KR100424870B1 - Gas scrubber - Google Patents
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Abstract
개시된 본 발명에 의한 가스 스크러버는, 가스 스크러버 본체; 본체 내부에 설치되며, 하부에 오수저장실이 구획 형성되고, 상부 일측에는 배기관이 본체의 외측으로 연장 설치된 챔버; 챔버 내부에 설치되는 가스안내관; 가스안내관의 상부에 배치되는 가스인입관; 챔버와 가스안내관에 내장된 격자구조의 철망; 챔버를 유동하는 공정가스를 향하여 물을 분사하도록 챔버의 상부에 설치된 다수의 제 1 물노즐; 및 오수저장실에 저장된 오수를 외부로 배수시키는 수단;을 구비하며, 가스인입관에는 이 가스인입관의 공정가스 접촉부위에 발생되는 파우더의 고착을 방지하기 위하여, 가스인입관의 반경방향으로 질소를 분사하는 질소분사노즐과 가스인입관의 접선방향으로 물을 분사하는 제 2 물분사노즐이 설치된 것을 특징으로 한다. 이에 의하면, 가스인입관의 공정가스 접촉부에서 질소와 물이 분사되기 때문에, 이 부분에 파우더가 고착되는 것을 억제 및 방지할 수 있다. 따라서, 고착된 파우더 제거를 위한 정비 주기를 연장시킬 수 있다. 또한, 본 발명은 고착된 파우더 제거를 위한 정비시 가스인입관을 간단하게 분리하여 클리닝할 수 있으며, 이중구조의 챔버구조로 인해 안정성이 크게 향상되는 효과가 있다.The gas scrubber according to the present invention, the gas scrubber body; It is installed inside the body, the sewage storage chamber is formed in the lower portion, the upper side of the exhaust pipe chamber is installed to the outside of the main body; A gas guide tube installed inside the chamber; A gas inlet pipe disposed above the gas guide pipe; A grid wire mesh embedded in the chamber and the gas guide tube; A plurality of first water nozzles installed in the upper portion of the chamber to spray water toward the process gas flowing through the chamber; And means for draining the sewage stored in the sewage storage chamber to the outside, wherein the gas inlet pipe includes nitrogen in the radial direction of the gas inlet pipe to prevent the powder from adhering to the process gas contact portion of the gas inlet pipe. And a second water spray nozzle for spraying water in a tangential direction between the nitrogen spray nozzle to be injected and the gas inlet pipe. According to this, since nitrogen and water are injected from the process gas contact part of a gas inlet pipe, it can suppress and prevent that powder adheres to this part. Thus, it is possible to extend the maintenance interval for removing the stuck powder. In addition, the present invention can easily separate and clean the gas inlet pipe during maintenance for removing the stuck powder, there is an effect that the stability is greatly improved due to the dual structure of the chamber structure.
Description
본 발명은 배기가스, 특히 반도체 제조 공정 중 건식 에칭(Dry Etching)과 같은 공정에서 발생되는 유독가스(Toxic Gas), 예컨대, Cl2, HCl, HF, NH3, SiH2Cl2, SiHCl3, SiCl4, BCl3, BF3, WF6, HBr, AlCl3, TiCl3등의 가스를 정화 처리하는 습식 가스 스크러버에 관한 것이다.The present invention relates to exhaust gases, in particular toxic gases generated in processes such as dry etching in semiconductor manufacturing processes, such as Cl 2 , HCl, HF, NH 3 , SiH 2 Cl 2 , SiHCl 3 , A wet gas scrubber for purifying a gas such as SiCl 4 , BCl 3 , BF 3 , WF 6 , HBr, AlCl 3 , TiCl 3, and the like.
습식 가스 스크러버는 상기한 유독가스를 초순수(H2O) 또는 가스 흡착성 액상 화학 약품에 수용시켜 제거하는 방식으로, 비교적 간단한 구성을 가지므로 제작이 용이하고 대용량화할 수 있는 장점을 가지고 있다.The wet gas scrubber is a method of removing the toxic gas by receiving it in ultrapure water (H 2 O) or a gas-adsorbing liquid chemical, and having a relatively simple configuration, thus making it easy to manufacture and large capacity.
