
알키닐은 직쇄 또는 측쇄로서, 탄소원자의 수에 따라서 프로파르길, 부트-1-인-1-일 및 부트-1-인-3-일이다. 프로파르길이 바람직하다.
시클릭 불포화 탄화수소 라디칼은 방향족일 수 있고, 예컨대 페닐 및 나프틸 또는 비방향족, 예컨대 시클로펜테닐, 시클로헥세닐, 시클로헵테닐 및 시클로옥타디에닐, 또는 부분적으로 방향족, 예컨대 테트라히드로나프틸 및 인단일이다.
할로겐 또는 할로 및 Hal은 플루오르, 염소, 브롬 또는 요오드, 바람직하게는 플루오르, 염소 또는 브롬이다.
할로알킬은 동일하거나 또는 상이한 할로겐 원자를 함유할 수 있고, 예컨대 플루오로메틸, 디플루오로메틸, 디플루오로클로로메틸, 트리플루오로메틸, 클로로메틸, 디클로로메틸, 트리클로로메틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2-플루오로에틸, 2-클로로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸 및 3,3,3-트리플루오로프로필이다.
알콕시는 예컨대 메톡시, 에톡시, 프로필옥시, 이소프로필옥시, n-부틸옥시, 이소부틸옥시, 이차부틸옥시 및 삼차 부틸옥시이다. 바람직하게는 메톡시 및 에톡시이다.
할로알콕시는 예컨대 디플루오로메톡시, 트리플루오로메톡시, 2,2,2-트리플루오로에톡시, 1,1,2,2-테트라플루오로에톡시, 2-플루오로에톡시, 2-클로로에톡시 및 2,2-디플루오로에톡시이다
시클로알킬은 시클로프로필, 시플로부틸, 시클로펜틸 또는 시클로헥실이다.
알카노일은 직쇄 또는 측쇄이다. 그 예는 포르밀, 아세틸, 프로피오닐, 부티릴, 피발로일 또는 옥타노일이다.
헤테로시클릭 라디칼은 헤테로원자 N, 0 및/또는 S를 갖는 5- 또는 6-원 방향족 및 비방향족 고리를 의미한다. 비치환 또는 치환된 벤조기는 분자의 나머지에 결합된 헤테로시클릭 라디칼에 융합될 수 있다. 헤테로시클릭 기의 예는 피리딜, 피리미디닐, 이미다졸릴, 티아졸릴, 1,3,4-티아디아졸릴, 트리아졸릴, 티에닐, 푸라닐, 피롤릴, 모르폴리닐, 옥사졸릴 및 상응하는 부분적으로 또는 전체적으로 수소화된 고리이다. 융합된 벤조 기를 갖는 혜테로시클릭기의 예는 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 벤조옥사졸릴, 퀴노옥살리닐, 벤조티아졸릴, 벤즈이미다졸릴, 인돌릴 및 인돌리닐이다.
미생물 및 식물 면역화 작용을 갖는 일반식(III)의 화합물 및 이들의 제조방법은 예컨대 EP-A-313 512호로 부터 공지되어 있다. 여기에 기술된 방법은 많은 반응 단계를 포함하고, 그 일부는 복잡해서 그 수율이 불충분하기 때문에 공업적 규모로 제조하기에는 적합하지 않다. 따라서 이러한 화합물을 공업적으로 유리하게 합성하는 방법이 요청되고 있었다.
본 발명에 따른 일반식(I)의 화합물은 방정식 1에 도시한 바와 같이 일반식(III)의 화합물의 생성을 가능하게한다. 이 합성법은 전구체 구입의 용이성, 통상적인 반응물의 사용 및 중간체 생성물을 단리하지 않더라도 우수한 수율을 갖는 것을 특징으로 한다. 본 발명은 상기 합성법에도 관한 것이다.
방정식 1의 일반식에서, X, n 및 Z는 일반식(1)에서 정의한 바와 같고 또 T는 수소, C1-C12알킬, 특히 C1-C6알킬, C3-C6알케닐, C3-C6알키닐, C3-C6시클로알킬 또는 치환되거나 또는 비치환된 페닐, 벤질 또는 펜에틸이다.
일반식(V)의 전구체는 공업적으로 수득할 수 있는 화합물이거나 또는 공지 방법에 의해, 예컨대 상응하는 니트로 화합물을 환원시키는 것에 의해 제조할 수 있다.
상세하게는, 상기 반응 단계는 다음과 같이 실시할 수 있다:
(1) SCN-T/예컨대 메틸 이소티오시아네이트/불활성 용매/필요한 경우 산 또는 염기 존재하에서; 또는 SCN 염.
(2) 산화제, 예컨대 SO2CL2 또는 Br2 또는 H2SO4/브롬화물 또는 Cl2.
(3) 수성 강염기, 예컨대 바람직하게는 불활성 분위기하의 수산화칼륨 용액.
반응 (1), (2) 및 (3)은 이하의 문헌에 기술되어 있다:
Org.Synthesis, Coll. Volume III, 76 페이지;
J. Het. Chem. Volume 17, 1325 페이지 (1980);
US-5,374,737.
Ukrain.Khim.Zhur. Volume 22, 363, 1956; Chem. Abstr. 22, 4358b(1957)에서 인용.
(3a) 디아조화/H3PO2 (Synth. Comm. Volume 10, 167 페이지, 1980)
(4) 아질산(=HONO) 또는 무기 또는 유기 아질산염, 예컨대 아질산 나트륨 또는 아질산 이소아밀(예컨대 EP A 313,512)를 사용한 고리화와 함께 디아조화.
(4a) 히드라진/에탄올 또는 염기성 가수분해, 또는 4)에서와 같이 실시
(Synth. Comm. Volume 10, 167 페이지, 1980).
(4b) Zn/산 또는 Fe/산 (Heterocyclic Compounds, Volume 7, 541페이지 이하); 또는 H2/촉매.
(5) COOH기를 Z기(이때, Z는 일반식(I)에서 정의한 바와 같다)로 전환하는 것은 방정식 3에 도시한 바와 같이 공지 방법에 의해 실시할 수 있다.
