KR100277492B1 - Color filter for liquid crystal display and its manufacturing method - Google Patents

Abstract

본 발명은 액정용 칼라 OA 기기 및 TV등에 이용되는 칼라필터에 관한 것으로, 칼라필터 상부에 형성된 보호막을 제거하고 필터층(액티브 부분) 상부에만 투명전극막을 헝성한 뒤 비액티브 부분의 글라스 기판 상에 잔류하는 안료 레지듀는 플라즈마 에싱(Ashing) 처리로 제거하므로써 액정공정시 발생되는 실떨어짐, 투명전도막 깨짐, 및 돌기에 의한 상하판 쇼트등과 같은 필터층의 손상을 억제할 수 있는 고신뢰성의 칼라필터를 실현할 수 있게 된다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter used for color OA devices and TVs for liquid crystals. The protective film formed on the color filter is removed, the transparent electrode film is formed only on the filter layer (active part), and then remains on the glass substrate of the inactive part. Highly reliable color filter which can suppress the damage of filter layer such as dust drop, transparent conductive film cracking, and short and short plate shot caused by projection by removing the pigment residue by plasma ashing process Can be realized.

Description

액정 디스플레이용 칼라필터 및 그 제조방법Color filter for liquid crystal display and its manufacturing method

제1도는 종래 기술에 따른 액정표시소자의 칼라필터 구조를 도시한 단면도.1 is a cross-sectional view showing a color filter structure of a liquid crystal display device according to the prior art.

제2(a)도 내지 제2(i)도는 종래 기술에 따른 액정표시소자의 칼라필터 제조공정을 도시한 단면도.2 (a) to 2 (i) are cross-sectional views showing a color filter manufacturing process of a liquid crystal display device according to the prior art.

제3(a)도 및 제3(b)도는 본 발명에 따른 칼라필터 구조를 도시한 것으로,3 (a) and 3 (b) shows a color filter structure according to the present invention,

제3(a)도는 그 단면도.3 (a) is a cross-sectional view thereof.

제3(b)도는 제3(a)도의 I부분인 플라즈마 에싱방법을 나타낸 도면.FIG. 3 (b) shows a plasma ashing method which is part I of FIG. 3 (a).

제4(a)도 내지 제4(h)도는 본 발명에 따른 액정표시소자의 칼라필터 제조공정을 도시한 단면도.4 (a) to 4 (h) are cross-sectional views showing a color filter manufacturing process of a liquid crystal display device according to the present invention.

제5(a)도 및 제5(b)도는 칼라필터 비노광부에 잔류하는 안료레지듀를 도시한 것으로,5 (a) and 5 (b) show the pigment residue remaining in the color filter non-exposed part,

제5(a)도는 플라즈마 에싱 실시전의 실 프린트 부위를 SEM 촬영한 사진을,5 (a) is a SEM photograph of the actual print portion before the plasma ashing,

제5(b)도는 플라즈마 에싱 실시후의 실 프린트 부위를 SEM 촬영한 사진을 나타낸다.FIG. 5 (b) shows the SEM photograph of the real print part after plasma ashing.

[산업상의 이용분야][Industrial use]

본 발명은 액정 디스플레이(Liquid crystal display) 소자에 사용되는 칼라필터에 관한 것으로, 보다 상세하게는 칼라필터 상부에 형성된 보호막을 제거하고 필터층(액티브 부분) 상부에만 투명전극막을 형성한 뒤 비액티브 부분의 글라스 기판상에 잔류하는 안료 레지듀는 플라즈마 에싱(Ashing) 처리로 제거하므로써 액정공정의 실떨어짐, 투명전도막 깨짐, 및 돌기에 의한 상하판 쇼트 문제 등과 같은 필터층의 손상을 억제할 수 있는 칼라필터 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter used in a liquid crystal display device, and more particularly, to remove a protective film formed on an upper part of a color filter and to form a transparent electrode film only on an upper part of a filter layer (active part). By removing the pigment residue remaining on the glass substrate by plasma ashing, the color filter which can suppress the damage of the filter layer, such as the liquid crystal process, the transparent conductive film cracking, and the problem of shorting of the upper and lower plates due to projections. And to a method for producing the same.

