KR100414480B1 - Color cathode-ray tube containing improved shadow mask - Google Patents

Abstract

본 발명은 칼라 음극선관에 관한 것으로, 특히 음극선관의 새도우마스크의 유효면 외측인 스커트(Skirt)부에 하프에칭(Half etching)과 완전 통과공을 형성하여 외부의 충격과 열팽창에 대해서 견딜 수 있도록 하는 칼라 음극선관에 관한 것이다.The present invention relates to a color cathode ray tube, and in particular, a half etching portion and a complete through hole are formed in a skirt portion outside the effective surface of the shadow mask of the cathode ray tube so as to withstand external shock and thermal expansion. It relates to a color cathode ray tube.

본 발명은 내면에 형광체 스크린을 갖는 판넬과, 상기 판넬에 연결된 펀넬과, 상기 펀넬의 네크부에 장착되어 상기 형광체 스크린을 향해 전자빔을 방출하는 전자총과, 상기 판넬 내면의 형광체 스크린에 대해 일정 간격을 두고 배치되어 색선별 역할을 하는 새도우마스크와, 상기 새도우마스크를 고정 지지하는 프레임을 포함하는 칼라 음극선관에 있어서, 상기 새도우마스크는 전자빔 통과공을 포함하는 유효면과 상기 유효면을 둘러싸는 비유효면으로 구성되며; 상기 비유효면의 일부가 상기 형광체 스크린과 수직방향으로 절곡되어 프레임에 고정 지지되는 스커트(Skirt)부를 포함하며; 상기 스커트부에는 하프에칭(Half etching) 영역과 완전 통과공 영역이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.The present invention provides a panel having a phosphor screen on an inner surface, a funnel connected to the panel, an electron gun mounted on a neck portion of the funnel to emit an electron beam toward the phosphor screen, and a predetermined distance from the phosphor screen on the inner surface of the panel. A color cathode ray tube including a shadow mask disposed to be positioned and serving as a color screen, and a frame for fixing and supporting the shadow mask, wherein the shadow mask has an effective surface including an electron beam through hole and an invalid effect surrounding the effective surface. Consisting of cotton; A portion of the invalid surface includes a skirt portion bent in a direction perpendicular to the phosphor screen and fixedly supported by a frame; The skirt portion is formed with a half etching region and a full through hole region.

본 발명은 칼라 음극선관에 있어서 색순도를 확보해주고, 도우밍(Doming)현상을 감소시키고, 마이크로포닉(Microphonic)(일명 하울링) 발생시 새도우마스크의 떨림을 줄여 고화질을 구현하는 효과가 있다.The present invention has the effect of ensuring the color purity in the color cathode ray tube, reducing the Doming phenomenon, and reducing the shaking of the shadow mask when the microphonic (aka howling) occurs to implement high quality.

Description

개선된 새도우마스크를 가지는 칼라 음극선관{Color cathode-ray tube containing improved shadow mask}Color cathode-ray tube containing improved shadow mask

본 발명은 칼라 음극선관에 관한 것으로, 특히 음극선관의 새도우마스크의 유효면 외측인 스커트(Skirt)부에 하프에칭(Half etching)과 완전 통과공을 형성하여 외부의 충격과 열팽창에 대해서 견딜 수 있도록 하는 칼라 음극선관에 관한 것이다.The present invention relates to a color cathode ray tube, and in particular, a half etching portion and a complete through hole are formed in a skirt portion outside the effective surface of the shadow mask of the cathode ray tube so as to withstand external shock and thermal expansion. It relates to a color cathode ray tube.

