KR100304460B1 - Apparatus cleaning water - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 플라즈마를 이용하여 오폐수를 정화하는 오수 정화 장치에 관한 것으로, 특히 플라즈마를 발생하는 망 방전(SD: Screen Discharge)과 고전압 펄스를 이용하여 다량의 플라즈마를 발생시켜 오폐수를 정화하기 위한 오수 정화 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a wastewater purification apparatus for purifying wastewater using plasma, and more particularly, to purify wastewater by generating a large amount of plasma using a screen discharge (SD) and high voltage pulses to generate plasma. Relates to a device.
일반적으로 오폐수 및 하수의 처리 방법은 오폐수 및 하수 중에 함유된 각종유, 무기물질을 영양원으로 하여 강제 폭기에 의한 호기성 상태에서 미생물을 배양하고, 이렇게 배양된 미생물과 오폐수를 순환시킴으로써 오폐수 및 하수 중에 함유된 각종 유,무기물질을 산화, 분해, 응집, 흡착, 침전 등의 단계적 과정을 통해 제거하는 미생물을 이용한 생물학적 처리 방법이 대부분 채택되어 이용되고 있다.In general, wastewater and sewage treatment methods include cultivating microorganisms in an aerobic state caused by forced aeration using various oils and inorganic substances contained in wastewater and sewage, and circulating the microorganisms and wastewater so circulated in the wastewater and sewage. Most biological treatment methods using microorganisms which remove various organic and inorganic substances through gradual processes such as oxidation, decomposition, coagulation, adsorption, and precipitation have been adopted.
이러한 생물학적 오폐수의 처리 방법에는 크게 활성오니법과 생물막법 및 이들을 혼용한 방법이 있는데, 이중 활성오니법에서는 유기질분은 주로, 세균, 균류를 섭최하는 반면 생물막법에서는 원생동물 특히 섬모충유가 압도적으로 많아 오폐수 처리에 중요한 역할을 하게 된다.There are two methods for treating such biological wastewater: active sludge method, biofilm method, and a mixture of these methods. Among them, organic matter mainly takes up bacteria and fungi, whereas biofilm method has overwhelmingly large numbers of protozoa, especially ciliary oil. It plays an important role in wastewater treatment.
그러나 생물학적 오폐수 처리 방법은 정상 상태에서 미생물이 담체에 모여 있으므로 용존 산소의 효율적 사용이 저해되는 문제점이 있다.However, the biological wastewater treatment method has a problem that the efficient use of dissolved oxygen is inhibited because the microorganisms are collected in the carrier in a steady state.
또한, 이러한 생물학적 오폐수 처리 방법은 오수에 포함되어 있는 각종 중금속을 제거하기 어려운 문제점이 있었다.In addition, the biological wastewater treatment method has a problem that it is difficult to remove various heavy metals contained in the wastewater.
상기 문제점을 개선하기 위해 본 발명은 망 방전과 고전압 펄스를 이용하여 다량의 플라즈마를 발생시켜 오폐수 내의 중금속을 제거하고 정화하기 위한 오수정화 장치를 제공함에 그 목적이 있다.In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a wastewater purification apparatus for removing and purifying heavy metals in wastewater by generating a large amount of plasma using a network discharge and a high voltage pulse.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은 고전압 펄스 발생부를 구비하여 상기 고전압 펄스 발생부에서 발생되는 고전압 펄스에 따라 플라즈마를 발생시켜 오수를 정화하는 오수 정화 장치에 있어서, 오수가 유입되는 오수조에 설치되어 상기 고전압 펄스 발생부로터 공급되는 고전압 펄스에 따라 대응되는 양 망(Screen)극이 충방전되어 플라즈마를 발생하는 플라즈마 발생부; 오수내에서 플라즈마를 발생할 수 있도록 양 망극 사이에서 기포를 발생시키기 위해 상기 플라즈마 발생부로 소정 가스를 포함하는 공기를 공급하는 공기 공급부를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention is provided with a high voltage pulse generator to generate a plasma according to the high voltage pulse generated by the high voltage pulse generator in the sewage purification apparatus, which is installed in the sewage tank into which the sewage flows A plasma generator for generating plasma by charging and discharging corresponding screen electrodes according to a high voltage pulse supplied from the high voltage pulse generator; And an air supply unit for supplying air containing a predetermined gas to the plasma generating unit to generate bubbles between both reticles so as to generate plasma in the filthy water.
