KR100450660B1 - Receptacle for storing materials used for semiconductor fabrication process - Google Patents

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KR100450660B1 KR1019970052113A KR19970052113A KR100450660B1 KR 100450660 B1 KR100450660 B1 KR 100450660B1 KR 1019970052113 A KR1019970052113 A KR 1019970052113A KR 19970052113 A KR19970052113 A KR 19970052113A KR 100450660 B1 KR100450660 B1 KR 100450660B1
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Abstract

PURPOSE: A material storage receptacle is provided to remove fully residual materials from a bottom part by separating the bottom part from a main body and rotating the bottom part. CONSTITUTION: A separation unit(45) is connected to a main body or a bottom part of a material storage receptacle in order to separate the bottom part from the main body. A rotation unit(35) is connected to the bottom part of the material storage receptacle in order to rotate the bottom part of the material storage receptacle separated by the separation unit. The bottom part is formed with a convex part having an inclined part from an inside to an outside.

Description

물질수납용기Material storage container

본 발명은 물질수납용기에 관한 것으로서, 특히 반도체장치의 제조공정에 사용되는 다종의 물질, 예컨대 세정액 또는 현상액 등을 수납할 수 있는 물질수납용기, 예컨대 세정조 또는 현상조에 관한 것이다. 이는 소정의 물질을 수납한 용기에서 소정의 공정을 진행한 후에 용기 외부로 물질을 배출한 후, 용기 내부의 측벽이나 바닥면에 부착되어 있는 이전 수납물질을 제거할 수 있도록 용기의 소정부에 분리수단을 연결하여 용기 몸체와 용기 바닥을 상호 분리시킴으로써 용기 몸체와 용기 바닥이 이격된 분리간극을 통하여 일차로 수납물질을 배출시킨 후, 용기 바닥에 연결된 회전수단을 이용하여 용기 바닥을 회전시킴으로써 용기 바닥에 부착되어 있는 수납물질을 원심력을 이용하여 이차로 배출시키는 동작을 할 수 있다. 이러한 물질수납용기는 반도체장치를 제조하는 여러 공정, 예컨대 세정공정에서의 세정조나 현상공정에서의 현상조 등에 다양하게 이용되고 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a material storage container, and more particularly, to a material storage container such as a cleaning tank or a developing tank capable of containing various kinds of materials used in a semiconductor device manufacturing process, such as a cleaning solution or a developing solution. After the predetermined process is performed in the container containing the predetermined material, the material is discharged to the outside of the container, and then separated from the predetermined part of the container so that the previous storage material attached to the side wall or the bottom surface of the container can be removed. By means of connecting the means to separate the container body and the bottom of the container, the material is first discharged through the separation gap between the container body and the bottom of the container, and then the bottom of the container is rotated by using a rotating means connected to the bottom of the container. The storage material attached to the secondary can be discharged by using a centrifugal force. Such material storage containers are used in various processes for manufacturing semiconductor devices, such as cleaning tanks in a cleaning step, developing tanks in a developing step, and the like.