종래의 칼라 음극선관은 도 1에 도시된 바와 같이 내측면에 R, G, B의 형광면(4)이 도포되어 있고, 전면부에는 방폭유리가 고정되어 있는 판넬(1)과, 상기 판넬의 후단에 융착되어진 펀넬(2)과, 상기 펀넬의 네크부에 보입되어 전자빔(6)을 방사하는 전자총과, 상기 판넬의 내측에 일정한 간격을 두고 장착되어 전자빔이 통과하도록 다수의 구멍이 형성된 새도우마스크(3)와, 상기 새도우마스크가 판넬 내면과 일정한 간격을 유지하도록 새도우마스크를 고정 지지하는 프레임(7)과, 상기 프레임 어셈블리를 판넬에 결합하는 스프링(8)과, 음극선관이 외부 지자기의 영향을 적게 받도록 차폐하는 인너쉴드(9)와, 상기 판넬의 측면부 둘레에 설치되어 외부 충격을 방지하는 보강밴드(11)로 구성된다.In the conventional color cathode ray tube, as shown in FIG. 1, the fluorescent surface 4 of R, G, and B is coated on the inner surface, and the panel 1 having the explosion-proof glass is fixed on the front surface thereof, and the rear end of the panel. A funnel (2) fused to an electron gun, an electron gun that is added to the neck portion of the funnel to emit an electron beam (6), and a shadow mask having a plurality of holes formed at regular intervals inside the panel to pass the electron beam ( 3), a frame 7 fixedly supporting the shadow mask so that the shadow mask is kept at a constant distance from the inner surface of the panel, a spring 8 coupling the frame assembly to the panel, and a cathode ray tube affected by the external geomagnetic. Inner shield (9) shielding so as to receive less, and the reinforcing band 11 is installed around the side portion of the panel to prevent external impact.

그리고 전자빔이 소정의 형광체에 정확히 타격을 하도록 진행궤도를 수정해 주는 마그네트(Magnet)(10)가 있어 순색도 불량을 방지한다.In addition, there is a magnet 10 that corrects the trajectory of the electron beam so that the electron beam strikes the predetermined phosphor accurately, thereby preventing poor color purity.

미설명 부호 5는 편향 요크이다.Reference numeral 5 is a deflection yoke.

종래 기술에 있어서 고정세 칼라 데이터 처리용 음극선관의 새도우마스크는 도 2에 도시된 바와 같이, 유효면(14)에 다수의 전자빔 통과공(12)이 뚫어져 있고 코너에는 프레임과 용접하기 위한 노치(Notch)(13)가 있다.In the prior art, the shadow mask of the cathode ray tube for processing high-definition color data has a plurality of electron beam through holes 12 formed in the effective surface 14 and a notch for welding with the frame at the corner. Notch 13 is provided.

종래 새도우마스크는 도 3에 도시된 바와 같이 스커트(15)에 특별한 형상이 없고, 성형된 마스크는 도 4에 도시된 바와 같이 프레임(7)과 용접되어 판넬 내면과 일정한 간격을 유지하며, 프레임(7)의 각 변 중간에 있는 스프링(8)과 상기 판넬의 스터드 핀(Stud pin)과 결합된다.The conventional shadow mask has no special shape on the skirt 15 as shown in Figure 3, the molded mask is welded with the frame 7 as shown in Figure 4 to maintain a constant distance from the inner surface of the panel, The spring 8 in the middle of each side of 7) is coupled with the stud pin of the panel.

이와 같이 구성된 종래 음극선관은 먼저 펀넬의 네크부에 내장된 전자총에서전자빔이 음극선관에 인가된 양극 전압에 의해서 판넬 내면에 형성되어 편향 요크에 의해서 상하좌우로 편향되어 화면을 이루게 된다.In the conventional cathode ray tube configured as described above, an electron beam is first formed on the inner surface of the panel by an anode voltage applied to the cathode ray tube in an electron gun embedded in the neck portion of the funnel, and is deflected up, down, left, and right by a deflection yoke to form a screen.