상기한 바와 같은 가스 스크러버의 전형적인 한 예가 도 1에 개략적으로 도시되어 있는 바, 이를 간단히 살펴보면 다음과 같다.A typical example of a gas scrubber as described above is schematically illustrated in FIG. 1, which is briefly described as follows.
도시된 바와 같이, 일반적인 가스 스크러버는, 본체(1)의 내부에 원통형 챔버(2)가 설치되어 있으며, 이 챔버(2)의 대략 중앙부에 가스안내관(3)이 설치되어 있다. 상기 가스안내관(3)은 챔버(2)의 상부에 다수의 볼트(4)에 의해 결합된 뚜껑(5)에 지지된 상태로 챔버(2)의 내부에 입설되어 있으며, 가스안내관(3)의 상부에는 가스인입관(6)이 일체로 연결되어 있다. 상기 챔버(2) 및 가스안내관(3)의 내부에는 격자구조의 철망(7)이 내장되어 있으며, 상기 뚜껑(5)의 내측에는 다수의 물분사노즐(8)이 설치되어 있다. 그리고, 배기관(9)은 상기 챔버(2)의 상부로부터본체(1)의 외측으로 연장되어 있다. 한편, 상기 챔버(2)의 하부측에는 소정의 공간으로 이루어지는 오수저장실(10)이 형성되어 있으며, 본체(1)의 하부측에는 상기 오수저장실(10)의 오수를 배수시키기 위한 배수수단(11)이 구성되어 있다. 도면에서 미설명부호 12는 챔버(3)의 철망(7)을 지지함과 아울러 이 철망(7)과 그 하부의 오수저장실(10)을 구획하는 구획판이다.As shown, in the general gas scrubber, the cylindrical chamber 2 is provided in the inside of the main body 1, and the gas guide tube 3 is provided in the substantially center part of this chamber 2. As shown in FIG. The gas guide tube 3 is installed inside the chamber 2 in a state supported by the lid 5 coupled by a plurality of bolts 4 on the upper portion of the chamber 2, and the gas guide tube 3. The gas inlet pipe 6 is integrally connected to the upper part of the). Inside the chamber 2 and the gas guide tube 3 is a wire mesh 7 of a lattice structure is built, and a plurality of water spray nozzles 8 are installed inside the lid 5. The exhaust pipe 9 extends from the top of the chamber 2 to the outside of the body 1. Meanwhile, a sewage storage chamber 10 having a predetermined space is formed at the lower side of the chamber 2, and a drainage means 11 for draining the sewage of the sewage storage chamber 10 is provided at the lower side of the main body 1. Consists of. In the drawing, reference numeral 12 denotes a partition plate that supports the wire mesh 7 of the chamber 3 and partitions the wire mesh 7 and the sewage storage chamber 10 below.
이와 같이 구성된 일반적인 가스 스크러버는, 가스인입관(6)을 통하여 공정가스가 가스안내관(3)으로 도시된 화살표 방향으로 유입되며, 이와 같이 유입되는 공정가스는 가스안내관(3)의 하부에서 챔버(2) 내의 철망(7)을 통하여 상부로 유동하여 배기관(9)을 통하여 배기된다. 이 때, 물분사노즐(8)을 통하여 분사되는 물과 접촉하면서 공정가스 중의 유독가스 성분은 물에 용해되어 제거되고, 정화된 가스만이 배기관(9)을 통하여 배기된다. 한편, 여기서, 유독가스가 수용된 오수는 챔버(2) 하부의 오수저장실(10)에 집수되며, 오수저장실(10)의 수위가 일정 이상으로 되면 배수수단(11)에 의해 외부로 배수된다.In the general gas scrubber configured as described above, the process gas is introduced in the direction of the arrow shown by the gas guide tube 3 through the gas inlet pipe 6, and the process gas introduced in this way is provided at the lower portion of the gas guide tube 3. It flows upward through the wire mesh 7 in the chamber 2 and is exhausted through the exhaust pipe 9. At this time, the toxic gas component in the process gas is dissolved in water and removed while being in contact with water sprayed through the water spray nozzle 8, and only the purified gas is exhausted through the exhaust pipe 9. On the other hand, here, the sewage containing the toxic gas is collected in the sewage storage chamber 10 of the lower chamber 2, when the water level of the sewage storage chamber 10 is more than a predetermined amount is drained to the outside by the drainage means (11).
