KR100344232B1 - 폴리머 술포늄염 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (4)
- 다음 화학식 1로 표시되는 술포늄 염.화학식 1상기 식에서, R1,R2,R3는 서로 같거나 다른 것으로서 탄소원자수 1∼20인 직쇄상, 측쇄상, 고리형 알킬기, 또는 비닐기이고;R4,R5는 각각 독립적으로 탄소원자수 1∼20인 직쇄상, 측쇄상, 고리형 알킬기, 아릴기, 알릴기, 방향족 화합물 또는 벤질기이며;R6는 수소원자, 탄소원자수 1∼20인 직쇄상, 측쇄상, 또는 고리형 알킬기, 알콕시기이고;n은 0∼20의 정수이고;w는 0≤w/(w+x+y+z)≤0.99;x는 0≤x/(w+x+y+z)≤0.99;y는 0≤y/(w+x+y+z)≤0.99이며;z는 0≤z/(w+x+y+z)≤0.99이다.
- 다음 화학식 4로 표시되는 퍼플루오르술포닉 언하이드라이드를 촉매로 사용하여 다음 화학식 2로 표시되는 폴리머 화합물과 다음 화학식 3으로 표시되는 설폭사이드 화합물을 반응시켜 다음 화학식 1로 표시되는 폴리머 술포늄염을 제조하는 방법.화학식 1상기 식에서, R1,R2,R3는 서로 같거나 다른 것으로서 탄소원자수 1∼20인 직쇄상, 측쇄상, 고리형 알킬기, 또는 비닐기이고;R4,R5는 각각 독립적으로 탄소원자수 1∼20인 직쇄상, 측쇄상, 고리형 알킬기, 아릴기, 알릴기, 방향족 화합물 또는 벤질기이며;R6는 수소원자, 탄소원자수 1∼20인 직쇄상, 측쇄상, 또는 고리형 알킬기, 알콕시기이고;n은 0∼20의 정수이고;w는 0≤w/(w+x+y+z)≤0.99;x는 0≤x/(w+x+y+z)≤0.99;y는 0≤y/(w+x+y+z)≤0.99이며;z는 0≤z/(w+x+y+z)≤0.99이다.화학식 2상기 식에서, R1,R2,R3, R6,w, x, y, z는 상기한 바와 같다.화학식 3상기 식에서, R4, R5는상기한 바와 같다.화학식 4상기 식에서, n은 상기한 바와 같다.
- 제 2 항에 있어서, 반응온도 -100∼100℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 술포늄염의 제조방법.
- 제 2 항에 있어서, 반응용매는 디클로로메탄, 클로로포름, 카본테트라클로라이드, 에테르, 펜탄, 핵산, 벤젠 및 톨루엔으로 이루어진 군으로부터 선택하여 사용하는 것을 특징으로 하는 폴리머 술포늄염의 제조방법.
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US4173476A (en) * | 1978-02-08 | 1979-11-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Complex salt photoinitiator |
JPH054996A (ja) * | 1990-04-30 | 1993-01-14 | General Electric Co <Ge> | トリアリ―ルスルホニウムのヘキサフルオロ金属または半金属塩の製造方法 |
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-
2000
- 2000-06-19 KR KR1020000033559A patent/KR100344232B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20010113283A (ko) | 2001-12-28 |
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