그러나 이와 같은 종래 음극선관의 새도우마스크는 스커트부에 외부 충격에 대한 완충 역할을 하는 구조가 없어서, 도 5에 도시된 바와 같이 음극선관의 배후 방향으로 충격이 전달되면 성형 새도우마스크는 곡률에 의해 음극선관의 수직축을 기준으로 하여 일정한 폭으로 진동하게 되고, 그 진동으로 인하여 상기 새도우마스크(16)의 위치가 스크린측(16-a)과 전자총측(16-b)으로 변하게 되고, 이때 새도우마스크가 받는 힘은 새도우마스크의 중량과 가속도의 곱의 형태로 발생하기 때문에 새도우마스크의 중심 중량이 클 경우에는 탄성 한계 이상의 큰 힘을 받아서 원 형상(17)으로 영구 변형이 발생하게 된다.However, since the shadow mask of the conventional cathode ray tube does not have a structure that acts as a buffer against external impact on the skirt portion, as shown in FIG. 5, when the impact is transmitted in the rear direction of the cathode ray tube, the molded shadow mask is curtailed by the curvature. Vibration is made in a constant width with respect to the vertical axis of the tube, the vibration mask changes the position of the shadow mask 16 to the screen side (16-a) and the electron gun side (16-b), wherein the shadow mask is Since the received force is generated in the form of the product of the weight and acceleration of the shadow mask, when the center weight of the shadow mask is large, the permanent deformation occurs in the circular shape 17 by receiving a large force above the elastic limit.

또한 도 6에 도시된 바와 같이, 종래 음극선관은 대형 음극선관일수록 외부 충격량과 새도우마스크 변형률과의 관계가 비선형적으로 증가하므로, 외부 충격이 가해지면 새도우마스크가 영구 변형되어 색순도가 악화된다.In addition, as shown in FIG. 6, in the conventional cathode ray tube, the relationship between the external impact amount and the shadow mask strain increases nonlinearly as the large cathode ray tube is deteriorated, so that the shadow mask is permanently deformed and the color purity deteriorates when an external impact is applied.

따라서 본 발명은 새도우마스크의 스커트부에 하프에칭영역과 완전 통과공 영역을 형성하여 외부의 충격과 열팽창에 견딜 수 있도록 하여 음극선관의 내충격, 내진동, 도우밍 특성을 향상시키는 것을 목적으로 한다.Therefore, an object of the present invention is to improve the impact resistance, vibration resistance, and domming characteristics of a cathode ray tube by forming a half etching region and a complete through hole region in a skirt portion of the shadow mask to withstand external shock and thermal expansion.

이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기술적 수단은 내면에 형광체 스크린을 갖는 판넬과, 상기 판넬에 연결된 펀넬과, 상기 펀넬의 네크부에 장착되어 상기 형광체 스크린을 향해 전자빔을 방출하는 전자총과, 상기 판넬 내면의 형광체 스크린에 대해 일정 간격을 두고 배치되어 색선별 역할을 하는 새도우마스크와, 상기 새도우마스크를 고정 지지하는 프레임을 포함하는 칼라 음극선관에 있어서, 상기 새도우마스크는 전자빔 통과공을 포함하는 유효면과 상기 유효면을 둘러싸는 비유효면으로 구성되며, 상기 비유효면의 일부가 상기 형광체 스크린과 수직방향으로 절곡되어 프레임에 고정 지지되는 스커트(Skirt)부를 포함하며, 상기 스커트부에는 하프에칭(Half etching) 영역과 완전 통과공 영역이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.The technical means of the present invention for achieving this object is a panel having a phosphor screen on the inner surface, a funnel connected to the panel, an electron gun mounted to the neck portion of the funnel and emitting an electron beam toward the phosphor screen, the panel A color cathode ray tube including a shadow mask disposed at a predetermined interval with respect to an inner phosphor screen and serving as color screening, and a frame for fixing and supporting the shadow mask, wherein the shadow mask is an effective surface including an electron beam through hole. And an invalid surface surrounding the effective surface, wherein a portion of the invalid surface is bent in a direction perpendicular to the phosphor screen and fixed to a frame and is supported by a frame. Half etching) region and the complete through-hole region is formed.

상기 새도우마스크의 스커트부에는 프레임의 내측 또는 외측을 돌출하여 충격을 흡수하는 절곡부를 포함하고, 상기 하프에칭(Half etching) 영역 및/또는 완전 통과공 영역은 절곡부에 형성되는 것을 특징으로 한다.The skirt portion of the shadow mask may include a bent portion protruding from the inside or the outside of the frame to absorb an impact, and the half etching region and / or the complete through hole region may be formed in the bent portion.

상기 하프에칭(Half etching) 영역에는 복수의 하프에칭 슬릿을 가지고 있으며, 상기 슬롯의 폭 또는 깊이가 서로 다른 것을 특징으로 한다.The half etching region has a plurality of half etching slits, and the width or depth of the slot is different from each other.