도 1은 본 발명에 의한 오수 정화 장치의 구성도1 is a block diagram of a sewage purification apparatus according to the present invention
도 2는 도 1의 플라즈마 발생부의 세부 구조도2 is a detailed structural diagram of the plasma generation unit of FIG.
도 2a 는 플라즈마 발생부의 측면도2A is a side view of the plasma generating unit
도 2b 는 플라즈마 발생부의 정면도2B is a front view of the plasma generating unit
도 2c 는 플라즈마 발생부의 평면도2C is a plan view of the plasma generation unit
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
100: 고전압 펄스 발생부 200: 플라즈마 발생부100: high voltage pulse generator 200: plasma generator
210, 211: 전극틀 220, 221: 망전극210, 211: electrode frame 220, 221: mesh electrode
230: 지지체 240: 공기 유입구230: support 240: air inlet
250: 공간부 260: 몸체250: space 260: body
300: 공기 공급부 400: 제어부300: air supply unit 400: control unit
500: 순환부 510: 순환 펌프500: circulation 510: circulation pump
600: 오수조 700: 플라즈마600: holding tank 700: plasma
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
일반적으로, 플라즈마는 고도로 전리되어 (+)이온과 (-)이온이 동일한 밀도로 존재하여 전기적으로 균형을 이루어 중성이 되어 있는 상태나 또는 그 이온들을 말한다.In general, the plasma is highly ionized, so that the (+) and (-) ions are present at the same density and are electrically balanced and neutral.
이와 같은 플라즈마를 발생시켜 오수를 정화하기 위한 본 발명에 의한 오수 정화 장치는 도 1에 도시한 바와 같이 고전압 펄스를 발생하는 고전압 펄스 발생부(100), 망(screen)으로 이루어져 플라즈마를 발생하는 플라즈마 발생부(200), 공기를 공급하는 공기 공급부(300), 순환 펌프(510)를 이용하여 오수조(600)내의 오수를 순환시키기 위한 순환부(500), 및 상기 고전압 펄스 발생부(100)와 공기 공급부(300)와 순환 펌프(500)를 제어하는 제어부(400)로 구성된다.Sewage purification apparatus according to the present invention for generating such a plasma to purify the sewage, as shown in Figure 1 is composed of a high voltage pulse generator 100 for generating a high voltage pulse, a screen (plasma) to generate a plasma The generator 200, the air supply unit 300 for supplying air, the circulation unit 500 for circulating the sewage in the sewage tank 600 by using the circulation pump 510, and the high voltage pulse generator 100 And a controller 400 for controlling the air supply unit 300 and the circulation pump 500.
상기 고전압 펄스 발생부(100)는 고전압 펄스, 즉 10Hz ~ 250Hz의 주파수를 갖고 20KV ~ 60KV의 전압으로 이루어진 고전압 펄스를 발생하여 플라즈마 발생부(200)로 공급한다.The high voltage pulse generator 100 generates a high voltage pulse, that is, a high voltage pulse having a frequency of 10 Hz to 250 Hz and composed of a voltage of 20 KV to 60 KV, and supplies it to the plasma generator 200.
상기 플라즈마 발생부(200)는 오수가 유입되는 오수조(600)에 설치되어 상기 고전압 펄스 발생부(100)로부터 공급되는 고전압 펄스에 따라 대응되는 양 망(Screen)극이 충방전되어 플라즈마를 발생하는 것이다.The plasma generator 200 is installed in the sewage tank 600 into which the sewage flows, and both screen electrodes corresponding to the high voltage pulses supplied from the high voltage pulse generator 100 are charged and discharged to generate plasma. It is.