[종래기술 및 문제점][Prior Art and Problem]

최근 OA기기나 휴대용 소형 TV등의 보급에 따라 이제까지의 전자 디스플레이 장치로 브라운관(CRT) 대신에 액정 디스플레이(LCD), 일렉트로 일루미너 센서(EL)소자, 플라즈마 디스플레이(PDP), 형광표시관(VFD) 등의 연구가 활발히 추진되고 일부는 실용화되고 있다.Recently, with the spread of OA devices and portable small TVs, liquid crystal displays (LCD), electro-luminescence sensor (EL) elements, plasma displays (PDP), fluorescent display tubes (VFD) instead of CRTs have been used as electronic display devices. ) Are actively promoted and some have been put into practical use.

그중에서도 액정 디스플레이는 극도로 경량으로 박형, 저가 저소비 전력구동으로 집적회로와의 정합성이 좋은 등의 특징을 가져 랩 톱컴퓨터(tap top computer)나 포켓 컴퓨터(Pocket computer)의 표시외에 차량 적재용, 칼라 TV 화상용으로서 그 용도를 급속하게 확대하고 있다. 또한 LCD에 사용되고 있는 칼라필터는 3-5인치가 실용화되어 있고, 10-14인치가 개발중이며 대형화를 향해 급속히 진행되고 있다.Among them, the liquid crystal display is extremely lightweight, thin, low-cost, low power consumption, and has good compatibility with integrated circuits.In addition to the display of the tap top computer and the pocket computer, the color for vehicle loading and color Its use is rapidly expanding for TV images. In addition, the color filter used in the LCD is 3-5 inches in practical use, 10-14 inches are under development, and is rapidly progressing toward larger size.

이러한 액정 표시판은 크게 개별 스위칭 소자인 박막 트랜지스터(Thin film transistor)가 형성된 하부기판 즉, TFT 기판과, 액정층과, 레드(Red), 그린(Green), 및 블루(Blue)의 3가지 색 필터층이 반복 배열되어 칼라화를 시키는 상부기판으로 구성되어 있다.The liquid crystal panel is a lower substrate on which thin film transistors, which are individual switching elements, are formed, that is, a TFT substrate, a liquid crystal layer, and three color filter layers of red, green, and blue. The upper substrate is repeatedly arranged to colorize.

먼저 색필터층이 형성되어 있는 칼라필터의 제조와 관련된 종래의 LCD 패널 제조방법을 제1도 및 제2도를 참조하여 설명한다.First, a conventional LCD panel manufacturing method related to manufacturing a color filter having a color filter layer formed will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

여기서, 제1도는 종래기술에 따른 액정표시소자의 칼라필터를 도시한 단면도를 나타낸 것이며, 제2(a)도 내지 제2(i)도는 종래 기술에 따른 액정표시소자의 칼라필터 제조공정을 도시한 단면도를 나타낸 것이다.Here, FIG. 1 is a cross-sectional view showing a color filter of a liquid crystal display device according to the prior art, and FIGS. 2 (a) to 2 (i) show a process for manufacturing a color filter of a liquid crystal display device according to the prior art. One cross section is shown.

먼저, 제2(a)도 내지 제2(i)도를 기초로하여 제조방법을 설명하면 CP(Cutting, Polishing) 처리를 한 LCD용 유리기판(1) 상에 TFT의 열화방지를 위한 차광용 블랙 매트릭스(2)를 1000-2000Å의 두께로 크롬을 스퍼터링법으로 형성한다.First, the manufacturing method will be described based on FIGS. 2 (a) to 2 (i). For the purpose of shading for preventing the deterioration of TFTs on the glass substrate 1 for LCD which has been subjected to CP (Cutting, Polishing) treatment The black matrix 2 is formed by sputtering to a thickness of 1000-2000 mm 3.

그후 크롬 재질의 블랙 매트러스가 형성된 기판(1) 상에 최적화된 분광특성을 갖는 네가티브 포토레지스트(3), 예컨데 안료를 분산시킨 착색아크릴 감광성 수지를 도포하고, 80-110Å의 핫 플렛트에서 90초동안 소프트 베이크 한 다음, 노광시 발생하는 레지스트의 산화방지를 위해 산소차단막(4) 등의 수용성 수지를 이미 형성된 착색막 위에 도포 건조시킨 뒤, 자외선으로 노광(5)을 실시한다.Then, a negative photoresist (3) having optimized spectral characteristics, for example, a colored acrylic photosensitive resin in which pigments were dispersed, was applied onto a substrate (1) on which a black mattress made of chromium was formed. After soft baking for a second, a water-soluble resin such as an oxygen barrier film 4 is applied and dried on the already formed colored film in order to prevent oxidation of the resist generated during exposure, followed by exposure 5 with ultraviolet light.