상기 새도우마스크의 하프에칭(Half etching) 영역과 완전 통과공 영역은 성형된 새도우마스크의 절곡 시작부로부터 하기 범위에 있는 것을 특징으로 한다.The half etching region and the complete through hole region of the shadow mask are in the following range from the start of bending of the molded shadow mask.

상기 식에서 Ls는 새도우마스크의 스커트 총 길이이고, Lh는 스커트 절곡 시작부에서 하프에칭 영역까지의 길이이다.Where Ls is the total skirt length of the shadow mask and Lh is the length from the beginning of the skirt bending to the half etching region.

상기 새도우마스크의 스커트부와 프레임이 용접되어 고정될 때 용접점의 높이가 성형 새도우마스크 절곡 시작부를 기준으로 하기 범위에 있는 것을 특징으로한다.When the skirt portion and the frame of the shadow mask is welded and fixed, the height of the welding point is characterized in that it is in the following range on the basis of the start of the molded shadow mask bending.

상기 식에서 Lx는 새도우마스크 장변 절곡 시작부에서 용접점까지의 거리이고, Ly는 새도우마스크 단변 절곡 시작부에서 용접점까지의 거리이고, Ld는 대각 새도우마스크 대각 절곡 시작부에서 용접점까지의 거리이다.Where Lx is the distance from the start of shadow mask long side bending to the welding point, Ly is the distance from the start of shadow mask short side bending to the welding point, and Ld is the distance from the beginning of the diagonal shadow mask diagonal bending to the welding point. .

도 1은 종래 완전평면 음극선관의 단면도.1 is a cross-sectional view of a conventional full flat cathode ray tube.

도 2는 종래 성형 전 새도우마스크를 나타내는 도.2 is a view showing a shadow mask before conventional molding.

도 3은 종래 성형된 새도우마스크를 나타내는 도.3 is a view showing a conventionally formed shadow mask.

도 4는 종래 새도우마스크 어셈블리를 나타내는 도.4 is a view showing a conventional shadow mask assembly.

도 5는 종래 새도우마스크의 낙하시 거동 및 변형 형태를 나타내는 도.5 is a view showing the behavior and deformation of the conventional shadow mask when falling.

도 6은 종래 음극선관의 외부 충격에 의한 새도우마스크 변형률을 나타내는 도.6 is a diagram showing the shadow mask strain caused by the external impact of the conventional cathode ray tube.

도 7은 본 발명의 새도우마스크 상세도.Figure 7 is a detailed view of the shadow mask of the present invention.

도 8은 본 발명의 성형 새도우마스크 형상 단면도.8 is a cross-sectional view of the shaped shadow mask of the present invention.

도 9는 본 발명의 성형 새도우마스크 용접점의 위치를 나타내는 도.9 is a view showing the position of the molded shadow mask welding point of the present invention.

도 10은 본 발명의 성형 새도우마스크 스커트 형상을 나타내는 도.10 is a view showing a molded shadow mask skirt shape of the present invention.

도 11은 본 발명의 새도우마스크 스커트 단면 형상을 나타내는 도.11 is a view showing a shadow mask skirt cross-sectional shape of the present invention.

도 12는 본 발명의 새도우마스크의 내충격과 마스크 변형관계를 나타내는 도.12 is a view showing the impact resistance and mask deformation relationship of the shadow mask of the present invention.

도 13은 본 발명의 새도우마스크의 열팽창에 따른 거동을 나타내는 도.13 is a view showing the behavior according to the thermal expansion of the shadow mask of the present invention.

도 14는 본 발명의 새도우마스크의 도우밍 현상을 나타내는 도.FIG. 14 is a diagram illustrating a domming phenomenon of the shadow mask of the present invention. FIG.

도 15는 본 발명의 새도우마스크의 하울링 특성을 나타내는 도.15 is a diagram showing howling characteristics of the shadow mask of the present invention.

도 16의 a 내지 b는 본 발명의 성형 새도우마스크 스커트부의 하프에칭의 실시 예를 나타내는 도 .16A to 16B illustrate an embodiment of half etching of the molded shadow mask skirt portion of the present invention.

*** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ****** Explanation of symbols for the main parts of the drawing ***

1 : 판넬 2 : 펀넬 3 : 새도우마스크 4 : 형광면DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Panel 2 Funnel 3 Shadow mask 4 Fluorescent surface

7 : 프레임 12 : 전자빔 통과공 14 : 유효면 15 : 스커트7 Frame 12 Electron Beam Passing Hole 14 Effective Surface 15 Skirt

18 : 하프에칭영역 19 : 완전 통과공18: half etching area 19: complete through hole

20 : 스커트의 절곡 시작부 21 : 용접점20: beginning of bending skirt 21: welding point

23 : 하프에칭 절곡부 27 : 하프에칭 슬릿23: half etching bent portion 27: half etching slit

본 발명에서는 두 가지 방법으로 새도우마스크 자체에서 외부 충격량을 흡수할 수 있도록 하고, 열팽창에 의한 도우밍 현상과 스피커에 의한 마이크로포닉(Microphonic)(일명 하울링) 현상을 감소시키는 효과도 구현하였다.In the present invention, the shadow mask itself can absorb the external impact amount in two ways, and the effect of reducing the phenomena due to thermal expansion and the microphonic (aka howling) due to the speaker is also realized.

먼저 도 7에 도시된 바와 같이, 성형 전 새도우마스크의 스커트 장, 단변 중앙부와 코너부에 하프에칭영역(18)을 형성하고, 상기 새도우마스크의 스커트 장, 단변 중앙부와 코너부 사이에 완전 통과공(19)을 형성한다.First, as shown in FIG. 7, the half-etching region 18 is formed in the skirt length, the short side center portion and the corner portion of the shadow mask before molding, and a complete passage hole is formed between the skirt length, the short side center portion and the corner portion of the shadow mask. (19) is formed.

도 8에 도시된 바와 같이, 성형된 새도우마스크의 단면에 하프에칭영역(18)과 새도우마스크 스커트의 절곡 시작부(20)가 형성된다.As shown in FIG. 8, a half etching region 18 and a bending start portion 20 of the shadow mask skirt are formed in the cross section of the molded shadow mask.

상기 완전 통과공의 형태는 원형이 아니어도 무방하고, 음극선관의 특성에 따라서 상기 하프에칭 영역 및 깊이를 조절할 수 있다.The shape of the complete through hole may not be circular, and the half etching area and depth may be adjusted according to the characteristics of the cathode ray tube.

상기 성형된 새도우마스크는 용접을 통해서 프레임과 결합되는데, 이 용접점은 새도우마스크가 충격을 받을 때 충격 흡수의 기준점이 되므로, 도 9에 도시된바와 같이 상기 용접점(21)의 장, 단변과 대각의 거리를 절곡부를 기준으로 동일하게 맞추되 하기와 같은 범위에 있는 것이 바람직하다.The molded shadow mask is coupled to the frame through welding, and this welding point becomes a reference point of shock absorption when the shadow mask is impacted, so that the long side and short sides of the welding point 21 are as shown in FIG. 9. The diagonal distance is equally adjusted with respect to the bent portion, but preferably within the following range.

상기 식에서 Lx는 새도우마스크 장변 절곡 시작부에서 용접점까지의 거리이고, Ly는 새도우마스크 단변 절곡 시작부에서 용접점까지의 거리이고, Ld는 대각 새도우마스크 대각 절곡 시작부에서 용접점까지의 거리이다. 이 때, 도 10에서 Ly는 설명의 편의상 내측에서 표현한 것으로, Lx, Ld와 비교를 위해서는 새도우마스크 두께를 포함하도록 외측에서 표현되는 것이 정확하다.Where Lx is the distance from the start of shadow mask long side bending to the welding point, Ly is the distance from the start of shadow mask short side bending to the welding point, and Ld is the distance from the beginning of the diagonal shadow mask diagonal bending to the welding point. . In this case, in FIG. 10, Ly is expressed on the inside for convenience of description, and it is precisely expressed on the outside to include the shadow mask thickness for comparison with Lx and Ld.