종래의 반도체장치를 제조하는 공정에서 반도체 웨이퍼 상에 여러 공정 단계를 거치면서 각종 물질을 각각의 공정 목적에 따라 도포하기 위한 공정을 진행한 후, 후속 공정을 위하여 불필요한 물질층을 제거하는 공정이 수차례 반복된다. 이러한 공정은 소정의 물질수납공간 내에 소정물질을 주입한 후, 반도체 웨이퍼 상에 도포된 물질을 물리적 또는 화학적 과정을 통하여 반도체 웨이퍼 상으로부터 제거하는 공정을 진행하고 있다. 이러한 대표적인 공정으로 세정공정을 들 수 있으며, 이는 반도체 웨이퍼 표면 또는 공정을 수행하는 장치 내부에 잔존하는 불순물의 제거하는 공정이다. 이러한 세정공정은 소정의 물질수납공간을 갖는 세정조 내에 세정액을 주입한 후, 세정액 공정이 진행중인 반도체 웨이퍼를 담그는 등의 동작을 수행함으로써 반도체 웨이퍼 상의 불순물을 제거할 수 있다.In the process of manufacturing a conventional semiconductor device, a process of applying various materials on the semiconductor wafer according to the purpose of each process while going through various process steps, and then removing unnecessary material layers for subsequent processes. It is repeated in turn. In this process, after a predetermined material is injected into a predetermined material storage space, a material applied on the semiconductor wafer is removed from the semiconductor wafer through a physical or chemical process. Such a typical process may be a cleaning process, which is a process of removing impurities remaining on the surface of a semiconductor wafer or inside an apparatus for performing the process. Such a cleaning process may remove impurities on the semiconductor wafer by injecting a cleaning liquid into a cleaning tank having a predetermined material storage space and then immersing the semiconductor wafer in which the cleaning liquid process is in progress.

한편, 반도체 웨이퍼 상에 소정의 패턴을 형성하기 위하여 감광물질을 도포한 후, 노광공정을 진행하여 감광물질을 노광한 후, 반도체 웨이퍼의 표면에 현상액을 분사방식으로 도포하여 현상하여 불필요한 감광물질을 제거하는 방법이 종래의 주된 방법이었으나, 반도체 웨이퍼 표면에 분사된 현상액의 잔류물이 생성되어 반도체 웨이퍼 표면에 불량을 일으키는 문제를 발생시키고 있기 때문에, 다운 딥 방식의 현상방법을 채택하는 것이 현재의 일반적인 추세이다. 이는 전술한 세정공정과 유사한 방법으로 진행된다. 즉, 물질을 수납할 수 있는 용기, 즉 현상조 내에 현상액을 주입한 후, 소정의 패턴 형성을 위하여 감광막을 도포한 후, 노광공정을 진행한 반도체 웨이퍼를 용기 내에 수납된 현상액에 반도체 웨이퍼의 가공면을 현상액의 상면과 마주하도록 위치시켜 접촉하여 현상공정을 진행한다. 이때, 반도체 웨이퍼의 표면에는 종래의 방법과는 달리 현상액이 잔류하지 않는 이점이 있는 반면, 현상조 내의 현상액에 감광물질이 용해됨으로써 그 순도가 변하게 된다. 다른 반도체 웨이퍼에 대한 반복되는 공정을 진행하기 위해서는 현상액의 순도가 일정하게 유지되어야 하는데, 일회 또는 그 이상의 현상공정이 진행되면 현상조 내의 현상액의 순도가 변화되기 때문에 새로운 소정의 순도를 갖는 현상액으로 교체하여야 한다. 이를 위해서는 현상액이 주입된 입구 또는 현상조의 다른 부위를 통하여 기존의 현상액을 배출하는 과정이 필요하게 된다. 이때, 기존의 현상액의 배출이 완전하게 진행되는 경우라면, 공정상 큰 문제가 발생하지 않겠지만, 기존 현상액이 갖는 표면장력 등의 요인으로 인하여 용기, 특히 용기 바닥에 잔류하기 때문에 이러한 문제를 해결하기 위한 노력이 진행되어 왔다.On the other hand, after the photosensitive material is applied to form a predetermined pattern on the semiconductor wafer, the exposure process is performed to expose the photosensitive material, and then the developer is applied to the surface of the semiconductor wafer by spraying to develop the unwanted photosensitive material. Although the removal method was the main method in the related art, it is common to adopt a down-dip development method because the residue of the developer injected onto the surface of the semiconductor wafer is generated to cause a problem on the surface of the semiconductor wafer. It is a trend. This proceeds in a similar manner to the cleaning process described above. That is, after the developer is injected into a container capable of accommodating a substance, that is, a developing tank, the photoresist film is applied to form a predetermined pattern, and then the semiconductor wafer subjected to the exposure process is processed into the developer contained in the container. The surface is placed so as to face the upper surface of the developing solution so as to be in contact with each other to perform the developing process. At this time, unlike the conventional method, the developer wafer does not remain on the surface of the semiconductor wafer, whereas the photosensitive material is dissolved in the developer in the developing tank, thereby changing its purity. The purity of the developing solution must be kept constant in order to proceed with the repetitive process for other semiconductor wafers, and when one or more developing processes are performed, the purity of the developing solution in the developing tank is changed, so that the developer is replaced with a new predetermined purity. shall. To this end, a process of discharging the existing developer through the inlet to which the developer is injected or through other parts of the developing tank is required. At this time, if the discharge of the existing developer is completely progressed, a big problem will not occur in the process, but due to factors such as the surface tension of the existing developer is left in the container, especially the bottom of the container to solve this problem Efforts have been made.