그러나, 상기한 바와 같은 일반적인 가스 스크러버는 고온의 공정가스와 가스인입관(6)이 접촉되는 부위에서 다량의 파우더가 발생되어 장치 내부에 고착됨에 따라 잦은 정비가 요구된다고 하는 단점이 있다. 이러한 가스 스크러버의 정비는 배기가스를 배출하는 주공정장치의 가동중단을 유발하게 되므로, 생산성 측면에서 대단히 불리하다. 이를 방지하기 위해 가스인입관(6)에 질소를 분사하여 파우더의 고착을 억제하고 있으나, 이러한 질소에 의한 퍼지만으로는 가스인입관에 생성되는 파우더의 고착을 억제하는데 한계가 있어, 만족할 만한 효과를 얻기 어렵다.However, the general gas scrubber as described above has a disadvantage in that frequent maintenance is required as a large amount of powder is generated at a portion where the high temperature process gas and the gas inlet pipe 6 contact and are fixed inside the apparatus. The maintenance of such a gas scrubber causes a shutdown of the main process device that discharges the exhaust gas, which is very disadvantageous in terms of productivity. In order to prevent this, nitrogen is injected into the gas inlet pipe 6 to suppress the sticking of the powder. However, the purge by the nitrogen has a limit in suppressing the sticking of the powder generated in the gas inlet pipe, thereby obtaining a satisfactory effect. it's difficult.
또한, 종래의 가스 스크러버는, 가스안내관(3)과 가스인입관(6)이 용접 등에 의해 일체로 구성되어 있기 때문에, 고착된 파우더 제거를 위한 정비시, 챔버(2)의 뚜껑(5)에 체결된 다수의 볼트(4)를 일일히 풀어야만 가스안내관(3) 및 가스인입관(6)을 분리하여 정비할 수 있도록 되어 있다. 실제 파우더가 다량으로 생성되는 부분은 가스인입관(6) 부근이므로, 이 가스인입관(6)만을 간편하게 분리하여 정비할 수 있다면, 그만큼 정비에 소요되는 노력이나 시간이 절약되어, 장비 가동률을 높일 수 있으나, 종래에는 구조상 가스안내관(3)과 가스인입관(6)이 일체로 되어 있어서, 정비에 소요되는 시간이 매우 길다고 하는 문제가 있다.In the conventional gas scrubber, since the gas guide pipe 3 and the gas inlet pipe 6 are integrally formed by welding or the like, the lid 5 of the chamber 2 is used during maintenance for removing the stuck powder. Only a plurality of bolts (4) fastened to the gas guide pipe (3) and the gas inlet pipe (6) to be able to separate and maintain. Since the actual amount of powder is generated near the gas inlet pipe 6, if only the gas inlet pipe 6 can be easily separated and maintained, the effort and time required for maintenance can be saved, thereby increasing the equipment utilization rate. However, in the related art, the gas guide pipe 3 and the gas inlet pipe 6 are integrated in the structure, and thus there is a problem that the time required for maintenance is very long.
또한, 종래의 가스 스크러버는, 본체(1) 및 챔버(2) 등이 단일 원통구조로 되어 있기 때문에, 만일의 폭발에 대비하는 안정성 측면에서 위험하다고 하는 문제도 있다.Moreover, since the main body 1, the chamber 2, etc. have a single cylindrical structure, the conventional gas scrubber also has a problem that it is dangerous from the standpoint of stability against an accidental explosion.
본 발명은 상기와 같은 점을 감안하여 안출한 것으로, 가스인입관 내부에서 파우더가 고착되는 것을 더욱 효과적으로 억제 및 방지할 수 있어, 고착 파우더 제거를 위한 정비 주기를 연장시킴으로써 장비 가동률을 향상시킬 수 있는 가스 스크러버를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made in view of the above, it is possible to more effectively suppress and prevent the powder is fixed in the gas inlet pipe, it is possible to improve the equipment operation rate by extending the maintenance cycle for removing the fixed powder The purpose is to provide a gas scrubber.
본 발명의 다른 목적은, 고착 파우더 제거를 위한 정비시 가스인입관만을 분리하여 간단하게 클리닝할 수 있어, 정비에 소요되는 시간을 대폭 단축시킬 수 있는 가스 스크러버를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a gas scrubber that can be easily cleaned by separating only the gas inlet pipe during maintenance for removal of the fixed powder, thereby significantly reducing the time required for maintenance.