바람직한 일반식(I)의 화합물은 다음과 같다:
(1) Z는 CN, CO-A 또는 CS-A이고;
A는 OR1, SR2 및 N(R3)R4 이며,
R1, R2 및 R3은 수소; 비치환되거나 또는 1 내지 5개의 할로겐 원자, C3-C6시클로알킬, C1-C4알콕시, 페녹시, 벤질옥시 C1-C4아실옥시, 벤조일옥시, 히드록실, 니트로, 시아노, C1-C4알카노일, 벤조일, 카르복실, C1-C4알콕시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 아미노, C1-C4알킬아미노, C1-C4디알킬아미노 또는 헤테로시클릭에 의해 치환된 C1-C8알킬; 비치환되거나 또는 1 내지 5개의 할로겐 원자에 의해 치환된 C3-C6알케닐; C3-C6알키닐; C3-C6시클로알킬; C1-C4알카노일; 페닐 고리가 비치환되거나 또는 할로겐, 히드록시, C1-C4알킬, 할로게노-C1-C2알킬, C1-C2알콕시, 할로게노-C1-C2알콕시 또는 니트로에 의해 1회 내지 3회 치환된 페닐, 벤질 또는 펜에틸이거나; 또는 비치환되거나 또는 동일하거나 상이한 방식으로 할로겐, C1-C2알킬, 할로게노메틸 또는 니트로에 의해 1회 내지 3회 치환된 나프틸, 벤조일 또는 헤테로시클릭이거나; 또는
R4는 수소, C1-C6알킬, 페닐 또는 벤질이거나, 또는
R3 및 R4는 이들이 결합된 질소원자와 합쳐져서 1 내지 2개의 헤테로원자 O, S 및/또는 N을 갖는 5- 내지 6-원 고리를 형성할 수 있고, 이때 고리들은 비치환되거나 또는 동일하거나 상이한 방식으로 할로겐, C1-C3알킬 또는 C1-C2알콕시카르보닐에 의해 1회 또는 2회 치환된 일반식(I)의 화합물.
(2) X가 플루오르이고; n이 0 또는 1이며; Z는 CN 또는 CO-A이고; A는 OR1, SR2, 또는 N(R3)R4인 화합물.
(3) n이 0 또는 1이며; Z는 CN 또는 CO-A 이고;
A는 OR1 또는 SR2이며; 또
R1 및 R2가 수소; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 할로겐 원자, C3-C6시클로알킬 또는 C1-C2알콕시에 의해 치환된 C1-C6알킬; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 할로겐 원자에 의해 치환된 C3-C4알케닐; C3-C4알키닐; C3-C6시클로알킬이거나 또는 페닐 고리가 비치환되거나 할로겐, 히드록실, C1-C4알킬, 할로게노-C1-C2알킬, C1-C2알콕시, 할로게노-C1-C2알콕시 또는 니트로에 의해 1회 또는 2회 치환된 페닐, 벤질 또는 펜에틸인 화합물.
(4) 다른 공정에 따르면, 일반식(I)의 화합물은 상응하는 벤조디티아졸륨염(VI) 또는 히드록시벤조디티아졸(VII)을 통하여 방정식 2에 따라서 제조할 수 있다 (Houben-Weyl, E8d, Heteroarene [Heteroarenes] III, Part 4; 2 페이지 이하 참조, 및 59페이지 이하 참조).
(a) 불활성 용매, 예컨대 아세트산중, 0 내지 120℃에서 황 할로겐화물, 예컨대 S2Cl2 또는 SCl2 (아닐린 유도체 (V)는 상응하는 염산염으로 전환되는 것이 바람직하다)(J. Org. Chem. 30, 2763, J. Het. Chem 3, 518, 같은책 5, 1149)
(b1) H2O/또는 H2O/NaOAC (0 내지 50℃) (Khim. Get. Soed. (9), 1205 (1979); Synth. Comm. 23, 263).
(b2) 중탄산 나트륨, 탄산 나트륨 또는 희석 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 수산화물 또는 산화물과 같은 염기를 사용하거나 또는 사용하지 않고 H2O/20 내지 100℃(J. Am. Chem. Soc. 68, 1594, (1946)).
(C) 황 이할로겐화물(예컨대 SCl2), 티오닐 할로겐화물 (SOCl2), -20 내지 100℃(J. Het. Chem. 3, 518),
(d) S(0)L2, 여기서 L은 할로겐, 이미다졸-1'-일 또는 1,2,4-트리아졸-1-일과 같은 이탈기, 예컨대 티오닐디이미다졸 또는 SOCl2, -30 내지 100℃, 불활성 용매(J. Org. Chem. 30, 2763 (1965))
벤조디티아졸륨염(VI) 및 (VII)은 단리없이 적합한 조건(J. Chem. Soc. 1970, 2250, Houben Weyl E8d, Heteroarene [Heteroarenes] III, Part 4, 59 페이지 이하 참조(특히 93 페이지 이하 참조))하에 그자리에서 반응하여 벤조티아디아졸 (III) 또는 (IIIa)을 생성한다.
(a) 염소화제, 예컨대 SOCl2 또는 COCl2;
(b) M-A (III), 이때 M은 수소, Li+, Na+, K+, 1/2Mg2+또는 4차 암모늄 이온이고 또 A는 일반식(I)에서 정의한 바와 같다;
(c) 티오네이트화제, 예컨대 오황화 인 또는 4-메톡시페닐티오포스폰산 시클로디티오무수물 ("로웨슨 시약 ");
(d) NH3;
(e) 탈수제, 예컨대 SOCl2 또는 COCl2;
(f) 수소/촉매를 사용한 환원 또는 수소화 착물, 예컨대 LiAlH2(OCH2CH2OCH3)2를 사용한 환원.
상술한 반응은 원래 공지된 방식, 예컨대 적합한 용매 또는 희석제 또는 이들의 혼합물 부재하 또는 통상은 존재하에서 실시될 수 있으며, 또한 상기 반응은 필요에 따라 실온에서 냉각하면서 실시하거나 또는 필요에 따라서 감압하의 밀폐 용기내, 불활성 가스 분위기 및/또는 무수 조건하에서 약 -80℃ 내지 반응 매질의 비점 범위의 온도, 바람직하게는 약 -20℃ 내지 약 +170℃로 가열하면서 실시할 수 있다. 디아조화반응, 즉 일차 아민을 아질산과 반응시키거나 또는 무기 또는 유기 아질산염과 반응시키는 것은 -20℃ 내지 +30℃에서 실시하는 것이 바람직하다.