상기 범위를 벗어나서 용접되면 외부 충격시 성형 새도우마스크에 인가되는 충격량의 분산, 흡수가 일어나지 않아서 충격이 특정 부분으로 집중되어 새도우마스크가 변형된다.When welding outside the above range, dispersion and absorption of the amount of impact applied to the molded shadow mask during external impact does not occur, so that the impact is concentrated to a specific portion, thereby deforming the shadow mask.

또한 도 10에 도시된 바와 같이 새도우마스크 스커트부의 하프에칭 경계부(22)와 스커트의 절곡 시작부(20)와의 관계는 하기 범위를 가진다.In addition, as shown in FIG. 10, the relationship between the half-etching boundary portion 22 of the shadow mask skirt portion and the bending start portion 20 of the skirt has the following range.

상기 식에서 Ls는 새도우마스크 스커트의 총 길이이고, Lh는 스커트 절곡 시작부에서 하프에칭 영역까지의 길이이다.Where Ls is the total length of the shadow mask skirt and Lh is the length from the beginning of the skirt bending to the half etching region.

한편, 도 11에 도시된 바와 같이 성형 새도우마스크 스커트부(15)의 하프에칭영역에 절곡부(23)를 형성하는데, 상기 절곡부는 하프에칭 슬롯이 가장 깊게 에칭된 곳을 중심으로 하여 스커트 전주에 걸쳐 형성하고, 충격량을 효과적으로 흡수하기 위해 완전 통과공 영역에도 상기 절곡부를 형성하는 것이 바람직하다.Meanwhile, as illustrated in FIG. 11, the bent portion 23 is formed in the half etching region of the molded shadow mask skirt portion 15, and the bent portion is formed around the skirt pole around the place where the half etching slot is deeply etched. It is preferable to form the said bent part also in a complete through-hole area | region in order to form over and to absorb an impact amount effectively.

이와 같이 구성된 본 발명의 작용을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the present invention configured as described above is as follows.

먼저, 외부 충격이 음극선관 내부로 전달될 때 성형 새도우마스크의 각 스커트부와 프레임과의 용접점이 동일한 높이를 유지하므로 충격량이 동시에 전 영역으로 분산되고, 상기 하프에칭 영역과 완전 통과공 영역이 충격을 흡수하는 역할을 하고, 상기 하프에칭 경계부의 반경과 성형 새도우마스크 절곡부의 반경을 거의 같게 구성하여 외부 충격에 대한 완충 영역을 균등화함으로써 새도우마스크의 영구 변형을 방지한다.First, when the external impact is transmitted to the inside of the cathode ray tube, the welding point between each skirt portion and the frame of the molded shadow mask maintains the same height, so that the impact amount is dispersed all over the area at the same time, and the half etching area and the complete through hole area are impacted. It absorbs and prevents permanent deformation of the shadow mask by equalizing the buffer area against external impact by configuring the radius of the half-etching boundary and the radius of the molded shadow mask bent almost equal.

도 12에 도시된 바와 같이, 상기 하프에칭영역과 완전 통과공 영역을 형성하여 내충격성을 시험한 결과 최소 10% 이상 향상됨을 확인하였다.As shown in FIG. 12, the half-etching area and the complete through-hole area were formed, and the impact resistance test result was confirmed to be improved by at least 10%.

또한 열팽창에 의한 새도우마스크의 도우밍 현상을 감소시키는 효과를 첨부한 도 13, 도 14를 참조하여 설명하면 다음과 같다.In addition, with reference to Figures 13 and 14 attached to the effect of reducing the shadowing phenomenon of the shadow mask due to thermal expansion as follows.

일반적으로 새도우마스크는 전자빔에 의해서 열을 받아 팽창하게되고 상기 팽창에 의한 도우밍량은 t0에서 시작하여 피크치인 t1에 이르게 되고, 새도우마스크를 지지하는 프레임도 열팽창을 하게 되어 초기 위치(24-b)에서 팽창된 위치(24-a)로 이동하게 되는데, 이때 새도우마스크의 곡면은 전자총 측(25- b)으로 처지게 되어 도우밍량이 t2까지 변화되고 , 전체 도우밍량이 커지게 되어(26-a) 색순도를 저하시키는데, 이것은 프레임이 열팽창을 하면서 새도우마스크를 용접점의 바깥방향으로 끌어당기기 때문이다.In general, the shadow mask is expanded by receiving heat by the electron beam, and the amount of domming by the expansion starts at t0 and reaches a peak value t1, and the frame supporting the shadow mask also undergoes thermal expansion, and thus the initial position (24-b). Move to the expanded position (24-a), where the curved surface of the shadow mask sags toward the electron gun side (25-b) so that the amount of domming changes to t2 and the total amount of domming becomes large (26-a). This reduces color purity because the frame expands thermally and pulls the shadow mask out of the weld.