노광후 산소차단막(4)을 DIW로 3-5분 동안 박리한 다음 현상액으로 2-3분 동안 현상하고 그후 다시 DIW로 1-2분 동안 린스한여 최적화된 레드 분광특성을 갖는 제1색 필터층(6)을 형성한다.The first color filter layer having the optimized red spectral characteristics by exfoliating the oxygen barrier film 4 after exposure for 3-5 minutes with DIW, developing for 2-3 minutes with developer, and then rinsing again with DIW for 1-2 minutes. (6) is formed.

상기 제1색 필터층(6)과 동일한 방법으로 상기 블랙 매트릭스(2) 상에 제1색 필터층과 분리되게 유리기판(1)상에 최적화된 그린 분광특성을 갖는 제2색 필터층(7)을 형성한다.A second color filter layer 7 having an optimized green spectral characteristic on the glass substrate 1 is formed on the black matrix 2 so as to be separated from the first color filter layer on the black matrix 2 in the same manner as the first color filter layer 6. do.

계속해서 상기 블랙 매트릭스(2)상에 중첩되고 상기 제2색 필터층(7)과 분리되게 상기 유리기판(1) 상에 최적화된 블루 분광특성을 가지는 착색 아크릴수지의 제3색 필터층(8)을 형성한다.Subsequently, the third color filter layer 8 of the colored acrylic resin superimposed on the black matrix 2 and having the optimized blue spectral characteristics on the glass substrate 1 so as to be separated from the second color filter layer 7 is obtained. Form.

그후 상기 블랙 매트리스(2)와 색 필터층(6),(7),(8) 상에 R,G,B 착색막 평탄화와 보호목적의 보호막(9)을, 예를 들어 폴리이미드, 폴리아크릴레이트, 폴리우레탄 등의 투명수지를 1-3㎛ 정도의 두께로 형성한 후 핫 플레이트 150-220℃에서 5분동안 가열하여 형성한다.Thereafter, on the black mattress 2 and the color filter layers 6, 7 and 8, a protective film 9 for the purpose of flattening and protecting the R, G and B colored films, for example, polyimide and polyacrylate After forming a transparent resin such as polyurethane to a thickness of about 1-3㎛ and formed by heating for 5 minutes at 150-220 ℃ hot plate.

다음으로 상기 보호막(9)의 전 표면 상에 액정 구동을 위한 전압이 인가되는 ITO 투명 전극막(10)을 500-1800Å 정도의 두께로 형성하여 상부기판을 완성한다.Next, the ITO transparent electrode film 10 to which the voltage for driving the liquid crystal is applied is formed on the entire surface of the protective film 9 to a thickness of about 500-1800 kV to complete the upper substrate.

한편, 제1도는 종래 기술에 따른 제2(i)도의 확대도를 나타낸 것으로 그 기본적 구조는 투명한 유리기판(1) 상부에 소정 간격으로 형성된 다수의 블랙 매트릭스(2)와, 제1색 내지 제3색 필터층과(6),(7), (8), 이들 상부에 형성된 보호막인 오버 코트층(9)과, 투명전극막(10)으로 이루어져 있음을 알 수 있다.1 is an enlarged view of a second (i) diagram according to the prior art, and the basic structure thereof includes a plurality of black matrices 2 formed on the transparent glass substrate 1 at predetermined intervals, and the first to second colors. It can be seen that the three-color filter layer (6), (7), (8), the overcoat layer (9), which is a protective film formed on the upper portion, and the transparent electrode film (10).