이하에서 종래의 반도체 제조공정에서 빈번하게 이용되는 물질수납용기에 관하여 첨부도면을 참조하여 설명하고 그 문제점을 살펴보기로 한다.Hereinafter, a material storage container frequently used in a conventional semiconductor manufacturing process will be described with reference to the accompanying drawings and the problems thereof will be described.

도 1은 종래의 물질수납용기를 도시한 단면도이다. 도 1에 따르면 소정의 물질을 수납할 수 있는 오목한 내부 공간을 형성하는 일체형의 용기(10)가 도시되어 있다. 이러한 용기(10)에 소정의 물질을 수납한 후, 소정의 공정을 진행함으로써 이미 수납된 물질의 순도에 변화가 있는 경우, 동일한 순도를 가지고 반복되는 공정을 진행하기 위해서는 공정의 진행에 따라 변화된 수납 물질을 새로운 소정의 물질로 교체하여야 한다. 통상, 수납물질이 주입된 입구를 통하여 이미 수납된 물질을 배출하기도 하지만, 경우에 따라서는 용기 몸체(10)에 소정의 배출구를 형성하여 배출하기도 한다. 이때, 소정의 물질이 액체인 경우에는 액체가 갖는 표면장력에 의하여 용기(10) 바닥면에 잔류물이 잔존하며, 순도의 정밀성을 요하는 공정에서는 이러한 잔유물이 소량 존재한다하여도 공정에 큰 영향을 줄 수 있으므로 용기(10) 내부에 잔유물을 깨끗하게 제거하여야 하는 별도의 공정이 필요하게 된다. 이러한 작업의 필요는 전체 공정의 효율을 저하하는 요인으로 작용하기 때문에 이러한 수납물질 배출에 따른 잔류물의 제거를 용이하고도 확실하게 실행하기 위한 노력이 진행되고 있다.1 is a cross-sectional view showing a conventional material storage container. According to FIG. 1 an integral container 10 is shown which forms a concave interior space that can contain a given material. After storing a predetermined material in such a container 10, if there is a change in the purity of the material already stored by proceeding with a predetermined process, in order to proceed with a process that is repeated with the same purity, the changed storage according to the progress of the process The material must be replaced with a new predetermined material. In general, although the already received material is discharged through the inlet through which the storage material is injected, in some cases, a predetermined discharge port may be formed in the container body 10 to discharge the discharged material. In this case, when a predetermined substance is a liquid, residues remain on the bottom surface of the container 10 due to the surface tension of the liquid, and in the process requiring purity, a small amount of such residues has a great effect on the process. Since it may give a separate process to clean the residue inside the container 10 is required. Since the necessity of such work acts as a factor to lower the efficiency of the entire process, efforts are being made to easily and surely remove the residues caused by the discharge of the received substances.