그런데 본 발명과 같이 새도우마스크 스커트부에 절곡부를 형성하면 상기 프레임이 열팽창시 상기 절곡부가 음극선관의 외측 방향으로 절곡되어 프레임이 열팽창하여 바깥 방향으로 이동할 때 상기 절곡부가 펴지게 되어 성형 새도우마스크가 스크린 방향으로 올라가게 되고 결국 새도우마스크의 곡면이 원래 위치와 같게 되거나 위로 더 올라가므로(25-a) 전체 도우밍량은 (26-b)와 같이 감소하여 색순도 저하를 막을 수 있다.However, when the bent portion is formed in the shadow mask skirt portion as in the present invention, when the frame is thermally expanded, the bent portion is bent in the outward direction of the cathode ray tube so that the bent portion is stretched when the frame is thermally expanded and moved outward so that a molded shadow mask is As the surface of the shadow mask rises in the direction and becomes the same as the original position or rises further (25-a), the total amount of the domming decreases as (26-b) to prevent the color purity deterioration.

또한 새도우마스크의 스커트부에 있는 완전 통과공영역은 충격 흡수뿐만 아니라 외부 음성 진동에 의한 새도우마스크의 떨림 현상(일명 하울링(Howling))이 발생했을 때 진동을 흡수하여, 도 15에 도시된 바와 같이 새도우마스크의 진동폭을 약 20% 감소시키며 공진 주파수를 고주파 쪽으로 이동시킴으로서 눈으로 인식되는 떨림 정도를 감소시키는 효과가 있다.In addition, the entire through-hole area in the skirt portion of the shadow mask absorbs vibration when vibration of the shadow mask due to external voice vibration (also known as howling) occurs, as shown in FIG. 15. The vibration width of the shadow mask is reduced by about 20% and the resonance frequency is moved toward the high frequency, thereby reducing the amount of trembling that is recognized by the eye.

본 발명의 다른 실시 예를 첨부한 도 16을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 16.

먼저 a는 하프에칭영역을 형성할 때 상기 하프에칭영역의 중심을 기준으로 하여 경계부로 갈수록 하프에칭슬릿(27)의 깊이가 감소하게 되는 것이고, b는 상기 하프에칭슬릿(27)의 깊이는 동일하게 하고 그 폭을 감소시킴으로써 충격을 흡수하게 하는 것이다.First, when a is a half etching region, the depth of the half etching slit 27 decreases toward the boundary with respect to the center of the half etching region, and b is the same depth as the half etching slit 27. To absorb shocks by reducing their width.

뿐만 아니라 상기 하프에칭영역과 완전 통과공영역은 각 음극선관의 모델에 따라 단독 또는 혼합하여 적용이 가능하며, 성형 마스크 스커트의 절곡 방향도 프레임방향 또는 관축방향 모두 가능하고, 하프에칭의 방향도 소공경측 또는 대공경측으로 형성할 수 있다.In addition, the half etching area and the complete through hole area may be applied singly or mixed according to the model of each cathode ray tube, and the bending direction of the molded mask skirt may be either in the frame direction or the tube axis direction, and the half etching direction may also be small. It can be formed in the diameter side or the large diameter side.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 특히 고정세 칼라 데이터 처리용 음극선관에 있어서 외부 충격에 의한 새도우마스크의 변형을 방지하여 색순도를 확보해주고, 열팽창에 의한 도우밍(Doming)현상을 감소시켜 색순도 저하를 방지하고, 스피커에 의한 마이크로포닉(Microphonic)(일명 하울링) 발생시 새도우마스크의 떨림을 줄여 고화질을 구현하는 효과가 있다.As described above, the present invention provides color purity by preventing deformation of the shadow mask due to external impact, especially in the high-definition color data processing cathode ray tube, and reduces the color purity by reducing the doming phenomenon due to thermal expansion. And it prevents the vibration of the shadow mask when a microphonic (aka howling) caused by the speaker has the effect of realizing high quality.