본 발명의 또 다른 목적은, 본체 및 챔버의 강도를 높임으로써 만일의 폭발에 대한 안성성이 크게 향상된 가스 스크러버를 제공하는데 있다.It is still another object of the present invention to provide a gas scrubber having greatly improved stability against accidental explosion by increasing the strength of the main body and the chamber.
도 1은 종래 일반적인 가스 스크러버의 구조를 개략적으로 나타낸 단면도,1 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a conventional general gas scrubber,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 가스 스크러버의 구조를 개략적으로 나타낸 단면도,2 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a gas scrubber according to an embodiment of the present invention;
도 3은 도 2의 평면도, 그리고,3 is a plan view of FIG. 2, and
도 4는 본 발명의 요부인 가스 인입관의 구조를 보인 도 2의 A부 상세도이다.4 is a detailed view of the portion A of FIG. 2 showing the structure of a gas inlet pipe which is a main part of the present invention.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
20;스크러버 본체 30;챔버20; scrubber body 30; chamber
33;오수저장실 34;배기관33; sewage storage room 34; exhaust pipe
40;가스안내관 50;가스인입관40; gas guide pipe 50; gas lead pipe
51;질소분사노즐 52;제 2 물분사노즐51; nitrogen spray nozzles 52; second water spray nozzles
60;철망 70;제 1 물분사노즐60; wire mesh 70; first water spray nozzle
80;배수수단80; drainage means
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 가스 스크러버는, 가스 스크러버 본체; 상기 본체 내부에 설치되며, 하부에 오수저장실이 구획 형성되고, 상부 일측에는 배기관이 본체의 외측으로 연장 설치된 챔버; 상기 챔버 내부에 설치되는 가스안내관; 상기 가스안내관의 상부에 배치되는 가스인입관; 상기 챔버와 가스안내관에 내장된 격자구조의 철망; 상기 챔버를 유동하는 공정가스를 향하여 물을 분사하도록 챔버의 상부에 설치된 다수의 제 1 물분사노즐; 및 상기 오수저장실에 저장된 오수를 외부로 배수시키는 수단;을 구비하며, 상기 가스인입관에 이 가스인입관의 공정가스 접촉부위에 발생되는 파우더의 고착을 방지하기 위하여, 상기 가스인입관의 반경방향으로 질소를 분사하는 질소분사노즐과 상기 가스인입관의 접선방향으로 물을 분사하는 제 2 물분사노즐이 설치된 것을 특징으로 한다.Gas scrubber according to the present invention for achieving the above object, the gas scrubber body; A chamber installed inside the main body, and a sewage storage chamber is formed at a lower part thereof, and an upper side of the chamber is provided with an exhaust pipe extending outward of the main body; A gas guide tube installed inside the chamber; A gas inlet pipe disposed above the gas guide pipe; A grid of wire mesh embedded in the chamber and the gas guide tube; A plurality of first water spray nozzles installed in an upper portion of the chamber to spray water toward the process gas flowing through the chamber; And means for draining the sewage stored in the sewage storage chamber to the outside, in order to prevent adhesion of powder generated at the process gas contacting portion of the gas inlet pipe to the gas inlet pipe, in a radial direction of the gas inlet pipe. And a second water spray nozzle for spraying water in the tangential direction of the gas inlet pipe.
이에 의하면, 가스인입관의 공정가스 접촉부위에 질소분사노즐에 의한 질소 분사와 동시에 제 2 물분사노즐에 의해 물이 분사되기 때문에, 이 부분에서 파우더의 고착을 방지할 수 있으며, 따라서, 고착 파우더 제거를 위한 정비 작업 주기를 연장시킬 수 있어, 장비 가동률을 높일 수 있다.According to this, since the water is injected by the second water spray nozzle at the same time as the nitrogen injection by the nitrogen injection nozzle to the process gas contact portion of the gas inlet pipe, it is possible to prevent the powder from adhering to this part, and therefore, the fixed powder Maintenance intervals for removal can be extended, increasing machine uptime.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 가스인입관은 가스안내관과 분리 형성되며, 이 가스인입관과 가스안내관은 그의 결합면에 서로 대응되도록 각각 형성된 플랜지부가 복수개의 볼트 및 너트에 의해 결합되어 조립된다. 따라서, 고착 파우더 제거를 위한 정비 작업시 종래와 같이 가스안내관 전체를 분리할 필요없이 가스인입관만을 간단하게 분리하여 클리닝할 수 있으므로, 정비 작업 시간을 대폭 단축시킬 수 있다.In addition, according to the present invention, the gas inlet pipe is formed separately from the gas guide tube, the gas inlet pipe and the gas guide tube, the flange portion formed so as to correspond to each other on the mating surface thereof is assembled by a plurality of bolts and nuts do. Therefore, in the maintenance work for removing the fixed powder, it is possible to simply separate and clean only the gas inlet pipe without having to separate the entire gas guide tube as in the prior art, thereby significantly reducing the maintenance work time.