이탈기는 예컨대 플루오르, 염소, 브롬, 요오드; 메틸티오, 에틸티오 또는 프로필티오와 같은 C1-C8알킬티오; 아세톡시와 같은 C1-C8알카노일옥시; 메탄술포닐옥시, 에탄술포닐옥시 또는 트리플루오로메탄술포닐옥시와 같은 (할로게노)-C1-C8알칸술포닐옥시; 또는 벤젠술포닐옥시 또는 p-톨루엔술포닐옥시와 같은 치환되거나 또는 비치환된 페닐술포닐옥시; 이미다졸릴, 트리아졸릴, 히드록실 또는 물, 바람직하게는 염소, 브롬, 요오드 및 P-톨루엔술포닐옥시이다.
적합한 염기는 예컨대 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속 수산화물, 수소화물, 아미드, 알칸올레이트, 탄산염, 디알킬아미드 또는 디알킬실릴아미드, 알킬아민, 알킬렌디아민, 비알킬화된 또는 N-알킬화된 포화 또는 불포화 시클로알킬아민, 염기성 헤테로시클릭 화합물, 수산화 암모늄 및 카르보시클릭 아민이다. 그 예는 나트륨 수산화물, 수소화물, 아미드, 메탄올레이트 및 탄산염, 칼륨 삼차부탄올레이트 및 탄산염, 리튬 디이소프로필아미드, 칼륨 비스(트리메틸실릴) 아미드, 수소화 칼슘, 트리에틸아민, 트리에틸렌디아민, 시클로헥실아민, N-시클로헥실-N,N-디메틸아민, N,N-디에틸아닐린, 피리딘, 4-(N,N-디메틸아미노)피리딘, N-메틸모르폴린, 벤질-트리메틸-암모늄 수산화물 및 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데크-5-엔 (DBU)이다.
반응물들은 상호간, 즉 용매 또는 희석제 부가없이, 예컨대 용융물로 반응될 수 있다. 그러나, 불활성 용매 또는 희석제 또는 이들의 혼합물을 부가하는 것이 유리하다. 이러한 용매 또는 희석제의 예는 방향족, 지방족 및 지환족 탄화수소 및 할로겐화 탄화수소, 예컨대 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠, 브로모벤젠, 석유 에테르, 헥산, 시클로헥산, 염화 메틸렌, 클로로포름, 디클로로에탄 또는 트리클로로에탄; 디에틸 에테르, 삼차부틸 메틸 에테르, 테트라히드로푸란 또는 디옥산과 같은 에테르; 아세톤 또는 메틸 에틸 케톤과 같은 케톤: 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 에틸렌 글리콜 또는 글리세롤과 같은 알코올; 에틸 아세테이트 또는 부틸 아세테이트와 같은 에스테르; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 또는 헥사메틸인산 트리아미드와 같은 아미드; 아세토니트릴과 같은 니트릴; 및 디메틸 술폭사이드와 같은 술폭사이드이다. 트리에틸아민, 피리딘, N-메틸모르폴린 또는 N,N-디에틸아닐린과 같은 과량의 염기도 용매 또는 희석제로서 사용될 수 있다. 상기 반응은 유기 용매, 예컨대 염화 메틸렌 또는 톨루엔중, 상 전이 촉매 존재하에서 수산화나트륨 용액과 같은 염기성 수용액 및 테트라부틸암모늄 수소 황산염과 같은 상 전이 촉매 존재하에서 실시될 수 있다. 전형적인 반응 조건은 실시예로 부터 알 수 있다.
본 발명은 이하의 제조방법에 관한 것이고, 하기 반응 식(1) 내지 (6)에서 치환기는 방정식 1에서 정의한 바와 같다.
(1) 일반식(II)의 화합물을 수성 강염기와 반응시켜 일반식(Ia)의 화합물 또는 그의 염을 수득한 다음 이것을 더 반응시켜 일반식(I)의 화합물을 생성하는 것을 포함하는 일반식(I)의 화합물 또는 그의 염의 제조방법.
(2) 일반식(II)의 화합물을 120 내지 150℃의 온도, 1 내지 5 바아의 압력하에서 수성 강염기, 특히 수산화 칼륨 용액 또는 수산화 나트륨 용액과 반응시키는 것을 포함하는 일반식(Ia)의 화합물 또는 그의 염의 제조방법.
(3) a) 일반식(II)의 화합물을 수성 강염기와 반응시켜 일반식(Ia)의 화합물 또는 그의 염을 생성하고 또 필요에 따라,
b1) 일반식(Ia)의 화합물을 아질산 또는 유기 또는 무기 아질산염을 사용한 디아조화에 의해 일반식(IIIa)의 화합물로 전환한 다음 또 필요에 따라서 일반식(III)의 화합물로 전환시키거나, 또는
b2) 일반식(Ia)의 화합물을 일반식(I)의 화합물로 전환시킨 다음 아질산 또는 유기 또는 무기 아질산염을 사용한 디아조화에 의해 일반식(III)의 화합물로 전환시키는 것을 포함하는 하기 일반식(III)의 화합물의 제조방법.
(4) 일반식(II)의 화합물을 수성 강염기와 반응시켜 일반식(Ia)의 화합물 또는 그의 염을 생성한 다음 단리없이 아질산 또는 유기 또는 무기 아질산염을 사용한 디아조화에 의해 일반식(IIIa)의 화합물로 직접적으로 전환시키는 것을 포함하는 하기 일반식(IIIa)의 화합물의 제조방법:
상기 제 1 반응 단계는 120 내지 170℃, 1 내지 5 바아의 압력하에서 수산화 칼륨 또는 그의 염중에서 실시되고 또 디아조화반응은 아질산 나트륨을 사용하여 실시된다.
(5) 일반식(VI)의 화합물을 중성 또는 염기성 조건하에서 가수분해시키는 것을 포함하는 하기 일반식(I)의 화합물의 제조방법.