상기 공정을 이용하여 형성된 종래 칼라필터는 보호막 공정시 이물질 및 파티클(Particle)에 의한 돌기 문제로 차후 액정 공정시 PI Print(배향막)불량 및 셀갭 유지불량이 발생할 뿐 아니라 상하판 조립시 돌기에 의해 쇼트 불량이 발생하는 단점을 가지게 된다. 또한 유리기판(1) 전면에 오버코터층(9) 및 투명전극막(10)이 형성되므로 칼라필터 제작시 필터층 외각부위(비노광부 또는 비 액티브 부위)의 유리기판 상에 잔류하는 안료 레지듀(18)에 의해 충분한 접착력을 가지지 못하기 때문에, 필터층 외각부위에 형성된 오버코팅층 및 투명전극 상의 실 프린트 부위(17)에 액정공정의 실(Seal)이 프린트되었을 경우, 차후 브레이크(Break) 공정시 실떨어짐, 투명전극막 깨짐 및 오버코트층 찢어짐등과 같은 불량이 빈번하게 발생하는 문제점을 안고 있었다. 이때 상기 도면에 제시된 부재번호 16은 필터층과 비 액티브부의 경계면 즉, 블랙 매트릭스의 테두리를 나타내며, 19는 액정 브레이크(절단) 부위를 나타낸다.Conventional color filter formed using the above process is a problem of projection due to foreign matter and particles during the protective film process, the PI print (alignment film) defect and cell gap maintenance defect occurs in the later liquid crystal process, as well as short by projection during assembly of the upper and lower plates It will have a disadvantage that a defect occurs. In addition, since the overcoat layer 9 and the transparent electrode film 10 are formed on the entire surface of the glass substrate 1, the pigment residues remaining on the glass substrate of the outer portion of the filter layer (non-exposed or non-active) when the color filter is manufactured ( 18), when the seal of the liquid crystal process is printed on the overcoating layer formed on the outer surface of the filter layer and the seal print portion 17 on the transparent electrode, the seal during the subsequent break process is not obtained. Problems such as falling off, cracking of the transparent electrode film, and tearing of the overcoat layer are frequently caused. In this case, the reference numeral 16 in the drawing represents an interface of the filter layer and the inactive part, that is, an edge of the black matrix, and 19 represents a liquid crystal break (cut) part.

[발명의 목적][Purpose of invention]

이에 본 발명은 상기와 같은 문제점을 감안하여 이루어진 것으로 보호층을 제거하고 투명전극막을 필터층 상부에만 형성시킨 뒤 플라즈마 에싱 처리로 비 액티브 부위에 잔류하는 안료레지듀를 제거하므로써 필터층의 손상 없이도 접착력을 강화시켜 실 떨어짐 문제를 해결할수 있음은 물론, 투명전극막 깨짐 및 돌기에 의한 상하판 쇼트 문제를 해결할 수 있게 되어 수율을 향상시킬수 있는 LCD용 칼라필터 및 그 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems, and thus, the protective layer is removed, and the transparent electrode film is formed only on the filter layer, and then the plasma residue treatment removes the pigment residue remaining on the inactive portion, thereby enhancing adhesion without damaging the filter layer. It is possible to solve the problem of thread fall, as well as to solve the problem of top and bottom plate short-circuit caused by the transparent electrode film cracks and projections to provide a color filter for LCD and a manufacturing method that can improve the yield.

[발명의 구성][Configuration of Invention]

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 칼라필터는 투명 유리기판 상에 소정 간격으로 형성된 블랙 매트릭스와, 상기 블랙 매트릭스 사이에 일부 중첩되도록 서로 분리되어 순차적으로 형성된 제1색 내지 제3색 필터층과, 액티브 부분인 상기 제1색 내지 제3색 필터층 상부에만 형성된 투명전극막으로 이루어진 구조를 갖는다.The color filter of the present invention for achieving the above object is a black matrix formed on a transparent glass substrate at predetermined intervals, and the first to third color filter layers formed sequentially separated from each other so as to partially overlap the black matrix; The transparent electrode film is formed only on the first to third color filter layers as an active part.

한편, 상기 칼라필터의 제조방법은 유리기판 상에 소정간격으로 블랙 매트릭스를 형성하는 공정과; 상기 블랙 매트릭스 사이에 서로 동일 높이를 갖는 제1색 내지 제3색 필터층을 순차적으로 형성하는 공정과: 액티브 부분인 제1 내지 제3색 필터층 상부에 투명전극막을 형성하는 공정과: 상기 유리기판 상의 비 액티브 부분에 잔류하는 안료 레지듀를 제거하는 공정으로 이루어진다.On the other hand, the manufacturing method of the color filter comprises the steps of forming a black matrix on a glass substrate at a predetermined interval; Sequentially forming first to third color filter layers having the same height between the black matrices; forming a transparent electrode film on the first to third color filter layers as active portions; It consists of the process of removing the pigment residue which remains in an inactive part.