특히, 반도체장치를 제조하는 공정에서, 공정이 진행된 장치 내의 순도 유지는 반도체장치의 전기적 특성과도 직결되는 이유로 중요한 공정 변수로서 작용하며, 공정 전체의 효율 향상을 위하여 독자적인 의미를 갖는 세정공정 또는 현상공정에서는 그 중요성이 더욱 증대되고 있는 바, 전술한 문제점을 해결하기 위한 노력에서 본 발명이 안출되었다.In particular, in the process of manufacturing a semiconductor device, maintaining purity in the device in which the process is performed acts as an important process variable because it is directly related to the electrical characteristics of the semiconductor device, and has a unique cleaning process or phenomenon for improving the overall efficiency of the process. As the importance of the process is further increased, the present invention has been devised in an effort to solve the aforementioned problem.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 물질수납용기, 예컨대 세정조 또는 현상조에 수납된 물질을 배출한 후, 용기에 잔류하는 물질을 보다 완전하게 제거하기 위함에 있으며, 이러한 기술적 과제를 달성하기 위한 물질수납용기를 제공함에 본 발명의 목적이 있다.The technical problem to be achieved by the present invention is to discharge the substances contained in the material storage container, such as a cleaning tank or a developing tank, to more completely remove the material remaining in the container, the material storage to achieve this technical problem It is an object of the present invention to provide a container.

도 1은 종래의 물질수납용기를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a conventional material storage container.

도 2a 및 도 2b는 본 발명에 따른 일실시예를 도시한 단면도들이다.2A and 2B are cross-sectional views illustrating one embodiment according to the present invention.

전술한 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제를 달성하기 위한 물질수납용기는 다음과 같다. 즉, 개방부를 통하여 주입된 물질을 수납하기 위한 내부공간을 형성하는 몸체 및 바닥을 포함하여 구비된 물질수납용기에 있어서, 물질수납용기의 몸체 또는 바닥에 연결되어 물질수납용기의 몸체와 바닥을 상호 분리시킬 수 있는 분리수단을 구비한다. 또한 물질수납용기의 바닥에 연결되어 분리수단에 의하여 물질수납용기의 몸체로부터 분리된 물질수납용기의 바닥을 회전시키는 회전수단을 더 구비한다.The material storage container for achieving the technical problem to be achieved by the present invention described above is as follows. That is, in a material storage container including a body and a bottom forming an inner space for receiving the injected material through the opening, the material storage container is connected to the body or bottom of the material storage container to mutually connect the body and the bottom of the material storage container. It is provided with a separating means that can be separated. In addition, it is further provided with a rotation means connected to the bottom of the material storage container to rotate the bottom of the material storage container separated from the body of the material storage container by the separating means.

한편, 물질수납을 위해 형성된 내부공간을 향하는 바닥면의 내측이 볼록하게 형성되어 바닥면의 내측에서 외측으로 경사진 바닥을 구비함이 바람직하다. 그리고, 이러한 물질수납용기는 반도체장치 제조공정에 사용되는 반도체장치 제조장비 중 물질을 수납할 수 있는 용기에 응용될 수 있으며, 예컨대 세정장치 또는 현상장치에서 사용되는 세정조나 현상조에 응용하는 것이 더욱 바람직하다. 특히, 다운 딥 방식의 현상장치의 현상조에 전술한 물질수납용기를 응용하는 것은 공정의 효율성을 높일 수 있으므로 더욱 바람직하다.On the other hand, the inner side of the bottom face toward the inner space formed for storing the material is formed convex, it is preferable to have a bottom inclined from the inner side of the bottom surface to the outside. In addition, the material storage container may be applied to a container capable of accommodating materials in the semiconductor device manufacturing equipment used in the semiconductor device manufacturing process, and more preferably applied to a cleaning tank or a developing tank used in a cleaning apparatus or a developing apparatus. Do. In particular, the application of the above-described material storage container to the developing tank of the down-dip developing device is more preferable because the efficiency of the process can be improved.

이하에서, 전술한 본 발명에 대하여 첨부도면을 참조하면서 보다 구체적이고 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings for the present invention described above will be described in more detail and in detail.