(6) 일반식(V)의 화합물을 용매중, 필요에 따라서 산 또는 염기 존재하에서 SCN-T 또는 SCN 염과 반응시킨 다음 생성한 일반식(IV)의 화합물을 산화제, 예컨대 SO2Cl2 또는 Br2 또는 H2SO4/브롬화물 또는 Cl2와 반응시켜 일반식(II)의 화합물을 생성하는 것을 포함하는 하기 일반식(II)의 화합물 또는 그의 염의 제조방법:
C1-C6알킬 이소티오시아네이트, 특히 메틸 이소티오시아네이트가 제 1 반응 단계에 사용되는 것이 바람직하고; 적합한 용매는 무수 카르복시산, 예컨대 포름산 및 아세트산; 알코올, 예컨대 에탄올 및 이소프로판올, 케톤, 에테르 및 할로겐화 탄화수소이다. 2개의 반응 단계는 동일한 용매중, 예컨대 아세트산중에서 일반식(IV)의 화합물의 단리없이 실시되는 것이 바람직하다.
본 발명은 하기 일반식(II) 및 (IV)의 중간체 또는 이들의 염에도 관한 것이다:
식중에서,
X는 플루오르이고,
n은 0, 1, 2 또는 3이며,
T는 수소, C1-C6알킬, C3-C6알케닐, C3-C6알키닐, C3-C6시클로알킬 또는 치환되거나 또는 비치환된 페닐, 벤질 또는 펜에틸이고;
Z는 CN, CO-A 또는 CS-A이며,
A는 수소, 할로겐, OR1, SR2 및 N(R3)R4이고,
R1 내지 R4는 수소, 8개 이하의 탄소원자를 함유하는 치환되거나 비치환된 열린 사슬의 포화되거나 또는 불포화된 탄화수소 라디칼, 치환되거나 또는 비치환된 시클릭, 10개 이항의 탄소원자를 갖는 포화 또는 불포화 탄화수소 라디칼, 치환되거나 또는 비치환된 벤질 또는 펜에틸, 8개 이하의 탄소원자를 함유하는 치환되거나 또는 비치환된 알카노일기, 치환되거나 또는 비치환된 벤조일기 또는 치환되거나 또는 비치환된 헤테로시클릭 라디칼이거나; 또는
R3 및 R4는 이들이 결합된 질소원자와 합쳐져서 1 내지 3개의 헤테로원자 O, S 및/또는 N을 갖는 5- 또는 6-원의 치환되거나 또는 비치환된 헤테로시클릭 라디칼이며; 또
단, Z이 COOH 또는 COOC2H5 이고, n이 0이며 또 T가 수소인 일반식(II) 및 (IV)의 화합물(Ukrain, Khim. Zhur. Volume 22, 363, 1956에서 이미 공지되어 있음; Chem. Abstr. 22, 4358b, 1957)을 제외한다.
n이 0 또는 1이며;
T가 수소 또는 C1-C6알킬이고;
Z는 CN 또는 CO-A이며,
A는 OR1, SR2 또는 N(R3)R4 이고,
R1 내지 R4는 상기 정의한 바와 같은 일반식(II), (IV) 및 (VI)의 화합물이 바람직하고, 특히
A가 OR1 또는 SR2 이고; 또
R1 및 R2가 수소, 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 할로겐 원자, C3-C6시클로알킬 또는 C1-C2알콕시에 의해 치환된 C1-C6알킬, 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 할로겐 원자에 의해 C3-C4알케닐, C3-C4알키닐, C3-C6시클로알킬이거나, 또는 페닐고리가 비치환되거나 또는 할로겐, 히드록실, C1-C4알킬, 할로게노-C1-C2알킬, C1-C2알콕시, 할로게노-C1-C2알콕시 또는 니트로에 의해 1회 또는 2회 치환된 페닐, 벤질 또는 펜에틸인 일반식(II), (IV) 및 (VI)의 화합물, 특히 n이 0 이고; T가 수소 또는 메틸이며;
Z가 CO-A이고; A가 OR1 이며; 또
R1이 수소, 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 할로겐 원자 또는 C1-C2알콕시에 의해 치환된 C1-C6알킬, C3-C6시클로알킬이거나, 또는 페닐 고리가 비치환되거나 또는 할로겐, 히드록시, C1-C4알킬, 할로게노-C1-C2알킬, C1-C2알콕시, 할로게노-C1-C2알콕시 또는 니트로에 의해 1회 또는 2회 치환된 페닐, 벤질 또는 펜에틸인 일반식(II), (IV) 및 (VI)의 화합물이 바람직하다.
일반식(VI)의 화합물에서, Hal은 바람직하게는 염소이다.
제조 실시예
실시예 1: 3-아미노-2-머캅토-벤조산(Ia1)
38ml의 물에 용해된 28.9 g의 수산화 칼륨(85%)을 질소 분위기하에서, 38ml의 디옥산중의 3.5 g의 메틸-2-아미노-벤조티아졸-7-카르복실레이트에 20분간에 걸쳐 적가하면서 교반 및 얼음으로 냉각시켜 내부 온도가 25℃를 초과하지 않도록 하였다. 이후, 그 혼합물을 140℃의 중탕기 온도에서 환류시키고 반응 말기에 내부 온도가 170℃로 증가된 후 디센딩 콘덴서를 이용하여 디옥산을 증류제거하였다. 이 혼합물을 0℃로 냉각시킨 다음 질소 분위기하에서 여과하고 그 잔류물을 30 ml의 빙수로 세정하였다. 표제 화합물을 pH 5.5로 산성화시키는 것에 의해 여액으로 부터 단리하고 냉각 및 최대 0℃ 온도에서 교반하며, 또 아세트산에틸/테트라히드로푸란(8:2)로 추출한 다음 진한 염화 나트륨 용액으로 세정하였다. 디술피드를 형성할 위험성 때문에, 여액중의 칼륨염(칼륨 3-아미노-2-머캅토-벤조에이트)를 직접적으로 반응시켰다.
