KR100380035B1 - 메틸아세테이트를 이용한 염화제1동의 제조방법 - Google Patents

Abstract

염산과 염화제2동을 함유하는 염화제2동 폐액에 금속 동과 염화나트륨을 가하고, 70∼80℃에서 교반하여 환원시키고, 여과하여 염화동 착체 화합물이 함유된 상등액을 얻고, 여기에 물을 가하여 염화제1동 화합물을 석출시켜서 염화제1동을 제조하는 방법에 있어서, 상기 석출된 염화제1동을 메틸아세테이트와 메탄올의 혼합물에 침지하여 염화제1동에 함유된 수분 및 불순물을 제거함을 특징으로 하는 염화제1동의 정제방법을 제공한다.

Description

메틸아세테이트를 이용한 염화제1동의 제조방법{PROCESS FOR PURIFYING CUPROUS CHLORIDE USING THE MIXTURE OF METHYL ACETATE AND METHANOL}

본 발명은 염화동 폐액으로부터 염화제1동을 제조하는 방법에 있어서, 얻어진 물 및 불순물을 함유하는 염화제1동 화합물을 메틸아세테이트와 메탄올의 혼액을 가하여 염화제1동 중에 함유된 수분 및 불순물을 제거함을 특징으로 하는 염화제1동의 정제방법에 관한 것이다.

본 발명자는 염화제1동은 고가이므로 프린트 기판 폐액으로부터 이들을 회수하는 방법에 관하여 특허 출원한 바 있다(참고, 특허출원 제 2000-18397호). 상기 특허출원의 명세서에서도 기술한 바와 같이, 염화동 폐액으로부터 얻어지는 염화제1동이 수분을 함유하면, 공기 중에서 녹색∼녹회색으로 변하고, 빛에 의해서는 청색∼갈색으로 변하여 제품의 안정성이 손상되기 때문에, 염화제1동을 분리한 후, 진공 건조한다. 그리고, 염화제1동을 제조하는 경우, 진공 건조시 염화제1동의 부식성 때문에 캐비닛 모양의 뱃치형 진공 건조기를 사용하나, 완전 건조하면, 얻어진 염화제1동의 성상이 돌처럼 단단한 괴상으로 되어 분쇄에 어려움이 따른다. 이러한 문제를 해결하기 위하여 글라스 라이닝한 코니칼 드라이어에 진공 장치하여 사용하고 있으나, 이러한 장치는 시설비가 고가이고, 양산에 문제가 있다. 그리하여 본 발명자는 특허출원 제 2000-18397호에서는 염화제2동 함유 폐액을 염화나트륨 존재하에서 금속동으로 환원하고 얻어진 염화동 착염을 물로 분해하고, 생성 침전을 여과하고, 다시 염산으로 세정한 후, 얻어진 케이크상 염화제1동을 메탄올 또는 아세톤에 침지하여 염화제1동 중에 존재하는 수분과 불순물을 제거하여 순수한 염화제1동을 경제적으로 제조하는 방법을 제안한 바 있다.

그러나, 상기 특허출원의 발명을 계속 연구하던 중, 사용되는 메탄올이나 아세톤이 고순도의 것을 사용함으로 정제비용이 높아서 바람직하지 못함을 발견하였다.

한편, 스판텍스의 원료인 PTG(Polytetramethylene ether glycol)을 생산하는 과정에서 부산물로 생산되는 메틸아세테이트와 메탄올의 혼합물이 다량으로 발생하며, 이를 재활용하기 위해서는 메탄올과 아세트산으로 분해하여야 하나, 시설비가 막대하여 소요되어 이를 분해하지 못하고, 연료대용으로 사용하거나, 저급 세정제로 사용되고 있다.

따라서, 본 발명자는 상기 문제점을 해결하기 위하여 예의 연구한 결과, 염화제2동 함유 폐액을 환원하여 얻어진 염화제1동 함유 반응생성물에 염소성분인 염화나트륨을 가하던가 또는 염산의 농도를 높여 염화제1동 착체를 얻고, 여과하여 상등액을 취한 후, 이를 전술한 메틸아세테이트와 메탄올의 혼합물에 침지하여 염화제1동 화합물 중에 함유된 수분 및 기타 불순물을 제거할 수 있음을 발견하고, 본 발명을 완성하게 되었다.