상기 플라즈마 발생부(200)는 도 2에 도시한 바와 같이 상기 공기 공급부(300)로부터 주입되는 공기가 유입되도록 하단에 형성된 공기 유입구(240), 상기 공기 유입구(240)의 양단 상부에 일정 간격(d)으로 대응되도록 배치되며 충방전이 이루어지는 망(screen)전극(220, 221), 및 상기 망(screen)전극(220, 221)에 각각 접속되어 지지 고정하고 상기 고전압 펄스 발생부(100)로부터 출력되는 고전압 펄스가 인가되는 양 전극틀(210, 211)로 구성된다.As shown in FIG. 2, the plasma generator 200 has an air inlet 240 formed at a lower end thereof so that the air injected from the air supply unit 300 is introduced therein, and a predetermined interval (upper) at both ends of the air inlet 240. d) connected to the screen electrodes 220 and 221 and the screen electrodes 220 and 221 which are disposed to correspond to each other and are charged and discharged, respectively, and are fixed and supported from the high voltage pulse generator 100. Both electrode frames 210 and 211 to which the high voltage pulse to be output is applied.
여기서, 상기 망전극(220, 221)은 상기 공기 유입구(240)의 양단 상부에 0.5 내지 1cm 간격(d)으로 대응되도록 배치되며, 상기 전극틀(210, 211)에 지지체(230)를 두어 고전압 펄스 발생부(100)와의 연결을 용이하게 하면서 고정 및 지지가 용이하도록 몸체(260)에 부착한다. 여기서, 몸체(260)는 세라믹과 같은 절연체로 이루어진다.Here, the mesh electrodes 220 and 221 are disposed to correspond to the upper portion of the air inlet 240 at 0.5-1 cm intervals d, and the support 230 is placed on the electrode frames 210 and 211 to provide a high voltage. It is attached to the body 260 to facilitate the fixing and support while facilitating the connection with the pulse generator 100. Here, the body 260 is made of an insulator such as ceramic.
상기 공기 공급부(300)는 오수내에서 플라즈마를 발생할 수 있도록 양 망극 사이에서 기포를 발생시키기 위해 상기 플라즈마 발생부(200)로 공기를 공급하는 것이다.The air supply unit 300 supplies air to the plasma generator 200 to generate bubbles between both reticles so as to generate plasma in the sewage.
여기서, 상기 공기 공급부(300)에서는 상기 플라즈마 발생부(200)가 오수 내에서 다량의 플라즈마가 발생할 수 있도록 상기 플라즈마 발생부(200)로 특정 가스를 포함하는 공기를 주입한다. 이때, 상기 특정 가스는 이산화 질소 가스, 헬륨 가스, 아르곤과 클로로플루오로카본 가스 혼합물, 클로로플루오로 카본 가스, 또는 아르곤과 수소의 메탄 가스 혼합물로 플라즈마를 발생시키는 가스이다.Here, the air supply unit 300 injects air containing a specific gas into the plasma generator 200 to generate a large amount of plasma in the sewage. At this time, the specific gas is a gas that generates plasma with nitrogen dioxide gas, helium gas, argon and chlorofluorocarbon gas mixture, chlorofluoro carbon gas, or a methane gas mixture of argon and hydrogen.
상기 순환부(500)는 상기 오수조(600) 내의 오수를 순환시켜 오수내의 산소량을 증가시키도록 하는 것으로, 오수조(600)내의 오수 토출구(620)로부터 오수 토출관(520)을 통해 오수를 유출시키고 오수 유입관(530)과 오수조(600) 내의 오수 유입구(630)를 통해 오수를 유입시키는 순환 펌프(510)로 이루어진다.The circulation unit 500 is to circulate the sewage in the sewage tank 600 to increase the amount of oxygen in the sewage, through the sewage discharge pipe 520 from the sewage discharge port 620 in the sewage tank 600 Outflow and circulating pump 510 for introducing the sewage through the sewage inlet 630 and the sewage inlet 630 in the sewage tank 600.
이와 같이 이루어지는 본 발명에 의한 오수 정화 장치의 작용을 도 1 및 도 2를 참조하여 상세히 설명한다.The operation of the wastewater purification apparatus according to the present invention thus made will be described in detail with reference to FIGS. 1 and 2.