실시예 2: 벤조-1,2,3-티아디아졸-7-카르복시산
17.6 밀리몰의 메틸 2-아미노벤조티아졸-7-카르복시레이트를 가수분해시키는 것에 의해 수득한 3-아미노-2-머캅토-벤조산의 칼륨염의 여과된 수용액을 질소 분위기하, 최대 0℃ 온도에서 진한 황산 31.6 ml를 사용하여 산성으로 만든 다음 완전히 교반하고 냉각시킨 다음 1.28 g(18.6 밀리몰)의 아질산 나트륨이 3.4 ml의 물에 용해된 용액을 최대 10℃에서 표면 아래로 적가하고 그 혼합물을 4시간 동안 교반하였다. 그동안 온도는 약25℃로 증가되었다. 형성된 석출물을 여과하고, 빙수로 세정한 다음 테트라히드로푸란에 용해시키고 활성 목탄으로 처리한 후 그 혼합물을 소량의 실리카겔상으로 여과시켰다. 여액을 증발시킨 후, 융점이 232 내지 233℃인 2.64 g(88%, 2 단계)의 조 표제 화합물을 수득하였다. HPLC 분석하면 83% 이상의 표제 화합물 및 약 8 내지 17%의 이성질체 벤조-1,2,3-티아디아졸-5-카르복시산을 나타내었다. 디옥산으로 부터 재결정화시켜 239 내지 240℃의 융점을 갖는 순수한 표제 화합물을 수득한다.
실시예 3: 벤조-1,2,3-티아디아졸-7-카르보닐 클로라이드
290g의 벤조-1,2,3-티아디아졸-7-카르복시산을 1.6 리터의 톨루엔에 현탁시키고, 3.5 ml의 디메틸포름아미드 및 129 ml의 염화 티오닐을 부가하며 그 혼합물을 80 내지 90℃에서 교반한 다음 그 현탁액을 가스 발생시키면서 용액으로 만들었다. 이 반응이 완료되면, 용액을 냉각시키고 소량의 하이플로상에서 여과하며, 그 잔류물을 톨루엔으로 세정하고 여액을 증발시켰다. 직접적으로 반응될 수 있는 조 산 클로라이드 297 g(93%)을 수득하였다.
실시예 4: S-메틸 벤조-1,2,3-티아디아졸-7-티오카르복시레이트
210 ml의 트리에틸아민 및 2.1 g의 4-디메틸아미노피리딘을 0℃에서 1450ml의 염화 메틸렌에 60.7 g(1.26몰)의 메틸머캅탄이 용해된 용액에 부가하였다. 1.2 리터의 염화 메틸렌에 용해된 250.1 g(1.26몰)의 상기 산 클로라이드 용액을 0 내지 5℃ 온도에서 냉각하면서 부가하고 그 혼합물을 실온으로 3시간 동안 교반하였다. 빙수를 부가하고, 수성상을 염화 메틸렌으로 추출하며 모은 유기 추출액을 물로 세척하며, 황산 나트륨상에서 건조시키며 소량의 실리카겔상에서 건조시키며 증발시켰다. 132 내지 134℃의 융점을 갖는 S-메틸 벤조-1,2,3-티아디아졸-7-티오카르복시레이트 236 g(89%)을 수득하였다.
실시예 5: 메틸 3-아미노-벤조에이트
130 ml(1.78 몰)의 염화 티오닐을 500 ml의 메탄올에 적가하고 -5℃로 냉각시키면서 교반하며 그 혼합물을 0℃에서 15분간 완전히 교반하였다. 70 g(0.5 몰)의 고체 3-아미노-벤조산을 동일 온도에서 도입하고 그 혼합물을 15분간 교반하고 가열하며 형성된 용액을 70℃ 온도에서 철야로 방치하였다. 증발시킨 다음 아세트산 에틸 및 빙수를 잔류물에 부가하고 포화 중탄산 나트륨 용액을 부가하는 것에 의해 pH를 7.5로 만들었다. 생성물을 아세트산 에틸로 추출하고 그 추출액을 물로 세척하며, 황산 나트륨상에서 건조시키며 증발시켰다. 69.8g(92.2%)의 순수한 메틸 에스테르는 방치하면 결정화되는 오일 형태로 수득되었다. 융점 37 내지 38℃.
실시예 6: 메틸 3-티오우레이도-벤조에이트
11. 3 g의 메틸 3-아미노벤조에이트를 반응 용기에 75 ml의 클로로벤젠중의 용액으로 도입하고, 2.07 ml의 진한 황산(96%)을 -5℃ 내지 0℃에서 15분간에 걸쳐 적가한 다음 5분간 더 교반하였다. 이어 6.8 g의 나트륨 티오시아네이트를 소량씩 최대 0℃에서 도입하고 그 혼합물을 15분간 더 교반하였다. 0.2 ml의 15-크라운-5를 부가하고 그 혼합물을 100℃의 중탕기 온도에서 10시간 동안 교반한 다음 냉각시켜 형성된 침전을 여과하고 물로 3회 세척하였다. 171 내지 172℃의 융점을 갖는 13.5 g(85.9%)의 표제 화합물을 수득하였다.
실시예 7: 메틸 2-아미노벤조티아졸-7-카르복시레이트
8.4 g의 메틸 3-티오우레이도-벤조에이트를 120 ml의 클로로벤젠에 현탁시키고, 30 ml의 클로로벤젠중의 2.2 ml의 브롬을 0℃에서 1시간에 걸쳐 부가하면서 완전히 교반하며 그 혼합물을 실온으로 교반하였다. 이어 70℃ 온도에서 4시간 동안 유지시킨 다음 냉각시켜 소량의 디에틸 에테르를 부가하고 그 석출물을 여과하며 70 ml의 수성 중탄산 나트륨 용액과 혼합하고 다시 여과하며 물로 세척하였다. 231 내지 232℃의 융점을 갖는 7.7 g(88%)의 조 생성물을 수득하였다. HPLC 분석하면 83% 이상의 순수한 표제 화합물 이외에 8 내지 18%의 이성질체 메틸 2-아미노-벤조티아졸-5-카르복시레이트 함량을 나타낸다. 현탁시키고 70℃에서 아세트산 에틸과 함께 가열한 다음 30℃로 냉각시키고 여과하여 250℃이상의 융점을 갖는 순수한 표제 화합물을 수득하였다.
상기 반응이 아세트산(클로로벤젠 대신)중에서 실시되면, 소망하지 않는 이성질체 메틸 2-아미노-벤조티아졸-5-카르복실레이트의 함량은 약 5% 이었다.