또한, 본 발명에 따르면, 스크러버 본체, 챔버 및 가스안내관은 이중 구조로 이루어지며, 챔버는 철망이 내부에 압착된 PVC 메쉬판의 외부에 PVC 보호판이 부착되어 구성된다. 따라서, 본체, 챔버 및 가스안내관의 강도 향상으로 안정성을 크게 높일 수 있다.In addition, according to the present invention, the scrubber body, the chamber and the gas guide tube is made of a double structure, the chamber is composed of a PVC protective plate attached to the outside of the PVC mesh plate is pressed into the wire mesh. Therefore, the stability of the main body, the chamber and the gas guide tube can be greatly increased.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부도면에 의거하여 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
첨부한 도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 가스 스크러버의 구조를 개략적으로 나타낸 단면도, 도 3은 도 2의 평면도, 그리고, 도 4는 본 발명의 요부인 가스 인입관의 구조를 보인 도 2의 A부 상세도이다.2 is a cross-sectional view schematically showing a structure of a gas scrubber according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a plan view of FIG. 2, and FIG. 4 is a view of a structure of a gas inlet pipe which is a main part of the present invention. Part A is a detailed view.
도시된 바와 같이, 본 발명에 의한 가스 스크러버는, 스크러버 본체(20), 챔버(30), 가스안내관(40), 가스인입관(50), 철망(60), 제 1 물분사노즐(70) 및 배수수단(80)을 구비한다.As shown, the gas scrubber according to the present invention, the scrubber body 20, the chamber 30, the gas guide tube 40, the gas introduction tube 50, the wire mesh 60, the first water spray nozzle 70 ) And a drainage means (80).
상기 스크러버 본체(20)는 사각 박스형으로 되어 있으며, 폭발 등과 같은 충격에도 충분히 견디도록 2중 구조로 견고하게 형성되어 있다. 이 스크러버 본체(20)의 상부에는 덮개(21)가 설치되어 있으며, 하부의 장치실(22)에는 상기 배수수단(80)이 내장되어 있다.The scrubber body 20 has a rectangular box shape and is formed in a double structure so as to withstand an impact such as an explosion. A lid 21 is provided on an upper portion of the scrubber body 20, and the drainage means 80 is incorporated in a lower device chamber 22.
상기 챔버(30)는 상기 본체(20)의 내부에 설치되어 있으며, 이 역시 폭발 등과 같은 충격에도 충분히 견디도록 2중 원통 구조로 견고하게 형성되어 있다. 이 챔버(30)의 상부에는 뚜껑(31)이 결합되어 있으며, 하부는 구획판(32)에 의해 구획된 오수저장실(33)이 형성되어 있다. 또한, 상부 일측에는 배기관(34)이 본체(20)의 외부로 돌출되도록 설치되어 있다. 상기 뚜껑(31)은 챔버(30)의 상단에 구비된 플랜지부(30a)에 다수의 볼트 및 너트(35)에 의해 고정되어 있다. 특히 상기 챔버(30)는 본 발명에서는 후술하는 철망이 내부에 압착된 PVC 메쉬판으로 제작될 수 있으며, 또한 이의 외부에 다시 PVC 커버를 부착하여 2중, 3중으로 보호할 수도 있다.The chamber 30 is installed inside the main body 20, which is also firmly formed in a double cylindrical structure so as to withstand an impact such as an explosion. A lid 31 is coupled to an upper portion of the chamber 30, and a sewage storage chamber 33 partitioned by a partition plate 32 is formed at a lower portion thereof. In addition, the exhaust pipe 34 is installed to protrude to the outside of the main body 20 on the upper side. The lid 31 is fixed to the flange portion 30a provided at the upper end of the chamber 30 by a plurality of bolts and nuts 35. In particular, the chamber 30 may be made of a PVC mesh plate is pressed in the wire mesh to be described later in the present invention, it can also protect the double, triple by attaching a PVC cover to the outside thereof again.