Claims (5)

내면에 형광체 스크린을 갖는 판넬과, 상기 판넬에 연결된 펀넬과, 상기 펀넬의 네크부에 장착되어 상기 형광체 스크린을 향해 전자빔을 방출하는 전자총과, 상기 판넬 내면의 형광체 스크린에 대해 일정 간격을 두고 배치되어 색선별 역할을 하는 새도우마스크와, 상기 새도우마스크를 고정 지지하는 프레임을 포함하는 칼라 음극선관에 있어서,A panel having a phosphor screen on an inner surface, a funnel connected to the panel, an electron gun mounted on a neck portion of the funnel to emit an electron beam toward the phosphor screen, and disposed at a predetermined interval with respect to the phosphor screen on the inner surface of the panel In the color cathode ray tube comprising a shadow mask that serves as color screening, and a frame for holding and supporting the shadow mask, 상기 새도우마스크는 전자빔 통과공을 포함하는 유효면과 상기 유효면을 둘러싸는 비유효면으로 구성되며;The shadow mask comprises an effective surface including an electron beam passing hole and an invalid surface surrounding the effective surface; 상기 비유효면의 일부가 상기 형광체 스크린과 수직방향으로 절곡되어 프레임에 고정 지지되는 스커트(Skirt)부를 포함하며;A portion of the invalid surface includes a skirt portion bent in a direction perpendicular to the phosphor screen and fixedly supported by a frame; 상기 스커트의 장, 단변 중앙부와 코너부에 하프에칭(Half etching) 영역이 형성되고, 스커트의 장, 단변 중앙부와 코너부 사이에 하프에칭(Half etching) 영역이 형성되는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관.A half etching region is formed between the long, short side center portion and the corner portion of the skirt, and a half etching region is formed between the long, short side center portion and the corner portion of the skirt. . 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 새도우마스크의 스커트부에는 프레임의 내측 또는 외측으로 돌출하여 충격을 흡수하는 절곡부를 포함하고, 상기 하프에칭(Half etching) 영역 및/또는 완전 통과공 영역은 상기 절곡부에 형성되는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관.The skirt portion of the shadow mask includes a bent portion that protrudes in or out of the frame to absorb an impact, and the half etching region and / or the complete through hole region are formed in the bent portion. Colored cathode ray tube. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 하프에칭(Half etching) 영역에는 복수의 하프에칭 슬릿을 가지고 있으며, 상기 슬롯의 폭 또는 깊이가 서로 다른 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관.The half etching region has a plurality of half etching slits, the width or depth of the slot, the color cathode ray tube, characterized in that different. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 새도우마스크의 스커트부는 새도우마스크의 스커트 총 길이를 Ls라 하고, 스커트 절곡 시작부에서 하프에칭 영역까지의 길이를 Lh라 할 때, 다음 식When the skirt portion of the shadow mask is referred to as the total length of the skirt of the shadow mask, and the length from the beginning of the skirt bending to the half-etching region is Lh, 을 만족하는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관.Color cathode ray tube, characterized in that to satisfy. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 새도우마스크의 스커트부는 새도우마스크 장변 절곡 시작부에서 용접점까지의 거리를 Lx라 하고, 새도우마스크 단변 절곡 시작부에서 용접점까지의 거리를 Ly라 하고, 대각 새도우마스크 대각 절곡 시작부에서 용접점까지의 거리를 Ld라 할 때, 다음식The skirt portion of the shadow mask is referred to as Lx as the distance from the start of the shadow mask long side bending to the welding point, and the distance from the beginning of the shadow mask short side bending to the welding point is Ly, and the weld point at the beginning of the diagonal shadow mask diagonal bending. When the distance to Ld is 을 만족하는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관.Color cathode ray tube, characterized in that to satisfy.