실시예 8: 메틸 2-아미노벤조티아졸-7-카르복시레이트로 부터 벤조-1,2,3-티아디아졸-7-카르복시산의 직접적 제조
1.3 kg의 메틸 2-아미노벤조티아졸-7-카르복시레이트를 3.5 kg의 KOH 50%중, 120℃/1 내지 2 바에서 4시간 동안 유지시킨 다음 그 혼합물을 0 내지 5℃ 온도에서 수성 염산으로 중화시켰다. 아질산 나트륨 40% 수용액을 0℃ 내지 +10℃에서 상기 용액에 부가하고 석출한 생성물을 여과하며 세척하고 또 건조시켰다. 230 내지 233℃의 융점을 갖는 1.03 kg의 벤조-1,2,3-티아디아졸-7-카르복시산을 수득하였다(2단계에 걸쳐 이론치의 91%).
실시예 9: 2-메틸아미노-벤조티아졸-7-카르복시산으로 부터 벤조-1,2,3-티아디아졸-7-카르복시산의 직접적 제조
150 g의 2-메틸아미노벤조티아졸-7-카르복시산(92.7%) 및 596 g의 47% KOH의 현탁액을 155℃/1.7 내지 1.8 바아의 오토클레이브에서 12시간 동안 유지시킨 다음 20 내지 25℃에서 여과하는 것에 의해 정제하였다. 그 여액을 635 g의 37% 염산에 적가하고 50ml의 메탄올을 부가하였다. 200 g의 30% 수성 아질산나트륨 용액을 -10℃ 내지 -5℃의 현탁액에 적가하고 그 혼합물을 -5℃ 내지 0℃에서 2시간 동안 완전히 반응시켰다. 흡인 여과 및 물로 세척하는 것에 의해 260 내지 262℃의 융점을 갖는 112 g의 조 벤조-1,2,3-티아디아졸-7-카르복시산을 수득하였다. HPLC 분석은 90 내지 93%의 순수한 표제 화합물 함량을 나타낸다.
실시예 10: 3-아미노-2-머캅토벤조산의 제조
1.3 g의 메틸 2-아미노-7-메톡시카르보닐벤조에이트를 질소 분위기하 및 교반하면서 3.4 g의 수산화 칼륨 용액 50%에 도입하고 그 혼합물을 봄브 튜브내, 120℃에서 12 시간 동안 유지하였다. 이어 냉각시키고 1.3 g의 수산화 칼륨 용액 50%을 불활성 분위기하에서 부가하고 그 혼합물을 150℃ 온도에서 4시간 동안 유지하였다. 냉각시킨 다음 불활성 분위기하, 0℃ 온도에서 pH가 5.5로 되도록 희석 황산에 적가하였다. 형성한 석출물을 여과하고 빙수로 세척하였다. 고진공하에서 건조시킨 후, 255 내지 258℃의 융점을 갖는 표제 화합물을 수득하며, 이것은 질량 스펙트럼을 기초로할 때 디술피드에 상응하는 흔적을 함유한다.
실시예 11: 3-(N'-메티-티오우레이도)-벤조산의 제조
279.6 g의 3-아미노-벤조산, 164.1 g의 메틸 이소티오시아네이트 및 1000g의 100% 아세트산의 혼합물 80 내지 85℃로 가열하였다. 이 온도는 가열하지 않고도 20분간에 걸쳐 95 내지 100℃로 증가하였고, 생성물이 서서히 결정화되는 투명 용액이 형성된다. 이 현탁액을 90 내지 100℃에서 2시간 동안 유지시킨 다음 15 내지 20℃로 냉각시키고 또 흡인 여과하며 흡인 필터상의 물질을 아세트산으로 세척하였다. 404g의 표제 화합물을 수득하였다. 순도: 99.5%, 융점: 190 내지 91℃, 분해. 수율: 이론치의 95.7%
실시예 12: 2-메틸아미노-벤조티아디아졸-7-카르복시산의 제조
163 g의 브롬 및 50g의 100% 아세트산의 용액을 45 내지 50℃에서 212 g의 3-(N'-메틸티오우레이도)-벤조산 및 500 g의 100% 아세트산 현탁액에 2시간에 걸쳐 적가하였다. 이 혼합물을 2.5 시간에 걸쳐 90 내지 100℃로 가열하고 가스발생이 완료될 때 까지 2시간 동안 반응시켰다. 150 g의 아세트산을 80 내지 85℃, 감압하에서 증류제거한 후 200g의 물을 부가하고 그 혼합물을 30% 수산화나트륨을 적가함으로써 pH 2로 만들었다. 70 내지 80℃에서 흡인 여과하고 물로 세척함으로써 179.2 g의 표제 화합물을 수득하였다. 융점: >330℃. HPLC 분석은 94.6 %의 표제 화합물 이외에 3 내지 4%의 이성질체 2-메틸아미노-벤조티아졸-5-카르복시산 함량을 나타낸다. 수율: 이론치의 81.5%
실시예 13: 중간체 생성물의 분리없이 2-메틸아미노-벤조티아졸-7-카르복시산의 제조(원포트 반응)
39.2 g의 메틸 이소티오시아네이트 및 50 g의 100% 아세트산의 용액을 75 내지 80℃에서 70 g의 3-아미노-벤조산 및 250 g의 100% 아세트산의 현탁액에 50분간에 걸쳐 적가하였다. 3-(N'-메틸티오우레이도)-벤조산이 결정 형태로 서서히 석출되는 용액이 일시적으로 형성되었다. 이 혼합물을 2시간 동안 완전히 반응시킨 후, 50℃로 냉각시키고 또 81.5 g의 브롬 및 50g의 100% 아세트산을 45 내지 50℃에서 2시간에 걸쳐 적가하였다. 이 혼합물을 2시간에 걸쳐 90 내지 100℃로 가열하고 2시간 동안 가스 발생이 종료될 때 까지 반응을 완전히 진행시켰다. 160 g의 아세트산을 감압하 75 내지 80℃에서 증류제거한 후, 잔류물에 200g의 물을 부가하고, 67 g의 30% 수산화 나트륨 용액을 적가하며, 그 혼합물을 75 내지 80℃에서 흡인 여과하며 잔류물을 물로 세척하여 73 g의 생성물을 수득하였다. 융점 >330℃. HPLC 분석은 97%의 표제 화합물 함량과 0.7%의 이성질체 2-메틸아미노-벤조티아졸-5-카르복시산 함량을 나타내었다. 수율: 이론치의 68%.