[작용][Action]

본 발명은 상술한 공정 및 구성에 의해 R,G,B 필터층 위에 직접 투명전극막을 입혀도 비 액티브 부위에서의 액정 공정시 발생되던 실떨어짐, 투명전극막 깨짐 및 돌기에 의한 상하판 쇼트 등과 같은 문제점을 방지할 수 있게 된다.According to the present invention, even if the transparent electrode film is directly coated on the R, G, and B filter layers, the present invention can solve problems such as thread falling, transparent electrode film cracking, and upper and lower plate shorts caused by projections. It can be prevented.

[실시예]EXAMPLE

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail an embodiment of the present invention.

제3(a)도 및 제3(b)도는 본 발명에 따른 칼라필터 구조를 도시한 것으로 제3(a)도는 그 단면도를, 제3(b)도는 제3(a)도의 I부분인 플라즈마 에싱방법을 나타낸 도면을 나타내며, 제4(a)도 내지 제4(h)도는 본 발명에 따른 액정표시소자의 칼라필터 제조공정을 도시한 단면도를 나타낸다.3 (a) and 3 (b) show a color filter structure according to the present invention, in which a cross-sectional view of FIG. 3 (a) is shown and a portion I of FIG. 3 (b) is shown in FIG. 4 is a cross sectional view showing a color filter manufacturing process of a liquid crystal display device according to the present invention.

제3(a)도에서 알 수 있듯이 본 발명에 따른 칼라필터 구조는 투명 유리기판(1)상에 소정간격으로 형성된 블랙 매트릭스(2)와, 상기 블랙 매트릭스 사이에 서로 분리되어 형성된 제1색 내지 제3색 필터층(13)과, 액티브 부분인 상기 제1색 내지 제3색 필터층 상부에 형성된 ITO 투명전극막(10)으로 이루어져 있음을 알 수 있다.As shown in FIG. 3 (a), the color filter structure according to the present invention includes a black matrix 2 formed on the transparent glass substrate 1 at a predetermined interval and a first color formed separately from each other between the black matrix. It can be seen that the third color filter layer 13 and the ITO transparent electrode film 10 formed on the first to third color filter layers which are active parts.

상기 구조와 제1도에 도시된 종래 칼라필터의 구조를 비교해보면, 종래 칼라필터가 블랙 매트릭스(2) 상에 제1색 내지 제3색 필터층(6),(7),(8)을 형성한 뒤 상기 제1색 내지 제3색 필터층의 평탄화 및 보호를 위하여 보호층(9) 및 ITO 투명전도막(10)을 기판 전면에 순차적으로 형성한 것에 반해, 본 발명은 보호층을 제거하고 R,G,B 패턴이 형성된 필터층 상부 즉, 필터층과 비 액티브 경계면(16)인 블랙 매트릭스 테두리 부분까지만 투명전도막(10)을 형성하고, 비액티브 부분(필터층 외각부분)에 잔류하는 안료레지듀는 상기 ITO 투명전도막(10)을 마스크로 플라즈마 에싱을 실시하여 제거하므로써 본 발명의 목적을 달성하는 것이 큰 차이점이다.Comparing the structure with the structure of the conventional color filter shown in FIG. 1, the conventional color filter forms the first to third color filter layers 6, 7, and 8 on the black matrix 2. After the protective layer 9 and the ITO transparent conductive film 10 are sequentially formed on the entire surface of the substrate to planarize and protect the first to third color filter layers, the present invention removes the protective layer and The transparent resin film 10 is formed only on the filter layer on which the G and B patterns are formed, that is, up to the black matrix rim portion of the filter layer and the inactive interface 16, and the pigment residues remaining on the inactive portion (the outer portion of the filter layer) The main difference is that the object of the present invention is achieved by performing plasma ashing with the ITO transparent conductive film 10 as a mask.