도 2a 및 도 2b는 본 발명에 따른 일실시예를 도시한 단면도들이다.2A and 2B are cross-sectional views illustrating one embodiment according to the present invention.

먼저, 도 2a에 따르면, 물질수납용기, 예컨대 세정조 또는 다운 딥 방식의 현상장치에 이용되는 현상조의 용기의 몸체(20)와 용기의 바닥(30)을 분리하여 형성하고, 이들 두 부재를 상호 분리시킬 수 있는 별도의 분리수단(45)을 용기의 몸체(20) 또는 용기의 바닥(30)에 연결시킬 수 있다. 본 도면에서는 용기의 바닥(30)에 연결수단(50)을 통하여 연결된 분리수단(45)을 도시하며, 이는 예컨대 실린더형으로 구비될 수 있고, 화살표(55)의 방향으로 용기의 바닥(30)이 용기의 몸체(20)로부터 분리될 수 있다. 한편, 용기의 바닥(30)에 연결수단(40)을 통하여 연결된 회전수단(35)을 도시하고 있다. 한편, 용기의 바닥(30)에는 용기 내부에 수납된 물질을 배출하는 과정을 진행한 후에 잔존하는 잔류물(25)을 도시하고 있다.First, according to FIG. 2A, the body 20 of the container of the developing tank used for a material storage container, such as a cleaning tank or a down dip developing apparatus, is formed by separating the bottom 30 of the container, and these two members are mutually separated. Separate separation means 45 that can be separated may be connected to the body 20 of the container or the bottom 30 of the container. The figure shows a separating means 45 connected to the bottom 30 of the container via the connecting means 50, which may be provided in a cylindrical form, for example, and the bottom 30 of the container in the direction of the arrow 55. It can be separated from the body 20 of the container. On the other hand, there is shown a rotating means 35 connected to the bottom 30 of the container via the connecting means 40. On the other hand, the bottom 30 of the container shows a residue 25 remaining after the process of discharging the material contained in the container.

한편, 도 2b에 따르면, 분리수단(45)이 그 연결수단(50)을 통하여 용기의 바닥(30)을 용기의 몸체(20)로부터 분리시킨 후, 회전수단(35)이 그 연결수단(40)을 통하여 용기의 바닥(30)을 화살표(60)의 방향으로 또는 반대 방향으로 회전시킴으로써 용기의 바닥(30)으로부터 분리된 잔류물(25a)이 화살표(25b)의 방향으로 배출되는 것을 도시한다.On the other hand, according to FIG. 2B, after the separating means 45 separates the bottom 30 of the container from the body 20 of the container through the connecting means 50, the rotating means 35 is connected to the connecting means 40. By rotating the bottom 30 of the vessel in the direction of the arrow 60 or in the opposite direction through), the residue 25a separated from the bottom 30 of the vessel is discharged in the direction of the arrow 25b. .

전술한 바와 같이 도 2a 및 도 2b에 따르면, 물질수납용기 내에 수납되었던 물질을 완전히 배출하고, 그 내부의 잔류물을 제거하기 위한 물질수납용기가 제시되고 있으면, 이는 반도체장치를 제조하는 여러 공정 특히 세정공정에 이용되는 세정조나 다운 딥 현상장치의 현상조에 대하여 적용할 수 있음은 당연하다.As described above, according to FIGS. 2A and 2B, if a material storage container is provided for completely discharging the material contained in the material storage container and removing residues therein, this is particularly true for various processes of manufacturing semiconductor devices. Naturally, the present invention can be applied to a cleaning tank used in the cleaning process or a developing tank of a down dip developing apparatus.