실시예 14: 메틸 3-아미노-2-머캅토벤조에이트
1 g의 메틸 벤조-1,2,3-티아디아졸-7-카르복시레이트가 40ml의 디옥산에 용해된 용액을 초기 압력 150 바, 160℃에서 0.5 g의 팔라듐/목탄(5%)상에서 수소화시켰다. 출발 물질을 완전히 반응시킨 후 촉매를 여과하고 디옥산으로 세척하며, 여액을 증발시켜 공기와의 접촉을 피하여 그 잔류물을 실리카겔(헥산/아세트산 에틸 (6:4))상에서 정제시켰다. 융점 174 내지 175℃를 갖는 표제 화합물을 상기 공정으로 수득하였다.
이하의 표에 수록한 화합물은 상기 실시예에 기재된 방법과 유사한 방식으로 제조할 수 있다.
Claims (18)
- 하기 일반식(I)의 화합물 또는 그의 디술피드 또는 그의 염:식중에서,X는 플루오르이고,n은 0, 1, 2 또는 3이며;Z는 CN, CO-A 또는 CS-A이고,A는 수소, OR1, SR2 및 N(R3)R4 이며,R1 내지 R4는 수소, 8개 이하의 탄소원자를 함유하는 치환되거나 비치환된 열린 사슬의 포화되거나 또는 불포화된 탄화수소 라디칼, 치환되거나 또는 비치환된 시클릭, 10개 이하의 탄소원자를 함유하는 포화 또는 불포화 탄화수소 라디칼, 치환되거나 또는 비치환된 벤질 또는 펜에틸, 8개 이하의 탄소원자를 함유하는 치환되거나 또는 비치환된 알카노일기, 치환되거나 또는 비치환된 벤조일기 또는 치환되거나 또는 비치환된 헤테로시클릭 라디칼이거나; 또는R3 및 R4는 이들이 결합된 질소원자와 합쳐져서 1 내지 3개의 헤테로원자 0, S 및/또는 N을 갖는 5- 또는 6-원의 치환되거나 또는 비치환된 헤테로시클릭 라디칼이고;단, n이 0이고 Z가 CN, CONH2 또는 COOH인 화합물을 제외한다.
- 제 1항에 있어서,Z는 CN, CO-A 또는 CS-A이고;A는 OR1, SR2 또는 N(R3)R4 이며;R1, R2 및 R3은 수소; 비치환되거나 또는 1 내지 5개의 할로겐 원자, C3-C6시클로알킬, C1-C4알콕시, 페녹시, 벤질옥시 C1-C4아실옥시, 벤조일옥시, 히드록시, 니트로, 시아노, C1-C4알카노일, 벤조일, 카르복시, C1-C4알콕시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 아미노, C1-C4알킬아미노, C1-C4디알킬아미노 또는 헤테로시클릭에 의해 치환된 C1-C8알킬; 비치환되거나 또는 1 내지 5개의 할로겐 원자에 의해 치환된 C3-C6알케닐; C3-C6알키닐; C3-C6시클로알킬; C1-C4알카노일; 페닐 고리가 비치환되거나 또는 할로겐, 히드록시, C1-C4알킬, 할로게노-C1-C2알킬, C1-C2알콕시, 할로게노-C1-C2알콕시 또는 니트로에 의해 1회 내지 3회 치환된 페닐, 벤질 또는 펜에틸이거나; 또는 비치환되거나 또는 동일하거나 상이한 방식으로 할로겐, C1-C2알킬, 할로게노메틸 또는 니트로에 의해 1회 내지 3회 치환된 나프틸, 벤조일 또는 헤테로시클릭이거나; 또는R4는 수소, C1-C6알킬, 페닐 또는 벤질이거나, 또는R3 및 R4는 이들이 결합된 질소원자와 합쳐져서 1 내지 2개의 헤테로원자 O, S 및/또는 N을 갖는 5- 내지 6-원 고리를 형성할 수 있고, 이때 고리들은 비치환되거나 또는 동일하거나 상이한 방식으로 할로겐, C1-C3알킬 또는 C1-C2알콕시카르보닐에 의해 1회 또는 2회 치환된 화합물.
- 제 2항에 있어서,n이 0 또는 1이며; Z는 CN 또는 CO-A이고; A는 OR1, SR2 또는 N(R3)R4 이며, R1 내지 R4는 제 2항에서 정의한 바와 같은 화합물,
- 제 3항에 있어서,n이 0 또는 1이며; Z는 CN 또는 CO-A 이고;A는 OR1 또는 SR2이며; 또R1 및 R2가 수소; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 할로겐 원자, C3-C6시클로알킬 또는 C1-C2알콕시에 의해 치환된 C1-C6알킬; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 할로겐 원자에 의해 치환된 C3-C4알케닐; C3-C4알키닐; C3-C6시클로알킬이거나 또는 페닐 고리가 비치환 되거나 할로겐, 히드록실, C1-C4알킬, 할로게노-C1-C2알킬, C1-C2알콕시, 할로게노-C1-C2알콕시 또는 니트로에 의해 1회 또는 2회 치환된 페닐, 벤질 또는 펜에틸인 화합물.
- 하기 일반식(II)의 화합물을 수성 강염기와 반응시켜 일반식(Ia)의 화합물 또는 그의 염을 생성하고 또 이것을 더 반응시켜 일반식(I)의 화합물을 생성하는 것을 포함하는 하기 일반식(I)의 화합물 또는 그의 염의 제조방법:식중에서,X, n 및 Z는 일반식(I)에서 정의한 바와 같고,T는 수소, C1-C6알킬, C3-C6알케닐, C3-C6알키닐, C3-C6시클로알킬 또는 치환되거나 또는 비치환된 페닐, 벤질 또는 펜에틸임.
- 일반식(II)의 화합물을 수성 강염기와 반응시키는 것을 포함하는 일반식(Ia)의 화합물 또는 그의 염의 제조방법.식중에서, X, n 및 Z는 일반식(I)에서 정의한 바와 같고 또T는 수소, C1-C6알킬, C3-C6알케닐, C3-C6알키닐, C3-C6시클로알킬 또는 치환되거나 또는 비치환된 페닐, 벤질 또는 펜에틸임.
- 제 6항에 있어서, 수산화 칼륨 용액 또는 수산화 나트륨 용액이 염기로 사용되는 방법.
- 제 6항에 있어서, 상기 반응이 1 내지 5 바, 120 내지 150℃에서 실시되는 방법.