상기 가스안내관(40)은 상기 챔버(30)의 내부에 설치되어 있는 바, 그 상부측이 상기 뚜껑(31)에 지지된 상태로 입설되어 있다. 그리고, 이 가스안내관(40) 역시 폭발 등의 충격에도 충분히 견디도록 2중 원통 구조로 이루어져 있다.The gas guide tube 40 is installed in the interior of the chamber 30, and the gas guide tube 40 is installed in a state in which an upper side thereof is supported by the lid 31. In addition, the gas guide tube 40 also has a double-cylindrical structure so as to withstand an impact such as explosion.
상기 가스인입관(50)은 상기 가스안내관(40)의 상부에 조립되어 있는데, 가스인입관(50)의 하단부에 구비된 플랜지부(50a)와 가스안내관(40)의 상단부에 구비된 플랜지부(40a)가 다수의 볼트 및 너트에 의해 결합되는 구조로 조립되어 있다. 이 가스인입관(50)은 외부의 공정가스를 가스안내관(40)으로 유입시키는 역할을 하는데, 이 과정에서 공정가스와 접촉하는 가스인입관(50) 부위에는 앞서 언급한 바와 같은 이유로 다량의 파우더가 고착된다. 이를 억제 및 방지하기 위하여 본 발명에서는 상기 가스인입관(50)의 반경방향으로 질소가스를 분사하여 내부의 수분이 위로 올라오는 것을 방지하는 질소막을 형성하도록 하기 위한 질소분사노즐(51)과 가스인입관(50)의 접선방향으로 물을 분사하여 가스인입관(50) 내벽에 생성되는 파우더를 아래로 떨어지도록 하기 위한 제 2 물분사노즐(52)을 설치하고 있다.The gas inlet pipe 50 is assembled on the upper portion of the gas guide tube 40, the flange portion 50a and the upper end of the gas guide tube 40 provided in the lower end of the gas guide tube 50 The flange portion 40a is assembled in a structure in which a plurality of bolts and nuts are coupled. The gas inlet pipe 50 serves to introduce an external process gas into the gas guide tube 40. In this process, the gas inlet pipe 50 in contact with the process gas has a large amount as mentioned above. The powder sticks. In order to prevent and prevent this, in the present invention, the nitrogen injection nozzle 51 and the gas are formed to inject a nitrogen gas in the radial direction of the gas inlet pipe 50 to form a nitrogen film to prevent the internal moisture from rising upward. A second water spray nozzle 52 is provided for spraying water in the tangential direction of the inlet pipe 50 so that the powder generated on the inner wall of the gas inlet pipe 50 falls down.
상기 철망(60)은 상기 챔버(30)와 가스안내관(40)의 내부에 내장되어 있으며, 이 철망(60)에 의해 챔버(30) 및 가스안내관(40)을 유동하는 공정가스와 후술하는 제 1 물분사노즐(70)에서 분사되는 물과의 접촉면적이 커져 공정가스 중의 유독가스의 용해가 용이하게 일어날 수 있다. 여기서, 상기 제 1 물분사노즐(70)은 챔버(30)의 상부측에 이 챔버(30)를 유동하는 공정가스를 향하여 물을 분사하도록 설치되는데, 대략 4개에서 6개 정도가 설치될 수 있다.The wire mesh 60 is embedded in the chamber 30 and the gas guide tube 40, and the process gas flowing through the chamber 30 and the gas guide tube 40 by the wire mesh 60 will be described later. The contact area with the water sprayed from the first water spray nozzle 70 increases, so that the toxic gas in the process gas can be easily dissolved. Here, the first water spray nozzle 70 is installed to inject water toward the process gas flowing through the chamber 30 on the upper side of the chamber 30, about four to six may be installed have.
