KR100416618B1 - 오버레이 정확도가 향상된 다중노광 방법 및 이를 기록한기록매체 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (14)
- (a)다중노광(multi-exposure)을 위한 각각의 서브-레이아웃(sub-layout)에 대해 서브-레이아웃별 오버레이 파라미터(overlay parameter)들을 산출하는 단계;(b)상기 오버레이 파라미터들을 노광장비에 입력하는 단계;(c)상기 노광장비를 이용하여 웨이퍼 상의 포토레지스트에 각각의 서브-레이아웃을 차례로 노광하되, 각 노광단계 전에 각각의 서브-레이아웃별로 노광장비 스스로 얼라인먼트를 실시하여 구한 파라미터에 기 입력된 오버레이 파라미터를 보정하여 노광을 위한 최종 얼라인먼트 파라미터를 구한 후 강제보정을 실시하는 단계; 및(d)모든 서브-레이아웃을 노광한 다음, 상기 노광된 포토레지스트를 현상하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중노광 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 각각의 서브-레이아웃은 한 장의 포토마스크에 배치된 것을 특징으로 하는 다중노광 방법.
- 제 2 항에 있어서, 상기 (b)단계와 (c)단계 사이에 포토레지스트가 도포된 웨이퍼와 상기 포토마스크를 정렬시키는 단계를 한 번 수행하는 것을 특징으로 하는 다중노광 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 각각의 서브-레이아웃은 여러 장의 포토마스크에 각각 배치된 것을 특징으로 하는 다중노광 방법.
- 제 4 항에 있어서, 상기 (c)단계는 포토레지스트가 도포된 웨이퍼와 노광될 서브-레이아웃이 배치된 포토마스크를 정렬하는 단계를 매 강제보정 전에 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다중노광 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 서브-레이아웃별 오버레이 파라미터들은 각각 X, Y 오프셋(offset), 웨이퍼에 대한 X, Y 스케일(scale), 필드(field)에 대한 X, Y 확대도(magnification), 웨이퍼 및 필드의 회전도(rotation)와 웨이퍼 및 필드의 직교도(orthogonality)를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중노광 방법.
- (a)웨이퍼 상에 제 1 층을 패터닝하면서 다이(die)의 외곽에 프레임 모양의 제 1 오버레이 마크를 여러 개 형성하는 단계;(b)상기 제 1 층 상에 다중노광법을 이용해 제 2 층을 패터닝하기 위해, 상기 제 2 층의 레이아웃을 두 개 이상의 서브-레이아웃으로 나누는 단계;(c)상기 프레임 모양의 제 1 오버레이 마크가 형성된 웨이퍼 상에 상기 제 2 층 패터닝을 위한 포토레지스트를 도포하는 단계;(d)상기 포토레지스트 상에 상기 서브-레이아웃을 차례로 노광하되, 매 노광시 각기 다른 프레임 모양의 제 1 오버레이 마크와 정렬되는 위치에 제 2 오버레이 마크를 형성하는 단계;(e)측정장비를 이용하여 상기 각 제 1 오버레이 마크와 각 제 2 오버레이 마크의 오프셋을 비롯한 오버레이 파라미터를 측정함으로써 각각의 서브-레이아웃에 대해 서브-레이아웃별 오버레이 파라미터들을 산출하는 단계;(f)상기 오버레이 파라미터들을 노광장비에 입력하는 단계;(g)상기 노광장비를 이용하여, 상기 제 1 층이 패터닝되고 그 상부에 포토레지스트가 도포된 다른 웨이퍼에 상기 서브-레이아웃을 차례로 노광하되, 각 노광 전에 각각의 서브-레이아웃별로 노광장비 스스로 얼라인먼트를 실시하여 구한 파라미터에 기 입력된 오버레이 파라미터를 보정하여 노광을 위한 최종 얼라인먼트 파라미터를 구한 후 강제보정을 실시하는 단계; 및(h)모든 서브-레이아웃을 노광한 다음, 상기 노광된 포토레지스트를 현상하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중노광 방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 각각의 서브-레이아웃은 한 장의 포토마스크에 배치되고, 상기 (f)단계와 (g)단계 사이에 상기 제 1 층이 패터닝되고 그 상부에 포토레지스트가 도포된 다른 웨이퍼와 상기 포토마스크를 정렬시키는 단계를 한 번 수행하는 것을 특징으로 하는 다중노광 방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 각각의 서브-레이아웃은 여러 장의 포토마스크에 각각 배치되고, 상기 (g)단계는 상기 제 1 층이 패터닝되고 그 상부에 포토레지스트가 도포된 다른 웨이퍼와 노광될 서브-레이아웃이 배치된 포토마스크를 정렬하는 단계를 매 강제보정 전에 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다중노광 방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 서브-레이아웃별 오버레이 파라미터들은 웨이퍼에 대한 X, Y 스케일(scale), 필드(field)에 대한 X, Y 확대도(magnification), 웨이퍼 및 필드의 회전도(rotation)와 웨이퍼 및 필드의 직교도(orthogonality)를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중노광 방법.
- 두 개 이상의 서브-레이아웃을 이용하며 오버레이 정확도가 향상된 다중노광 방법을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체로서,(a)다중노광을 위한 서브-레이아웃의 개수 및 각각의 서브-레이아웃에 대해 산출된 서브-레이아웃별 오버레이 파라미터들을 입력받는 프로그램 모듈;(b)노광할 서브-레이아웃을 선택하는 프로그램 모듈;(c)상기 선택된 서브-레이아웃에 해당하는 오버레이 파라미터를 고려하여 노광장비를 작동함으로써 상기 서브-레이아웃과 상기 서브-레이아웃이 노광될 웨이퍼의 오버레이를 강제보정하는 프로그램 모듈;(d)상기 강제보정 이후 상기 노광장비를 작동하여 상기 웨이퍼 상의 포토레지스트에 상기 서브-레이아웃을 노광하는 프로그램 모듈; 및(e)상기 입력된 서브-레이아웃의 개수만큼 상기 (c)단계 및 (d)단계가 수행되었는지 판단하여, 판단결과가 노(no)이면 상기 (b)단계 내지 (d)단계를 더 수행하여 (e)단계로 회귀하고, 판단결과가 예스(yes)이면 노광공정을 종료하게 하는 프로그램 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 다중노광 방법을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체.
- 제 11 항에 있어서, 상기 각각의 서브-레이아웃이 한 장의 포토마스크에 배치된 경우에는 노광할 서브-레이아웃을 선택하기 전에 상기 노광장비를 작동하여 포토레지스트가 도포된 웨이퍼와 상기 포토마스크를 정렬시키는 단계를 한 번 수행하게 하는 프로그램 모듈을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다중노광 방법을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체.
- 제 11 항에 있어서, 상기 각각의 서브-레이아웃이 여러 장의 포토마스크에 각각 배치된 경우에는 노광할 서브-레이아웃을 선택한 다음, 상기 노광장비를 작동하여 포토레지스트가 도포된 웨이퍼와 노광될 서브-레이아웃이 배치된 포토마스크를 정렬하는 단계를 매 강제보정 전에 수행하게 하는 프로그램 모듈을 더 포함하는것을 특징으로 하는 다중노광 방법을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체.
- 제 11 항에 있어서, 상기 서브-레이아웃별 오버레이 파라미터들은 각각 X, Y 오프셋(offset), 웨이퍼에 대한 X, Y 스케일(scale), 필드(field)에 대한 X, Y 확대도(magnification), 웨이퍼 및 필드의 회전도(rotation)와 웨이퍼 및 필드의 직교도(orthogonality)를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중노광 방법을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체.
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