한편, 상기 구조로 이루어진 칼라필터의 제조방법은 제4(a)도 내지 제4(h)도에 도시된 바와 같이 먼저 유리기판(1) 상에 크롬 혹은 유기안료를 1000-2000Å 두께로 증착한 후, 이들 상에 포토레지스트 패턴을 형성하고 크롬 에쳔트로 습식식각하여 20-50㎛의 폭을 가지는 다수의 블랙 매트릭스(2)를 제4(a)도와 같이 형성한다.On the other hand, the manufacturing method of the color filter having the above structure is as shown in Figures 4 (a) to 4 (h) first to deposit a chromium or organic pigment on the glass substrate 1 to 1000-2000Å thickness Thereafter, a photoresist pattern is formed on them and wet etched with chromium etchant to form a plurality of black matrices 2 having a width of 20-50 탆 as shown in FIG. 4 (a).

그다음 제4(b)도와 같이 상기 블랙 매트릭스(2)가 형성된 유리기판(1) 상에 감광수지인 레드포토레지스트(3)를 1.0-2.0㎛의 두께로 스핀 코팅(Spin coating) 또는 롤 코팅(Roll coating)하여 형성하고, 핫 플레이트에서 80-110℃로 소프트 베이크를 실시한다.Then, spin coating or roll coating the red photoresist 3, which is a photoresist, on the glass substrate 1 on which the black matrix 2 is formed, has a thickness of 1.0-2.0 μm as shown in FIG. Roll coating) and soft bake at 80-110 ℃ on a hot plate.

계속해서 제4(c)도에 도시된 바와 같이 포토레지스트가 노광시 산화되는 것을 막아주기 위해서 산소차단막(4)인 PVA(폴리비닐알콜) 수지를 전면에 코팅하여 건조시킨다.Subsequently, as shown in FIG. 4 (c), in order to prevent the photoresist from being oxidized upon exposure, the PVA (polyvinyl alcohol) resin, which is the oxygen barrier film 4, is coated on the entire surface and dried.

그후 제4(d)도에서와 같이 건조시킨 PVA막(4) 위에 포토마스크(5)를 정렬하여 자외선 노광을 실시한다.Thereafter, the ultraviolet rays are exposed by aligning the photomask 5 on the dried PVA film 4 as shown in FIG. 4 (d).

그다음 제4(e)도에 도시된 바와 같이 순수 DIW를 이용한 딥(Dip) 방식에 의해 3-10분 동안 산소차단막(4)을 완전히 박리한다.Then, as shown in FIG. 4 (e), the oxygen barrier film 4 is completely peeled off for 3-10 minutes by a dip method using pure DIW.

계속해서 제4(f)도 및 제4(g)도에 제시된 바와 같이 현상액으로 샤워 혹은 호리젠탈 딥(Horizental dip) 방식에 의해 100-200초간 현상을 실시한 후 220℃에서 30분 동안 하드 베이크를 실시하여 제1색 필터층(6)을 형성한다. 동시에 마찬가지 방법으로 상기 블랙 매트릭스(2)에 중첩되고 상기 제1색 필터층(6)과 약 10-20㎛ 정도의 갭을 유지한 상태로, 최적화된 분광특성을 가지는 착색 포토레지스트 감광수지의 제2색 필터층(7)으로서 그린 패턴이 형성되고, 또다시 상기 블랙 매트릭스(2)에 중첩되고 상기 제2색 필터층(7)과 약 10-20㎛ 정도의 갭을 유지한 상태로, 최적화된 분광특성을 가지는 착색 포토레지스트 감광수지의 제3색 필터층(8)으로서 블루 패턴을 형성한다.Subsequently, as shown in FIGS. 4 (f) and 4 (g), after 100-200 seconds of development by a shower or a horizontal dip method with a developer, the hard bake is performed at 220 ° C. for 30 minutes. Is performed to form the first color filter layer 6. At the same time, the second layer of the colored photoresist photoresist having the optimized spectral characteristics while overlapping the black matrix 2 and maintaining a gap of about 10-20 μm with the first color filter layer 6 in the same manner. A green pattern is formed as the color filter layer 7, and is again superimposed on the black matrix 2 and maintains a gap of about 10-20 μm with the second color filter layer 7. A blue pattern is formed as the third color filter layer 8 of the colored photoresist photoresist having a resin content.