상기 배수수단(80)은 오수저장실(33)에 집수된 오수를 일정 수위 이상이 되면 외부로 배수시키도록 작동한다.The drain means 80 operates to drain the sewage collected in the sewage storage chamber 33 to the outside when a predetermined level or more.
이하, 상기와 같이 구성된 본 발명에 의한 가스 스크러버의 작용에 대하여 설명한다.Hereinafter, the operation of the gas scrubber according to the present invention configured as described above will be described.
반도체 제조 공정 중 발생하는 유독가스를 포함하는 공정가스는 가스인입관(50)을 통하여 가스안내관(40)으로 유입되어 도시된 화살표 방향으로 하강하게 된다. 이 때, 가스인입관(50)에 구비된 질소분사노즐(51) 및 제 2 물분사노즐(52)를 통하여 계속적으로 질소와 물이 분사되므로, 가스인입관(50)에는 질소막이 형성되면서 내부의 수분이 위로 상승하지 않게 됨과 아울러 가스인입관(50)의 내벽에 파우더가 고착되지 않고 물과 함께 아래로 내려가게 된다. 즉, 가스인입관(50)의 공정가스 접촉부위에 생성되는 파우더의 양이 현저하게 줄어들게 되며, 따라서, 고착 파우더 제거를 위한 정비 주기를 연장시킬 수 있게 된다.Process gas containing toxic gas generated during the semiconductor manufacturing process is introduced into the gas guide tube 40 through the gas inlet pipe 50 is lowered in the arrow direction shown. At this time, since nitrogen and water are continuously injected through the nitrogen injection nozzle 51 and the second water injection nozzle 52 provided in the gas inlet pipe 50, the gas inlet pipe 50 is formed with a nitrogen film therein. Moisture does not rise up and the powder does not adhere to the inner wall of the gas inlet pipe 50 will be lowered down with water. That is, the amount of powder generated in the process gas contact portion of the gas inlet pipe 50 is significantly reduced, thus, it is possible to extend the maintenance cycle for removing the stuck powder.
상기와 같이 가스안내관(40)을 따라 하강하는 공정가스는 그 하부의 오수저장실(33) 공간에서 상부로 유동방향이 바뀌면서 챔버(30)를 따라 도시된 화살표 방향으로 상승하게 되는데, 이 때, 제 1 물분사노즐(70)에서 물이 분사되므로, 이 물에 의해 공정가스에 포함된 각종 유독가스가 용해되어 오수저장실(33)로 저장되고, 유독가스가 제거된 정화된 가스는 배기관(34)를 통하여 외부로 배기된다.As described above, the process gas descending along the gas guide tube 40 rises in the direction of the arrow shown along the chamber 30 while the flow direction is changed upward from the space of the sewage storage chamber 33 at the bottom thereof. Since water is injected from the first water spray nozzle 70, various toxic gases contained in the process gas are dissolved and stored in the sewage storage chamber 33 by the water, and the purified gas from which the toxic gases are removed is exhaust pipe 34. Exhaust to outside through).
한편, 오수저장실(33)에 저장된 유독가스가 수용된 오수는 일정 수위 이상이 되면 배수수단(80)이 작동하는 것에 의해 외부로 배수된다.On the other hand, the sewage containing the toxic gas stored in the sewage storage chamber 33 is drained to the outside by operating the drainage means 80 when the predetermined level or more.
상기와 같은 과정을 통하여 공정가스 중에 포함된 유독가스를 정화시켜 대기중으로 방출하며, 또한 유독가스가 용해된 오수는 폐수 처리한다. 이러한 일련의 작용은 앞서 설명한 일반적인 가스 스크러버와 크게 다르지 않다. 다만, 본 발명에서는 가스인입관(50)을 통한 공정가스의 유입시 가스인입관(50)에서 질소와 함께 물이 분사되는 것에 의해 가스인입관(50)에 생성되는 파우더가 고착되는 양을 현저하게 줄일 수 있다고 하는 특징이 있다.Through the above process, the toxic gas contained in the process gas is purified and discharged into the atmosphere, and the wastewater in which the toxic gas is dissolved is treated as wastewater. This series of actions is not much different from the general gas scrubber described above. However, in the present invention, when the inlet of the process gas through the gas inlet pipe 50, water is injected into the gas inlet pipe 50 together with nitrogen, the amount of powder produced in the gas inlet pipe 50 is remarkably fixed. There is a characteristic that it can be reduced.