본 발명자의 선원 발명인 특허출원 제 2000-18397호에서는 염화동 폐액에 금속 동과 염화나트륨을 가하고, 70∼80℃에서 교반하면서 환원 반응시키고, 반응액을 방냉후, 상등액을 분리한 후, 여기에 약 5배량의 물을 가하고, 이 용액의 pH를 3이하로 조정하고, 상기 용액을 교반하면, 형성된 염화동착체가 용해하여 염화제1동이 석출한다. 이를 여과하여 분리하고, 곧 메틸아세테이트와 메탄올의 혼합물에 침지하고, 호모믹서를 사용하여 고속으로 교반하면 염화제1동에 존재하는 수분은 모두 메틸아세테이트와 메탄올의 혼합물에 분해되고, 염화제1동은 침전물로서 고순도로 회수된다.

여기서 사용되는 메틸아세테이트와 메탄올의 혼액은 배출원에 따라 다르나, 그의 혼합 구성비가 대개 75∼85:15∼25중량%로 되어 있다. 본 발명에서는 상기 혼액을 분리할 필요가 없으며, 양 성분 모두 물에 대한 용해성이 높아서, 염화제1동 에 존재하는 수용성의 유리염산, 미반응 염화동 등을 용이하게 용출시킬 수 있다.

또한, 본 발명에서 사용한 메틸아세테이트와 메탄올의 혼액은 증류하여 다시 사용할 수 있다.

이하, 실시예를 들어 본 발명은 더 구체적으로 설명한다. 그러나, 이들 실시예가 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니다.

실시예 1

염산 12%, 염화동 22%을 함유하는 폐액 1 kg을 반응기에 넣고, 70 rpm으로 교반하면서, 분쇄 동 500g과 염화나트륨 400g을 넣고, 반응기 내온을 70∼80℃로 유지하면서 60분간 교반하였다. 반응액이 투명하게 된 것을 확인한 후, 10분간 방치하였다. 여과하여 상등액을 취한 후, 이를 약 4∼5리터의 물에 넣고, 황산을 가하여 용액 pH를 3으로 조정하였다. 이 용액을 교반한 후, 얻어진 침전물을 여과하여 분리하였다. 이를 0.05N 염산 수용액으로 세정하고, 얻어진 케이크상의 염화제1동 화합물을 즉시 메틸아세테이트/메탄올(3/1) 혼액 250 g에 침지시킨 후, 호모믹서를 사용하여 5000 rpm으로 30분간 교반하여 염화제1동을 미립자로 하였다. 이를 여과한 후, 70℃에서 30분간 건조하여 염화제1동의 백색분말 344g을 얻었다.

얻어진 염화제1동을 분석하여 본 결과, 순도는 96.8%이었다.

상술한 바와 같이, 본 발명에 의하면 염화동 및 염산을 함유하는 PCB 기판 부식 폐액을 염화나트륨 존재하에서 금속 동으로 환원하고, 얻어진 염화동착염을 물로 분해한 후, 생성된 침전을 여과하고, 다시 염산으로 세정한 후, 얻어진 케이크상 염화제1동을 메틸아세테이트와 메탄올의 혼합물에 침지하여 염화제1동 중에 존재하는 수분과 불순물을 제거함으로서 순수한 염화제1동을 경제적으로 얻을 수 있다.

Claims (2)

1. 염산과 염화제2동을 함유하는 염화제2동 폐액에 금속 동과 염화나트륨을 가하고, 70∼80℃에서 교반하여 환원시키고, 여과하여 염화동 착체화합물이 함유된 상등액을 얻고, 여기에 물을 가하여 염화제1동 화합물을 석출시켜서 염화제1동을 제조하는 방법에 있어서,

   상기 석출된 염화제1동을 메틸아세테이트와 메탄올의 혼합비가 75∼85중량% 내지 15∼25중량%의 혼합물에 침지하여 염화제1동 중의 수분 및 불순물을 제거함을 특징으로 하는 염화제1동의 정제방법.
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