먼저, 오수조(600)의 오수 투입구(610)를 통해 오수를 오수조(600) 안으로 집어 넣은 후, 상기 제어부(400)에서 고전압 펄스 발생부(100)와 공기 공급부(300)를 작동시켜 10Hz ~ 250Hz의 주파수를 갖고 20KV ~ 60KV의 전압으로 이루어진 고전압 펄스를 플라즈마 발생부(200)의 전극틀(210, 211)로 공급하면서 이산화 질소 가스, 헬륨 가수, 아르곤과 클로로플루오로카본 가스 혼합물, 클로로플루오로카본 가스, 또는 아르곤과 수소와 메탄 가스 혼합물을 포함하는 공기를 공기 투입관(310)을 통해 망전극(220, 221) 사이에 형성된 공기 유입구(240)를 통해 망전극(220, 221) 사이로 유입시킨다.First, the wastewater is inserted into the wastewater tank 600 through the wastewater inlet 610 of the wastewater tank 600, and then the high voltage pulse generator 100 and the air supply unit 300 are operated by the controller 400 to operate the 10 Hz. Nitrogen dioxide gas, helium valence, argon and chlorofluorocarbon gas mixture, chloro, while supplying a high voltage pulse having a frequency of ˜250 Hz and a voltage of 20 KV to 60 KV to the electrode frames 210 and 211 of the plasma generator 200. The air including the fluorocarbon gas or the mixture of argon and hydrogen and methane gas through the air inlet 240 through the air inlet tube 310 between the network electrodes 220 and 221. Inflow between.
이때, 상기 플라즈마 발생부(200)에서는 상기 고전압 펄스 발생부(100)로부터 공급되는 고전압 펄스와 유입된 공기에 따라 전극틀(210, 211)과 망전극(220, 221)의 표면이 충방전되면서 플라즈마를 발생하게 된다.In this case, the plasma generator 200 charges and discharges the surfaces of the electrode frames 210 and 211 and the mesh electrodes 220 and 221 according to the high voltage pulse supplied from the high voltage pulse generator 100 and the introduced air. It generates a plasma.
이와 같이 플라즈마가 발생되는 과정을 도 2를 참조하여 세부적으로 설명하면 다음과 같다.The process of generating the plasma as described above in detail with reference to FIG.
플라즈마를 발생시키는 상기 기체 또는 기체 혼합물을 포함하는 공기가 공기 투입관(310)을 통해 공기 유입구(240)로 유입되고 이 공기가 망전극(220,221) 사이의 공간부(250)로 배출되므로써 망전극 사이의 공간부(250)에는 절연 캐패시터가 형성되게 된다. 즉, 오수(710)에 의해 절연체가 형성되지 않은 상태에서 배출되는 공기에 의해 망전극(220, 221) 사이의 공간부(250)에는 절연 캐패시터가 형성되게 된다.Air containing the gas or gas mixture to generate a plasma is introduced into the air inlet 240 through the air inlet tube 310 and the air is discharged to the space portion 250 between the network electrodes 220 and 221 so that the network electrode Insulation capacitors are formed in the space 250 between them. That is, an insulation capacitor is formed in the space 250 between the network electrodes 220 and 221 by the air discharged in a state where the insulator is not formed by the sewage 710.
이때, 양 전극틀(210, 211)에 고전압 펄스가 계속적으로 인가되어 망전극(220, 221)으로 전달되면서 공기 투입관(310)을 통해 공간부(250)로 공기가 유입되고 망전극(220, 221) 사이의 공간부(250)에 형성된 공기 방울에 의해 캐패시터가 형성되어 계속적인 충방전이 이루어지므로써 플라즈마가 발생하게 된다.At this time, the high voltage pulse is continuously applied to both electrode frames (210, 211) to be delivered to the mesh electrodes (220, 221) while the air is introduced into the space portion 250 through the air inlet tube 310 and the mesh electrode 220 , The capacitor is formed by the air bubbles formed in the space 250 between the 221, the continuous charge and discharge is made, thereby generating a plasma.
즉, 양전극틀(210, 211)에는 각각 (+)전극과 (-)전극으로 이루어져서 고전압 펄스가 인가되면 양전극틀(210, 211)에 각각 접속된 망전극(220, 221)에도 동일한 고전압 펄스가 인가되게 되고, 이때 절연체인 공기가 공기 유입구(240)를 통해 공간부(250)로 유입되면 양 극 사이에 절연 캐패시터가 형성되므로 캐패시터 작용을 하게 된다.That is, when the high voltage pulse is applied to the positive electrode frames 210 and 211, respectively, and the high voltage pulse is applied, the same high voltage pulse is also applied to the network electrodes 220 and 221 connected to the positive electrode frames 210 and 211, respectively. In this case, when the air, which is an insulator, is introduced into the space 250 through the air inlet 240, an insulating capacitor is formed between the two poles to act as a capacitor.