그후 제4(h)도에 도시된 바와 같이 상기 제1색 내지 제3색 필터층(R,G,B)(6),(7),(8) 상에 액정구동을 위한 전압이 인가되는 ITO투명전도막(10)을 500-2500Å 정도의 두께로 스퍼터링 증착에 의해 헝성한다. 이때 상기 투명전도막(10)은 제3(a)도에 도시된 바와 같이 메탈 마스크(Metal mask)를 이용하여 필터층 상부 즉, 액티브 경계면(16)인 블랙 매트릭스 테두리 부분까지만 형성하거나 혹은 유리기판(1) 전면에 투명전도막(10)을 형성한 후 노멀 포토리소그라괴(Normal photolithography) 방법으로 패터닝하여 형성한다. 또한, 상기 노멀 포토리소그라피 방법은 포토레지스트(Photoresist : 이하 PR이라 한다) 패턴으로 ITO 투명전도막을 에치하여 투명전도막 패턴을 형성한 후 상기 PR 패턴을 마스크로하여 에싱(Ashing)을 한뒤 PR을 제거하는 방법과, ITO 패턴 형성후 먼저 PR 패턴을 제거하고 ITO 패턴을 마스크로 에싱하는 방법이 있으며, 어느것이든 동일한 효과를 얻을 수 있다.Thereafter, as shown in FIG. 4 (h), ITO to which a voltage for driving the liquid crystal is applied on the first to third color filter layers R, G, and B, 6, 7, and 8, respectively. The transparent conductive film 10 is formed by sputtering deposition to a thickness of about 500-2500 kPa. In this case, the transparent conductive film 10 may be formed only on the upper portion of the filter layer, that is, the black matrix, which is the active boundary surface 16, by using a metal mask as shown in FIG. 1) After the transparent conductive film 10 is formed on the entire surface, it is formed by patterning by a normal photolithography method. In addition, the normal photolithography method forms a transparent conductive film pattern by etching an ITO transparent conductive film with a photoresist (hereinafter referred to as PR) pattern, and then removes PR by ashing the PR pattern as a mask. And a method of first removing the PR pattern and then ashing the ITO pattern with a mask after the formation of the ITO pattern.

그 다음 상기 투명전도막(10)을 마스크로 이용하여 유리기판(1)을 패턴 손상(Damage)없이 1-10분 동안 플라즈마 에싱(Plasma ashing)(I) 처리하므로써 비 액티브부에 잔류하는 안료찌거기 성분을 제거할 수 있게 되어 본 발명에 따른 칼라필터 구조를 완성하게 된다. 여기서 상기 플라즈마 에싱 처리는 에셔(Asher) 장비를 이용하여 산소를 불어넣으므로써 제3(b)도와 같은 원리에 의하여 안료레지듀(18)를 이루는 주성분인 탄소나 수소 등이 산소와 결합하여 일산화탄소, 이산화탄소 및 물 등과 같은 형태로서 안료찌거기 성분이 효과적으로 제거된다.Then, using the transparent conductive film 10 as a mask, the pigment residue remaining on the non-active part by plasma ashing (I) treatment of the glass substrate 1 for 1-10 minutes without pattern damage. The component can be removed to complete the color filter structure according to the present invention. Here, the plasma ashing treatment is performed by injecting oxygen using an Asher device, and carbon or hydrogen, which is a main component constituting the pigment residue 18, is combined with oxygen based on the same principle as in FIG. 3 (b). Pigment residues are effectively removed in the form of carbon dioxide and water.

한편, 제5(a)도 및 제5(b)도는 칼라필터 비 액티브부에 잔류하는 안료레지듀를 도시한 것으로 제5(a)도는 플라즈마 에싱 실시전의 실 프린트 부위를 SEM 촬영한 사진을, 제5(b)도는 플라즈마 에싱 실시후의 실 프린트 부위를 SEM 촬영한 사진을 도시한 것이다.5 (a) and 5 (b) show pigment residues remaining in the color filter inactive portion, and FIG. 5 (a) shows SEM photographs of the real print portions before plasma ashing. FIG. 5 (b) shows a SEM photograph of the real print portion after plasma ashing.

그결과 실 프린트 부위(17) 상에서의 유리기판(1)과 실(Seal)의 접착력을 강화시켜 실 프린트 공정시 빈번하게 발생되던 실떨어짐 문제 등을 해결할 수 있을 뿐 아니라 필터층의 손상을 억제할 수 있게 된다.As a result, the adhesion between the glass substrate 1 and the seal on the seal print portion 17 can be enhanced to solve the problem of thread dropping, which is frequently generated during the seal printing process, and to suppress damage to the filter layer. Will be.