이하에서는, 본 발명의 보다 구체적인 실시예로서 다운 딥 현상장치의 현상조에 대하여 설명하기로 한다. 반도체 웨이퍼에 도포된 감광물질을 현상조에서 다운 딥 방식을 이용하여 현상한 후, 특정 배출구를 통하여 배출한 후, 현상조의 바닥면에 현상액이 표면장력에 의하여 응축 잔류되는 것을 방지하기 위하여 첨부도면 도 2a 및 도 2b와 같이 다운 딥 현상조를 현상조 측벽과 바닥면으로 분리될 수 있는 구조가 되도록 바닥면을 상하 이동할 수 있는 분리수단, 예컨대 실린더 장치를 부착하여 현상조의 바닥이 상부로 이동하면, 현상조 몸체와 밀착되고 하부로 이동하면, 현상조의 몸체와 분리될 수 있어, 이들의 분리 간극을 통하여 바닥에 잔존하는 현상액을 쉽게 제거할 수 있다. 한편, 더 나아가 현상조의 바닥면에서 표면장력에 의하여 흡착된 현상액을 제거하기 위하여 바닥면의 실린더 축을 회전할 수 있도록 연결된 회전수단, 예컨대 회전 모터를 연결하여 현상조의 바닥면이 현상조 몸체에서 분리되어 현상액을 일차 배출한 후, 바닥면의 잔류 현상액을 원심력을 이용하여 이차 배출함으로써 현상조 바닥의 잔류물을 완전하게 제거할 수 있다. 따라서, 본 발명은 다운 딥 방식에 의한 현상장치의 현상조의 오염도를 최소화할 수 있게 되었다.Hereinafter, a developing tank of a down dip developing apparatus will be described as a more specific embodiment of the present invention. After developing the photosensitive material coated on the semiconductor wafer using a down dip method in a developing tank, and then discharging it through a specific discharge port, the developer is prevented from remaining condensed by surface tension on the bottom surface of the developing tank. When the bottom of the developing tank is moved upward by attaching separating means for moving the bottom surface up and down, for example, a cylinder device, so that the down dip developing tank can be separated into the developing tank side wall and the bottom surface as shown in FIGS. 2A and 2B. When it is in close contact with the developing tank body and moves downward, it can be separated from the developing tank body, so that the developer remaining on the bottom can be easily removed through these separation gaps. On the other hand, in order to remove the developer adsorbed by the surface tension from the bottom of the developing tank, the bottom surface of the developing tank is separated from the developing body by connecting rotating means, for example, a rotary motor, to rotate the cylinder shaft of the bottom surface. After the primary developer is discharged, the residual developer at the bottom may be secondary discharged using centrifugal force to completely remove the residue at the bottom of the developer. Therefore, the present invention can minimize the degree of contamination of the developing tank of the developing apparatus by the down-dip method.

이상에서와 같이 본 발명에 따른 실시예를 첨부도면을 참조하면서 설명한 것은 본 발명을 한정하기 위함이 아니며, 본 발명에 관련한 산업기술분야에서 평균적 지식을 가진 자에 의하여 본 발명과 동일성 범주에 속하는 다른 태양으로의 변형이 가능함은 당연하다.As described above, the embodiments according to the present invention with reference to the accompanying drawings is not intended to limit the present invention, and other persons belonging to the same scope as the present invention by those skilled in the art of the present invention. No wonder the transformation to the sun is possible.

전술한 본 발명에 다른 물질수납용기, 특히 세정조 또는 다운 딥 방식의 현상장치의 현상조는 이미 수납되어 순도가 변화된 물질을 배출함에 있어서, 용기 바닥에 잔류하는 물질을 완전히 제거할 수 있어 공정 효율의 증진을 도모할 수 있다.According to the present invention, the material storage container according to the present invention, in particular, the developing tank of the cleaning tank or the down dip type developing apparatus, can completely remove the material remaining on the bottom of the container in order to discharge the substance whose purity has been changed. Promotion can be achieved.