또한, 고착 파우더 제거를 위한 정비시에도 가스안내관 전체를 분리할 필요없이 가스인입관만을 분리하여 간단하게 고착 파우더를 제거할 수 있으며, 또한, 본체, 챔버 및 가스안내관이 2중 구조로 매우 견고하게 이루어져 있으므로, 폭발 등에도 매우 안정적이다.In addition, even in the case of maintenance to remove the fixed powder, it is possible to simply remove the fixed powder by separating the gas inlet pipe without having to separate the entire gas guide tube. In addition, the main body, the chamber, and the gas guide tube have a double structure. Because it is solid, it is very stable against explosions.
이상에서 설명한 바와 같은 본 발명에 의하면, 가스인입관의 공정가스 접촉부위에 질소분사노즐에 의한 질소 분사와 동시에 제 2 물분사노즐에 의한 물이 분사되기 때문에, 이 부분의 파우더 고착을 억제 및 방지할 수 있으며, 따라서, 고착 파우더 제거를 위한 정비 작업 주기를 연장시킬 수 있어, 장비 가동률을 높일 수 있다.According to the present invention as described above, since the water by the second water injection nozzle is injected at the same time as the nitrogen injection by the nitrogen injection nozzle to the process gas contact portion of the gas inlet pipe, it is possible to suppress and prevent the adhesion of powder to this part. Therefore, it is possible to prolong the maintenance work cycle for removing the stuck powder, thereby increasing the equipment utilization rate.
또한, 본 발명에 따르면, 가스인입관과 가스안내관이 그의 결합면에 서로 대응되도록 각각 형성된 플랜지부의 볼팅으로 조립되기 때문에, 고착 파우더 제거를 위한 정비 작업시 종래와 같이 가스안내관 전체를 분리할 필요없이 가스인입관만을 간단하게 분리하여 클리닝할 수 있으므로 정비에 소요되는 시간을 대폭 단축시킬 수 있다.Further, according to the present invention, since the gas inlet pipe and the gas guide tube are assembled by bolting of the flange portions respectively formed to correspond to each other on the mating surface thereof, the entire gas guide tube is separated as in the prior art during maintenance work for removing the stuck powder. Only the gas inlet pipe can be easily separated and cleaned without the need for maintenance, which greatly reduces the time required for maintenance.
또한, 본 발명에 따르면, 스크러버 본체, 챔버 및 가스안내관이 이중 구조로 이루어지며, 또한, 상기 챔버가 철망이 내부에 압착된 PVC 메쉬판의 외부에 PVC 보호판이 부착되어 구성되기 때문에, 장비 가동의 안정성을 크게 높일 수 있다. 부연하면, 본 발명에 의한 가스 스크러버는 본체, 챔버 및 가스안내관이 2중 구조로 견고하게 이루어져 있기 때문에, 만일의 폭발사고 등에도 안정적으로 대처할 수 있다.In addition, according to the present invention, since the scrubber body, the chamber and the gas guide tube has a double structure, and the chamber is configured by attaching a PVC protective plate to the outside of the PVC mesh plate, the wire mesh is pressed into the inside, operation of the equipment Can significantly increase the stability. In other words, since the gas scrubber according to the present invention has a solid structure of a main body, a chamber, and a gas guide tube, it is possible to stably cope with an explosion accident or the like.
이상, 본 발명은 본 발명의 원리를 예시하기 위한 바람직한 실시예와 관련하여 설명하고 도시하였지만, 본 발명은 그와 같이 도시되고 설명된 그대로의 구성 및 작용으로 한정되는 것이 아니다. 오히려, 첨부된 특허청구범위의 사상 및 범주를 일탈함이 없이 본 발명에 대한 다수의 변경 및 수정이 가능함을 당업자들은 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 그러한 모든 적절한 변경 및 수정과 균등물들도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 간주되어야 할 것이다.While the invention has been described and illustrated in connection with preferred embodiments for illustrating the principles of the invention, the invention is not limited to the construction and operation as shown and described. Rather, those skilled in the art will appreciate that many modifications and variations of the present invention are possible without departing from the spirit and scope of the appended claims. Accordingly, all such suitable changes and modifications and equivalents should be considered to be within the scope of the present invention.
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