[발명의 효과][Effects of the Invention]

상술한 바와 같이 본 발명에 의하면 칼라필터 상부에 형성된 보호막을 제거하고 필터층(액티브 부분) 상부에만 투명전극막을 형성한 뒤 비액티브 부분의 글라스 기판 상에 잔류하는 안료 레지듀는 플라즈마 에싱(Ashing) 처리로 제거하므로써 액정공정시 발생되는 실떨어짐, 투명전도막 깨짐, 및 돌기에 의한 상하판 쇼트등과 같은 필터층의 손상을 억제할 수 있게 된다.As described above, according to the present invention, after removing the protective film formed on the color filter and forming the transparent electrode film only on the filter layer (active part), the pigment residue remaining on the glass substrate of the non-active part is plasma ashed. In this case, it is possible to suppress damages to the filter layer such as dust breaks during the liquid crystal process, cracks in the transparent conductive film, and short and short plates caused by projections.

Claims (6)

투명 유리기판 상에 소정 간격으로 형성된 블랙 매트릭스와, 상기 블랙 매트릭스 사이에 일부 중첩되도록 서로 분리되어 순차적으로 형성된 제1색 내지 제3색 필터층과, 액티브 부분인 상기 제1색 내지 제3색 필터층 상부에만 형성된 투명전도막으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이용 칼라필터.A black matrix formed on a transparent glass substrate at predetermined intervals, the first to third color filter layers sequentially formed to be separated from each other so as to partially overlap the black matrix, and an upper portion of the first to third color filter layers that are active parts Color filter for a liquid crystal display, characterized in that consisting of a transparent conductive film formed only on. 유리기판 상에 소정간격으로 블랙 매트릭스를 형성하는 공정과: 상기 블랙 매트릭스 사이에 서로 동일 높이를 갖는 제1색 내지 제3색 필터층을 순차적으로 형성하는 공정과: 액티브 부분인 제1 내지 제3색 필터층 상부에 투명전도막을 형성하는 공정과: 상기 유리기판 상의 비 액티브 부분에 잔류하는 안료 레지듀를 제거하는 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이용 칼라필터의 제조방법.Forming a black matrix on a glass substrate at predetermined intervals; and sequentially forming first to third color filter layers having the same height between the black matrix; and first to third colors as active portions. Forming a transparent conductive film on the filter layer; and removing the pigment residue remaining on the inactive portion on the glass substrate. 제2항에 있어서, 상기 투명전도막은 메탈 마스크 또는 노멀 포토리소그라피 공정 중 선택된 어느하나로 형성됨을 특징으로 하는 액정 디스플레이용 칼라필터의 제조방법.The method of claim 2, wherein the transparent conductive film is formed of any one selected from a metal mask or a normal photolithography process. 제2항에 있어서, 비 액티브 부분에 잔류하는 상기 안료 레지듀는 상기 필터층상에 형성된 투명전도막을 마스크로 하여 플라즈마 에싱 처리하여 제거함을 특징으로 하는 액정 디스플레이용 칼라필터 제조방법.The method of claim 2, wherein the pigment residue remaining in the inactive portion is removed by plasma ashing using a transparent conductive film formed on the filter layer as a mask. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 노멀 포토리소그라피 공정은 포토레지스트(Photoresist : 이하 PR이라 한다) 패턴으로 ITO 투명전도막을 에치하여 투명전도막 패턴을 형성한 후 상기 PR 패턴을 마스크로하여 에싱(Ashing)을 한뒤 PR을 제거하는 방법과, ITO 패턴 형성한 후 먼저 PR 패턴을 제거하고 ITO 패턴을 마스크로 에싱하는 방법 중 선택된 어느 하나로 이루어짐을 특징으로 하는 액정 디스플레이용 칼라필터 제조방법.The method of claim 2 or 3, wherein the normal photolithography process is performed by etching an ITO transparent conductive film with a photoresist (PR) pattern to form a transparent conductive film pattern and then ashing the PR pattern as a mask. A method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display, characterized in that it comprises one of a method of removing PR after (Ashing), and a method of first removing the PR pattern and then ashing the ITO pattern with a mask after forming the ITO pattern. 제2항에 있어서, 상기 투명전도막은 500-2500Å의 두께로 형성됨을 특징으로 하는 액정 디스플레이용 칼라필터 제조방법.The method of claim 2, wherein the transparent conductive film is formed to a thickness of 500-2500 kW.