따라서 상기 고전압 펄스 발생부(100)에서 고전압 펄스를 계속적으로 인가하게 되면 각 망전극(220, 221) 사이의 공간부(250)의 절연 공기에 의해 형성된 캐패시터에 의해 충방전이 이루어지면서 금속성 플라즈마(700)가 발생하게 된다. 즉, 처음 고전압 펄스가 발생되면 양전극틀(210, 211)의 하단의 공기 유입구(240) 근처에서 플라즈마가 발생하고, 차차로 고전압 펄스가 발생되면 방전이 활성화되고 방전이 전극틀(210, 211)의 상측에서 이루어진다.Therefore, when the high voltage pulse is continuously applied by the high voltage pulse generator 100, charging and discharging is performed by a capacitor formed by the insulating air of the space part 250 between the network electrodes 220 and 221. 700) is generated. That is, when a high voltage pulse is generated for the first time, a plasma is generated near the air inlet 240 at the bottom of the positive electrode frames 210 and 211, and when a high voltage pulse is generated gradually, the discharge is activated, and the discharge is activated to the electrode frames 210 and 211. Is made from above.
이와 같이 방전된 공기에 의해 자유 전자의 양이 증가하고 쉽게 이온화될뿐 아니라 팽창된 공기 방울에서 공기 밀도가 감소된다.The discharged air not only increases the amount of free electrons and easily ionizes, but also reduces the air density in the expanded air bubbles.
이때, 공기 유입구(240)로 유입되는 공기에 의해 발생된 플라즈마는 자유롭게 오수조(600)의 물속을 이동하므로 오수를 정화하게 된다.At this time, the plasma generated by the air flowing into the air inlet 240 is free to move in the water of the sewage tank 600 to purify the sewage.
한편, 공기 공급부(300)에서는 플라즈마를 발생시키는 가스 또는 가스혼합물 즉, 이산화 질소 가스, 헬륨 가스, 아르곤과 클로로플루오로카본 가스 혼합물, 클로로플루오로카본 가스, 또는 아르곤과 메탄 가스 혼합물을 포함하는 공기를 공기 유입구(240)로 유입시키게 되면 플라즈마를 포함하는 공기가 오수로 배출되게 된다. 여기서 배출되는 플라즈만 금속의 전극으로 금속성 플라즈마가 된다.Meanwhile, the air supply unit 300 includes a gas or gas mixture that generates plasma, that is, air containing nitrogen dioxide gas, helium gas, argon and chlorofluorocarbon gas mixtures, chlorofluorocarbon gas, or argon and methane gas mixtures. When introduced into the air inlet 240 is the air containing the plasma is discharged to the sewage. The plasma of the plasmonic metal discharged here becomes a metallic plasma.
이때, 공기 유입구(240)의 내부에는 플라즈마를 발생시키는 가스 또는 가스 혼합물이 분포되어 있으므로 이에 따라 다량의 플라즈마가 발생할 수 있다.At this time, since the gas or the gas mixture for generating a plasma is distributed in the air inlet 240, a large amount of plasma may be generated accordingly.
배출된 플라즈마는 오수 속의 중금속과 결합하여 슬러지 형태로 오수조(600)의 바닥면으로 떨어지게 되며, 이러한 중금속 슬러지는 별도로 제거하면 된다.The discharged plasma is combined with the heavy metal in the sewage to fall to the bottom surface of the sewage tank 600 in the form of sludge, such heavy metal sludge may be removed separately.
한편, 제어부(400)에서는 순환 펌프(500)를 작동시켜 상기 오수조(600) 내의 오수를 순환시켜 오수내의 산소량을 증가시키도록 한다. 즉, 순환 펌프(510)를 작동시켜 오수가 오수조(600)내의 오수 토출구(620)로부터 오수 토출관(520)을 통해 나와서 오수 유입관(530)과 오수조(600) 내의 오수 유입구(630) 내의 오수 유입구(630)를 통해 유입되도록 하므로써 용존 산소량을 증가시켜 오수 정화가 원활하게 이루어지도록 한다.On the other hand, the control unit 400 operates the circulation pump 500 to circulate the sewage in the sewage tank 600 to increase the amount of oxygen in the sewage. That is, the circulating pump 510 operates the sewage from the sewage discharge port 620 in the sewage tank 600 through the sewage discharge pipe 520, and the sewage inlet pipe 530 and the sewage inlet 630 in the sewage tank 600. By increasing the amount of dissolved oxygen by flowing through the sewage inlet 630 in the) to facilitate the sewage purification.