Claims (8)

개방부를 통하여 주입된 물질을 수납하기 위한 내부공간을 형성하는 몸체 및 바닥을 포함하여 구비된 물질수납용기에 있어서,In the material storage container provided with a body and a bottom to form an inner space for receiving the injected material through the opening, 상기 물질수납용기의 몸체 또는 바닥에 연결되어 상기 물질수납용기의 몸체와 바닥을 상호 분리시킬 수 있는 분리수단; 및Separation means connected to the body or the bottom of the material storage container to separate the body and the bottom of the material storage container from each other; And 상기 물질수납용기의 바닥에 연결되어 상기 분리수단에 의하여 상기 물질수납용기의 몸체로부터 분리된 물질수납용기의 바닥을 회전시키는 회전수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 물질수납용기.And a rotation means connected to the bottom of the material storage container and rotating the bottom of the material storage container separated from the body of the material storage container by the separating means. 제1항에 있어서, 상기 물질수납용기의 바닥은 물질수납을 위해 형성된 내부공간을 향하는 바닥면의 내측이 볼록하게 형성되어 바닥면의 내측에서 외측으로 경사진 것을 특징으로 물질수납용기.The material storage container according to claim 1, wherein the bottom of the material storage container is inclined from the inner side of the bottom surface to be convex on the inner side of the bottom surface toward the inner space formed for the material storage. 제1항에 있어서, 상기 물질수납용기는 반도체제조공정에 사용되는 세정장치의 세정액을 수납하는 세정조인 것을 특징으로 하는 물질수납용기.The material storage container according to claim 1, wherein the material storage container is a cleaning tank containing a cleaning liquid of a cleaning device used in a semiconductor manufacturing process. 제3항에 있어서, 상기 세정조의 바닥은 세정액을 수납하기 위해 형성된 내부공간을 향하는 바닥면의 내측이 볼록하게 형성되어 바닥면의 내측에서 외측으로 경사진 것을 특징으로 물질수납용기.4. The material storage container according to claim 3, wherein the bottom of the cleaning tank is formed to be convex on the inner side of the bottom face toward the inner space formed for accommodating the cleaning liquid and inclined outward from the inner side of the bottom face. 제1항에 있어서, 상기 물질수납용기는 반도체제조공정에 사용되는 현상장치의 현상액을 수납하는 현상조인 것을 특징으로 하는 물질수납용기.The material storage container according to claim 1, wherein the material storage container is a developing tank for containing a developer of a developing apparatus used in a semiconductor manufacturing process. 제5항에 있어서, 상기 현상조의 바닥은 현상액을 수납하기 위해 형성된 내부공간을 향하는 바닥면의 내측이 볼록하게 형성되어 바닥면의 내측에서 외측으로 경사진 것을 특징으로 물질수납용기.6. The material storage container according to claim 5, wherein the bottom of the developing tank is formed to be convex on the inner side of the bottom face toward the inner space formed for accommodating the developer, and inclined outward from the inner side of the bottom face. 제5항에 있어서, 상기 현상장치는 다운 딥 방식을 이용하는 것을 특징으로 하는 물질수납용기.6. The material storage container according to claim 5, wherein the developing device uses a down dip method. 제7항에 있어서, 상기 현상조의 바닥은 현상액을 수납하기 위해 형성된 내부공간을 향하는 바닥면의 내측이 볼록하게 형성되어 바닥면의 내측에서 외측으로 경사진 것을 특징으로 물질수납용기.8. The material storage container according to claim 7, wherein the bottom of the developing tank is formed to be convex on the inner side of the bottom face toward the inner space formed for accommodating the developer, and is inclined outward from the inner side of the bottom face.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62275086A (en) * 1986-05-22 1987-11-30 Sumitomo Electric Ind Ltd Method for removing residue in crucible for crystal growth
KR960030308A (en) * 1995-01-21 1996-08-17 도시오 아와지 Particle dust treatment method and apparatus for semiconductor device manufacturing process
KR970063585A (en) * 1996-02-02 1997-09-12 김광호 Cleaning device of underwater mobile semiconductor wafer
KR19980051973A (en) * 1996-12-24 1998-09-25 김광호 Etching Device for Semiconductor Device Manufacturing

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