- a) 일반식(II)의 화합물을 수성 강염기와 반응시켜 일반식(Ia)의 화합물 또는 그의 염을 생성하고 또 필요에 따라,b1) 일반식(Ia)의 화합물을 아질산 또는 유기 또는 무기 아질산염을 사용한 디아조화에 의해 일반식(IIIa)의 화합물로 전환한 다음 또 필요에 따라서 일반식(III)의 화합물로 전환시키거나, 또는b2) 일반식(Ia)의 화합물을 일반식(I)의 화합물로 전환시킨 다음 아질산 또는 유기 또는 무기 아질산염을 사용한 디아조화에 의해 일반식(III)의 화합물로 전환시키는 것을 포함하는 하기 일반식(III)의 화합물의 제조방법.식중에서 ,X, n 및 Z는 일반식(I)에서 정의한 바와 같고,T는 수소, C1-C6알킬, C3-C6알케닐, C3-C6알키닐, C3-C6시클로알킬 또는 치환되거나 또는 비치환된 페닐, 벤질 또는 펜에틸임.
- 일반식(II)의 화합물을 수성 강염기와 반응시켜 일반식(Ia)의 화합물 또는 그의 염을 생성한 다음 단리없이 아질산 또는 유기 또는 무기 아질산염을 사용한 디아조화에 의해 일반식(IIIa)의 화합물로 직접적으로 전환시키는 것을 포함하는 하기 일반식(IIIa)의 화합물의 제조방법:식중에서 ,X, n 및 Z는 일반식(I)에서 정의한 바와 같고,T는 수소, C1-C6알킬, C3-C6알케닐, C3-C6알키닐, C3-C6시클로알킬 또는 치환되거나 또는 비치환된 페닐, 벤질 또는 펜에틸임.
- 제 10항에 있어서, 제 1 반응 단계는 1 내지 5 바, 120 내지 170℃에서 수산화 칼륨 용액중에서 실시하고 또 디아조화반응은 아질산 나트륨을 사용하여 실시하는 방법 .
- 일반식(VI)의 화합물을 중성 또는 염기성 조건하에서 가수분해시키는 것을 포함하는 하기 일반식(I)의 화합물의 제조방법.식중에서 ,X, n 및 Z는 일반식(I)에서 정의한 바와 같다.
- 일반식(V)의 화합물을 용매중, 필요에 따라서 산 또는 염기 존재하에서 SCN-T 또는 SCN 염과 반응시킨 다음 생성한 일반식(IV)의 화합물을 산화제, 예컨대 SO2Cl2 또는 Br2 또는 H2SO4/브롬화물 또는 Cl2와 반응시켜 일반식(II)의 화합물을 생성하는 것을 포함하는 하기 일반식(II)의 화합물 또는 그의 염의 제조방법.식중에서, X,n,Z 및 T는 제 6항에서 정의한 바와 같다.
- 제 13항에 있어서, 메틸 이소티오시아네이트를 제 1 반응 단계에 사용하고 또 Br2를 제 2 반응 단계에 사용하며, 또 2개 반응 단계는 일반식(IV)의 화합물의 단리없이 무수 카르복시산중에서 실시되는 방법.
- 하기 일반식(II)의 화합물 또는 그의 염:식중에서,X는 플루오르이고,n은 0, 1, 2 또는 3이며;T는 수소, C1-C6알킬, C3-C6알케닐, C3-C6알키닐, C3-C6시클로알킬 또는 치환되거나 또는 비치환된 페닐, 벤질 또는 펜에틸이고;Z는 CN, CO-A 또는 CS-A이며,A는 수소, 할로겐, OR1, SR2 및 N(R3)R4 이고,R1 내지 R4는 수소, 8개 이하의 탄소원자를 함유하는 치환되거나 비치환된 열린 사슬의 포화되거나 또는 불포화된 탄화수소 라디칼, 치환되거나 또는 비치환된 시클릭, 10개 이하의 탄소원자를 함유하는 포화되거나 또는 불포화된 탄화수소라디칼, 치환되거나 또는 비치환된 벤질 또는 펜에틸, 8개 이하의 탄소원자를 함유하는 치환되거나 또는 비치환된 알카노일기, 치환되거나 또는 비치환된 벤조 일기 또는 치환되거나 또는 비치환된 헤테로시클릭 라디칼이거나; 또는R3 및 R4는 이들이 결합된 질소원자와 합쳐져서 1 내지 3개의 헤테로원자 0, S 및/또는 N을 갖는 5- 또는 6-원의 치환되거나 또는 비치환된 헤테로시클릭 라디칼이고;단, Z가 COOH 또는 COOC2H5이고, n이 0이며 또 T가 수소인 화합물을 제외한다.
- 제 15항에 있어서,n이 0 또는 1이며;T가 수소 또는 C1-C6알킬이고;Z는 CN 또는 CO-A이며,A는 OR1, SR2 또는 N(R3)R4 이고,R1 내지 R4는 제 2항에서 정의한 바와 같은 화합물.
- 제 16항에 있어서,A가 OR1 또는 SR2 이고,R1 및 R2는 수소; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 할로겐 원자, C3-C6시클로알킬 또는 C1-C2알콕시에 의해 치환된 C1-C6알킬; 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 할로겐 원자에 의해 치환된 C3-C4알케닐; C3-C4알키닐: C3-C6시클로알킬이거나; 또는 페닐 고리가 비치환되거나 또는 할로겐, 히드록실, C1-C4알킬, 할로게노-C1-C2알킬, C1-C2알콕시, 할로게노-C1-C2알콕시 또는 니트로에 의해 1회 또는 2회 치환된 페닐, 벤질 또는 펜에틸인 화합물.
- 제 17항에 있어서,n이 0 이고;T가 수소 또는 메틸이며;Z가 CO-A이고;A는 OR1 이며; 또R1이 수소, 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 할로겐 원자 또는 C1-C2알콕시에 의해 치환된 C1-C6알킬, C3-C6시클로알킬, 또는 페닐 고리가 비치환되거나 또는 할로겐, 히드록실, C1-C4알킬, 할로게노-C1-C2알킬, C1-C2알콕시, 할로게노-C1-C2알콕시 또는 니트로에 의해 1회 또는 2회 치환된 페닐, 벤질 또는 펜에틸인 화합물.
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