또한, 플라즈마가 발생되면 동시에 자외선이 발생되게 되고 이에 따라 오존이 발생된다. 즉, 플라즈마를 포함하는 공기 방울이 파괴되면서 주변의 물이 이온화되고 강렬한 자외선이 방출되므로 오수가 정화된다. 다시 말해서, 플라즈마의 발생으로 물속에는 강렬한 자외선 방출 및 음파와 공동화가 이루어지고, 화학적인 활성 래디칼이 생성되고 새로운 물질, 즉 H2O2및 O3등이 생성된다.In addition, when plasma is generated, ultraviolet rays are simultaneously generated, thereby generating ozone. That is, as the air bubbles including the plasma are destroyed, the surrounding water is ionized and intense ultraviolet rays are emitted, so that the sewage is purified. In other words, the generation of plasma results in intense ultraviolet radiation and cavitation with sound waves, chemically active radicals are produced, and new materials, such as H 2 O 2 and O 3 , are produced.
따라서, 오수 속의 산소량이 증가하여 용존 산소량이 증가하고, 자외선에 의해 오수가 살균되게 되며, 동시에 이온이 발생된다.Therefore, the amount of oxygen in the sewage increases, the amount of dissolved oxygen increases, the sewage is sterilized by ultraviolet rays, and ions are generated at the same time.
이와 같은 플라즈마 발생부(200)를 오수조(600) 내에 다수개 설치하면 빠른 정화가 이루어질 수 있다.If a plurality of such plasma generators 200 are installed in the sewage tank 600, rapid purification may be achieved.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의한 오수 정화 장치는 다음과 같은 효과가 있다.As described above, the wastewater purification apparatus according to the present invention has the following effects.
첫째, 다량의 플라즈마를 연속적으로 발생시키므로 중금속에 오염된 오폐수로부터 중금속을 쉽게 분리시켜 제거할 수 있다. 또한 유해한 혼합물, 즉 페놀, 포르말 등을 제거할 수 있다.First, since a large amount of plasma is continuously generated, the heavy metal can be easily separated and removed from the wastewater contaminated with heavy metal. It is also possible to remove harmful mixtures such as phenols, formals and the like.
둘째, 플라즈마와 함께 자외선이 방출되므로 식수 또는 오수내의 소독이 자연스럽게 이루어지므로 염소 소독에 의한 또 다른 오염을 제거할 수 있다.Second, since ultraviolet rays are emitted along with the plasma, disinfection in drinking water or sewage is naturally performed, and thus another contamination by chlorine disinfection can be removed.
셋째, 오존이 방출되므로 용존 산소량이 증가하여 보다 빠른 정화가 이루어질 수 있다.Third, since ozone is released, the amount of dissolved oxygen is increased, thereby enabling faster purification.
넷째, 염소 등에 의한 별도의 소독 작업 없이도 물이 소독되게 되어, 수영장과 같이 다량의 물을 소독해야 하는 경우에는 세균을 쉽게 제거하여 눈병 등을 예방할 수 있으며, 별도의 정화 작업 시간을 두지 않고 계속적으로 정화 작업을 수행할 수 있으므로 하루 종일 깨끗한 물을 유지할 수 있다.Fourth, the water is sterilized without separate disinfection by chlorine, etc., when it is necessary to disinfect a large amount of water, such as a swimming pool, it is possible to easily remove bacteria to prevent eye diseases, etc. Purification can be done to keep clean water all day long.
다섯째, 구조가 간단하므로 제작이 간편하며, 오래 사용할 수 있다.Fifth, because the structure is simple, the production is easy, and can be used for a long time.
여섯째, 고전압 펄스 신호를주기적으로 발생시키므로써 전력 소모가 적다.Sixth, power consumption is low by generating high voltage pulse signal periodically.
일곱째, 의학적 용도로 오일을 활성화시킬 수 있다.Seventh, the oil can be activated for medical use.
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